JP3339941B2 - 洗浄組成物による洗浄方法 - Google Patents
洗浄組成物による洗浄方法Info
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Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明はフロン，トリクロロエタ
ン等の塩素系脱脂洗浄剤の代替洗浄剤として使用でき、
アルミニウム，鉄等の金属部品，レンズ，プリズム等の
光学部品や電子部品、プラスチック部品、ゴム部品の精
密洗浄に優れた特性を有する新規な洗浄剤組成物による
洗浄方法に関する。
ン等の塩素系脱脂洗浄剤の代替洗浄剤として使用でき、
アルミニウム，鉄等の金属部品，レンズ，プリズム等の
光学部品や電子部品、プラスチック部品、ゴム部品の精
密洗浄に優れた特性を有する新規な洗浄剤組成物による
洗浄方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】金属部品，光学部品等の洗浄用溶剤とし
ては、従来より、１，１，２−トリクロロ−１，１，２
−トリフルオロエタン（フロン１１３）や、１，１，１
−トリクロロエタンが使用されている。これは、フロン
１１３が生体に対する毒性が低く、金属部品の金属や光
学部品の硝材あるいはプラスチックやゴム等を侵さない
が油脂等を溶解するという選択的溶解性を有すると共
に、乾燥速度が早い、不燃性である等の優れた特性を有
し、一方、１，１，１−トリクロロエタンにおいても優
れた脱脂力を有し、不燃性であるためである。
ては、従来より、１，１，２−トリクロロ−１，１，２
−トリフルオロエタン（フロン１１３）や、１，１，１
−トリクロロエタンが使用されている。これは、フロン
１１３が生体に対する毒性が低く、金属部品の金属や光
学部品の硝材あるいはプラスチックやゴム等を侵さない
が油脂等を溶解するという選択的溶解性を有すると共
に、乾燥速度が早い、不燃性である等の優れた特性を有
し、一方、１，１，１−トリクロロエタンにおいても優
れた脱脂力を有し、不燃性であるためである。
【０００３】また、１９８７年のモントリオール議定書
以来フロン削減を目的とした洗浄剤が多数開発されてい
る。例えば、特開平１−３１８０９４号公報にはフロン
１１３とメチルエチルケトンの混合溶剤が、特開平２−
２８９６９３号公報にはフロン２３４と脂肪族アルコー
ルの共沸組成物が提案されている。これに加えて、フロ
ン代替の洗浄剤も数多くが開発されており、例えば国際
公開番号ＷＯ９１／１３６９７号の国際出願には低分子
環状ポリオルガノシロキサン及びイソパラフィンからな
る洗浄剤が提案されている。
以来フロン削減を目的とした洗浄剤が多数開発されてい
る。例えば、特開平１−３１８０９４号公報にはフロン
１１３とメチルエチルケトンの混合溶剤が、特開平２−
２８９６９３号公報にはフロン２３４と脂肪族アルコー
ルの共沸組成物が提案されている。これに加えて、フロ
ン代替の洗浄剤も数多くが開発されており、例えば国際
公開番号ＷＯ９１／１３６９７号の国際出願には低分子
環状ポリオルガノシロキサン及びイソパラフィンからな
る洗浄剤が提案されている。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】トリクロロエタン，フ
ロン１１３等の塩素系溶剤は化学的に特に安定であるた
め対流圏内での寿命が長く、拡散して成層圏に達し、こ
こで太陽光線により分解して発生する塩素ラジカルがオ
ゾンと連鎖反応を起こし、オゾン層を破壊することか
ら、これらの使用の削減が求められている。このことか
ら上述した特開平１−３１８０９４号公報ではフロン１
１３とメチルエチルケトンとの混合組成物が開示されて
いるが、使用量をある程度以上減らすことはできない。
また、上述した特開平２−２８９６９３号公報にはフロ
ン１１３に比べオゾン層の破壊性が比較的小さいフロン
２３４と脂肪族アルコールの共沸組成物が開示されてい
るがオゾン層の破壊を完全になくすことはできない。
ロン１１３等の塩素系溶剤は化学的に特に安定であるた
め対流圏内での寿命が長く、拡散して成層圏に達し、こ
こで太陽光線により分解して発生する塩素ラジカルがオ
ゾンと連鎖反応を起こし、オゾン層を破壊することか
ら、これらの使用の削減が求められている。このことか
ら上述した特開平１−３１８０９４号公報ではフロン１
１３とメチルエチルケトンとの混合組成物が開示されて
いるが、使用量をある程度以上減らすことはできない。
また、上述した特開平２−２８９６９３号公報にはフロ
ン１１３に比べオゾン層の破壊性が比較的小さいフロン
２３４と脂肪族アルコールの共沸組成物が開示されてい
るがオゾン層の破壊を完全になくすことはできない。
【０００５】一方、通産省ではエタノールを用いた洗浄
を推奨し、ケトン，エーテル等の有機溶剤を用いること
が検討されている。ところが、脂肪族低級アルコールを
用いた場合は乾燥性に問題があり、ケトン系、エーテル
系ではプラスチック等を劣化させるため実用的ではな
い。しかも、これらの中には有機則に該当するものもあ
り人体に対する安全性に問題がある。
を推奨し、ケトン，エーテル等の有機溶剤を用いること
が検討されている。ところが、脂肪族低級アルコールを
用いた場合は乾燥性に問題があり、ケトン系、エーテル
系ではプラスチック等を劣化させるため実用的ではな
い。しかも、これらの中には有機則に該当するものもあ
り人体に対する安全性に問題がある。
【０００６】これに対し、国際公開番号ＷＯ９１／１３
６９７号に提案されている低分子環状ポリオルガノシロ
キサンはプラスチック等をほとんど劣化させることがな
く、人体に対しても安全性が高い特性を有している。し
かし、この化合物は凝固点が高く常温付近で固体状にな
るものもあり、洗浄剤として使用する場合、冬季あるい
は寒冷地では固化して洗浄に使用できないばかりか、メ
ンテナンス性の低下があり使用温度範囲が限定される。
このためイソパラフィンを添加して凝固点を降下させる
ことが提案されているが両者の比率が規定されておら
ず、適正な配合比率から逸脱した場合にはシロキサン本
来の浸透性を損なう可能性がある。
６９７号に提案されている低分子環状ポリオルガノシロ
キサンはプラスチック等をほとんど劣化させることがな
く、人体に対しても安全性が高い特性を有している。し
かし、この化合物は凝固点が高く常温付近で固体状にな
るものもあり、洗浄剤として使用する場合、冬季あるい
は寒冷地では固化して洗浄に使用できないばかりか、メ
ンテナンス性の低下があり使用温度範囲が限定される。
このためイソパラフィンを添加して凝固点を降下させる
ことが提案されているが両者の比率が規定されておら
ず、適正な配合比率から逸脱した場合にはシロキサン本
来の浸透性を損なう可能性がある。
【０００７】本発明は上記事情を考慮してなされたもの
であり、部品の洗浄に際し、オゾン層を破壊することな
く、洗浄性に優れ、広範囲にわたった洗浄が可能な洗浄
剤組成物による洗浄方法を提供することを目的とする。
であり、部品の洗浄に際し、オゾン層を破壊することな
く、洗浄性に優れ、広範囲にわたった洗浄が可能な洗浄
剤組成物による洗浄方法を提供することを目的とする。
【０００８】
【課題を解決するための手段】上記目的を達成する本発
明の洗浄剤組成物による洗浄方法はオクタメチルシクロ
テトラシロキサン５０〜８０重量％と、蒸留範囲１５０
〜２４０℃の飽和炭化水素２０〜５０重量％とからなる
洗浄剤組成物を洗浄槽に充填し、前記洗浄剤組成物を充
填した洗浄槽に、金属部品、光学部品、電子部品、プラ
スチック部品またはゴム部品を被洗浄物として浸漬して
洗浄することを特徴とする。また、本発明の洗浄剤組成
物による洗浄方法はオクタメチルシクロテトラシロキサ
ン５０〜８０重量％と、蒸留範囲１５０〜２４０℃の飽
和炭化水素２０〜５０重量％とからなる洗浄剤組成物を
洗浄槽に充填し、前洗浄剤組成物を充填した洗浄槽に、
金属部品、光学部品、電子部品、プラスチック部品また
はゴム部品を被洗浄物を浸漬して洗浄し、次いで、前記
洗浄組成物、直鎖状ポリメチルシロキサンまたはイソパ
ラフィンを単体でリンス液として充填した洗浄槽に、前
記被洗浄物として浸漬してリンスすることを特徴とす
る。また、本発明の洗浄剤組成物による洗浄方法は、オ
クタメチルシクロテトラシロキサン５０〜８０重量％
と、蒸留範囲１５０〜２４０℃の飽和炭化水素２０〜５
０重量％とからなる洗浄剤組成物を洗浄槽に充填し、前
記洗浄剤組成物を充填した洗浄槽に、金属部品、光学部
品、電子部品、プラスチック部品またはゴム部品を被洗
浄物として浸漬し、前記洗浄剤組成物に超音波振動を作
用させながら揺動させて洗浄し、洗浄後に前記被洗浄物
を乾燥槽内で温風により乾燥させることを特徴とする。
ここで、飽和炭化水素としては、イソパラフィンが好ま
しい。
明の洗浄剤組成物による洗浄方法はオクタメチルシクロ
テトラシロキサン５０〜８０重量％と、蒸留範囲１５０
〜２４０℃の飽和炭化水素２０〜５０重量％とからなる
洗浄剤組成物を洗浄槽に充填し、前記洗浄剤組成物を充
填した洗浄槽に、金属部品、光学部品、電子部品、プラ
スチック部品またはゴム部品を被洗浄物として浸漬して
洗浄することを特徴とする。また、本発明の洗浄剤組成
物による洗浄方法はオクタメチルシクロテトラシロキサ
ン５０〜８０重量％と、蒸留範囲１５０〜２４０℃の飽
和炭化水素２０〜５０重量％とからなる洗浄剤組成物を
洗浄槽に充填し、前洗浄剤組成物を充填した洗浄槽に、
金属部品、光学部品、電子部品、プラスチック部品また
はゴム部品を被洗浄物を浸漬して洗浄し、次いで、前記
洗浄組成物、直鎖状ポリメチルシロキサンまたはイソパ
ラフィンを単体でリンス液として充填した洗浄槽に、前
記被洗浄物として浸漬してリンスすることを特徴とす
る。また、本発明の洗浄剤組成物による洗浄方法は、オ
クタメチルシクロテトラシロキサン５０〜８０重量％
と、蒸留範囲１５０〜２４０℃の飽和炭化水素２０〜５
０重量％とからなる洗浄剤組成物を洗浄槽に充填し、前
記洗浄剤組成物を充填した洗浄槽に、金属部品、光学部
品、電子部品、プラスチック部品またはゴム部品を被洗
浄物として浸漬し、前記洗浄剤組成物に超音波振動を作
用させながら揺動させて洗浄し、洗浄後に前記被洗浄物
を乾燥槽内で温風により乾燥させることを特徴とする。
ここで、飽和炭化水素としては、イソパラフィンが好ま
しい。
【０００９】ここで、本発明の洗浄方法に用いる洗浄剤
組成物の各構成について述べる。オクタメチルシクロテ
トラシロキサンは浸透力が高く洗浄剤として優れている
が、凝固点が１７℃と高く、低温下では固体となるため
に洗浄剤としては使用できない。本発明の洗浄方法で用
いる洗浄剤としての洗浄剤組成物は、低温下でも使用可
能とするため添加剤を用いて凝固点降下の性質を利用し
ている。この添加剤としては、オクタメチルシクロテト
ラシロキサンと相溶し、かつ同程度の粘度、表面張力、
引火点を有し、しかもオクタメチルシクロテトラシロキ
サンの特性である各種素材、即ち前記アルミニウム、鉄
等の金属部品、レンズ、プリズム等の光学部品や電子部
品やプラスチック部品、ゴム部品等の各種素材に対する
アタック性が低い、生体に対する安全性が高いという特
性を有し、組成等の長期安定性の点から、沸点域あるい
は蒸気圧が同程度であるものが望ましい。
組成物の各構成について述べる。オクタメチルシクロテ
トラシロキサンは浸透力が高く洗浄剤として優れている
が、凝固点が１７℃と高く、低温下では固体となるため
に洗浄剤としては使用できない。本発明の洗浄方法で用
いる洗浄剤としての洗浄剤組成物は、低温下でも使用可
能とするため添加剤を用いて凝固点降下の性質を利用し
ている。この添加剤としては、オクタメチルシクロテト
ラシロキサンと相溶し、かつ同程度の粘度、表面張力、
引火点を有し、しかもオクタメチルシクロテトラシロキ
サンの特性である各種素材、即ち前記アルミニウム、鉄
等の金属部品、レンズ、プリズム等の光学部品や電子部
品やプラスチック部品、ゴム部品等の各種素材に対する
アタック性が低い、生体に対する安全性が高いという特
性を有し、組成等の長期安定性の点から、沸点域あるい
は蒸気圧が同程度であるものが望ましい。
【００１０】これらの特性を満たす添加剤としては、蒸
留範囲が狭くオクタメチルシクロテトラシロキサンと同
程度な沸点域を有する石油系炭化水素が適する。石油系
炭化水素としてはナフテン系、イソパラフィン系の飽和
炭化水素、あるいはアルキルベンゼン系等の不飽和炭化
水素があるが、不飽和炭化水素には有機則に該当するも
のや、発ガン性のあるものがある。これに対し、飽和炭
化水素は生体に対する安全性が高く、本発明で使用する
添加剤として望ましい。特に、イソパラフィン系は安全
性が高い点で良好である。
留範囲が狭くオクタメチルシクロテトラシロキサンと同
程度な沸点域を有する石油系炭化水素が適する。石油系
炭化水素としてはナフテン系、イソパラフィン系の飽和
炭化水素、あるいはアルキルベンゼン系等の不飽和炭化
水素があるが、不飽和炭化水素には有機則に該当するも
のや、発ガン性のあるものがある。これに対し、飽和炭
化水素は生体に対する安全性が高く、本発明で使用する
添加剤として望ましい。特に、イソパラフィン系は安全
性が高い点で良好である。
【００１１】添加されるイソパラフィンとしては、蒸留
範囲１５０℃〜２４０℃のものが好ましく、炭素数が９
〜１４のイソパラフィンが相当する。この範囲では、オ
クタメチルシクロテトラシロキサンの沸点が１７５℃で
あるため長期安定性を確保できるためである。また、イ
ソパラフィンの蒸留範囲が１５０℃未満では引火点が低
くなり、２４０℃を越える場合では乾燥性が著しく悪く
なるため、蒸留範囲は１５０〜２４０℃が好ましい。
範囲１５０℃〜２４０℃のものが好ましく、炭素数が９
〜１４のイソパラフィンが相当する。この範囲では、オ
クタメチルシクロテトラシロキサンの沸点が１７５℃で
あるため長期安定性を確保できるためである。また、イ
ソパラフィンの蒸留範囲が１５０℃未満では引火点が低
くなり、２４０℃を越える場合では乾燥性が著しく悪く
なるため、蒸留範囲は１５０〜２４０℃が好ましい。
【００１２】イソパラフィンをオクタメチルシクロテト
ラシロキサンに添加した場合、その含有量が２０重量％
の時に凝固点を０℃とすることができるようになり、ま
た、３０重量％のときも凝固点を０℃とすることができ
る。また、このイソパラフィン系において、１５０℃〜
１８０℃の留分では、３０重量％の含有量で凝固点を−
１０℃まで降下させることができる。
ラシロキサンに添加した場合、その含有量が２０重量％
の時に凝固点を０℃とすることができるようになり、ま
た、３０重量％のときも凝固点を０℃とすることができ
る。また、このイソパラフィン系において、１５０℃〜
１８０℃の留分では、３０重量％の含有量で凝固点を−
１０℃まで降下させることができる。
【００１３】イソパラフィンの含有量が過剰になるとシ
ロキサン特有の性質である低粘度、低表面張力が失わ
れ、物性がイソパラフィン系側に傾くため、含有量は５
０重量％以下が望ましい。
ロキサン特有の性質である低粘度、低表面張力が失わ
れ、物性がイソパラフィン系側に傾くため、含有量は５
０重量％以下が望ましい。
【００１４】本発明の洗浄剤組成物による洗浄方法によ
れば、この洗浄剤組成物によって、洗浄剤として使用可
能な温度範囲が拡大し、前記部品を被洗浄物として浸漬
洗浄する際に優れた洗浄性を有するので、広範囲にわた
って洗浄を可能にする。本発明の洗浄剤組成物による洗
浄方法で金属部品、光学部品、電子部品、プラスチック
部品またはゴム部品の洗浄を行う場合、当該組成物で洗
浄後、リンス液として、本組成物の他、直鎖状ポリジメ
チルシロキサンや、イソパラフィンを単体で用いること
ができ、あるいは本発明の組成物と相溶する溶剤、アル
コール類、ケトン類、エーテル類を用いることができ
る。
れば、この洗浄剤組成物によって、洗浄剤として使用可
能な温度範囲が拡大し、前記部品を被洗浄物として浸漬
洗浄する際に優れた洗浄性を有するので、広範囲にわた
って洗浄を可能にする。本発明の洗浄剤組成物による洗
浄方法で金属部品、光学部品、電子部品、プラスチック
部品またはゴム部品の洗浄を行う場合、当該組成物で洗
浄後、リンス液として、本組成物の他、直鎖状ポリジメ
チルシロキサンや、イソパラフィンを単体で用いること
ができ、あるいは本発明の組成物と相溶する溶剤、アル
コール類、ケトン類、エーテル類を用いることができ
る。
【００１５】なお、本発明の洗浄方法に用いる洗浄剤組
成物の構成物であるオクタメチルシクロテトラシロキサ
ン、飽和炭化水素あるいは飽和炭化水素として好ましい
イソパラフィンはいずれも生体に対する安全性が高く、
しかも、塩素等のハロゲンを含まないためにオゾン層を
破壊することがない。
成物の構成物であるオクタメチルシクロテトラシロキサ
ン、飽和炭化水素あるいは飽和炭化水素として好ましい
イソパラフィンはいずれも生体に対する安全性が高く、
しかも、塩素等のハロゲンを含まないためにオゾン層を
破壊することがない。
【００１６】
【実施例１】純度９８％レベルのオクタメチルシクロテ
トラシロキサンの凝固点は１７℃であり、冬季あるいは
寒冷地であっても洗浄剤として使用できるためには、凝
固点を１７℃未満とする必要がある。このため、このオ
クタメチルシクロテトラシロキサンに添加剤として、商
品名アクトレル１１４０Ｌ、アクトレル１１７８Ｌ、ア
クトレル３３３８Ｌ、アクトレル３３５６Ｌ（以上、エ
クソン化学（製））、ナフテゾールＭ（日本石油化学
（製））の炭化水素系溶剤をそれぞれ５重量％、１０重
量％、１５重量％、２０重量％、３０重量％、５０重量
％加えて洗浄剤組成物を調整した。表１はこれらの添加
剤の主成分および蒸留範囲を示す。
トラシロキサンの凝固点は１７℃であり、冬季あるいは
寒冷地であっても洗浄剤として使用できるためには、凝
固点を１７℃未満とする必要がある。このため、このオ
クタメチルシクロテトラシロキサンに添加剤として、商
品名アクトレル１１４０Ｌ、アクトレル１１７８Ｌ、ア
クトレル３３３８Ｌ、アクトレル３３５６Ｌ（以上、エ
クソン化学（製））、ナフテゾールＭ（日本石油化学
（製））の炭化水素系溶剤をそれぞれ５重量％、１０重
量％、１５重量％、２０重量％、３０重量％、５０重量
％加えて洗浄剤組成物を調整した。表１はこれらの添加
剤の主成分および蒸留範囲を示す。
【００１７】
【表１】
【００１８】以上のようにして調整した混合物を０℃，
−１０℃の恒温槽に放置し、状態を観察した。結果を表
２、表３に示す。
−１０℃の恒温槽に放置し、状態を観察した。結果を表
２、表３に示す。
【００１９】
【表２】
【００２０】
【表３】
【００２１】表２、表３において、「○」は恒温槽内で
液状であり洗浄液として使用可能なものを、「×」は凍
結して固体状となり洗浄液として使用不可能なものを示
す。同表に示すように、アクトレル１１４０Ｌ、アクト
レル３３３８Ｌの３０重量％の混合液及び、全液の５０
重量％混合液で凝固点を−１０℃まで下げることができ
た。これにより冬季等で気温が１７℃未満であっても、
缶内や洗浄槽内で凍結することなく容易な使用が可能と
なる。
液状であり洗浄液として使用可能なものを、「×」は凍
結して固体状となり洗浄液として使用不可能なものを示
す。同表に示すように、アクトレル１１４０Ｌ、アクト
レル３３３８Ｌの３０重量％の混合液及び、全液の５０
重量％混合液で凝固点を−１０℃まで下げることができ
た。これにより冬季等で気温が１７℃未満であっても、
缶内や洗浄槽内で凍結することなく容易な使用が可能と
なる。
【００２２】次にオクタメチルシクロトテラシロキサン
にアクトレル３３３８Ｌを２０，３０，４０，および５
０重量％添加して洗浄剤組成物を作成し、切削油として
商品名「ダフニーカットＨＳ−５」（出光（製））を塗
布したアルミウニム板を被洗浄物として洗浄した。図１
はこの洗浄システムを示し、第１槽Ａ，第２槽Ｂ，第３
槽Ｃ，第４槽Ｄを洗浄槽とし、第１〜第３槽Ａ〜Ｃには
２８〜２９ＫＨｚ，３００Ｗで駆動する超音波振動子１
０が取り付けられると共に、各槽Ａ〜Ｄには上述した洗
浄剤組成物が常温状態で充填されている。Ｅは乾燥槽で
ある。第１〜第３槽Ａ〜Ｃでは被洗浄物を浸漬し、超音
波振動を作用させながら常温で２分間揺動させて洗浄
し、第４槽Ｄでは浸漬のみとし、その後、乾燥槽Ｅ内で
８０℃の温風により乾燥させる。
にアクトレル３３３８Ｌを２０，３０，４０，および５
０重量％添加して洗浄剤組成物を作成し、切削油として
商品名「ダフニーカットＨＳ−５」（出光（製））を塗
布したアルミウニム板を被洗浄物として洗浄した。図１
はこの洗浄システムを示し、第１槽Ａ，第２槽Ｂ，第３
槽Ｃ，第４槽Ｄを洗浄槽とし、第１〜第３槽Ａ〜Ｃには
２８〜２９ＫＨｚ，３００Ｗで駆動する超音波振動子１
０が取り付けられると共に、各槽Ａ〜Ｄには上述した洗
浄剤組成物が常温状態で充填されている。Ｅは乾燥槽で
ある。第１〜第３槽Ａ〜Ｃでは被洗浄物を浸漬し、超音
波振動を作用させながら常温で２分間揺動させて洗浄
し、第４槽Ｄでは浸漬のみとし、その後、乾燥槽Ｅ内で
８０℃の温風により乾燥させる。
【００２３】洗浄後、仕上がりの評価を目視及び走査型
電子顕微鏡における表面観察、ＥＰＭＡによる元素定性
分析で行った。その結果、表面観察では残渣は認められ
ず、元素分析においてもアルミニウム以外の元素の検出
はなかった。
電子顕微鏡における表面観察、ＥＰＭＡによる元素定性
分析で行った。その結果、表面観察では残渣は認められ
ず、元素分析においてもアルミニウム以外の元素の検出
はなかった。
【００２４】
【実施例２】オクタメチルシクロテトラシロキサンに上
述したナフテゾールＭを２０，３０，４０，５０重量％
添加した洗浄組成物を調製し以下の洗浄を行った。アル
ミニウム製の円盤状ディスクに切削油として商品名「ダ
フニーカットＨＳ−５」（出光（製））を塗布し、図１
に示す第１槽Ａに浸漬し、２９ＫＨｚ，３００Ｗで超音
波を加えながら、常温で２分間揺動した。同様に第２槽
Ｂおよび第３槽Ｃにおいても超音波および揺動を加え、
第４槽Ｄはリンス液としてオクタメチルトリシロキサン
を用い、２分間浸漬の引き上げのみとした。この引き上
げ後、乾燥槽Ｅ内で８０℃の温風ブローを加え乾燥させ
た。
述したナフテゾールＭを２０，３０，４０，５０重量％
添加した洗浄組成物を調製し以下の洗浄を行った。アル
ミニウム製の円盤状ディスクに切削油として商品名「ダ
フニーカットＨＳ−５」（出光（製））を塗布し、図１
に示す第１槽Ａに浸漬し、２９ＫＨｚ，３００Ｗで超音
波を加えながら、常温で２分間揺動した。同様に第２槽
Ｂおよび第３槽Ｃにおいても超音波および揺動を加え、
第４槽Ｄはリンス液としてオクタメチルトリシロキサン
を用い、２分間浸漬の引き上げのみとした。この引き上
げ後、乾燥槽Ｅ内で８０℃の温風ブローを加え乾燥させ
た。
【００２５】そして洗浄後の状態を目視観察、走査型電
子顕微鏡による観察およびＥＰＭＡによる元素定性分析
で評価した。その結果、目視、顕微鏡観察において残渣
は認められなかった。また、元素分析においてアルミニ
ウム以外の元素は検出されなかった。
子顕微鏡による観察およびＥＰＭＡによる元素定性分析
で評価した。その結果、目視、顕微鏡観察において残渣
は認められなかった。また、元素分析においてアルミニ
ウム以外の元素は検出されなかった。
【００２６】
【実施例３】オクタメチルシクロテトラシロキサンに上
述した１１４０Ｌを２０，３０，４０，５０重量％添加
した洗浄剤組成物を調製し以下の洗浄を行った。
述した１１４０Ｌを２０，３０，４０，５０重量％添加
した洗浄剤組成物を調製し以下の洗浄を行った。
【００２７】ガラスレンズに芯取油として商品名「ユシ
ロンＣＧ」（ユシロ化学（製））を塗布し、図１に示す
第１槽Ａに浸漬し、２９ＫＨｚ，３００Ｗで超音波振動
を加えながら常温で、２分間揺動した。同様に第２槽
Ｂ、第３槽Ｃにおいても、超音波および揺動を加え、第
４槽Ｄはリンス液としてオクタメチルトリシロキサンを
用い、２分間浸漬の引き上げのみとした。引き上げ後、
乾燥槽Ｅ内で８０℃の温風ブローを加え乾燥させた。
ロンＣＧ」（ユシロ化学（製））を塗布し、図１に示す
第１槽Ａに浸漬し、２９ＫＨｚ，３００Ｗで超音波振動
を加えながら常温で、２分間揺動した。同様に第２槽
Ｂ、第３槽Ｃにおいても、超音波および揺動を加え、第
４槽Ｄはリンス液としてオクタメチルトリシロキサンを
用い、２分間浸漬の引き上げのみとした。引き上げ後、
乾燥槽Ｅ内で８０℃の温風ブローを加え乾燥させた。
【００２８】そして洗浄後の状態を目視観察、走査型電
子顕微鏡による観察およびＥＰＭＡによる元素定性分析
で洗浄した。その結果、目視、顕微鏡において残渣は認
められなかった。また、元素分析において硝材以外に芯
取油や洗浄液に由来するものは検出されなかった。
子顕微鏡による観察およびＥＰＭＡによる元素定性分析
で洗浄した。その結果、目視、顕微鏡において残渣は認
められなかった。また、元素分析において硝材以外に芯
取油や洗浄液に由来するものは検出されなかった。
【００２９】
【実施例４】オクタメチルシクロテトラシロキサンに上
述したアクトレル１１４０Ｌを２０，３０，４０，５０
重量％添加した洗浄剤組成物を調製し、洗浄を行った。
すなわち、ガラスレンズに芯取油として商品名「ユシロ
ンＣＧ」（ユシロ化学（製））を塗布し、図１に示す第
１槽Ａに浸漬し、１０℃の液温中で２９ＫＨｚ，３００
Ｗの超音波振動を加えながら２分間揺動した。同様に第
２槽Ｂ，第３槽Ｃにおいても超音波および揺動を加え、
第４槽Ｄはリンス液としてオクタメチルトリシロキサン
を用い、２分間浸漬の引き上げのみとした。引き上げ
後、乾燥槽Ｅ内で８０℃の温風ブローを加え乾燥させ
た。
述したアクトレル１１４０Ｌを２０，３０，４０，５０
重量％添加した洗浄剤組成物を調製し、洗浄を行った。
すなわち、ガラスレンズに芯取油として商品名「ユシロ
ンＣＧ」（ユシロ化学（製））を塗布し、図１に示す第
１槽Ａに浸漬し、１０℃の液温中で２９ＫＨｚ，３００
Ｗの超音波振動を加えながら２分間揺動した。同様に第
２槽Ｂ，第３槽Ｃにおいても超音波および揺動を加え、
第４槽Ｄはリンス液としてオクタメチルトリシロキサン
を用い、２分間浸漬の引き上げのみとした。引き上げ
後、乾燥槽Ｅ内で８０℃の温風ブローを加え乾燥させ
た。
【００３０】そして洗浄後の状態を目視観察、走査型電
子顕微鏡による観察およびＥＰＭＡによる元素定性分析
で評価した。その結果、目視、顕微鏡観察において残渣
は認められなかった。また、元素分析において硝材以外
に芯取油や洗浄液に由来するものは検出されなかった。
子顕微鏡による観察およびＥＰＭＡによる元素定性分析
で評価した。その結果、目視、顕微鏡観察において残渣
は認められなかった。また、元素分析において硝材以外
に芯取油や洗浄液に由来するものは検出されなかった。
【００３１】
【発明の効果】以上のとおり本発明の洗浄剤組成物によ
る洗浄方法は、オクタメチルシクロテトラシロキサン５
０〜８０重量％と、蒸留範囲１５０〜２４０℃の飽和炭
化水素２０〜５０重量％とからなる洗浄剤組成物を用い
ているため、オクタメチルシクロテトラシロキサンの使
用温度範囲が拡大し、金属部品、光学部品、電子部品、
プラスチック部品またはゴム部品を被洗浄物として洗浄
槽で浸漬洗浄する際に、使用上便利となると共に洗浄性
に優れ、オゾン層を破壊することなく、また、人体に安
全に使用できる。
る洗浄方法は、オクタメチルシクロテトラシロキサン５
０〜８０重量％と、蒸留範囲１５０〜２４０℃の飽和炭
化水素２０〜５０重量％とからなる洗浄剤組成物を用い
ているため、オクタメチルシクロテトラシロキサンの使
用温度範囲が拡大し、金属部品、光学部品、電子部品、
プラスチック部品またはゴム部品を被洗浄物として洗浄
槽で浸漬洗浄する際に、使用上便利となると共に洗浄性
に優れ、オゾン層を破壊することなく、また、人体に安
全に使用できる。
【図１】本発明が適用される洗浄システムの一例の側面
図。
図。
Ａ 第１槽 Ｂ 第２槽 Ｃ 第３槽 Ｄ 第４槽 Ｅ 乾燥槽
【表３】
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (58)調査した分野(Int.Cl.7，ＤＢ名) C11D 7/60 C11D 7/50 C11D 7/22 C11D 7/24 ＣＡＰＬＵＳ（ＳＴＮ) ＲＥＧＩＳＴＲＹ（ＳＴＮ)
Claims (3)
- 【請求項１】 オクタメチルシクロテトラシロキサン５
０〜８０重量％と、蒸留範囲１５０〜２４０℃の飽和炭
化水素２０〜５０重量％とからなる洗浄剤組成物を洗浄
槽に充填し、 前記洗浄剤組成物を充填した洗浄槽に、金属部品、光学
部品、電子部品、プラスチック部品またはゴム部品を被
洗浄物として浸漬して洗浄することを特徴とする洗浄剤
組成物による洗浄方法。 - 【請求項２】 オクタメチルシクロテトラシロキサン５
０〜８０重量％と、蒸留範囲１５０〜２４０℃の飽和炭
化水素２０〜５０重量％とからなる洗浄剤組成物を洗浄
槽に充填し、 前洗浄剤組成物を充填した洗浄槽に、金属部品、光学部
品、電子部品、プラスチック部品またはゴム部品を被洗
浄物として浸漬して洗浄し、 次いで、前記洗浄組成物、直鎖状ポリメチルシロキサン
またはイソパラフィンを単体でリンス液として充填した
洗浄槽に、前記被洗浄物を浸漬してリンスすることを特
徴とする洗浄剤組成物による洗浄方法。 - 【請求項３】 オクタメチルシクロテトラシロキサン５
０〜８０重量％と、蒸留範囲１５０〜２４０℃の飽和炭
化水素２０〜５０重量％とからなる洗浄剤組成物を洗浄
槽に充填し、 前記洗浄剤組成物を充填した洗浄槽に、金属部品、光学
部品、電子部品、プラスチック部品またはゴム部品を被
洗浄物として浸漬し、 前記洗浄剤組成物に超音波振動を作用させながら揺動さ
せて洗浄し、 洗浄後に前記被洗浄物を乾燥槽内で温風により乾燥させ
ることを特徴とする洗浄剤組成物による洗浄方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP31250793A JP3339941B2 (ja) | 1993-11-18 | 1993-11-18 | 洗浄組成物による洗浄方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP31250793A JP3339941B2 (ja) | 1993-11-18 | 1993-11-18 | 洗浄組成物による洗浄方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH07138597A JPH07138597A (ja) | 1995-05-30 |
| JP3339941B2 true JP3339941B2 (ja) | 2002-10-28 |
Family
ID=18030056
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP31250793A Expired - Fee Related JP3339941B2 (ja) | 1993-11-18 | 1993-11-18 | 洗浄組成物による洗浄方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3339941B2 (ja) |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP6935267B2 (ja) * | 2016-08-09 | 2021-09-15 | 株式会社コーセー | 化粧用小道具洗浄剤 |
-
1993
- 1993-11-18 JP JP31250793A patent/JP3339941B2/ja not_active Expired - Fee Related
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH07138597A (ja) | 1995-05-30 |
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