JP3342292B2 - 半導体装置 - Google Patents

半導体装置

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  • Wire Bonding (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、半導体チップを封
止するパッケージの構造に係り、特に電力半導体チップ
を接着する放熱板のアイランド部分の構造に関する。
【0002】
【従来の技術】図4は、従来のパワートランジスタ等を
含むパワーLSIチップのパッケージ構造、特にリード
端子とチップのボンディングパッド間のワイヤの接続状
態を示す。この半導体チップ10は、パワー素子を含む
LSIチップであるため、放熱板17のアイランド上に
ハンダ共晶により接着される。放熱板17の半導体チッ
プ10が接着される中央部分は、銀メッキが施されアイ
ランドを形成している。
【0003】そしてアイランド部には、半導体チップ1
0がハンダで接着されるが、このハンダが外に流れるこ
とを防止するためにV溝14が設けられている。又、V
溝14は、パッケージ外から水分が半導体チップに浸入
することを溝に噛み込んだモールド樹脂により防止して
いる。この放熱板17は、リードフレームのリード端子
12とカシメAにより接合されている。カシメAは、リ
ードフレームの端子先端部に設けられた開口と、放熱板
17側の四隅に設けられた円柱状の突起とを嵌合して、
カシメることにより、リードフレームの端子に放熱板を
固定した部分である。
【0004】リードフレームの放熱板を固定するための
端子12と、半導体チップ上のボンディングパッドとワ
イヤを接続するためのリード端子12Aとは段差が設け
られている。従って、リードフレームのリード端子12
Aと放熱板17間には、紙面に垂直方向に空隙が設けら
れている。リード端子12Aの先端部と、半導体チップ
のワイヤボンディングパッド間には、金線16Aがワイ
ヤボンディングにより接続されている。
【0005】リード端子12,12Aの先端部と、放熱
板17上のチップ10及び金線16A等は、モールド樹
脂によって封止され、放熱板17の裏面が熱放散のため
に露出するようになっている。
【0006】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、チップ
10或いはリード端子12Aからグランド接続等のた
め、チップを固定したアイランド上に直接ワイヤボンデ
ィングを施さなければならない場合がある。図4におい
ては、金線16Bがチップ側のボンディングパッドから
放熱板17のアイランド上にワイヤボンディングされて
いる。係る場合に、V溝14の内側のハンダが流れてい
る部分では、ハンダ上には金線のワイヤが接着できない
ため、ワイヤボンディングが不可能である。このため、
従来は図4に示すようにV溝14の外側の適当な空いて
いる場所にグランドワイヤボンディングを行っている。
【0007】かかる、ボンディング工程は自動工程で行
われるが、ボンディング工程の初期時に作業者が直接ア
イランドにボンディングする打点位置を指定し、指定さ
れた情報、例えばX、Y座標データをボンディング装置
に入力することで、以降のボンディングが自動で行われ
る。従って、ワイヤボンディング時に、上記したよう
に、従来の半導体装置では、アイランド側の打点が指定
されていないので、ボンディング初期時に指定する指定
領域を定めるのに作業者に迷いが生じ作業効率を低下さ
せることになる。
【0008】又、アイランド側のワイヤボンディングの
打点位置によっては、金線16Bに弛みにより、樹脂封
止時にワイヤが流れ、隣接したワイヤと接触し電気的な
ショートを引起こし、組立工程での歩留りの低下等の問
題を生じることがある。即ち、アイランド領域の全面に
は、上記したように、メッキ処理が施されていることか
らアイランドのどの領域でもボンディングが可能であ
り、ボンディング初期の設定時に作業者が設定する打点
位置にバラツキが生じ、作業者の感覚でボンディングの
打点位置が異なる。
【0009】例えば、作業者が半導体チップのコーナ部
分のアイランドを打点位置に指定したときには、上記し
たように樹脂封止時に隣接する金線16Bとショートす
る場合がある。本発明は上述した事情に鑑みて為された
もので、半導体チップをハンダでアイランドに接着する
半導体装置において、該アイランド内にスムーズにグラ
ンドワイヤ等をボンディングすることができる半導体装
置を提供することを目的とする。
【0010】
【課題を解決するための手段】本発明の半導体装置は、
半導体チップを半田で放熱板上に固着するアイランド
に、該半田の流出を防止する溝を設け、該溝の外側の所
定領域に指定された指定領域が設けられ、その指定領域
内に前記半導体チップと接続するワイヤがボンディング
されたことを特徴としている。
【0011】また、半導体チップを半田で放熱板上に固
着するアイランドに、該半田の流出を防止する溝を設
け、該溝の外側にワイヤボンディング位置を指定する浅
い凹部を有したことを特徴とする半導体装置。さらに、
半導体チップを半田で放熱板上に固着した半導体装置で
あって、前記半導体チップが固着される前記放熱板のア
イランド領域の略全面にはメッキ処理が施されており、
前記アイランド領域の終端部付近の所定領域に指定され
た指定領域が設けられ、前記指定領域内にワイヤボンデ
ィングが成されていることを特徴としている。
【0012】上述した半導体装置の構成によれば、グラ
ンドボンディングされるアイランド領域に指定領域を設
けることにより、グランドワイヤボンディングの際に、
その打点の認識が容易となる。従って、指定領域内に、
半導体チップ側から、又リード端子側から容易にワイヤ
ボンディングを行うことができ、作業効率が向上すると
共に、ワイヤ打点位置のバラツキを低減することがで
き、ワイヤショート等による製造歩留の低下等を防止す
ることができる。また、指定領域を浅い凹状部とすれ
ば、更に、作業性が向上する。
【0013】
【発明の実施の形態】以下、本発明の一実施の形態につ
いて図1乃至3を参照しながら説明する。図1は、本発
明の一実施の形態のワイヤボンディング位置を指定する
指定領域を備えた放熱板の構造を示す。図2は、この放
熱板をリードフレームにカシメ接続してグランドワイヤ
ボンディングを施した状態の部分断面構造を示す。
【0014】放熱板17は、その四隅に凸部18Aを有
し、これがリードフレームの穴部に嵌合し、この部分A
をカシメることにより、放熱板17とリードフレームの
端子12とを接続する。カシメ接続部分Aのリード端子
12とワイヤ接続のためのリード端子12Aとは、もと
もとは1枚の銅板からスタンピング加工等により形成さ
れたものであるが、図2に示すように、リード端子12
の先端部分は曲げ加工によって段差が設けられているた
めに、カシメ固定をすることで他のリード端子12Aは
放熱板17と離隔して配置される。
【0015】そして、放熱板17は、その上面の略全面
がアイランド部であり、この部分には半導体チップを共
晶接合するため、又、グランドワイヤを接続するため銀
メッキが施されている。尚、本実施の形態では放熱板1
7として厚さ約1mmの銅片が用いられている。そして
アイランド内には、ダイボンディング時にハンダがアイ
ランド外に流れ出ることを防止するためのV溝14が設
けられている。
【0016】放熱板17のアイランド部に設けられたV
溝14は、本実施の形態では幅が0.3mmであり、深
さが0.1mm程度で、アイランド上のチップ実装領域
を両端から挟むように配置されているが、チップ実装領
域の周囲を囲んで配置しても良い。V溝14の外側にワ
イヤボンディング位置を指定する指定領域15が設けら
れている。ここでは、アイランド表面上に浅い凹部を形
成して指定領域15としている。ワイヤボンディング位
置を指定する指定領域15の浅い凹状部は、アイランド
のグランドボンディングエリア内に叩き加工により形成
されたもので、銀メッキされた無光沢のアイランド上に
叩きを入れることで、叩いた銀メッキ面が鏡面になり、
凹部の周辺領域と凹部表面のコントラストを作業者が容
易に認識でき、グランドワイヤの打点位置が明確に確認
することができる。
【0017】この凹状部15は、叩き加工により銀メッ
キの表面を鏡面に形成できれば良いので、その深さはせ
いぜい10μm程度で十分である。又、本実施の形態で
は凹状部15は長方形であり、その寸法は0.5mm×
0.8mm程度である。この放熱板17は、図示しない
が、例えば、1mm厚の板状の銅板の主面に銀メッキを施
し、図1に示すような形状に打抜き加工後、凸部18A
及び溝14をスタンピングにより形成する。そして、叩
き加工によりアイランドの銀メッキの無光沢面から、鏡
面に変換した浅い凹状部15が形成される。
【0018】図3は、本発明の一実施の形態の半導体チ
ップとリード端子とのワイヤ接続状態を示す。上述の加
工を施した放熱板17をリードフレームの端子12にカ
シメ加工した後に、放熱板17のアイランド上に半導体
チップ10がハンダを用いてダイボンディングされる。
半導体チップ10を固着実装するアイランドは、上記し
たように、銅板からなる放熱板に銀メッキが施された部
分であり、半導体チップの裏面は例えば金とクロムの合
金からなる裏張り部を備えているので、ハンダによるダ
イボンディングで比較的低温でアイランド部に固着実装
できる。
【0019】このアイランド部には、前述したようにV
溝14が設けられているので、このV溝14により、ダ
イボンディングの際流れ出るハンダはトラップされ、グ
ランドボンディングエリアであるV溝14外へのハンダ
の流れ込みが防止される。金線のワイヤ16Aは、それ
ぞれのリード端子12Aの先端部と半導体チップ10の
ボンディングパッド間にワイヤボンディングにより接続
される。本実施例においては、グランドボンディングと
して、4本の金線16Bがチップ側から、ボンディング
指定領域15である凹状部内にワイヤ接続されている。
【0020】この指定領域15の凹状部は、上記したよ
うに、銀メッキ表面を叩いて形成されているために、凹
部の表面は無光沢のアイランド中で鏡面となっているの
で、ワイヤボンディングの初期設定時に作業者がグラン
ドボンディング領域を容易に視認でき、凹状部15内に
確実に打点を定めることができる。このグランドワイヤ
ボンディングにより、放熱板17が、半導体チップ10
のボンディングパッド部分と同電位となり、特性の安定
化等を図ることができる。
【0021】尚、本実施の形態では、チップ側から、凹
状部15にグランドワイヤボンディングを行っている
が、リード端子側から凹状部15にグランドワイヤボン
ディングを行うことも勿論可能である。図3に示したパ
ワーLSIチップ10は、ワイヤボンディング後に放熱
板17の裏面が露出するように樹脂モールド封止され
る。そして、リードフレームのリード端子が加工され、
樹脂封止された半導体装置として完成する。
【0022】尚、上述した実施の形態においては、ワイ
ヤボンディングを施すための指定領域の凹状部を長方形
としたが、このスペースは楕円形或いは円形であっても
勿論良い。又、叩き加工以外の加工法でも、ワイヤボン
ディング初期の設定作業時に、作業者がグランドワイヤ
ボンディングする打点が視認できるものであればよいの
で、例えばスタンピング等により凹状部を形成してもよ
い。
【0023】また、アイランド上にメッキされる銀メッ
キをパターンニングして指定領域を形成しても良い。こ
のように本発明の趣旨を逸脱することなく、種々の変形
実施例が可能である。また、本実施の形態では、アイラ
ンドに形成した半田流出用の溝をV形状にしたが、この
溝はVに限らず凹部、或いは溝の代わりに表面に突出部
を形成する場合でも良いことは説明するまでもない。
【0024】
【発明の効果】以上に説明したように、本発明の半導体
装置は、半導体チップをハンダで接着するアイランド
に、グランドワイヤボンディング位置を指定する指定領
域(浅い凹状部)を設けたものである。係る半導体装置
の構造により、グランドボンディング設定時に作業者が
容易にワイヤの打点位置を視認することができる。従っ
て、作業者がグランドボンディング時に打点位置に関す
る迷いがなくなり、ワイヤボンディングの作業効率を向
上することができる。
【0025】又、複数の異なる作業者がボンディング初
期時に打点位置を指定する際、本発明では、指定領域が
設けられていることにより、作業者によるグランドボン
ディングの打点位置のバラツキが無くなることから、従
来の不正な位置にワイヤボンドすることにより生じてい
た樹脂封止時の金線の流れによる電気的なショート等を
防止することができ、信頼性の向上した半導体装置を提
供することができる。
【0026】アイランド部分にワイヤボンディング位置
を指定する指定領域を凹状部とすることにより、放熱板
の加工時に叩き加工で容易に行うことが出来るので、ほ
とんどコストを要することなく本発明の半導体装置を生
産することができる。そして、係るグランドワイヤボン
ディングにより、半導体装置の特性を安定させ、又、半
導体装置生産の歩留まりを向上させることができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の一実施の形態の放熱板の上面図。
【図2】図1における放熱板とリード端子との接続の状
態を示す部分断面図。
【図3】本発明の一実施例の半導体装置のワイヤ接続状
態を示す説明図。
【図4】従来の半導体装置のワイヤ接続状態を示す説明
図。
フロントページの続き (56)参考文献 特開 平5−90477(JP,A) 特開 平4−196574(JP,A) 特開 平4−336435(JP,A) 特開 平7−7116(JP,A) 特開 平7−176675(JP,A) 特開 平7−273133(JP,A) 特開 昭61−276334(JP,A) (58)調査した分野(Int.Cl.7,DB名) H01L 21/60 H01L 23/50

Claims (2)

    (57)【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】半導体チップを半田で放熱板上に固着した
    半導体装置であって、 前記半導体チップが固着される前記放熱板のアイランド
    領域の略全面にはメッキ処理が施されており、 前記アイランド領域の終端部付近の所定領域には前記メ
    ッキの表面からコイニング処理がされた指定領域が設け
    られ、 前記指定領域が浅い凹部を有することを特徴とする半導
    体装置。
  2. 【請求項2】前記半導体チップと前記指定領域との間の
    前記アイランド領域上において、 前記半田の流出を防止する溝を設け、 前記指定領域と前記半導体チップとがボンディングワイ
    ヤによって電気的に接続されていることを特徴とする請
    求項1記載の半導体装置。
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