JP3359950B2 - 位置合せ装置 - Google Patents
位置合せ装置Info
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- Japan
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- light
- optical axis
- diffraction grating
- light beams
- grating
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-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F9/00—Registration or positioning of originals, masks, frames, photographic sheets or textured or patterned surfaces, e.g. automatically
- G03F9/70—Registration or positioning of originals, masks, frames, photographic sheets or textured or patterned surfaces, e.g. automatically for microlithography
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- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
- Length Measuring Devices By Optical Means (AREA)
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、対向配置された第１の
物体と第２の物体とを相対位置合せするときに用いられ
る位置合せ装置に関する。
物体と第２の物体とを相対位置合せするときに用いられ
る位置合せ装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】最近では、超ＬＳＩの回路パターンをＸ
線露光装置を使って等倍露光で転写する試みが成されて
いる。このような装置を用いてパターン転写を行う場
合、露光に先だってマスクとウェハとを高精度に位置合
せする必要がある。
線露光装置を使って等倍露光で転写する試みが成されて
いる。このような装置を用いてパターン転写を行う場
合、露光に先だってマスクとウェハとを高精度に位置合
せする必要がある。
【０００３】対向配置されたマスクとウェハとを高精度
に相対位置合せする装置としては、特願昭 63-329731号
や特願平 2-25836号などに示されているように、回折格
子を用いた光ヘテロダイン式の位置合せ装置が考えられ
ている。
に相対位置合せする装置としては、特願昭 63-329731号
や特願平 2-25836号などに示されているように、回折格
子を用いた光ヘテロダイン式の位置合せ装置が考えられ
ている。
【０００４】図２には光ヘテロダイン式の代表的な位置
合せ装置、ここには対向方向と直交する面内で位置合せ
する位置合わせ装置の要部が模式的に示されている。
合せ装置、ここには対向方向と直交する面内で位置合せ
する位置合わせ装置の要部が模式的に示されている。
【０００５】この位置合せ装置では、図示しないマスク
に回折格子１を設けるとともに、この回折格子１に対向
する関係に図示しないウェハに回折格子２を設けてい
る。
に回折格子１を設けるとともに、この回折格子１に対向
する関係に図示しないウェハに回折格子２を設けてい
る。
【０００６】今、図に示す直角座標上のＸ軸方向が位置
合せ方向であるとする。回折格子１はＹ軸方向に配置さ
れた第１格子３ａと第２格子３ｂとで構成される。同様
に、回折格子２もＹ軸方向に配置された第１格子４ａと
第２格子４ｂとで構成される。すなわち、この位置合せ
装置では、回折格子１の第１格子３ａと回折格子２の第
１格子４ａとをペアとし、回折格子１の第２格子３ｂと
回折格子２の第２格子４ｂとをペアとしている。
合せ方向であるとする。回折格子１はＹ軸方向に配置さ
れた第１格子３ａと第２格子３ｂとで構成される。同様
に、回折格子２もＹ軸方向に配置された第１格子４ａと
第２格子４ｂとで構成される。すなわち、この位置合せ
装置では、回折格子１の第１格子３ａと回折格子２の第
１格子４ａとをペアとし、回折格子１の第２格子３ｂと
回折格子２の第２格子４ｂとをペアとしている。
【０００７】回折格子１を構成している第１格子３ａは
Ｙ軸方向に延びるストライプパターンをＸ軸方向にＰx
のピッチで設けたものとなっており、第２格子３ｂは透
明のウインドウに構成されている。また、回折格子２を
構成している第１格子４ａはＸ軸方向に延びるストライ
プパターンをＹ軸方向にＰy2のピッチで設けたものとな
っており、第２格子４ｂは市松模様のパターンをＸ軸方
向にはＰx のピッチで、Ｙ軸方向にはＰy1のピッチで設
けたものとなっている。
Ｙ軸方向に延びるストライプパターンをＸ軸方向にＰx
のピッチで設けたものとなっており、第２格子３ｂは透
明のウインドウに構成されている。また、回折格子２を
構成している第１格子４ａはＸ軸方向に延びるストライ
プパターンをＹ軸方向にＰy2のピッチで設けたものとな
っており、第２格子４ｂは市松模様のパターンをＸ軸方
向にはＰx のピッチで、Ｙ軸方向にはＰy1のピッチで設
けたものとなっている。
【０００８】この位置合せ装置では、回折格子１を構成
している第１格子３ａおよび第２格子３ｂの上面に向
け、かつ位置合せ方向と直交する面を境にして左右対称
に、具体的にはsin - θx ＝±ｍλ／ＰX （ただし、Ｐ
X は格子ピッチ、ｍは整数、λは波長、θの添字 Xは±
ｍ）を満たす方向から異なる周波数ｆ1 ，ｆ2 の２本の
光ビーム５，６を照射する。なお、これらの光ビーム
５，６は、たとえばレーザ発信器から放射されたビーム
をハーフミラーで２分割した後、音響光学素子で異なっ
た周波数ｆ1 ，ｆ2 に変調して得られたものである。
している第１格子３ａおよび第２格子３ｂの上面に向
け、かつ位置合せ方向と直交する面を境にして左右対称
に、具体的にはsin - θx ＝±ｍλ／ＰX （ただし、Ｐ
X は格子ピッチ、ｍは整数、λは波長、θの添字 Xは±
ｍ）を満たす方向から異なる周波数ｆ1 ，ｆ2 の２本の
光ビーム５，６を照射する。なお、これらの光ビーム
５，６は、たとえばレーザ発信器から放射されたビーム
をハーフミラーで２分割した後、音響光学素子で異なっ
た周波数ｆ1 ，ｆ2 に変調して得られたものである。
【０００９】このように光ビーム５，６を照射すると、
ペアを組む第１格子３ａ，４ａ側では、第１格子３ａ→
第１格子４ａ→第１格子３ａの経路でビームが通過する
ときに、｛-1,(0,1),0｝，｛0,(0,1),-1｝の回折光と、
｛+1,(0,1),0｝，｛0,(0,1),+1｝の回折光とが互いに干
渉し合う。この干渉光を回折格子１の上方で、位置合せ
方向には０次、Ｙ軸方向には１次の位置で検出すると、
Δｆ＝（ｆ1 −ｆ2 ）なるビート信号ＩM (0,1) が得ら
れる。このビート信号ＩM (0,1) と参照信号との間の位
相差を検出することによって回折格子２に対する回折格
子１、つまりウェハに対するマスクの位置ずれを知るこ
とができる。
ペアを組む第１格子３ａ，４ａ側では、第１格子３ａ→
第１格子４ａ→第１格子３ａの経路でビームが通過する
ときに、｛-1,(0,1),0｝，｛0,(0,1),-1｝の回折光と、
｛+1,(0,1),0｝，｛0,(0,1),+1｝の回折光とが互いに干
渉し合う。この干渉光を回折格子１の上方で、位置合せ
方向には０次、Ｙ軸方向には１次の位置で検出すると、
Δｆ＝（ｆ1 −ｆ2 ）なるビート信号ＩM (0,1) が得ら
れる。このビート信号ＩM (0,1) と参照信号との間の位
相差を検出することによって回折格子２に対する回折格
子１、つまりウェハに対するマスクの位置ずれを知るこ
とができる。
【００１０】一方、ペアを組む第２格子３ｂ，４ｂ側で
は、第２格子３ｂ→第２格子４ｂ→第２格子３ｂの経路
でビームが通過するときに、｛0,(0,1),-1｝の回折光
と、｛0,(0,1),+1｝の回折光とが互いに干渉し合う。こ
の干渉光を回折格子１の上方で、位置合せ方向には０
次、Ｙ軸方向には１次の位置で検出すると、Δｆ＝（ｆ
1−ｆ2 ）なるビート信号ＩW (0,1) が得られる。この
ビート信号ＩW (0,1) と参照信号との間の位相差を検出
することによって回折格子１に対する回折格子２、つま
りマスクに対するウェハの位置ずれを知ることができ
る。
は、第２格子３ｂ→第２格子４ｂ→第２格子３ｂの経路
でビームが通過するときに、｛0,(0,1),-1｝の回折光
と、｛0,(0,1),+1｝の回折光とが互いに干渉し合う。こ
の干渉光を回折格子１の上方で、位置合せ方向には０
次、Ｙ軸方向には１次の位置で検出すると、Δｆ＝（ｆ
1−ｆ2 ）なるビート信号ＩW (0,1) が得られる。この
ビート信号ＩW (0,1) と参照信号との間の位相差を検出
することによって回折格子１に対する回折格子２、つま
りマスクに対するウェハの位置ずれを知ることができ
る。
【００１１】そこで、この位置合せ装置では、ＩM (0,
1) とＩW (0,1) との間の位相差、つまり、 Δφ＝ＩM (0,1) −ＩW (0,1) を求め、この値Δφからマスクとウェハとの間の位置合
せ方向の位置ずれ量を求めている。そして、この値に基
いてアクチュエータを制御して位置合せするようにして
いる。
1) とＩW (0,1) との間の位相差、つまり、 Δφ＝ＩM (0,1) −ＩW (0,1) を求め、この値Δφからマスクとウェハとの間の位置合
せ方向の位置ずれ量を求めている。そして、この値に基
いてアクチュエータを制御して位置合せするようにして
いる。
【００１２】ところで、この位置合せ装置では、前述の
如く回折格子１の上面に向け、かつ位置合せ方向と直交
する面を境にして左右対称に、sin - θx ＝±ｍλ／Ｐ
X を満たす方向から異なる周波数ｆ1 ，ｆ2 の２本の光
ビーム５，６を照射する必要がある。
如く回折格子１の上面に向け、かつ位置合せ方向と直交
する面を境にして左右対称に、sin - θx ＝±ｍλ／Ｐ
X を満たす方向から異なる周波数ｆ1 ，ｆ2 の２本の光
ビーム５，６を照射する必要がある。
【００１３】そこで、この装置では図３に示す機構を使
って上記条件に設定するようにしている。すなわち、図
中１１は前述した回折格子１の設けられたマスクを示
し、また１２は回折格子２の設けられたウェハを示して
いる。
って上記条件に設定するようにしている。すなわち、図
中１１は前述した回折格子１の設けられたマスクを示
し、また１２は回折格子２の設けられたウェハを示して
いる。
【００１４】マスク１１の前面には、マスク１１上に焦
点を位置させた焦点距離ｆの対物レンズ１３が配置され
ており、この対物レンズ１３を介して前述した周波数の
異なる２本の光ビーム５，６が回折格子１に照射され
る。すなわち、対物レンズに対向する位置には１つの光
源から出た光ビームを２分割し、これらを変調して得ら
れた周波数の異なる２本の光ビーム５，６を対物レンズ
１３の光軸１４と平行に出射させる光ビーム出射手段が
配置されている。そして、この光ビーム出射手段から出
射された光ビーム５，６をそれぞれプレーンパラレル１
５，１６および１７，１８を介して対物レンズ１３に入
射させるようにしている。
点を位置させた焦点距離ｆの対物レンズ１３が配置され
ており、この対物レンズ１３を介して前述した周波数の
異なる２本の光ビーム５，６が回折格子１に照射され
る。すなわち、対物レンズに対向する位置には１つの光
源から出た光ビームを２分割し、これらを変調して得ら
れた周波数の異なる２本の光ビーム５，６を対物レンズ
１３の光軸１４と平行に出射させる光ビーム出射手段が
配置されている。そして、この光ビーム出射手段から出
射された光ビーム５，６をそれぞれプレーンパラレル１
５，１６および１７，１８を介して対物レンズ１３に入
射させるようにしている。
【００１５】実際にθX を設定に当っては、まず入射し
た光ビーム５，６が光軸１４を中心とする対称位置線上
にあるように、プレーンパラレル１５，１６の回転角θ
1 を調整する。この位置合せは、その中心が光軸１４に
一致するように配置され、かつ上記中心を境にして対称
的な位置にピンホールを備えた補助具を使って行われる
場合が多い。
た光ビーム５，６が光軸１４を中心とする対称位置線上
にあるように、プレーンパラレル１５，１６の回転角θ
1 を調整する。この位置合せは、その中心が光軸１４に
一致するように配置され、かつ上記中心を境にして対称
的な位置にピンホールを備えた補助具を使って行われる
場合が多い。
【００１６】次に、プレーンパラレル１６，１８の回転
角θ2 をそれぞれ同じ量だけ調整し、光軸１４から光ビ
ーム５，６までの距離ＬX がそれぞれＬX ＝ｆ・tan θ
X となるように追い込んでいく。このようにして回折格
子１への入射角をθX に合せるようにしている。
角θ2 をそれぞれ同じ量だけ調整し、光軸１４から光ビ
ーム５，６までの距離ＬX がそれぞれＬX ＝ｆ・tan θ
X となるように追い込んでいく。このようにして回折格
子１への入射角をθX に合せるようにしている。
【００１７】しかしながら、上記のように構成された従
来の位置合せ装置にあっては、特にプレーンパラレル１
６，１８を同じ量だけ回転させることが難しく、このた
め２本の光ビーム５，６の入射角に僅かではあるが差が
生じ易く、これが原因して位置合せ精度が低下する問題
があった。
来の位置合せ装置にあっては、特にプレーンパラレル１
６，１８を同じ量だけ回転させることが難しく、このた
め２本の光ビーム５，６の入射角に僅かではあるが差が
生じ易く、これが原因して位置合せ精度が低下する問題
があった。
【００１８】
【発明が解決しようとする課題】上述の如く、従来の光
ヘテロダイン式の位置合せ装置にあっては、特に周波数
の異なる２本の光ビームを回折格子に対して対称関係に
入射させることが困難で、これが原因して高い位置合せ
精度を確保することが困難であった。
ヘテロダイン式の位置合せ装置にあっては、特に周波数
の異なる２本の光ビームを回折格子に対して対称関係に
入射させることが困難で、これが原因して高い位置合せ
精度を確保することが困難であった。
【００１９】そこで本発明は、上述した不具合を解消で
きる位置合せ装置を提供することを目的としている。
きる位置合せ装置を提供することを目的としている。
【００２０】
【課題を解決するための手段】上記目的を達成するため
に、本発明は、位置合せすべき第１の物体と上記第２の
物体とに対向関係に回折格子を設けるとともに、１つの
光源から出た光ビームを２分割し、これらを変調して得
られた周波数の異なる２本の光ビームを対物レンズ系を
介して上記第１の物体に設けられた回折格子に対して上
記対物レンズ系の光軸を境にして左右対称に定められた
入射角度で照射し、この照射によって得られた回折光の
うちの特定次数の回折光を位置情報として用いるように
した光ヘテロダイン式の位置合せ装置において、前記周
波数の異なる２本の光ビームを前記光軸と平行に出射さ
せる手段と、この手段によって出射された各光ビームを
前記光軸を中心とする対称位置線上に位置合せする非対
称修正手段と、この手段によって位置修正された前記各
光ビームを前記光軸と直交する方向に反射案内する一対
の案内手段と、前記光軸と平行する方向に移動可能に設
けられたステージと、このステージによって支持され、
前記一対の案内手段で反射案内された各光ビームを前記
光軸を中心とする対称関係を保って前記対物レンズ系に
入射させる１つの台形プリズムとを備えている。
に、本発明は、位置合せすべき第１の物体と上記第２の
物体とに対向関係に回折格子を設けるとともに、１つの
光源から出た光ビームを２分割し、これらを変調して得
られた周波数の異なる２本の光ビームを対物レンズ系を
介して上記第１の物体に設けられた回折格子に対して上
記対物レンズ系の光軸を境にして左右対称に定められた
入射角度で照射し、この照射によって得られた回折光の
うちの特定次数の回折光を位置情報として用いるように
した光ヘテロダイン式の位置合せ装置において、前記周
波数の異なる２本の光ビームを前記光軸と平行に出射さ
せる手段と、この手段によって出射された各光ビームを
前記光軸を中心とする対称位置線上に位置合せする非対
称修正手段と、この手段によって位置修正された前記各
光ビームを前記光軸と直交する方向に反射案内する一対
の案内手段と、前記光軸と平行する方向に移動可能に設
けられたステージと、このステージによって支持され、
前記一対の案内手段で反射案内された各光ビームを前記
光軸を中心とする対称関係を保って前記対物レンズ系に
入射させる１つの台形プリズムとを備えている。
【００２１】
【作用】ステージを移動させると、これに伴って台形プ
リズムが移動し、この台形プリズムの移動で２本の光ビ
ームの回折格子への入射角を同時に、かつ同じ量ずつ変
えることができる。したがって、ステージとしてミクロ
ンオーダの調整が可能なものを用いることによって、入
射角を同時に、かつ高精度に、しかも容易に調整するこ
とが可能となる。
リズムが移動し、この台形プリズムの移動で２本の光ビ
ームの回折格子への入射角を同時に、かつ同じ量ずつ変
えることができる。したがって、ステージとしてミクロ
ンオーダの調整が可能なものを用いることによって、入
射角を同時に、かつ高精度に、しかも容易に調整するこ
とが可能となる。
【００２２】
【実施例】以下、図面を参照しながら実施例を説明す
る。
る。
【００２３】図１には本発明の一実施例に係る位置合せ
装置における要部の概略構成が示されている。なお、こ
の図では図３に示される要素と同一要素部分が同一符号
で示されている。したがって、重複する部分の詳しい説
明は省略する。
装置における要部の概略構成が示されている。なお、こ
の図では図３に示される要素と同一要素部分が同一符号
で示されている。したがって、重複する部分の詳しい説
明は省略する。
【００２４】この実施例に係る位置合せ装置では、図示
しない出射装置から光軸１４と平行に出射された周波数
の異なる２本の光ビーム５，６をプレーンパラレル１
５，１７からなる、いわゆる非対称修正手段によって各
光ビーム５，６を光軸１４を中心とする対称位置線上に
位置合するようにしている。そして、位置修正された各
光ビーム５，６をそれぞれプリズム２１，２２で光軸１
４方向に、かつ光軸１４と直交するように反射させ、反
射した各光ビーム５，６を台形プリズム２３の反射面２
４ａ，２４ｂで光軸１４と平行する方向に反射させて対
物レンズ１３に入射させるようにしている。
しない出射装置から光軸１４と平行に出射された周波数
の異なる２本の光ビーム５，６をプレーンパラレル１
５，１７からなる、いわゆる非対称修正手段によって各
光ビーム５，６を光軸１４を中心とする対称位置線上に
位置合するようにしている。そして、位置修正された各
光ビーム５，６をそれぞれプリズム２１，２２で光軸１
４方向に、かつ光軸１４と直交するように反射させ、反
射した各光ビーム５，６を台形プリズム２３の反射面２
４ａ，２４ｂで光軸１４と平行する方向に反射させて対
物レンズ１３に入射させるようにしている。
【００２５】台形プリズム２４は、光軸１４と平行な方
向にミクロンオーダの分解能で移動可能なステージ２５
に、このステージ２５の移動に伴ってその中心軸２６が
光軸１４上を移動するように取付けられている。
向にミクロンオーダの分解能で移動可能なステージ２５
に、このステージ２５の移動に伴ってその中心軸２６が
光軸１４上を移動するように取付けられている。
【００２６】このような構成であると、プレーンパラレ
ル１５，１６の回転角度θ1 を調整し、各光ビーム５，
６を光軸１４を中心とする対称位置線上に位置させた
後、ステージ２５を移動させれば光ビーム５，６の回折
格子１に対する入射角θX を同時に、かつ高精度に、し
かも容易に設定することが可能となる。
ル１５，１６の回転角度θ1 を調整し、各光ビーム５，
６を光軸１４を中心とする対称位置線上に位置させた
後、ステージ２５を移動させれば光ビーム５，６の回折
格子１に対する入射角θX を同時に、かつ高精度に、し
かも容易に設定することが可能となる。
【００２７】なお、上述した実施例では、マスク１１と
ウェハ１２との対向方向と直交する面内での位置合せを
対象にしているが、光ヘテロダイン式でマスク１１とウ
ェハ１２との間のギャップ長を合せる装置にも適用でき
る。また、本発明はマスクとウェハとの位置合せにその
対象が限定されるものではない。
ウェハ１２との対向方向と直交する面内での位置合せを
対象にしているが、光ヘテロダイン式でマスク１１とウ
ェハ１２との間のギャップ長を合せる装置にも適用でき
る。また、本発明はマスクとウェハとの位置合せにその
対象が限定されるものではない。
【００２８】
【発明の効果】以上説明したように、本発明によれば、
光ヘテロダイン式を採用し、しかも精度の高い位置合せ
が可能な位置合せ装置を提供できる。
光ヘテロダイン式を採用し、しかも精度の高い位置合せ
が可能な位置合せ装置を提供できる。
【図１】本発明の一実施例に係る位置合せ装置における
要部の概略構成図
要部の概略構成図
【図２】光ヘテロダイン式位置合せ装置の位置合せ原理
を説明するための図
を説明するための図
【図３】従来の光ヘテロダイン式位置合せ装置における
要部の概略構成図
要部の概略構成図
１，２…回折格子 ５，６…光ビー
ム １１…マスク １２…ウェハ １３…対物レンズ １４…光軸 １５，１７…プレーンパラレル ２１，２２…プ
リズム ２３…台形プリズム ２４ａ，２４ｂ
…反射面 ２５…ステージ
ム １１…マスク １２…ウェハ １３…対物レンズ １４…光軸 １５，１７…プレーンパラレル ２１，２２…プ
リズム ２３…台形プリズム ２４ａ，２４ｂ
…反射面 ２５…ステージ
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (56)参考文献 特開 平６−326002（ＪＰ，Ａ) 特開 平５−332730（ＪＰ，Ａ) (58)調査した分野(Int.Cl.7，ＤＢ名) G01B 11/00
Claims (1)
- 【請求項１】対向配置された第１の物体と第２の物体と
の相対位置合せを行うために、前記第１の物体と前記第
２の物体の対向面にそれぞれ回折格子を設けるととも
に、周波数の異なる２本の光ビームを対物レンズ系を介
して前記回折格子に対して前記対物レンズの光軸を基準
にして左右対称に定められた入射角度で照射し、この照
射によって得られた回折光のうちの特定次数の回折光を
位置情報として用いることによって前記相対位置合せを
する光ヘテロダイン式の位置合せ装置において、 前記周波数の異なる２本の平行な光ビームを出射する出
射手段と、 この出射手段によって出射された前記光ビームを前記光
軸を中心とする対称位置線上に位置合せする非対称修正
手段と、 この非対称修正手段によって位置合せされた前記光ビー
ムを前記光軸と直交する方向に反射案内する一対の案内
手段と、 前記光軸と平行な方向に移動可能なステージと、 このステージによって支持され、前記反射案内手段で反
射案内された前記光ビームを前記光軸を中心とする対称
関係を保って前記対物レンズ系に入射させる台形プリズ
ムとを具備してなることを特徴とする位置合せ装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP08011493A JP3359950B2 (ja) | 1993-03-15 | 1993-03-15 | 位置合せ装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP08011493A JP3359950B2 (ja) | 1993-03-15 | 1993-03-15 | 位置合せ装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH06265824A JPH06265824A (ja) | 1994-09-22 |
| JP3359950B2 true JP3359950B2 (ja) | 2002-12-24 |
Family
ID=13709166
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP08011493A Expired - Fee Related JP3359950B2 (ja) | 1993-03-15 | 1993-03-15 | 位置合せ装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3359950B2 (ja) |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH09293676A (ja) * | 1996-04-24 | 1997-11-11 | Nikon Corp | 投影光学系及び投影露光装置 |
-
1993
- 1993-03-15 JP JP08011493A patent/JP3359950B2/ja not_active Expired - Fee Related
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| JPH06265824A (ja) | 1994-09-22 |
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