JP3344664B2 - 液晶表示素子電極保護膜形成用塗布液及びそれを用いた液晶表示素子電極保護方法 - Google Patents
液晶表示素子電極保護膜形成用塗布液及びそれを用いた液晶表示素子電極保護方法Info
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Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は新規な液晶表示素子電極
保護膜形成用塗布液、さらに詳しくは、均質性に優れ、
しかも高硬度の保護被膜を形成することができる液晶表
示素子電極保護膜形成用塗布液及びそれを用いた液晶表
示素子電極保護方法に関するものである。従って、本発
明は、液晶表示素子の電極の保護膜を形成し、この電極
を保護するためのものである。
保護膜形成用塗布液、さらに詳しくは、均質性に優れ、
しかも高硬度の保護被膜を形成することができる液晶表
示素子電極保護膜形成用塗布液及びそれを用いた液晶表
示素子電極保護方法に関するものである。従って、本発
明は、液晶表示素子の電極の保護膜を形成し、この電極
を保護するためのものである。
【０００２】
【従来の技術】液晶表示素子は、それぞれ透明なガラス
や、アクリル板、ＰＥＴなどの樹脂からなる第１の基板
と第２の基板とが所定の間隔でほぼ平行に配置され、そ
の周囲は、例えばフリットガラスや有機接着剤などによ
り封着され、これらによって形成される内部空間に液晶
が封入されている。この第１の基板及び第２の基板は、
それぞれその対向する内面上に所定パターンの電極が形
成され、さらに液晶に接する面に、その面付近の液晶分
子を所望の一定方向に配向させる配向膜が形成されてい
る。このような配向膜は、それぞれ電極を有する基板面
上に例えば有機高分子物質からなる配向膜を形成し、そ
の表面を綿、布などで一定方向にこする、いわゆるラビ
ング処理を施すことで作られる。
や、アクリル板、ＰＥＴなどの樹脂からなる第１の基板
と第２の基板とが所定の間隔でほぼ平行に配置され、そ
の周囲は、例えばフリットガラスや有機接着剤などによ
り封着され、これらによって形成される内部空間に液晶
が封入されている。この第１の基板及び第２の基板は、
それぞれその対向する内面上に所定パターンの電極が形
成され、さらに液晶に接する面に、その面付近の液晶分
子を所望の一定方向に配向させる配向膜が形成されてい
る。このような配向膜は、それぞれ電極を有する基板面
上に例えば有機高分子物質からなる配向膜を形成し、そ
の表面を綿、布などで一定方向にこする、いわゆるラビ
ング処理を施すことで作られる。
【０００３】しかしながら、上記した液晶表示素子の作
製においては、作製中の物理的な影響から電極に亀裂な
どが生じる不都合がしばしば起きる。これは配向膜が有
機材料からなるのに対し、電極はＩＴＯなどの硬い無機
材料からなるため、両者間に無視しえない熱膨張差が存
在することに起因すると考えられる。
製においては、作製中の物理的な影響から電極に亀裂な
どが生じる不都合がしばしば起きる。これは配向膜が有
機材料からなるのに対し、電極はＩＴＯなどの硬い無機
材料からなるため、両者間に無視しえない熱膨張差が存
在することに起因すると考えられる。
【０００４】このような不都合を改善するため、電極と
配向膜との間に保護膜を介在させることが提案され、こ
のような保護膜として二酸化ケイ素を主成分とした被膜
が知られているが、このような被膜はシラノール化合物
含有塗布液を塗布、焼成することで形成され、その焼成
温度は４００℃以上が必要で、このような高温の焼成温
度では電極が劣化し、電極の抵抗値が高くなるという問
題がある。
配向膜との間に保護膜を介在させることが提案され、こ
のような保護膜として二酸化ケイ素を主成分とした被膜
が知られているが、このような被膜はシラノール化合物
含有塗布液を塗布、焼成することで形成され、その焼成
温度は４００℃以上が必要で、このような高温の焼成温
度では電極が劣化し、電極の抵抗値が高くなるという問
題がある。
【０００５】また、近年アクリル板やＰＥＴなどの樹脂
を基板として使用するプラスチック液晶表示素子が開発
され、電極に対する物理的な影響を受けやすいため、電
極の保護膜として比較的低温の焼成で成膜でき、高い硬
度のものが強く要望されている。
を基板として使用するプラスチック液晶表示素子が開発
され、電極に対する物理的な影響を受けやすいため、電
極の保護膜として比較的低温の焼成で成膜でき、高い硬
度のものが強く要望されている。
【０００６】
【発明が解決しようとする課題】本発明は、このような
従来の保護膜がもつ欠点を克服し、比較的低温で成膜で
き、均質性に優れ、しかも高硬度の保護被膜を形成しう
る液晶表示素子電極保護膜形成用塗布液を提供すること
を目的としてなされたものである。
従来の保護膜がもつ欠点を克服し、比較的低温で成膜で
き、均質性に優れ、しかも高硬度の保護被膜を形成しう
る液晶表示素子電極保護膜形成用塗布液を提供すること
を目的としてなされたものである。
【０００７】
【課題を解決するための手段】本発明者らは、前記の好
ましい特性を有する塗布液を開発すべく鋭意研究を重ね
た結果、特定の少なくとも２種類の有機ケイ素化合物を
原料とし、特定の処理を施して得られた加水分解処理物
を含有する溶液に、特定の粒径の微粒状充てん剤を配合
したものが、その目的に適合することを見出し、この知
見に基づいて本発明をなすに至った。
ましい特性を有する塗布液を開発すべく鋭意研究を重ね
た結果、特定の少なくとも２種類の有機ケイ素化合物を
原料とし、特定の処理を施して得られた加水分解処理物
を含有する溶液に、特定の粒径の微粒状充てん剤を配合
したものが、その目的に適合することを見出し、この知
見に基づいて本発明をなすに至った。
【０００８】すなわち、本発明は、（Ａ）一般式 Ｓｉ（ＯＲ）4 …（Ｉ） （式中のＲは炭素数１〜４のアルキル基又はフェニル基
を示す） で表わされる少なくとも１種の化合物の加水分解反応生
成物、（Ｂ）一般式 Ｒ1 nＳｉ（ＯＲ）4-n …（ＩＩ） （式中のＲは前記と同じ意味をもち、Ｒ1はアクリロキ
シプロピル基、メタクリロキシプロピル基又はグリシジ
ロキシプロピル基、ｎは１〜３の整数を示す） で表わされる少なくとも１種の化合物の加水分解反応生
成物及び（Ｃ）粒径５〜２００ｎｍの微粒状充てん剤を
含有する溶液、あるいは前記（Ａ）成分、（Ｂ′）前記
一般式（ＩＩ）で表わされる少なくとも１種の化合物の
分子間反応物の加水分解反応生成物及び前記（Ｃ）成分
を含有する溶液、あるいは前記（Ａ）成分、（Ｂ″）一
般式（ＩＩＩ） Ｒ2 nＳｉ（ＯＲ）4-n …（ＩＩＩ） （式中のＲ及びｎは前記と同じ意味をもち、Ｒ2はアク
リロキシプロピル基又はメタクリロキシプロピル基を示
す） で表わされる少なくとも１種の化合物と多官能アクリル
系モノマーとの重合反応物の加水分解反応生成物及び前
記（Ｃ）成分を含有する溶液、あるいは前記（Ａ）成
分、前記（Ｂ）成分、前記（Ｃ）成分及び（Ｄ）多官能
アクリル系モノマーを含有する溶液、あるいは前記
（Ａ）成分、前記（Ｂ′）成分、前記（Ｃ）成分及び前
記（Ｄ）成分を含有する溶液から成る液晶表示素子電極
保護膜形成用塗布液及びそれを用いた液晶表示素子電極
保護方法を提供するものである。
を示す） で表わされる少なくとも１種の化合物の加水分解反応生
成物、（Ｂ）一般式 Ｒ1 nＳｉ（ＯＲ）4-n …（ＩＩ） （式中のＲは前記と同じ意味をもち、Ｒ1はアクリロキ
シプロピル基、メタクリロキシプロピル基又はグリシジ
ロキシプロピル基、ｎは１〜３の整数を示す） で表わされる少なくとも１種の化合物の加水分解反応生
成物及び（Ｃ）粒径５〜２００ｎｍの微粒状充てん剤を
含有する溶液、あるいは前記（Ａ）成分、（Ｂ′）前記
一般式（ＩＩ）で表わされる少なくとも１種の化合物の
分子間反応物の加水分解反応生成物及び前記（Ｃ）成分
を含有する溶液、あるいは前記（Ａ）成分、（Ｂ″）一
般式（ＩＩＩ） Ｒ2 nＳｉ（ＯＲ）4-n …（ＩＩＩ） （式中のＲ及びｎは前記と同じ意味をもち、Ｒ2はアク
リロキシプロピル基又はメタクリロキシプロピル基を示
す） で表わされる少なくとも１種の化合物と多官能アクリル
系モノマーとの重合反応物の加水分解反応生成物及び前
記（Ｃ）成分を含有する溶液、あるいは前記（Ａ）成
分、前記（Ｂ）成分、前記（Ｃ）成分及び（Ｄ）多官能
アクリル系モノマーを含有する溶液、あるいは前記
（Ａ）成分、前記（Ｂ′）成分、前記（Ｃ）成分及び前
記（Ｄ）成分を含有する溶液から成る液晶表示素子電極
保護膜形成用塗布液及びそれを用いた液晶表示素子電極
保護方法を提供するものである。
【０００９】前記一般式（Ｉ）の化合物としては、例え
ばテトラメトキシシラン、テトラエトキシシラン、テト
ラプロポキシシラン、テトラブトキシシランなどが挙げ
られる。
ばテトラメトキシシラン、テトラエトキシシラン、テト
ラプロポキシシラン、テトラブトキシシランなどが挙げ
られる。
【００１０】前記一般式（ＩＩ）及び一般式（ＩＩＩ）
の化合物としては、例えばモノアクリロキシプロピルト
リメトキシシラン、モノメタクリロキシプロピルトリメ
トキシシラン、モノグリシジロキシプロピルトリメトキ
シシラン、ジアクリロキシプロピルジメトキシシラン、
ジメタクリロキシプロピルジメトキシシラン、ジグリシ
ジロキシプロピルジメトキシシラン、トリアクリロキシ
プロピルモノメトキシシラン、トリメタクリロキシプロ
ピルモノメトキシシラン、トリグリシジロキシプロピル
モノメトキシシラン、モノアクリロキシプロピルトリエ
トキシシラン、モノメタクリロキシプロピルトリエトキ
シシラン、モノグリシジロキシプロピルトリエトキシシ
ラン、ジアクリロキシプロピルジエトキシシラン、ジメ
タクリロキシプロピルジエトキシシラン、ジグリシジロ
キシプロピルジエトキシシラン、トリアクリロキシプロ
ピルモノエトキシシラン、トリメタクリロキシプロピル
モノエトキシシラン、トリグリシジロキシプロピルモノ
エトキシシラン、モノアクリロキシプロピルトリプロポ
キシシラン、モノメタクリロキシプロピルトリプロポキ
シシラン、モノグリシジロキシプロピルトリプロポキシ
シラン、ジアクリロキシプロピルジプロポキシシラン、
ジメタクリロキシプロピルジプロポキシシラン、ジグリ
シジロキシプロピルジプロポキシシラン、トリアクリロ
キシプロピルモノプロポキシシラン、トリメタクリロキ
シプロピルモノプロポキシシラン、トリグリシジロキシ
プロピルモノプロポキシシラン、モノアクリロキシプロ
ピルトリブトキシシラン、モノメタクリロキシプロピル
トリブトキシシラン、モノグリシジロキシプロピルトリ
ブトキシシラン、ジアクリロキシプロピルジブトキシシ
ラン、ジメタクリロキシプロピルジブトキシシラン、ジ
グリシジロキシプロピルジブトキシシラン、トリアクリ
ロキシプロピルモノブトキシシラン、トリメタクリロキ
シプロピルモノブトキシシラン、トリグリシジロキシプ
ロピルモノブトキシシランなどが挙げられる。
の化合物としては、例えばモノアクリロキシプロピルト
リメトキシシラン、モノメタクリロキシプロピルトリメ
トキシシラン、モノグリシジロキシプロピルトリメトキ
シシラン、ジアクリロキシプロピルジメトキシシラン、
ジメタクリロキシプロピルジメトキシシラン、ジグリシ
ジロキシプロピルジメトキシシラン、トリアクリロキシ
プロピルモノメトキシシラン、トリメタクリロキシプロ
ピルモノメトキシシラン、トリグリシジロキシプロピル
モノメトキシシラン、モノアクリロキシプロピルトリエ
トキシシラン、モノメタクリロキシプロピルトリエトキ
シシラン、モノグリシジロキシプロピルトリエトキシシ
ラン、ジアクリロキシプロピルジエトキシシラン、ジメ
タクリロキシプロピルジエトキシシラン、ジグリシジロ
キシプロピルジエトキシシラン、トリアクリロキシプロ
ピルモノエトキシシラン、トリメタクリロキシプロピル
モノエトキシシラン、トリグリシジロキシプロピルモノ
エトキシシラン、モノアクリロキシプロピルトリプロポ
キシシラン、モノメタクリロキシプロピルトリプロポキ
シシラン、モノグリシジロキシプロピルトリプロポキシ
シラン、ジアクリロキシプロピルジプロポキシシラン、
ジメタクリロキシプロピルジプロポキシシラン、ジグリ
シジロキシプロピルジプロポキシシラン、トリアクリロ
キシプロピルモノプロポキシシラン、トリメタクリロキ
シプロピルモノプロポキシシラン、トリグリシジロキシ
プロピルモノプロポキシシラン、モノアクリロキシプロ
ピルトリブトキシシラン、モノメタクリロキシプロピル
トリブトキシシラン、モノグリシジロキシプロピルトリ
ブトキシシラン、ジアクリロキシプロピルジブトキシシ
ラン、ジメタクリロキシプロピルジブトキシシラン、ジ
グリシジロキシプロピルジブトキシシラン、トリアクリ
ロキシプロピルモノブトキシシラン、トリメタクリロキ
シプロピルモノブトキシシラン、トリグリシジロキシプ
ロピルモノブトキシシランなどが挙げられる。
【００１１】前記一般式（Ｉ）の化合物、一般式（Ｉ
Ｉ）の化合物、一般式（ＩＩＩ）の化合物、分子間反応
物、重合反応物は、適当な有機溶媒に溶解した形態で用
いるのが好ましい。また、前記一般式（Ｉ）の化合物、
一般式（ＩＩ）の化合物、一般式（ＩＩＩ）の化合物、
分子間反応物、重合反応物はそれぞれを加水分解反応生
成物として有機溶媒に溶解して用いてもよい。このよう
な有機溶媒としては、例えばメチルアルコール、エチル
アルコール、プロピルアルコール、ブチルアルコールの
ような一価アルコール類、エチレングリコール、ジエチ
レングリコール、プロピレングリコール、ジプロピレン
グリコール、ヘキシレングリコール、オクチレングリコ
ールのような多価アルコール類、エチレングリコールモ
ノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエー
テル、エチレングリコールモノプロピルエーテル、エチ
レングリコールモノブチルエーテル、プロピレングリコ
ールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノエ
チルエーテル、プロピレングリコールモノプロピルエー
テル、エチレングリコールジメチルエーテル、エチレン
グリコールジエチルエーテル、ジエチレングリコールモ
ノメチルエーテル、ジエチレングリコールモノエチルエ
ーテル、ジエチレングリコールジメチルエーテル、ジエ
チレングリコールジエチルエーテル、プロピレングリコ
ールジメチルエーテル、プロピレングリコールジエチル
エーテル、ジプロピレングリコールモノメチルエーテ
ル、ジプロピレングリコールモノエチルエーテル、ジプ
ロピレングリコールジメチルエーテル、ジプロピレング
リコールジエチルエーテルのようなエーテル類、酢酸、
プロピオン酸のような脂肪酸類、酢酸メチル、酢酸エチ
ル、酢酸プロピル、酢酸イソプロピル、酢酸ブチル、酢
酸イソブチル、プロピオン酸メチル、プロピオン酸エチ
ルのようなエステル類などが挙げられる。
Ｉ）の化合物、一般式（ＩＩＩ）の化合物、分子間反応
物、重合反応物は、適当な有機溶媒に溶解した形態で用
いるのが好ましい。また、前記一般式（Ｉ）の化合物、
一般式（ＩＩ）の化合物、一般式（ＩＩＩ）の化合物、
分子間反応物、重合反応物はそれぞれを加水分解反応生
成物として有機溶媒に溶解して用いてもよい。このよう
な有機溶媒としては、例えばメチルアルコール、エチル
アルコール、プロピルアルコール、ブチルアルコールの
ような一価アルコール類、エチレングリコール、ジエチ
レングリコール、プロピレングリコール、ジプロピレン
グリコール、ヘキシレングリコール、オクチレングリコ
ールのような多価アルコール類、エチレングリコールモ
ノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエー
テル、エチレングリコールモノプロピルエーテル、エチ
レングリコールモノブチルエーテル、プロピレングリコ
ールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノエ
チルエーテル、プロピレングリコールモノプロピルエー
テル、エチレングリコールジメチルエーテル、エチレン
グリコールジエチルエーテル、ジエチレングリコールモ
ノメチルエーテル、ジエチレングリコールモノエチルエ
ーテル、ジエチレングリコールジメチルエーテル、ジエ
チレングリコールジエチルエーテル、プロピレングリコ
ールジメチルエーテル、プロピレングリコールジエチル
エーテル、ジプロピレングリコールモノメチルエーテ
ル、ジプロピレングリコールモノエチルエーテル、ジプ
ロピレングリコールジメチルエーテル、ジプロピレング
リコールジエチルエーテルのようなエーテル類、酢酸、
プロピオン酸のような脂肪酸類、酢酸メチル、酢酸エチ
ル、酢酸プロピル、酢酸イソプロピル、酢酸ブチル、酢
酸イソブチル、プロピオン酸メチル、プロピオン酸エチ
ルのようなエステル類などが挙げられる。
【００１２】本発明の塗布液においては、その目的をそ
こなわない範囲で、必要に応じ、多官能アクリル系モノ
マーを配合することができる。この多官能アクリル系モ
ノマーとしては、例えばペンタエリスリトールトリアク
リレート、ペンタエリスリトールトリメタクリレート、
ペンタエリスリトールテトラアクリレート、ペンタエリ
スリトールテトラメタクリレート、ジペンタエリスリト
ールヘキサアクリレート、ジペンタエリスリトールヘキ
サメタクリレート、ジペンタエリスリトールモノヒドロ
キシペンタアクリレート、ヘキサ（メタクリロキシエト
キシ）フォスファゼン、トリス（アクリロキシエチル）
イソシアヌレート、トリス（メタクリロキシエチル）イ
ソシアヌレートなどが挙げられる。
こなわない範囲で、必要に応じ、多官能アクリル系モノ
マーを配合することができる。この多官能アクリル系モ
ノマーとしては、例えばペンタエリスリトールトリアク
リレート、ペンタエリスリトールトリメタクリレート、
ペンタエリスリトールテトラアクリレート、ペンタエリ
スリトールテトラメタクリレート、ジペンタエリスリト
ールヘキサアクリレート、ジペンタエリスリトールヘキ
サメタクリレート、ジペンタエリスリトールモノヒドロ
キシペンタアクリレート、ヘキサ（メタクリロキシエト
キシ）フォスファゼン、トリス（アクリロキシエチル）
イソシアヌレート、トリス（メタクリロキシエチル）イ
ソシアヌレートなどが挙げられる。
【００１３】また、本発明の塗布液においては、その有
効成分濃度の調整のため、例えば濃度を薄める場合、希
釈溶媒を配合することができる。この希釈溶媒として
は、例えば一価アルコール類、多価アルコール類、多価
アルコールエーテルのようなエーテル類、酢酸、プロピ
オン酸のような脂肪酸類、アセトン、メチルエチルケト
ン、アセチルアセトン、メチルイソブチルケトン、ジブ
チルケトンのようなケトン類、酢酸メチル、酢酸エチ
ル、酢酸ブチル、酢酸プロピル、酢酸イソブチル、酢酸
イソアミルのようなエステル類などが挙げられる。
効成分濃度の調整のため、例えば濃度を薄める場合、希
釈溶媒を配合することができる。この希釈溶媒として
は、例えば一価アルコール類、多価アルコール類、多価
アルコールエーテルのようなエーテル類、酢酸、プロピ
オン酸のような脂肪酸類、アセトン、メチルエチルケト
ン、アセチルアセトン、メチルイソブチルケトン、ジブ
チルケトンのようなケトン類、酢酸メチル、酢酸エチ
ル、酢酸ブチル、酢酸プロピル、酢酸イソブチル、酢酸
イソアミルのようなエステル類などが挙げられる。
【００１４】本発明の塗布液を調製するには、最初に
（Ｃ）成分以外のすべての成分を含有する溶液を調製
し、これに（Ｃ）成分を配合してもよいし、また、あら
かじめ（Ａ）成分、（Ｂ）成分、（Ｂ′）成分又は
（Ｂ″）成分の製造時に（Ｃ）成分を加え、この製造後
に残りの他の成分を任意の順序で配合してもよい。例え
ば、一般式（Ｉ）の化合物と一般式（ＩＩ）の化合物又
は一般式（ＩＩＩ）の化合物との混合物を有機溶媒に溶
解し、触媒と適量の水を加え加水分解するか、あるいは
一般式（Ｉ）の化合物及び一般式（ＩＩ）の化合物又は
一般式（ＩＩＩ）の化合物をそれぞれ別個に好ましくは
触媒の存在下で加水分解したものを混合して調製した溶
液に（Ｃ）成分を配合する方法などが挙げられる。
（Ｃ）成分以外のすべての成分を含有する溶液を調製
し、これに（Ｃ）成分を配合してもよいし、また、あら
かじめ（Ａ）成分、（Ｂ）成分、（Ｂ′）成分又は
（Ｂ″）成分の製造時に（Ｃ）成分を加え、この製造後
に残りの他の成分を任意の順序で配合してもよい。例え
ば、一般式（Ｉ）の化合物と一般式（ＩＩ）の化合物又
は一般式（ＩＩＩ）の化合物との混合物を有機溶媒に溶
解し、触媒と適量の水を加え加水分解するか、あるいは
一般式（Ｉ）の化合物及び一般式（ＩＩ）の化合物又は
一般式（ＩＩＩ）の化合物をそれぞれ別個に好ましくは
触媒の存在下で加水分解したものを混合して調製した溶
液に（Ｃ）成分を配合する方法などが挙げられる。
【００１５】また、本発明の塗布液に用いる溶液は、一
般式（ＩＩ）の化合物を有機溶剤に溶解し、好ましくは
ｔｅｒｔ‐ブチルハイドロパーオキサイド、クメンハイ
ドロパーオキサイド、２，２′‐アゾビスイソブチロニ
トリル、過酸化ベンゾイル、２，２′‐アゾビス（２，
４‐ジメチルバレロニトリル）などの重合開始剤を加
え、加熱重合するなど、分子間反応物を得たのち、一般
式（Ｉ）の化合物を加え、好ましくは触媒の存在下で水
を加えて加水分解することにより調製することもでき
る。また、本発明の塗布液に用いる溶液は、一般式（Ｉ
ＩＩ）の化合物と多官能アクリル系モノマーとを、好ま
しくは上記した重合開始剤を加え、加熱重合したのち、
一般式（Ｉ）の化合物を加え、好ましくは触媒の存在下
で水を加えて加水分解することにより調製することもで
きる。この場合、必要に応じて、一般式 Ｒ3 nＳｉ（ＯＲ）4-n （式中のＲは前記と同じ意味をもち、Ｒ3はグリシジロ
キシプロピル基、ｎは１〜３の整数を示す） で表わされる化合物を配合してもよい。さらに、本発明
の塗布液に用いる溶液は、一般式（Ｉ）の化合物と一般
式（ＩＩ）の化合物又は分子間反応物との加水分解反応
生成物と、多官能アクリル系モノマーとを混合して調製
することもできる。
般式（ＩＩ）の化合物を有機溶剤に溶解し、好ましくは
ｔｅｒｔ‐ブチルハイドロパーオキサイド、クメンハイ
ドロパーオキサイド、２，２′‐アゾビスイソブチロニ
トリル、過酸化ベンゾイル、２，２′‐アゾビス（２，
４‐ジメチルバレロニトリル）などの重合開始剤を加
え、加熱重合するなど、分子間反応物を得たのち、一般
式（Ｉ）の化合物を加え、好ましくは触媒の存在下で水
を加えて加水分解することにより調製することもでき
る。また、本発明の塗布液に用いる溶液は、一般式（Ｉ
ＩＩ）の化合物と多官能アクリル系モノマーとを、好ま
しくは上記した重合開始剤を加え、加熱重合したのち、
一般式（Ｉ）の化合物を加え、好ましくは触媒の存在下
で水を加えて加水分解することにより調製することもで
きる。この場合、必要に応じて、一般式 Ｒ3 nＳｉ（ＯＲ）4-n （式中のＲは前記と同じ意味をもち、Ｒ3はグリシジロ
キシプロピル基、ｎは１〜３の整数を示す） で表わされる化合物を配合してもよい。さらに、本発明
の塗布液に用いる溶液は、一般式（Ｉ）の化合物と一般
式（ＩＩ）の化合物又は分子間反応物との加水分解反応
生成物と、多官能アクリル系モノマーとを混合して調製
することもできる。
【００１６】上記例では一般式（Ｉ）の化合物、一般式
（ＩＩ）の化合物、一般式（ＩＩ）の化合物の分子間反
応物又は一般式（ＩＩＩ）の化合物と多官能アクリル系
モノマーとの重合反応物を有機溶剤に溶解したのち、加
水分解反応させているが、それぞれをあらかじめ加水分
解させたものを混合して用いてもよい。
（ＩＩ）の化合物、一般式（ＩＩ）の化合物の分子間反
応物又は一般式（ＩＩＩ）の化合物と多官能アクリル系
モノマーとの重合反応物を有機溶剤に溶解したのち、加
水分解反応させているが、それぞれをあらかじめ加水分
解させたものを混合して用いてもよい。
【００１７】これらの調製法においては、一般式（Ｉ）
の化合物と一般式（ＩＩ）の化合物又は一般式（ＩＩ
Ｉ）の化合物の使用割合については、一般式（Ｉ）の化
合物１モル当り、一般式（ＩＩ）の化合物又は一般式
（ＩＩＩ）の化合物が０．０５〜９モル、好ましくは
０．１〜５モルの範囲で選ばれる。水はこれらの化合物
の合計モル数に対し、２〜１０倍モル、好ましくは３〜
８倍モルの範囲で用いられる。
の化合物と一般式（ＩＩ）の化合物又は一般式（ＩＩ
Ｉ）の化合物の使用割合については、一般式（Ｉ）の化
合物１モル当り、一般式（ＩＩ）の化合物又は一般式
（ＩＩＩ）の化合物が０．０５〜９モル、好ましくは
０．１〜５モルの範囲で選ばれる。水はこれらの化合物
の合計モル数に対し、２〜１０倍モル、好ましくは３〜
８倍モルの範囲で用いられる。
【００１８】また、触媒としては、塩酸、硝酸、リン酸
などの酸触媒が好ましい。触媒の使用量は、これらの化
合物の合計量に対し、０．００１〜０．１重量％の範囲
が好ましい。
などの酸触媒が好ましい。触媒の使用量は、これらの化
合物の合計量に対し、０．００１〜０．１重量％の範囲
が好ましい。
【００１９】また、前記多官能アクリル系モノマーを加
える場合、その配合量は一般式（ＩＩ）の化合物又は一
般式（ＩＩＩ）の化合物１００重量部当り、０．５〜３
００重量部の範囲で選ばれる。
える場合、その配合量は一般式（ＩＩ）の化合物又は一
般式（ＩＩＩ）の化合物１００重量部当り、０．５〜３
００重量部の範囲で選ばれる。
【００２０】本発明の塗布液は、好ましくは、上記した
ように調製された溶液に、粒径５〜２００ｎｍの微粒状
充てん剤を配合させることで得られる。この微粒状充て
ん剤としては、例えばコロイド状シリカ（市販品：日産
化学社製スノーテックス、触媒化成工業社製ＯＳＣＡ
Ｌ、旭電化工業社製アデライトＡＴ、日本化学工業社製
シリカドールなど）、シリカ微粒子（市販品：宇部日東
化成社製ハイプレシカ、日本アエロジル社製アエロジ
ル）、チタニア微粒子（市販品：出光興産社製出光チタ
ニア、石原産業社製タイペーク）、コロイド状アルミナ
（市販品：日産化学社製スノーテックスＡＳ）などが挙
げられる。これらは１種用いてもよいし、２種以上を組
み合わせて用いてもよい。
ように調製された溶液に、粒径５〜２００ｎｍの微粒状
充てん剤を配合させることで得られる。この微粒状充て
ん剤としては、例えばコロイド状シリカ（市販品：日産
化学社製スノーテックス、触媒化成工業社製ＯＳＣＡ
Ｌ、旭電化工業社製アデライトＡＴ、日本化学工業社製
シリカドールなど）、シリカ微粒子（市販品：宇部日東
化成社製ハイプレシカ、日本アエロジル社製アエロジ
ル）、チタニア微粒子（市販品：出光興産社製出光チタ
ニア、石原産業社製タイペーク）、コロイド状アルミナ
（市販品：日産化学社製スノーテックスＡＳ）などが挙
げられる。これらは１種用いてもよいし、２種以上を組
み合わせて用いてもよい。
【００２１】この微粒状充てん剤の配合量は、他の成分
の合計量に対して固形分量として３〜９８重量％、好ま
しくは５〜９５重量％の範囲で選ばれる。この量が少な
すぎると高硬度の被膜が得られないし、また多すぎると
被膜の密着性が悪くなるので好ましくない。また、本発
明の塗布液は、上記した微粒状充てん剤を均一に分散さ
せるために分散剤を添加してもよい。
の合計量に対して固形分量として３〜９８重量％、好ま
しくは５〜９５重量％の範囲で選ばれる。この量が少な
すぎると高硬度の被膜が得られないし、また多すぎると
被膜の密着性が悪くなるので好ましくない。また、本発
明の塗布液は、上記した微粒状充てん剤を均一に分散さ
せるために分散剤を添加してもよい。
【００２２】本発明の塗布液を用いて液晶表示素子電極
を保護するには、例えばパターン電極に適用した場合、
塗布液を、パターン状の電極を設けた基板上にスピンナ
ー等により塗布したのち、塗布液を加熱下及び／又は減
圧下あるいは通気下に乾燥させて塗膜を形成させ、次い
で１２０℃以上、２５０℃以下で焼成させ、保護膜を形
成させる。
を保護するには、例えばパターン電極に適用した場合、
塗布液を、パターン状の電極を設けた基板上にスピンナ
ー等により塗布したのち、塗布液を加熱下及び／又は減
圧下あるいは通気下に乾燥させて塗膜を形成させ、次い
で１２０℃以上、２５０℃以下で焼成させ、保護膜を形
成させる。
【００２３】
【発明の効果】本発明によると、均質性に優れ、しかも
高硬度の電極用保護被膜を形成することができ、さらに
この成膜は比較的低温で行え、そのため、電極を劣化さ
せることがないという極めて実用性の高い効果を有する
ので、液晶表示素子用電極の保護に好適である。
高硬度の電極用保護被膜を形成することができ、さらに
この成膜は比較的低温で行え、そのため、電極を劣化さ
せることがないという極めて実用性の高い効果を有する
ので、液晶表示素子用電極の保護に好適である。
【００２４】
【実施例】次に、実施例により本発明をさらに詳細に説
明する。 実施例１ テトラメトキシシラン１モルとモノメタクリロキシプロ
ピルトリメトキシシラン１モルをブチルアルコール１７
５ｇに溶解した。次いで純水１２６ｇと濃塩酸０．０２
ｇを加え、室温で約６時間かきまぜた。このようにして
得られた溶液７０ｇに、粒径１０〜２０ｎｍのスノーテ
ックス（商品名、日産化学社製コロイド状シリカ）を固
形分量として２２８ｇと酢酸ブチル１０ｇとプロピレン
グリコールモノプロピルエーテル３９５ｇを加えて混合
することによって塗布液を調製した。
明する。 実施例１ テトラメトキシシラン１モルとモノメタクリロキシプロ
ピルトリメトキシシラン１モルをブチルアルコール１７
５ｇに溶解した。次いで純水１２６ｇと濃塩酸０．０２
ｇを加え、室温で約６時間かきまぜた。このようにして
得られた溶液７０ｇに、粒径１０〜２０ｎｍのスノーテ
ックス（商品名、日産化学社製コロイド状シリカ）を固
形分量として２２８ｇと酢酸ブチル１０ｇとプロピレン
グリコールモノプロピルエーテル３９５ｇを加えて混合
することによって塗布液を調製した。
【００２５】この塗布液を、線幅８０μｍのＩＴＯ膜か
らなる電極を設けた６インチガラス基板上に、スピンナ
ーにより塗布し、２５０℃で１時間焼成することによっ
て膜厚１００ｎｍの保護膜を形成した。この保護膜はク
ラック発生がなく均質性に優れ、鉛筆硬度を測定したと
ころ９Ｈであった。
らなる電極を設けた６インチガラス基板上に、スピンナ
ーにより塗布し、２５０℃で１時間焼成することによっ
て膜厚１００ｎｍの保護膜を形成した。この保護膜はク
ラック発生がなく均質性に優れ、鉛筆硬度を測定したと
ころ９Ｈであった。
【００２６】実施例２ テトラエトキシシラン１モルとモノアクリロキシプロピ
ルトリメトキシシラン０．５モルとモノビニルトリメト
キシシラン０．５モルとをイソプロピルアルコール１７
０ｇに溶解した。次いで純水１９０ｇと濃硝酸０．０２
ｇを加え、室温で６時間かきまぜた。このようにして得
られた溶液に、粒径１００ｎｍのハイプレシカＦＱ（商
品名、宇部日東化成社製シリカ微粒子）６．３５ｇと酢
酸イソプロピル１００ｇとエチレングリコールモノメチ
ルエーテル４０３．５ｇを加えて混合することによって
塗布液を調製した。
ルトリメトキシシラン０．５モルとモノビニルトリメト
キシシラン０．５モルとをイソプロピルアルコール１７
０ｇに溶解した。次いで純水１９０ｇと濃硝酸０．０２
ｇを加え、室温で６時間かきまぜた。このようにして得
られた溶液に、粒径１００ｎｍのハイプレシカＦＱ（商
品名、宇部日東化成社製シリカ微粒子）６．３５ｇと酢
酸イソプロピル１００ｇとエチレングリコールモノメチ
ルエーテル４０３．５ｇを加えて混合することによって
塗布液を調製した。
【００２７】この塗布液を用い、２００℃で２時間の焼
成を行った以外は実施例１と同様にして膜厚１００ｎｍ
の保護膜を形成した。この保護膜は均質性に優れ、鉛筆
硬度で８Ｈであった。
成を行った以外は実施例１と同様にして膜厚１００ｎｍ
の保護膜を形成した。この保護膜は均質性に優れ、鉛筆
硬度で８Ｈであった。
【００２８】実施例３ テトラエトキシシラン１モルとモノグリシドキシプロピ
ルトリエトキシシラン０．１モルとジメタクリロキシプ
ロピルジメトキシシラン０．２モルとをエチレングリコ
ールモノエチルエーテル９０ｇに溶解した。次いで粒径
１０〜２０ｎｍのアデライトＡＴ（商品名、旭電化工業
社製コロイド状シリカ）を固形分量として６０ｇと粒径
１０〜２０ｎｍのスノーテックスＡＳ（商品名、日産化
学社製コロイド状アルミナ）固形分量として１８ｇを加
え、さらに純水８８ｇとリン酸０．０１ｇを加え、室温
で６時間かきまぜた。このようにして得られた溶液に、
ジプロピレングリコールモノメチルエーテル１００ｇ、
酢酸イソアミル１００ｇ及びヘキシレングリコール２０
０ｇを加えて混合することによって塗布液を調製した。
ルトリエトキシシラン０．１モルとジメタクリロキシプ
ロピルジメトキシシラン０．２モルとをエチレングリコ
ールモノエチルエーテル９０ｇに溶解した。次いで粒径
１０〜２０ｎｍのアデライトＡＴ（商品名、旭電化工業
社製コロイド状シリカ）を固形分量として６０ｇと粒径
１０〜２０ｎｍのスノーテックスＡＳ（商品名、日産化
学社製コロイド状アルミナ）固形分量として１８ｇを加
え、さらに純水８８ｇとリン酸０．０１ｇを加え、室温
で６時間かきまぜた。このようにして得られた溶液に、
ジプロピレングリコールモノメチルエーテル１００ｇ、
酢酸イソアミル１００ｇ及びヘキシレングリコール２０
０ｇを加えて混合することによって塗布液を調製した。
【００２９】この塗布液を用い、１６０℃で２時間焼成
を行った以外は実施例１と同様にして膜厚１８０ｎｍの
保護膜を形成した。この保護膜は均質性に優れ、鉛筆硬
度で９Ｈであった。
を行った以外は実施例１と同様にして膜厚１８０ｎｍの
保護膜を形成した。この保護膜は均質性に優れ、鉛筆硬
度で９Ｈであった。
【００３０】実施例４ テトラメトキシシラン０．３モルとモノグリシドキシプ
ロピルトリエトキシシラン１モルを酢酸ブチル１００ｇ
に溶解した。次いで純水７６ｇと濃塩酸０．０１ｇを加
え、室温で約６時間かきまぜた。このようにして得られ
た溶液に、粒径１７ｎｍの出光チタニア（商品名、出光
興産社製チタニア微粒子）を固形分量として３３ｇとイ
ソプロピルアルコール３００ｇとジプロピレングリコー
ル２００ｇとオクチレングリコール５０ｇと酢酸イソブ
チル７３ｇを加えて混合することによって塗布液を調製
した。
ロピルトリエトキシシラン１モルを酢酸ブチル１００ｇ
に溶解した。次いで純水７６ｇと濃塩酸０．０１ｇを加
え、室温で約６時間かきまぜた。このようにして得られ
た溶液に、粒径１７ｎｍの出光チタニア（商品名、出光
興産社製チタニア微粒子）を固形分量として３３ｇとイ
ソプロピルアルコール３００ｇとジプロピレングリコー
ル２００ｇとオクチレングリコール５０ｇと酢酸イソブ
チル７３ｇを加えて混合することによって塗布液を調製
した。
【００３１】この塗布液を用い、１６０℃で２時間焼成
を行った以外は実施例１と同様にして膜厚２００ｎｍの
保護膜を形成した。この保護膜は均質性に優れ、鉛筆硬
度で９Ｈであった。
を行った以外は実施例１と同様にして膜厚２００ｎｍの
保護膜を形成した。この保護膜は均質性に優れ、鉛筆硬
度で９Ｈであった。
【００３２】実施例５ 還流冷却器と温度計と滴下ロートを付した２リットル３
口フラスコに、モノメタクリロキシプロピルトリメトキ
シシラン１モルとプロピレングリコールモノメチルエー
テル４００ｇを加え、窒素雰囲気下で６０℃に保持し、
そこへエチレングリコールモノエチルエーテル９０ｇに
２，２′‐アゾビスブチロニトリル２．５ｇを溶解した
溶液をかきまぜながら滴下し、８０℃で１時間保持し、
さらに１１０℃で１時間保持したのち、室温まで冷却し
た。次いで、得られた反応溶液にテトラメトキシシラン
１モルを溶解して、純水１２６ｇと濃塩酸０．０２ｇを
加え、室温で約６時間かきまぜた。このようにして得ら
れた溶液１００ｇに、粒径１０〜２０ｎｍのスノーテッ
クス（商品名、日産化学社製コロイド状シリカ）固形分
量として２２８ｇと酢酸ブチル２０ｇとイソプロピルア
ルコール１３ｇとプロピレングリコールモノプロピルエ
ーテル３４０ｇを加えて混合することによって塗布液を
調製した。
口フラスコに、モノメタクリロキシプロピルトリメトキ
シシラン１モルとプロピレングリコールモノメチルエー
テル４００ｇを加え、窒素雰囲気下で６０℃に保持し、
そこへエチレングリコールモノエチルエーテル９０ｇに
２，２′‐アゾビスブチロニトリル２．５ｇを溶解した
溶液をかきまぜながら滴下し、８０℃で１時間保持し、
さらに１１０℃で１時間保持したのち、室温まで冷却し
た。次いで、得られた反応溶液にテトラメトキシシラン
１モルを溶解して、純水１２６ｇと濃塩酸０．０２ｇを
加え、室温で約６時間かきまぜた。このようにして得ら
れた溶液１００ｇに、粒径１０〜２０ｎｍのスノーテッ
クス（商品名、日産化学社製コロイド状シリカ）固形分
量として２２８ｇと酢酸ブチル２０ｇとイソプロピルア
ルコール１３ｇとプロピレングリコールモノプロピルエ
ーテル３４０ｇを加えて混合することによって塗布液を
調製した。
【００３３】この塗布液を用い、２００℃で２時間の焼
成を行った以外は実施例１と同様にして膜厚１２０ｎｍ
の保護膜を形成した。この保護膜は均質性に優れ、鉛筆
硬度で９Ｈであった。
成を行った以外は実施例１と同様にして膜厚１２０ｎｍ
の保護膜を形成した。この保護膜は均質性に優れ、鉛筆
硬度で９Ｈであった。
【００３４】実施例６ 実施例５で２リットル３口フラスコに加えたモノメタク
リロキシプロピルトリメトキシシラン１モルとプロピレ
ングリコールモノメチルエーテル４００ｇに、さらにペ
ンタエリスリトールトリメタクリレート６ｇを加えた以
外は、実施例５と同様の操作により塗布液を調製した。
この塗布液を用い、２００℃で２時間の焼成を行った以
外は実施例１と同様にして膜厚１５０ｎｍの保護膜を形
成した。この保護膜は均質性に優れ、鉛筆硬度で９Ｈで
あった。
リロキシプロピルトリメトキシシラン１モルとプロピレ
ングリコールモノメチルエーテル４００ｇに、さらにペ
ンタエリスリトールトリメタクリレート６ｇを加えた以
外は、実施例５と同様の操作により塗布液を調製した。
この塗布液を用い、２００℃で２時間の焼成を行った以
外は実施例１と同様にして膜厚１５０ｎｍの保護膜を形
成した。この保護膜は均質性に優れ、鉛筆硬度で９Ｈで
あった。
【００３５】実施例７ 実施例１で調製された塗布液にジペンタエリスリトール
ヘキサアクリレート６ｇを加えることにより塗布液を調
製した。この塗布液を用い、２００℃で２時間の焼成を
行った以外は実施例１と同様にして膜厚１８０ｎｍの保
護膜を形成した。この保護膜は均質性に優れ、鉛筆硬度
で９Ｈであった。
ヘキサアクリレート６ｇを加えることにより塗布液を調
製した。この塗布液を用い、２００℃で２時間の焼成を
行った以外は実施例１と同様にして膜厚１８０ｎｍの保
護膜を形成した。この保護膜は均質性に優れ、鉛筆硬度
で９Ｈであった。
【００３６】実施例８ 実施例１で調製された塗布液にヘキサ（アクリロキシエ
チル）フォスファゼン６０ｇを加えることにより塗布液
を調製した。この塗布液を用い、２００℃で２時間焼成
を行った以外は実施例１と同様にして膜厚１５０ｎｍの
保護膜を形成した。この保護膜は均質性に優れ、鉛筆硬
度で９Ｈであった。
チル）フォスファゼン６０ｇを加えることにより塗布液
を調製した。この塗布液を用い、２００℃で２時間焼成
を行った以外は実施例１と同様にして膜厚１５０ｎｍの
保護膜を形成した。この保護膜は均質性に優れ、鉛筆硬
度で９Ｈであった。
【００３７】比較例１ 実施例１において、スノーテックスを配合しない以外は
すべて実施例１と同様にして塗布液を調製した。この塗
布液を用い、２００℃で２時間焼成を行った以外は実施
例１と同様にして膜厚１００ｎｍの保護膜を形成した。
この保護膜は均質性に優れていたが、鉛筆硬度で７Ｈに
しかすぎなかった。
すべて実施例１と同様にして塗布液を調製した。この塗
布液を用い、２００℃で２時間焼成を行った以外は実施
例１と同様にして膜厚１００ｎｍの保護膜を形成した。
この保護膜は均質性に優れていたが、鉛筆硬度で７Ｈに
しかすぎなかった。
【００３８】比較例２ 二酸化ケイ素を主成分とした被膜を形成するシリカ系被
膜形成用塗布液であるＯＣＤ（商品名、東京応化工業社
製）を塗布液に用いて、２００℃で２時間焼成を行った
以外は実施例１と同様にして膜厚１００ｎｍの保護膜を
形成した。この保護膜は均質性が劣り、鉛筆硬度で５Ｈ
にしかすぎなかった。
膜形成用塗布液であるＯＣＤ（商品名、東京応化工業社
製）を塗布液に用いて、２００℃で２時間焼成を行った
以外は実施例１と同様にして膜厚１００ｎｍの保護膜を
形成した。この保護膜は均質性が劣り、鉛筆硬度で５Ｈ
にしかすぎなかった。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (56)参考文献 特開 平５−202314（ＪＰ，Ａ) 特開 平４−126784（ＪＰ，Ａ) 特開 平５−222338（ＪＰ，Ａ) 特開 平５−188363（ＪＰ，Ａ) 特開 平４−46932（ＪＰ，Ａ) 特開 平４−214743（ＪＰ，Ａ) 特開 昭47−26419（ＪＰ，Ａ) 特開 昭57−131214（ＪＰ，Ａ) (58)調査した分野(Int.Cl.7，ＤＢ名) G02F 1/1333 505 C09D 183/02 - 183/08
Claims (6)
- 【請求項１】 （Ａ）一般式 Ｓｉ（ＯＲ）4 （式中のＲは炭素数１〜４のアルキル基又はフェニル基
を示す） で表わされる少なくとも１種の化合物の加水分解反応生
成物、（Ｂ）一般式 Ｒ1 nＳｉ（ＯＲ）4-n （式中のＲは前記と同じ意味をもち、Ｒ1はアクリロキ
シプロピル基、メタクリロキシプロピル基又はグリシジ
ロキシプロピル基、ｎは１〜３の整数を示す） で表わされる少なくとも１種の化合物の加水分解反応生
成物及び（Ｃ）粒径５〜２００ｎｍの微粒状充てん剤を
含有する溶液から成る液晶表示素子電極保護膜形成用塗
布液。 - 【請求項２】 （Ａ）一般式 Ｓｉ（ＯＲ）4 （式中のＲは炭素数１〜４のアルキル基又はフェニル基
を示す） で表わされる少なくとも１種の化合物の加水分解反応生
成物、（Ｂ′）一般式 Ｒ1 nＳｉ（ＯＲ）4-n （式中のＲは前記と同じ意味をもち、Ｒ1はアクリロキ
シプロピル基、メタクリロキシプロピル基又はグリシジ
ロキシプロピル基、ｎは１〜３の整数を示す）で表わさ
れる少なくとも１種の化合物の分子間反応物の加水分解
反応生成物及び（Ｃ）粒径５〜２００ｎｍの微粒状充て
ん剤を含有する溶液から成る液晶表示素子電極保護膜形
成用塗布液。 - 【請求項３】 （Ａ）一般式 Ｓｉ（ＯＲ）4 （式中のＲは炭素数１〜４のアルキル基又はフェニル基
を示す） で表わされる少なくとも１種の化合物の加水分解反応生
成物、（Ｂ″）一般式 Ｒ2 nＳｉ（ＯＲ）4-n （式中のＲは前記と同じ意味をもち、Ｒ2はアクリロキ
シプロピル基又はメタクリロキシプロピル基、ｎは１〜
３の整数を示す） で表わされる少なくとも１種の化合物と多官能アクリル
系モノマーとの重合反応物の加水分解反応生成物及び
（Ｃ）粒径５〜２００ｎｍの微粒状充てん剤を含有する
溶液から成る液晶表示素子電極保護膜形成用塗布液。 - 【請求項４】 （Ａ）一般式 Ｓｉ（ＯＲ）4 （式中のＲは炭素数１〜４のアルキル基又はフェニル基
を示す） で表わされる少なくとも１種の化合物の加水分解反応生
成物、（Ｂ）一般式 Ｒ1 nＳｉ（ＯＲ）4-n （式中のＲは前記と同じ意味をもち、Ｒ1はアクリロキ
シプロピル基、メタクリロキシプロピル基又はグリシジ
ロキシプロピル基、ｎは１〜３の整数を示す） で表わされる少なくとも１種の化合物の加水分解反応生
成物、（Ｃ）粒径５〜２００ｎｍの微粒状充てん剤及び
（Ｄ）多官能アクリル系モノマーを含有する溶液から成
る液晶表示素子電極保護膜形成用塗布液。 - 【請求項５】 （Ａ）一般式 Ｓｉ（ＯＲ）4 （式中のＲは炭素数１〜４のアルキル基又はフェニル基
を示す） で表わされる少なくとも１種の化合物の加水分解反応生
成物、（Ｂ′）一般式 Ｒ1 nＳｉ（ＯＲ）4-n （式中のＲは前記と同じ意味をもち、Ｒ1はアクリロキ
シプロピル基、メタクリロキシプロピル基又はグリシジ
ロキシプロピル基、ｎは１〜３の整数を示す） で表わされる少なくとも１種の化合物の分子間反応物の
加水分解反応生成物、（Ｃ）粒径５〜２００ｎｍの微粒
状充てん剤及び（Ｄ）多官能アクリル系モノマーを含有
する溶液から成る液晶表示素子電極保護膜形成用塗布
液。 - 【請求項６】 請求項１ないし５のいずれかに記載の液
晶表示素子電極保護膜形成用塗布液を基板上に設けた電
極表面に塗布し、乾燥したのち、１２０〜２５０℃の範
囲の温度で焼成することを特徴とする液晶表示素子電極
の保護方法。
Priority Applications (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP24716393A JP3344664B2 (ja) | 1993-10-01 | 1993-10-01 | 液晶表示素子電極保護膜形成用塗布液及びそれを用いた液晶表示素子電極保護方法 |
| US08/274,021 US5520952A (en) | 1993-07-16 | 1994-07-12 | Method for forming a protective coating film on electronic parts and devices |
| US08/616,378 US5662961A (en) | 1993-07-16 | 1996-03-15 | Method for forming a protective coating film on electronic parts and devices |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP24716393A JP3344664B2 (ja) | 1993-10-01 | 1993-10-01 | 液晶表示素子電極保護膜形成用塗布液及びそれを用いた液晶表示素子電極保護方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH07102214A JPH07102214A (ja) | 1995-04-18 |
| JP3344664B2 true JP3344664B2 (ja) | 2002-11-11 |
Family
ID=17159381
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP24716393A Expired - Fee Related JP3344664B2 (ja) | 1993-07-16 | 1993-10-01 | 液晶表示素子電極保護膜形成用塗布液及びそれを用いた液晶表示素子電極保護方法 |
Country Status (1)
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|---|---|
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|---|---|---|---|---|
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| WO1999055789A1 (fr) * | 1998-04-24 | 1999-11-04 | Catalysts & Chemicals Industries Co., Ltd. | Liquide de revetement utilise pour former un film a base de silice presentant une faible constante dielectrique et substrat sur lequel est couche un film a faible constante dielectrique |
| JP2009091448A (ja) * | 2007-10-09 | 2009-04-30 | Momentive Performance Materials Japan Kk | ハードコート用樹脂組成物 |
| EP3793750A4 (en) * | 2018-05-14 | 2022-06-22 | NBD Nanotechnologies, Inc. | ORGANOSILANE COATING COMPOSITIONS |
-
1993
- 1993-10-01 JP JP24716393A patent/JP3344664B2/ja not_active Expired - Fee Related
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| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH07102214A (ja) | 1995-04-18 |
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