JP3344838B2 - 架橋高分子粒子の製造方法 - Google Patents
架橋高分子粒子の製造方法Info
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Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は耐熱性、単分散性、およ
びポリエステル組成物中に添加した際の分散性に優れた
架橋高分子粒子の製造方法に関する。
びポリエステル組成物中に添加した際の分散性に優れた
架橋高分子粒子の製造方法に関する。
【０００２】
【従来の技術および発明が解決しようとする課題】種々
の用途に利用される架橋高分子粒子は、乳化重合法、シ
ード乳化重合法、分散懸濁重合法により得られる。かか
る架橋高分子粒子の利用用途として、ポリエチレンテレ
フタレートに代表されるポリエステル組成物のフィラー
用途があるが、従来の架橋高分子粒子では、かかるポリ
エステル組成物中の分散性が不十分であった。
の用途に利用される架橋高分子粒子は、乳化重合法、シ
ード乳化重合法、分散懸濁重合法により得られる。かか
る架橋高分子粒子の利用用途として、ポリエチレンテレ
フタレートに代表されるポリエステル組成物のフィラー
用途があるが、従来の架橋高分子粒子では、かかるポリ
エステル組成物中の分散性が不十分であった。
【０００３】
【課題を解決するための手段】本発明者らはかかる実情
に鑑み、鋭意検討の結果、架橋度が高く耐熱性に優れ、
単分散性に優れ、かつ特にポリエステル組成物中の分散
性に優れた架橋高分子粒子の粒径制御が容易な製造方法
を見いだし、本発明を完成するに至った。
に鑑み、鋭意検討の結果、架橋度が高く耐熱性に優れ、
単分散性に優れ、かつ特にポリエステル組成物中の分散
性に優れた架橋高分子粒子の粒径制御が容易な製造方法
を見いだし、本発明を完成するに至った。
【０００４】すなわち、本発明の要旨は、エチレング
リコールジメタクリレート、アクリル酸低級アルキル
エステルまたはメタクリル酸低級アルキルエステル、お
よびジビニルベンゼンとを含有するモノマーを水性媒
体中で重合することにより得られた平均粒径０．１〜２
μｍの架橋高分子粒子を、水性媒体中、２個以上のスル
ホン酸基を有するアルキルジフェニルエーテル型アニオ
ン系界面活性剤の存在下で攪拌し、表面処理することを
特徴とする架橋高分子粒子の製造方法に存する。
リコールジメタクリレート、アクリル酸低級アルキル
エステルまたはメタクリル酸低級アルキルエステル、お
よびジビニルベンゼンとを含有するモノマーを水性媒
体中で重合することにより得られた平均粒径０．１〜２
μｍの架橋高分子粒子を、水性媒体中、２個以上のスル
ホン酸基を有するアルキルジフェニルエーテル型アニオ
ン系界面活性剤の存在下で攪拌し、表面処理することを
特徴とする架橋高分子粒子の製造方法に存する。
【０００５】以下、本発明を詳細に説明する。本発明で
は、架橋高分子粒子の原料となる重合性モノマーとして
少なくとも下記（ａ）〜（ｃ）の３つの成分を用いる。 （ａ）エチレングリコールジメタクリレート （ｂ）アクリル酸低級アルキルエステルまたはメタクリ
ル酸低級アルキルエステル （Ｃ）ジビニルベンゼン 架橋高分子粒子中の各成分の比率は特に制限はないが、
好ましくは下記のとおりである。
は、架橋高分子粒子の原料となる重合性モノマーとして
少なくとも下記（ａ）〜（ｃ）の３つの成分を用いる。 （ａ）エチレングリコールジメタクリレート （ｂ）アクリル酸低級アルキルエステルまたはメタクリ
ル酸低級アルキルエステル （Ｃ）ジビニルベンゼン 架橋高分子粒子中の各成分の比率は特に制限はないが、
好ましくは下記のとおりである。
【０００６】すなわち、エチレングリコールジメタクリ
レートは、好ましくは３０〜７０重量％、特に好ましく
は４０〜７０重量％である。また、アクリル酸低級アル
キルエステルまたはメタクリル酸低級アルキルエステル
は、好ましくは２〜２０重量％、特に好ましくは、５〜
１０重量％、さらにジビニルベンゼンは、好ましくは２
０〜７０重量％、特に好ましくは、３０〜５０重量％で
ある。エチレングリコールジメタクリレート量が３０重
量％未満では、重合反応中に反応系内で粒子が凝集しや
すくなったり、得られる粒子のポリエステル組成物中の
分散性が不良となることがある。また、エチレングリコ
ールジメタクリレート量が７０重量％を超えると、得ら
れる粒子の架橋度が低くなったり、粒径を大きくするこ
とが困難となる傾向がある。架橋高分子粒子の架橋度が
低いと耐熱性が劣り、例えばポリエステル組成物に含有
させた場合に、ポリエステル組成物中の分散性が不十分
となったり、さらに延伸によりポリエステルフィルムと
した場合に延伸応力による粒子の変形が大きくなりすぎ
て得られるフィルムの滑り性が不十分となる恐れがあ
る。
レートは、好ましくは３０〜７０重量％、特に好ましく
は４０〜７０重量％である。また、アクリル酸低級アル
キルエステルまたはメタクリル酸低級アルキルエステル
は、好ましくは２〜２０重量％、特に好ましくは、５〜
１０重量％、さらにジビニルベンゼンは、好ましくは２
０〜７０重量％、特に好ましくは、３０〜５０重量％で
ある。エチレングリコールジメタクリレート量が３０重
量％未満では、重合反応中に反応系内で粒子が凝集しや
すくなったり、得られる粒子のポリエステル組成物中の
分散性が不良となることがある。また、エチレングリコ
ールジメタクリレート量が７０重量％を超えると、得ら
れる粒子の架橋度が低くなったり、粒径を大きくするこ
とが困難となる傾向がある。架橋高分子粒子の架橋度が
低いと耐熱性が劣り、例えばポリエステル組成物に含有
させた場合に、ポリエステル組成物中の分散性が不十分
となったり、さらに延伸によりポリエステルフィルムと
した場合に延伸応力による粒子の変形が大きくなりすぎ
て得られるフィルムの滑り性が不十分となる恐れがあ
る。
【０００７】アクリル酸低級アルキルエステルまたはメ
タクリル酸低級アルキルエステル量が２重量％未満で
は、粒子重合反応中に反応系内で粒子が凝集しやすくな
ったり、重合反応速度が遅くなったりすることがある。
また、アクリル酸低級アルキルエステルまたはメタクリ
ル酸低級アルキルエステル量が２０重量％を超えると、
得られる粒子の架橋度が低くなったり、ポリエステル組
成物中の分散性が不良となる恐れがある。本発明におい
て、アクリル酸低級アルキルエステルまたはメタクリル
酸低級アルキルエステルとしては、特にメチルメタクリ
レートが好ましい。ジビニルベンゼン量が２０重量％未
満では、得られる粒子の架橋度が低くなる傾向がある。
また、ジビニルベンゼン量が７０重量％を超えると、粒
子重合反応速度が低下したり、重合反応中に反応系内で
粒子が凝集しやすくなる恐れがある。
タクリル酸低級アルキルエステル量が２重量％未満で
は、粒子重合反応中に反応系内で粒子が凝集しやすくな
ったり、重合反応速度が遅くなったりすることがある。
また、アクリル酸低級アルキルエステルまたはメタクリ
ル酸低級アルキルエステル量が２０重量％を超えると、
得られる粒子の架橋度が低くなったり、ポリエステル組
成物中の分散性が不良となる恐れがある。本発明におい
て、アクリル酸低級アルキルエステルまたはメタクリル
酸低級アルキルエステルとしては、特にメチルメタクリ
レートが好ましい。ジビニルベンゼン量が２０重量％未
満では、得られる粒子の架橋度が低くなる傾向がある。
また、ジビニルベンゼン量が７０重量％を超えると、粒
子重合反応速度が低下したり、重合反応中に反応系内で
粒子が凝集しやすくなる恐れがある。
【０００８】また、上記（ａ）〜（ｃ）の３つの成分以
外の重合性モノマーも１〜５％程度ならば含有してもよ
い。かかる重合性モノマーとしては、１，４−ブタンジ
オールジアクリレート、ｎ−ブチルアクリレート、エチ
レングリコールモノメタクリレート、ネオペンチルグリ
コールジメタクリレート、スチレンなどが挙げられる。
特に１，４−ブタンジオールジアクリレートを１〜５％
混合させると、粒子重合合成時の水性媒体中の粒子分散
性が向上して好ましい。本発明で所定の粒径の架橋高分
子粒子を重合する手法としては、乳化重合法、シード乳
化重合法、分散懸濁重合法などのいずれの方法でもよ
い。本発明では、上記重合反応で得られた架橋高分子粒
子を２個以上のスルホン酸基を有するアルキルジフェニ
ルエーテル型アニオン系界面活性剤を用いて表面処理す
る。本発明で用いるアニオン系界面活性剤としては、ア
ルキルジフェニルエ−テルジスルフォン酸ナトリウム、
アルキルジフェニルエ−テルジスルフォン酸カリウムな
どが挙げられるが、特にアルキルジフェニルエ−テルジ
スルフォン酸ナトリウムが好ましい。
外の重合性モノマーも１〜５％程度ならば含有してもよ
い。かかる重合性モノマーとしては、１，４−ブタンジ
オールジアクリレート、ｎ−ブチルアクリレート、エチ
レングリコールモノメタクリレート、ネオペンチルグリ
コールジメタクリレート、スチレンなどが挙げられる。
特に１，４−ブタンジオールジアクリレートを１〜５％
混合させると、粒子重合合成時の水性媒体中の粒子分散
性が向上して好ましい。本発明で所定の粒径の架橋高分
子粒子を重合する手法としては、乳化重合法、シード乳
化重合法、分散懸濁重合法などのいずれの方法でもよ
い。本発明では、上記重合反応で得られた架橋高分子粒
子を２個以上のスルホン酸基を有するアルキルジフェニ
ルエーテル型アニオン系界面活性剤を用いて表面処理す
る。本発明で用いるアニオン系界面活性剤としては、ア
ルキルジフェニルエ−テルジスルフォン酸ナトリウム、
アルキルジフェニルエ−テルジスルフォン酸カリウムな
どが挙げられるが、特にアルキルジフェニルエ−テルジ
スルフォン酸ナトリウムが好ましい。
【０００９】さらにまた、かかるアルキルジフェニルエ
ーテル型アニオン系界面活性剤のアルキル基中の炭素数
は８〜１８であることが好ましい。炭素数が８未満や１
８を超える場合は、表面処理しても粒子のポリエステル
組成物中の分散性が向上しない恐れがある。また、かか
るアニオン系界面活性剤の添加量としては、対粒子量と
して１〜２０重量％が好ましく、特に好ましくは２〜１
０重量％である。添加量が対粒子量の１重量％未満で
は、最終的に得られる粒子をポリエステル組成物に添加
した場合にポリエステル組成物中の粒子分散性が不良と
なる傾向がある。添加量が対粒子量の２０重量％を超え
ると、反応系である水性媒体内に微細な粒子が発生し、
得られる粒子の単分散性が不十分となったり、水性媒体
中の粒子の分散性が不良となる恐れがある。
ーテル型アニオン系界面活性剤のアルキル基中の炭素数
は８〜１８であることが好ましい。炭素数が８未満や１
８を超える場合は、表面処理しても粒子のポリエステル
組成物中の分散性が向上しない恐れがある。また、かか
るアニオン系界面活性剤の添加量としては、対粒子量と
して１〜２０重量％が好ましく、特に好ましくは２〜１
０重量％である。添加量が対粒子量の１重量％未満で
は、最終的に得られる粒子をポリエステル組成物に添加
した場合にポリエステル組成物中の粒子分散性が不良と
なる傾向がある。添加量が対粒子量の２０重量％を超え
ると、反応系である水性媒体内に微細な粒子が発生し、
得られる粒子の単分散性が不十分となったり、水性媒体
中の粒子の分散性が不良となる恐れがある。
【００１０】本発明において、表面処理の時期は特に限
定されないが、重合反応率が９０％以上に達した重合反
応後期の重合混合物に対して引き続き行うか、あるいは
重合反応が完全に終了した重合混合物に対して引き続き
行うか、さらにはかかる重合混合物を水性媒体中より一
度分離した後、水性媒体中に再分散させて表面処理を行
なってもよい。表面処理の温度条件は、２０〜９０℃が
好ましく、特に５０〜８０℃が好ましい。また、表面処
理の時間は、かかるアニオン系界面活性剤を添加してか
ら攪拌を５分以上続けることが好ましい。表面処理後の
架橋高分子粒子は、エチレングリコールのスラリーとし
て保存することが好ましい。本発明の架橋高分子粒子の
平均粒径は０．１〜２μｍである。平均粒径が０．１μ
ｍ未満では、粒子重合反応中に粒子が凝集しやすくなっ
たり、さらに当該粒子をポリエステルフィルム用の添加
粒子とした場合にフィルムの滑り性が不十分であり好ま
しくない。また、２μｍを超えると粒子重合反応時間が
著しく長くなり実用的でない。本発明により得られる架
橋高分子粒子は特にポリエステルフィルム用添加粒子と
して有用である。当該粒子を添加したポリエステルフィ
ルムは平坦易滑性に優れ、例えば長時間磁気テープ用の
ベースフィルムや高密度磁気記録用テ−プのベースフィ
ルムに適したものとなる。
定されないが、重合反応率が９０％以上に達した重合反
応後期の重合混合物に対して引き続き行うか、あるいは
重合反応が完全に終了した重合混合物に対して引き続き
行うか、さらにはかかる重合混合物を水性媒体中より一
度分離した後、水性媒体中に再分散させて表面処理を行
なってもよい。表面処理の温度条件は、２０〜９０℃が
好ましく、特に５０〜８０℃が好ましい。また、表面処
理の時間は、かかるアニオン系界面活性剤を添加してか
ら攪拌を５分以上続けることが好ましい。表面処理後の
架橋高分子粒子は、エチレングリコールのスラリーとし
て保存することが好ましい。本発明の架橋高分子粒子の
平均粒径は０．１〜２μｍである。平均粒径が０．１μ
ｍ未満では、粒子重合反応中に粒子が凝集しやすくなっ
たり、さらに当該粒子をポリエステルフィルム用の添加
粒子とした場合にフィルムの滑り性が不十分であり好ま
しくない。また、２μｍを超えると粒子重合反応時間が
著しく長くなり実用的でない。本発明により得られる架
橋高分子粒子は特にポリエステルフィルム用添加粒子と
して有用である。当該粒子を添加したポリエステルフィ
ルムは平坦易滑性に優れ、例えば長時間磁気テープ用の
ベースフィルムや高密度磁気記録用テ−プのベースフィ
ルムに適したものとなる。
【００１１】
【実施例】以下、本発明を実施例を挙げてさらに詳細に
説明するが、本発明は、その要旨を越えない限り、以下
の実施例によって限定されるものではない。なお、実施
例における種々の物性および特性の測定方法、定義は下
記に示すとおりである。また、実施例および比較例中
「部」とあるは「重量部」を示す。 （１）平均粒径 粒子の走査電子顕微鏡観察より粒子毎の最大径および最
小径を測定してその相加平均を粒子一個の粒径（直径）
とした。少なくとも粒子１００個について粒径を測定
し、それらの相加平均を平均粒径とした。 （２）ポリエステルフィルム表面の粗大突起数 フィルム表面にアルミニウムを蒸着し、二光束干渉顕微
鏡を用いて測定した。測定波長は０．５４μｍで、３次
以上の干渉縞を示す突起数を測定した。なお、値はフィ
ルム表面１０ｃｍ2 を測定した値で示した。ポリエステ
ル中の架橋高分子粒子の分散性が良好なほど、かかる高
次の粗大粗大突起数は少ない。
説明するが、本発明は、その要旨を越えない限り、以下
の実施例によって限定されるものではない。なお、実施
例における種々の物性および特性の測定方法、定義は下
記に示すとおりである。また、実施例および比較例中
「部」とあるは「重量部」を示す。 （１）平均粒径 粒子の走査電子顕微鏡観察より粒子毎の最大径および最
小径を測定してその相加平均を粒子一個の粒径（直径）
とした。少なくとも粒子１００個について粒径を測定
し、それらの相加平均を平均粒径とした。 （２）ポリエステルフィルム表面の粗大突起数 フィルム表面にアルミニウムを蒸着し、二光束干渉顕微
鏡を用いて測定した。測定波長は０．５４μｍで、３次
以上の干渉縞を示す突起数を測定した。なお、値はフィ
ルム表面１０ｃｍ2 を測定した値で示した。ポリエステ
ル中の架橋高分子粒子の分散性が良好なほど、かかる高
次の粗大粗大突起数は少ない。
【００１２】（３）ポリエステルフィルムの滑り性 固定した硬質クロムメッキ金属ロール（直径６ｍｍ）に
フィルムを巻き付け角１３５゜（θ）で接触させ、５３
ｇの荷重を一端にかけて、１ｍ／分の速度でこれを走行
させ、他端の抵抗力（Ｔ（ｇ））を測定し、次式により
走行中の摩擦係数（μｄ）を求めた。かかる摩擦係数
（μｄ）値が小さいほど、フィルムの滑り性は良好であ
る。 μｄ＝０．４２４・ｌｎ（Ｔ／５３）
フィルムを巻き付け角１３５゜（θ）で接触させ、５３
ｇの荷重を一端にかけて、１ｍ／分の速度でこれを走行
させ、他端の抵抗力（Ｔ（ｇ））を測定し、次式により
走行中の摩擦係数（μｄ）を求めた。かかる摩擦係数
（μｄ）値が小さいほど、フィルムの滑り性は良好であ
る。 μｄ＝０．４２４・ｌｎ（Ｔ／５３）
【００１３】実施例１ ［架橋高分子粒子の製造］脱塩水５００部に水溶性重合
開始剤の過硫酸カリウム０．１部とアニオン系乳化剤と
してポリオキシエチレンラウリル硫酸ナトリウム０．１
５部を添加し均一に溶解させた後、メチルメタクリレ−
ト０．６６部、エチレングリコールジメタクリレート
８．３部，ジビニルベンゼン３．９５部および１，４ー
ブタンジオールジアクリレート０．１３５部の混合液を
加えた。次いで窒素ガス雰囲気下で攪拌しながら７０℃
で９時間重合反応を行った。最終的な反応率は９５％で
あった。引き続いて反応系温度を７０℃に保ったまま、
アルキルジフェニルエーテルジスルフォン酸ナトリウム
（花王（株）製 商品名 ペレックスＳＳーＨ）０．４
部を添加し、さらに３０分間攪拌を続け、表面処理を行
った。最終的に得られた粒子の平均粒径は０．２５μｍ
であった。
開始剤の過硫酸カリウム０．１部とアニオン系乳化剤と
してポリオキシエチレンラウリル硫酸ナトリウム０．１
５部を添加し均一に溶解させた後、メチルメタクリレ−
ト０．６６部、エチレングリコールジメタクリレート
８．３部，ジビニルベンゼン３．９５部および１，４ー
ブタンジオールジアクリレート０．１３５部の混合液を
加えた。次いで窒素ガス雰囲気下で攪拌しながら７０℃
で９時間重合反応を行った。最終的な反応率は９５％で
あった。引き続いて反応系温度を７０℃に保ったまま、
アルキルジフェニルエーテルジスルフォン酸ナトリウム
（花王（株）製 商品名 ペレックスＳＳーＨ）０．４
部を添加し、さらに３０分間攪拌を続け、表面処理を行
った。最終的に得られた粒子の平均粒径は０．２５μｍ
であった。
【００１４】［ポリエステルフィルムの製造］ジメチル
テレフタレート１００部、エチレングリコール６０部お
よび酢酸マグネシウム４水塩０．０９部を反応器にと
り、加熱昇温するとともにメタノールを留去してエステ
ル交換反応を行い、反応開始から４時間を要して２３０
℃まで昇温し、実質的にエステル交換反応を終了させ
た。次いで上記で製造した架橋高分子粒子０．１部をエ
チレングリコールスラリーとして添加し、さらにリン酸
０．０３部、三酸化アンチモン０．００３部、二酸化ゲ
ルマニウム０．００２部を加えて重縮合反応を行い、極
限粘度０．６１のポリエチレンテレフタレートを得た。
得られたポリマ−を２８５℃で押出機よりシート状に押
し出し、静電印加冷却法を用いて無定形シートを得た。
次いで、９０℃で縦方向に４．０倍で延伸した後、テン
ターで横方向に１００℃で３．５倍延伸し、次いで再
度、１３０℃で縦方向に１．２倍延伸し、最終的に２０
０℃で熱固定し、厚み８μｍのポリエチレンテレフタレ
ートフィルムを得た。
テレフタレート１００部、エチレングリコール６０部お
よび酢酸マグネシウム４水塩０．０９部を反応器にと
り、加熱昇温するとともにメタノールを留去してエステ
ル交換反応を行い、反応開始から４時間を要して２３０
℃まで昇温し、実質的にエステル交換反応を終了させ
た。次いで上記で製造した架橋高分子粒子０．１部をエ
チレングリコールスラリーとして添加し、さらにリン酸
０．０３部、三酸化アンチモン０．００３部、二酸化ゲ
ルマニウム０．００２部を加えて重縮合反応を行い、極
限粘度０．６１のポリエチレンテレフタレートを得た。
得られたポリマ−を２８５℃で押出機よりシート状に押
し出し、静電印加冷却法を用いて無定形シートを得た。
次いで、９０℃で縦方向に４．０倍で延伸した後、テン
ターで横方向に１００℃で３．５倍延伸し、次いで再
度、１３０℃で縦方向に１．２倍延伸し、最終的に２０
０℃で熱固定し、厚み８μｍのポリエチレンテレフタレ
ートフィルムを得た。
【００１５】実施例２ ［架橋高分子粒子の製造］アルキルジフェニルエーテル
ジスルフォン酸ナトリウム（花王（株）製 商品名 ペ
レックスＳＳーＨ）０．８部を添加すること以外は、実
施例１と同様にして、平均粒径０．２５μｍの架橋高分
子粒子を得た。 ［ポリエステルフィルムの製造］上記の架橋高分子粒子
０．１部をエチレングリコールスラリーとして添加する
こと以外は、実施例１と同様にして、架橋高分子粒子を
含有するポリエチレンテレフタレートを得、さらに厚み
８μｍのフィルムを得た。
ジスルフォン酸ナトリウム（花王（株）製 商品名 ペ
レックスＳＳーＨ）０．８部を添加すること以外は、実
施例１と同様にして、平均粒径０．２５μｍの架橋高分
子粒子を得た。 ［ポリエステルフィルムの製造］上記の架橋高分子粒子
０．１部をエチレングリコールスラリーとして添加する
こと以外は、実施例１と同様にして、架橋高分子粒子を
含有するポリエチレンテレフタレートを得、さらに厚み
８μｍのフィルムを得た。
【００１６】実施例３ ［架橋高分子粒子の製造］反応開始前に脱塩水に加える
モノマーをメチルメタクリレート０．６５部、エチレン
グリコールジメタクリレート６．３９部、ジビニルベン
ゼン５．８７部および１、４ーブタンジオールジアクリ
レート０．１３５部の混合液とし、全重合反応時間を１
０時間とすること以外は、実施例１と同様にして、平均
粒径０．２５μｍの架橋高分子粒子を得た。 ［ポリエステルフィルムの製造］上記の架橋高分子粒子
０．１部をエチレングリコールスラリーとして添加する
こと以外は、実施例１と同様にして、架橋高分子粒子を
含有するポリエチレンテレフタレートを得、さらに厚み
８μｍのフィルムを得た。
モノマーをメチルメタクリレート０．６５部、エチレン
グリコールジメタクリレート６．３９部、ジビニルベン
ゼン５．８７部および１、４ーブタンジオールジアクリ
レート０．１３５部の混合液とし、全重合反応時間を１
０時間とすること以外は、実施例１と同様にして、平均
粒径０．２５μｍの架橋高分子粒子を得た。 ［ポリエステルフィルムの製造］上記の架橋高分子粒子
０．１部をエチレングリコールスラリーとして添加する
こと以外は、実施例１と同様にして、架橋高分子粒子を
含有するポリエチレンテレフタレートを得、さらに厚み
８μｍのフィルムを得た。
【００１７】比較例１ ［架橋高分子粒子の製造］製造条件のうち、アルキルジ
フェニルエーテルジスルフォン酸ナトリウムによる粒子
の表面処理を行わない以外は、実施例１と同様にして、
平均粒径０．２５μｍの架橋高分子粒子を得た。 ［ポリエステルフィルムの製造］上記の架橋高分子粒子
０．１部をエチレングリコールスラリーとして添加する
こと以外は実施例１と同様にして、架橋高分子粒子を含
有するポリエチレンテレフタレートを得、実施例１と同
様にして、厚み８μｍのフィルムを得た。
フェニルエーテルジスルフォン酸ナトリウムによる粒子
の表面処理を行わない以外は、実施例１と同様にして、
平均粒径０．２５μｍの架橋高分子粒子を得た。 ［ポリエステルフィルムの製造］上記の架橋高分子粒子
０．１部をエチレングリコールスラリーとして添加する
こと以外は実施例１と同様にして、架橋高分子粒子を含
有するポリエチレンテレフタレートを得、実施例１と同
様にして、厚み８μｍのフィルムを得た。
【００１８】比較例２ ［架橋高分子粒子の製造］製造条件のうち、アルキルジ
フェニルエーテルジスルフォン酸ナトリウムの代わり
に、ポリアクリル酸ナトリウム０．８部を用いる以外
は、実施例１と同様にして、平均粒径０．２５μｍの架
橋高分子粒子を得た。 ［ポリエステルフィルムの製造］上記の架橋高分子粒子
０．１部をエチレングリコールスラリーとして添加する
こと以外は実施例１と同様にして、架橋高分子粒子を含
有するポリエチレンテレフタレートを得、実施例１と同
様にして、厚み８μｍのフィルムを得た。
フェニルエーテルジスルフォン酸ナトリウムの代わり
に、ポリアクリル酸ナトリウム０．８部を用いる以外
は、実施例１と同様にして、平均粒径０．２５μｍの架
橋高分子粒子を得た。 ［ポリエステルフィルムの製造］上記の架橋高分子粒子
０．１部をエチレングリコールスラリーとして添加する
こと以外は実施例１と同様にして、架橋高分子粒子を含
有するポリエチレンテレフタレートを得、実施例１と同
様にして、厚み８μｍのフィルムを得た。
【００１９】比較例３ ［架橋高分子粒子の製造］製造条件のうち、アルキルジ
フェニルエーテルジスルフォン酸ナトリウムの代わり
に、アルキルベンゼンスルフォン酸ナトリウム０．８部
を用いる以外は、実施例１と同様にして、平均粒径０．
２５μｍの架橋高分子粒子を得た。 ［ポリエステルフィルムの製造］上記の架橋高分子粒子
０．１部をエチレングリコールスラリーとして添加する
こと以外は実施例１と同様にして、架橋高分子粒子を含
有するポリエチレンテレフタレ−トを得、さらに実施例
１と同様にして、厚み８μｍのフィルムを得た。
フェニルエーテルジスルフォン酸ナトリウムの代わり
に、アルキルベンゼンスルフォン酸ナトリウム０．８部
を用いる以外は、実施例１と同様にして、平均粒径０．
２５μｍの架橋高分子粒子を得た。 ［ポリエステルフィルムの製造］上記の架橋高分子粒子
０．１部をエチレングリコールスラリーとして添加する
こと以外は実施例１と同様にして、架橋高分子粒子を含
有するポリエチレンテレフタレ−トを得、さらに実施例
１と同様にして、厚み８μｍのフィルムを得た。
【００２０】比較例４ ［架橋高分子粒子の製造］反応開始前に脱塩水に加える
モノマーをメチルメタクリレ−ト７．０４部、ジビニル
ベンゼン５．８７部および１，４ーブタンジオールジア
クリレート０．１３１部の混合液とし、全重合反応時間
を７時間とすること以外は、実施例１と同様にして、平
均粒径０．２５μｍの架橋高分子粒子を得た。 ［ポリエステルフィルムの製造］上記の架橋高分子粒子
０．１部をエチレングリコールスラリーとして添加する
こと以外は、実施例１と同様にして、架橋高分子粒子を
含有するポリエチレンテレフタレートを得、さらに厚み
８μｍのフィルムを得た。以上、得られた結果をまとめ
て下記表１および２に示す。
モノマーをメチルメタクリレ−ト７．０４部、ジビニル
ベンゼン５．８７部および１，４ーブタンジオールジア
クリレート０．１３１部の混合液とし、全重合反応時間
を７時間とすること以外は、実施例１と同様にして、平
均粒径０．２５μｍの架橋高分子粒子を得た。 ［ポリエステルフィルムの製造］上記の架橋高分子粒子
０．１部をエチレングリコールスラリーとして添加する
こと以外は、実施例１と同様にして、架橋高分子粒子を
含有するポリエチレンテレフタレートを得、さらに厚み
８μｍのフィルムを得た。以上、得られた結果をまとめ
て下記表１および２に示す。
【００２１】
【表１】 なお、上記表中の略号は以下のとおりである。 ＭＭＡ：メチルメタクリレート； ＥＧＤＭ：エチレン
グリコールジメタクリレート； ＤＶＢ：ジビニルベン
ゼン； ＢＧＤＡ：１，４−ブタンジオールジアクリレ
ート
グリコールジメタクリレート； ＤＶＢ：ジビニルベン
ゼン； ＢＧＤＡ：１，４−ブタンジオールジアクリレ
ート
【００２２】
【表２】
【００２３】
【発明の効果】本発明により製造された架橋高分子粒子
は、優れた耐熱性、単分散性を有し、例えばポリエステ
ル樹脂に添加した際の分散性にも優れ、本発明の工業的
価値は高い。
は、優れた耐熱性、単分散性を有し、例えばポリエステ
ル樹脂に添加した際の分散性にも優れ、本発明の工業的
価値は高い。
フロントページの続き (56)参考文献 特開 平８−73537（ＪＰ，Ａ) 特開 平５−179093（ＪＰ，Ａ) 特開 平５−156034（ＪＰ，Ａ) 特開 平５−1120（ＪＰ，Ａ) (58)調査した分野(Int.Cl.7，ＤＢ名) C08F 2/00 - 2/60 C08J 3/12 - 3/16
Claims (8)
- 【請求項１】 エチレングリコールジメタクリレー
ト、アクリル酸低級アルキルエステルまたはメタクリ
ル酸低級アルキルエステル、およびジビニルベンゼン
とを含有するモノマーを水性媒体中で重合することによ
り得られた平均粒径０．１〜２μｍの架橋高分子粒子
を、水性媒体中、２個以上のスルホン酸基を有するアル
キルジフェニルエーテル型アニオン系界面活性剤の存在
下で攪拌し、表面処理することを特徴とする架橋高分子
粒子の製造方法。 - 【請求項２】 重合反応率が９０％以上に達した架橋高
分子粒子を含有する重合混合物に対して引き続き表面処
理を行うか、あるいは重合混合物から架橋高分子粒子を
いったん分離した後、当該粒子を水性媒体中に再分散さ
せて表面処理を行うことを特徴とする請求項１に記載の
架橋高分子粒子の製造方法。 - 【請求項３】 表面処理の温度が２０〜９０℃であり、
処理時間が５分以上であることを特徴とする請求項１ま
たは２に記載の架橋高分子粒子の製造方法。 - 【請求項４】 表面処理に用いるアルキルジフェニルエ
ーテル型アニオン系界面活性剤の量が、処理すべき架橋
高分子粒子に対して１〜２０重量％であることを特徴と
する請求項１〜３のいずれかに記載の架橋高分子粒子の
製造方法。 - 【請求項５】 架橋高分子粒子が、エチレングリコール
ジメタクリレート３０〜７０重量％、アクリル酸低級ア
ルキルエステルまたはメタクリル酸低級アルキルエステ
ル２〜２０重量％およびジビニルベンゼン２０〜７０重
量％から構成された重合体であることを特徴とする請求
項１〜４のいずれかに記載の架橋高分子粒子の製造方
法。 - 【請求項６】 メタクリル酸低級アルキルエステルがメ
チルメタクリレートであることを特徴とする請求項１〜
５のいずれかに記載の架橋高分子粒子の製造方法。 - 【請求項７】 表面処理に用いるアルキルジフェニルエ
ーテル型アニオン系界面活性剤のアルキル基中の炭素数
が８〜１８であることを特徴とする請求項１〜６のいず
れかに記載の架橋高分子粒子の製造方法。 - 【請求項８】 架橋高分子粒子が、１、４ーブタンジオ
ールジアクリレートを１〜５重量％含有することを特徴
とする請求項１〜７のいずれかに記載の架橋高分子粒子
の製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP21280694A JP3344838B2 (ja) | 1994-09-06 | 1994-09-06 | 架橋高分子粒子の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP21280694A JP3344838B2 (ja) | 1994-09-06 | 1994-09-06 | 架橋高分子粒子の製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0873513A JPH0873513A (ja) | 1996-03-19 |
| JP3344838B2 true JP3344838B2 (ja) | 2002-11-18 |
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ID=16628684
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP21280694A Expired - Fee Related JP3344838B2 (ja) | 1994-09-06 | 1994-09-06 | 架橋高分子粒子の製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3344838B2 (ja) |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP3827992B2 (ja) * | 2001-11-07 | 2006-09-27 | 花王株式会社 | 粒子及びその製法 |
-
1994
- 1994-09-06 JP JP21280694A patent/JP3344838B2/ja not_active Expired - Fee Related
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| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0873513A (ja) | 1996-03-19 |
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