JP3335642B2 - 彫刻装置を制御するための方法および装置 - Google Patents

彫刻装置を制御するための方法および装置

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    • B41C—PROCESSES FOR THE MANUFACTURE OR REPRODUCTION OF PRINTING SURFACES
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    • B41C1/02—Engraving; Heads therefor
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  • Mechanical Engineering (AREA)
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Description

【発明の詳細な説明】 本発明は、電子複製技術の分野に関連しかつ切削工具
としての彫刻針を用いたグラビア印刷のための、版、殊
に円筒版を彫刻するための電子彫刻機の彫刻装置を制御
するための方法および装置並びに相応の彫刻装置に関す
る。
電子彫刻機における円筒版の彫刻の際に、切削工具と
しての彫刻針を有する彫刻装置は回転する円筒版に沿っ
て軸線方向に移動し、かつ彫刻信号によって制御される
彫刻針は、グラビア印刷パターンにおいて配置されてい
る、円筒版の套面における、以下にセルと称する、一連
の凹部を切削する。彫刻信号は、「黒」と「白」との間
の階調値を表している画像信号と周期的なパターン信号
との重畳から形成される。周期的なパターン信号は、円
筒版と彫刻装置との間の相対速度と共に、グラビア印刷
パターンの幾何学模様を決定する。周期的なパターン信
号が彫刻針の震動するストローク運動に作用する一方、
画像信号は再現すべき階調値に相応して、円筒版の套面
における彫刻針の侵入深度、ひいては彫刻されるセルの
体積を制御する。印刷機において、円筒版において彫刻
されるセルはその体積に相応して多かれ少なかれインキ
が充填され、それはそれから印刷過程の際に円筒版のセ
ルから印刷材料に転写される。
殊にカラーセットのスクリーン化された色分解版の彫
刻の際、グラビア印刷パターンにおいて彫刻されるセル
の位置に関しおよび彫刻されるセルの形状および深さに
関して高い精度が厳守されなければならない。セルがグ
ラビア印刷パターンから位置偏差していると、スクリー
ン化された色分解版を重ねて印刷する際にモアレ現象お
よび色ばみが生じる。侵入深度ないし彫刻深度の偏差は
セルの体積を、ひいてはセルに蓄積されるインキ量を変
化する。その結果は、印刷材料における障害となる階調
値の歪みである。
ドイツ連邦共和国特許出願公開第2336089号公報か
ら、電磁的な彫刻装置、即ち彫刻針に対して電磁的な駆
動エレメントを備えている彫刻装置が公知である。電磁
的な駆動エレメントは、彫刻信号が供給される、定置の
電磁石から成っている。電磁石のギャップにおいて、回
転系の可動子が移動する。回転系は、軸と、プランジャ
と、軸受けと、減衰装置とから成っている。軸の一端
は、空間固定されていて保持されている、弾性的なねじ
リロッドに移行し、一方軸の他端はレバーを支持し、こ
のレバーに彫刻針が取り付けられている。軸のプランジ
ャに、電磁石において生成される磁界によって電気的な
トルクが作用する。このトルクに、ねじりロッドの機械
的なトルクが反対に作用する。電気的なトルクは軸を彫
刻信号に比例する回転角度だけ休止位置から旋回し、か
つねじりロッドは軸を休止位置に復帰させる。軸の回転
運動によって、彫刻針は円筒版の套面の方向に配向され
たストロークを実施し、このストロークが彫刻針の、円
筒版における侵入深さを決定する。
電磁的な彫刻装置は振動性の系なので、彫刻針は、急
峻な濃度変化（輪郭）における彫刻信号の跳躍的な変化
の場合に殊に、障害の伴うビルドアップ特性を有してい
る。この特性は回転系の回転慣性および減衰度によって
影響される。彫刻針の障害あるビルドアップ特性の結果
は、円筒版における彫刻エラーないし印刷における障害
のある階調値変化である。回転系の減衰が不十分である
と、濃度の跳躍的変化のところに、彫刻針の過振動に基
づいて障害のある多重輪郭が生じる。回転系の減衰が強
すぎると、彫刻針は急峻な濃度の変化に十分迅速に追従
することができず、かつ目標彫刻深度は濃度の跳躍的変
化の後間隔をおいて漸く実現され、これにより急峻な濃
度の跳躍的変化はアンシャープに再現される。
従って、従来の電磁的な彫刻針では、障害となる彫刻
エラーが発生する可能性がある。というのは、ビルドア
ップ過程をコントロールしにくいからである。更に、回
転系の温度に依存している減衰度を安定化させるには大
きなコストが必要である。
ヨーロッパ特許第0437421号明細書から、電磁的な彫
刻装置のビルドアップ特性を彫刻装置の特有の電気的な
制御によって改善する方法が公知である。このために画
像信号がメモり段に短時間一時記憶されかつメモリ時間
だけ遅延されて彫刻装置に供給される。メモリ時間の
間、画像信号から振幅および作用持続時間が調整設定可
能である補正信号が導出され、この補正信号が彫刻装置
に時間的に早めに供給される。
米国特許第5491559号明細書から、円筒版の彫刻のた
めの磁歪彫刻装置が公知である。即ち、彫刻針に対する
磁歪駆動エレメントを有する彫刻装置である。磁歪駆動
エレメントは実質的に、磁歪材料から成るシリンダ形状
のアクチュエータを有している。このアクチュエータに
彫刻針が結合されている。アクチュエータは、直流電流
が流れるリング形状の補助コイルと、交流電流が流れる
リング形状のドライバコイルとによって取り囲まれてい
る。直流電流は、補助コイルにアクチュエータをバイア
ス磁化するための一定の磁界を生成する。このバイアス
磁化によってアクチュエータはバイアス負荷された位置
に伸張される。交流電流はドライバコイルに交番する方
向のダイナミックな磁界を生成し、この磁界は一定の磁
界に重畳され、その際合成磁界は、方向に応じて、アク
チュエータを彫刻するために作業位置に更に伸張するよ
うに作用するかまたはアクチュエータを休止位置に収縮
するように作用する。磁歪式彫刻装置に対する制御回路
は実質的に、補助コイルに対する直流電流を生成するた
めの電流発生器と、電圧・電流交換器とから成ってい
る。電圧・電流変換器に、彫刻情報を含んでいる画像信
号および一定の周波数の交流電圧がパターン信号として
供給される。この交流電圧がグラビア印刷パターンを生
成するために彫刻針の振動するストローク運動を行う。
それ故に本発明の課題は、切削工具としての彫刻針を
用いたグラビア印刷のための、版、殊に円筒版を彫刻す
るための彫刻装置を制御するための方法および装置並び
に彫刻装置を、迅速でかつエラーのない彫刻を実現する
ために、彫刻過程の作動パラメータの障害のある変化が
補償調整されるように改良することである。
この課題は方法に関しては請求項１の特徴部分に記載
の構成によって、装置に関しては請求項24の特徴部分に
記載の構成によってかつ彫刻装置に関しては請求項33の
特徴部分に記載の構成によって解決される。
有利な形態および実施例はその他の請求項に記載され
ている。
本発明により殊に、公知の電磁彫刻装置の障害とな
る、電子的な制御および減衰の不安定性に基づく、時間
に依存したドリフトが低減される。更に、彫刻の際に、
円筒版の種々異なった材料硬度および円筒版の非円性ま
たは撓みに基づく彫刻装置と円筒版との間の間隔の変動
が、通例は彫刻装置と円筒版との間の一定の間隔を考慮
する従来の機械的なすべり台（Gleitfuss）を使用しな
いでも補償される。全体として、短い彫刻時間および良
好な彫刻品質が実現される。
次に本発明を第１図ないし第４図に基づいて詳細に説
明する。
その際： 第１図は、グラビア印刷に対する版を彫刻するための彫
刻装置に対する基本的な実施例並びに基本的なブロック
回路図の形の、彫刻装置を制御するための装置に対する
実施例を示し、 第２図は、グラフィック表示の形の、彫刻装置の彫刻針
の休止位置および種々異なった作業ストロークを示し、 第３図は、彫刻制御回路に対する基本ブロック回路図を
示しかつ 第４図は、別のグラフィック表示を示す。
第１図には、グラビア印刷に対する版、殊に円筒版を
彫刻するための彫刻装置の基本的な実施例が断面図にて
示されていると同時に、彫刻装置を制御するための装置
に対する実施例が基本的なブロック回路図にて示されて
いる。
切削工具としての彫刻針２を有する彫刻装置１は、一
部だけが示されている回転する円筒版３の套面に周方向
（主彫刻方向）において一連のセルを彫刻する。面状の
彫刻は、彫刻装置１と円筒版３との間の相対運動によっ
て円筒版３を軸方向（サブ彫刻方向）において行われ
る。
彫刻装置１は実質的に、彫刻針２に対する駆動系から
成っている。彫刻針の駆動系は、電磁的な駆動系であっ
てよいが、例えば電歪、圧電結晶または磁歪材料から成
る固体のアクチュエータエレメントを有する駆動系であ
ってもよい。実施例において、彫刻針の駆動系は、磁歪
材料から成るシリンダ形状のアクチュエータエレメント
４と、このアクチュエータエレメント４を取り囲む電磁
コイル５とを有している。アクチュエータエレメント４
は、中実体として実現されているかまたは絶縁性の中間
層を有する磁歪個別エレメントから成っている。磁歪材
料として例えば、Etrema Products,Inc.,Ames,lowa社の
市販のTerfenol−DTMを使用することができる。電磁コ
イル５を流れるアクチュエータ電流ISは電磁コイル５
に、アクチュエータエレメント４のシリンダ軸線の方向
における磁界を生成する。この磁界によって、アクチュ
エータエレメント４は実質的に、そのシリンダ軸線の方
向に長手方向の変化を受ける。
アクチュエータエレメントの端面は圧力センサ６を介
して定置の支承体７に連結されている。アクチュエータ
エレメント４の相対する端面に、フロントプレート８が
配置されている。このプレートには、例えばダイヤモン
ドから成る針尖端を有する彫刻針２が組み込まれてい
る。圧力センサ６は択一的にフロントプレート８とアク
チュエータエレメント４との間にあってよいが、２つの
圧力センサをアクチュエータエレメント４と支承体７と
の間もしくはアクチュエータエレメント４とフロントプ
レート８との間に組み込むこともできる。
彫刻装置１は、彫刻針２の尖端が円筒版３に半径方向
に指向されているように、円筒版３に配向されている。
アクチュエータエレメント４の長さの変化により、円筒
版３の方向における彫刻針２の作業ストロークＨが生じ
る。この作業ストロークＨの大きさは、電磁コイル５に
供給されるアクチュエータ制御電流ISに依存している。
作業ストロークＨとアクチュエータ制御電流ISとの間の
関係は、作業点が飽和の外側の、アクチュエータエレメ
ント４の特性曲線の線形部分にあるとき、近似的に線形
である。
彫刻針２の作業ストロークＨを拡大するために、彫刻
針２とアクチュエータエレメント４との間に付加的に機
械的なレバー装置またはハイドロリック装置を接続する
ことができる。同様に、更に適当な倍力装置も中間に配
置される。
アクチュエータエレメント４は復帰エレメント９によ
ってバイアスをかけられている。復帰エレメントの復帰
力は、彫刻針２を有するアクチュエータエレメントを１
作業ストロークＨの後に所定の休止位置に戻す。実施例
において、復帰力は、機械的な復帰エレメント９によっ
て生成される。この復帰エレメントは、少なくとも１つ
の引っ張りばね、例えば直列に接続された、２つのばね
バイアスされた引っ張りばね10,11から成っており、こ
れらの自由端部は支承体７およびフロントプレート８に
固定されている。機械的な復帰エレメント９は引っ張り
力センサ12を有している。引っ張り力センサは、実施例
において図示されているように、引っ張りばね10,11の
間に取り付けられている。択一的に、引っ張り力センサ
12は、フロントプレート８と引っ張りばね10との間また
は引っ張りばね11と支承体７との間に取り付けられてい
てもよい。圧力センサ６および引っ張り力センサ12とし
て、例えば圧電結晶式の圧力検出器を使用することがで
きる。
引っ張りばねを有する機械的な復帰エレメントに代わ
って、引っ張り力測定装置を備えた、例えば磁歪材料か
ら成る別の復帰エレメントを使用することもできる。
彫刻装置１の既述の構成はそれぞれの適当な方法で変
形される。
休止位置から円筒版３の套面の方向への、彫刻針２の
作業ストロークＨは、定置の第１の間隔センサ13を用い
て測定される。間隔センサは例えば、移動するフロント
プレート８に対するその都度の間隔を検出する。第１の
間隔センサ13において発生される測定信号は第１の測定
増幅器14に供給され、そこで測定信号は増幅されかつ第
１の間隔センサ13の非線形の特性曲線に相応して線形化
される。その際測定増幅器14は、休止位置にある彫刻針
２と定置の第１の間隔センサ13との間の構造上の間隔を
考慮して、測定信号が彫刻針の休止位置において値０を
とるように、較正される。従って、第１の測定増幅器14
の出力側における測定信号は、彫刻針２の、その休止位
置からの作業ストロークの実際値HISTに対する尺度であ
る。
円筒版３の套面と、休止位置における彫刻針２との間
の間隔Ａは例えば、円筒版３の非円性、撓みまたはエラ
ーを伴った支承に基づいて変動する可能性がある。円筒
版３の套面は彫刻針２の彫刻の深さに対する基準面とし
て用いられるので、セルの彫刻場所におけるその都度の
間隔Ａは第２の間隔センサ15を用いて測定される。第２
の間隔センサ15は可動のフロントプレート８に固定され
ていてよいしまたは定置であってよい。第２の間隔セン
サ15において発生される測定信号は第２の測定増幅器16
に供給されかつそこで同様に増幅されかつ間隔センサ15
の非線形の特性曲線に相応して線形化される。その際測
定増幅器16は、休止位置にある彫刻針２と定置の第２の
間隔センサ15との間の構造的な間隔を考慮して、第２の
測定増幅器16の出力側における測定信号が、円筒版３の
套面と休止位置にある彫刻針２との間のその都度の間隔
実際値AISTに対する尺度であるように調整される。間隔
センサ13,15として例えば、容量性または光センサを使
用することができる。
彫刻針２の作業ストローク実際値HISTと、円筒版３の
套面とセルの彫刻場所において休止位置にある彫刻針２
との間の間隔実際値AISTとの差値から、彫刻の際に、セ
ルの彫刻深さの実際値EISTが得られる（第２図）。セル
の彫刻深さは、再現すべき階調値に対する尺度である。
圧力センサ６によって、彫刻針２を円筒版３に侵入さ
せる圧力ないしアクチュエータエレメント４の基本面が
支承体７に対して及ぼす圧力が測定される。彫刻針２と
円筒版３の套面との間の接触までは、圧力は零でありか
つそれから彫刻針２の、円筒版３への侵入深度に伴う彫
刻針２の横断面積の増大に基づいて上昇する。更に、測
定された圧力は、彫刻すべき円筒版３の場合により場所
に依存している種々異なった材料硬度に対するおよび切
削品質ないし彫刻針２の消耗度に対する尺度である。例
えば針が折れたことで、測定された圧力が過度に上昇す
れば、必要に応じてこのことを指示することができる。
圧力センサ６において発生された測定信号は第３の測
定増幅器17に供給される。ここで測定信号は同様に増幅
されかつ圧力センサ６の非線形の特性曲線に相応して線
形化される。第３の測定増幅器17の出力側における線形
化された測定信号は、彫刻針２が円筒版３に侵入した際
の圧力実際値DISTである。
復帰エレメント９における引っ張り力センサ12の測定
信号は、別の測定増幅器18において線形化された測定信
号に変換される。この測定信号は、アクチュエータエレ
メント４をその休止位置に復帰させかつばねバイアスす
る引っ張り力実際値ZISTである。引っ張り力は、引っ張
りばね10,11の長さの変化に基づいて作業ストロークＨ
ないし間隔Ａに依存している。引っ張り力測定を用い
て、例えば欠陥のある引っ張りばねまたは温度と共に変
化する、引っ張りばねのばね定数に基づいた復帰力の変
動を検出することができる。引っ張り力の許容できない
変動は指示することができる。引っ張り力測定の際の結
果を用いて有利にも、圧力測定の補正も行うことができ
る。
測定された作業ストローク実際値HIST、間隔実際値A
IST、圧力実際値DISTおよび引っ張り力実際値ZISTは線
路19,20,21,22を介して彫刻制御回路23の実際値入力側
に達する。彫刻制御回路23は更に、目標値入力側を有し
ており、それらには相応の目標値が供給される。
円筒版３の彫刻のために必要である彫刻データ［GD］
は彫刻メモリ24にファイルされている。彫刻すべきそれ
ぞれのセルには少なくとも１バイトの彫刻データが割り
当てられている。彫刻データは、彫刻情報として「０」
（白）と「255」（黒）との間の再現すべき階調値を含
んでいる。
彫刻データGDは例えば、再現すべき画像の点および行
毎の光電走査によってスキャナーにおいて得られたもの
である。
彫刻データGDは、円筒版３の彫刻の際に読み出しクロ
ック列TLのクロックを用いて彫刻データメモリ24から読
み出される。読み出しクロック列TLはクロック発生器25
において生成される。クロック発生器25は例えば、回転
パルス発生器として実現されている。それは、円筒版３
の軸に機械的に連結されているので、読み出しクロック
列TLは円筒版３の回転運動と同期をとられている。読み
出しクロック列TLのクロックから、セルに対する彫刻時
点が導出される。クロック間隔が、グラビア印刷パター
ンに相応して周方向におけるセル間隔を決定する。グラ
ビア印刷パターンの軸線方向のセル間隔は、円筒版３の
軸方向における彫刻装置１と円筒版３との間の相対運動
によって決定される。
彫刻データメモリ24から読み出される彫刻データGD
は、線路26を介して並列に４つの関数発生器27,28,29,3
0に供給される。実施例において関数発生器27,28,29,30
はDA変換器が集積されているテーブルメモリとして実現
されている。AD変換器において彫刻データGDはテーブル
の形に記憶されている関数に基づいて、アナログ値、即
ちセルに対する彫刻深度目標値ESOLL、圧力目標値DSOLL
および引っ張り力目標値ZSOLL並びにアクチュエータエ
レメントを制御するための彫刻信号値Ｇに変換される。
付加的に更に、目標値発生器31において、円筒版３と彫
刻針の休止位置との間の間隔に対する間隔目標値ASOLL
も前以て決められる。入力段32において、彫刻すべき円
筒版３の種々異なった材料硬度を手動で入力することが
できる。
テーブルメモリ27には、関数ESOLL＝ｆ（GD）に従っ
て求められる、セルに対する彫刻深さが関数的に対応し
ている彫刻データGDによって呼び出し可能に記憶されて
いる。関数ESOLL＝ｆ（GD）は、階調値を表す彫刻デー
タGDと、階調値正しい印刷を実現するために円筒版３に
おいて実現されなければならにない彫刻深さの目標値G
SOLLとの間の関係を表すものである。彫刻データGD＝０
（白）に対してセルの目標彫刻深さは例えば35μｍであ
りかつ彫刻データGD＝255（黒）に対して例えば５μｍ
である。
テーブルメモリ27には、既述の実施例において、それ
ぞれの彫刻データGDに対して、当該のセルの最大の目標
の彫刻深さを表している彫刻深さ目標値ESOLLがファイ
ルされている。択一的に、テーブルメモリ27に、それぞ
れの彫刻データGDに対して、当該のセルに対する彫刻深
さプロフィールの形の複数の彫刻深さ目標値ESOLLをフ
ァイルすることもできる。これは、セルの彫刻の期間に
彫刻針２が円筒版３へ侵入するないし円筒版から出て行
く際の彫刻針の所望の軌道を表すものである。この場
合、彫刻深さプロフィールの彫刻深さ目標値ESOLLは、
読み出しクロック列TLより相応に高い周波数を有してい
るクロック列でテーブルメモリ27から読み出される。
テーブルメモリ28には、関数Ｇ＝ｆ（GD）に従って求
められた彫刻信号値Ｇが関数的に対応している彫刻デー
タ「GD」によって呼び出し可能に記憶されている。関数
Ｇ＝ｆ（GD）は、彫刻データGDと、円筒版３において彫
刻針２の所定の侵入深度を実現するために必要である、
アクチュエータエレメント４に対する彫刻信号値Ｇとの
間の関係を表すものである。彫刻針２の侵入深度が大き
ければ大きい程、彫刻針２の横断面積が増大するため、
円筒版３に彫刻針２を侵入するために必要な彫刻信号値
Ｇないし力はますます大きくなる。
テーブルメモリ29には、関数Ｇ＝ｆ（GD）に従って求
められた圧力目標値DSOLLが関数的に対応している彫刻
データ「GD」によって呼び出し可能に記憶されている。
関数DSOLL＝ｆ（GD）は、彫刻針の形状に基づいて種々
異なった彫刻深さにおいて彫刻針２に及ぼされる圧力目
標値DSOLLと、彫刻データ「GD」ないし彫刻深さとの間
の関係を表すものである。その際、所定の彫刻深さに対
する圧力目標値DSOLLは、この彫刻深さの実現の際にほ
ぼ生じる最大の圧力に相応している。
テーブルメモリ30には、関数ZSOLL＝ｆ（GD）に従っ
て求められる引っ張り力目標値ZSOLLが関数的に対応し
ている彫刻データ「GD」によって呼び出し可能に記憶さ
れている。関数ZSOLL＝ｆ（GD）は、彫刻データGDと、
所定の彫刻深さのセルの彫刻の際に発生する、復帰エレ
メント９の対応する引っ張り力目標値ZSOLLとの間の関
係を表すものである。復帰エレメント９の引っ張り力
は、ばねバイアスされた引っ張りばね10,11の伸張に基
づいて彫刻深さの増大に伴って増加する。その際、所定
の彫刻深さに対する引っ張り力の目標値ZSOLLは、この
彫刻深さの実現の際にほぼ発生する最大の引っ張り力に
相応している。
彫刻信号値Ｇ、圧力目標値DSOLLおよび引っ張り力目
標値ZSOLLは彫刻データGDのみならず、円筒版３の材料
硬度にも依存しているので、３つのテーブルメモリ28,2
9,30において有利には、パラメータ「材料硬度」を有す
る複数の値テーブルがファイルされており、これらのテ
ーブルのうちその都度１つの値テーブルが、以下入力段
と略称する、入力手段32に入力される「材料硬度」に相
応して制御線路33を介して選択されかつ彫刻に対して活
性化される。
テーブルメモリ27にファイルされている、パラメータ
「材料硬度」を有する関数ESOLL＝ｆ（GD）は、種々異
なった材料硬度の円筒版３を用いたテストまたは見本彫
刻によってかつ彫刻された円筒版を用いた試し刷りによ
って求めることができる。まず、「黒」と「白」との間
のグラデーションスケールの形の前以て決められた彫刻
データによって、種々異なった材料硬度の円筒版３に複
数のセルが彫刻される。それから、彫刻されたセルの彫
刻深さないし横対角線が測定されかつ引き続いて試し刷
りが作成され、これらにおいて各彫刻深さに基づいて実
現された階調値が測定される。それから、試し刷りにお
いて実現された階調値ないしこのために必要である彫刻
深さおよび所属の彫刻データから、関数ESOLL＝ｆ（G
D）を求めることができる。
この種の見本彫刻において同時に、相応の測定によっ
て、関数Ｇ＝ｆ（GD）、DSOLL＝ｆ（GD）およびZSOLL＝
ｆ（GD）も求めることができかつ３つのテーブルメモリ
28,29,30に記憶することができる。
求められた値は、テーブルメモリ27,28,29,30から線
路34,35,36,37を介して彫刻制御回路23の目標値入力側
に供給される。彫刻制御回路23の目標値入力側に、線路
38を介して目標値発生器31において前以て決められてい
る、円筒版３の套面と、休止位置にある彫刻針２との間
の間隔Ａに対する間隔目標値ASOLLが達する。
彫刻制御回路23において、彫刻信号値Ｇからアクチュ
エータ制御電圧USが発生される。これは線路39を介して
電圧・電流変換器40に達する。この電圧・電流変換器40
において、アクチュエータ制御電圧USは、アクチュエー
タエレメント４に対するアクチュエータ電流ISに変換さ
れ、それはアクチュエータエレメントに線路41を介して
供給される。
第２図には、彫刻装置１の動作を明らかにするため
に、彫刻の際の彫刻針２の種々の作業ストロークＨがグ
ラフィックの形で示されている。
第2a図において彫刻針２は休止位置45において図示さ
れている。作業ストローク実際値HISTおよび測定増幅器
14の出力側における測定信号（第１図）は同様に零に等
しい。第２の間隔センサ15（第１図）は、円筒版３と休
止位置45にある彫刻針２との間の瞬時の間隔実際値AIST
を測定する。
第2b図において、彫刻針２は、彫刻針２が円筒版３に
おいてセルを彫刻するために作業ストロークHISTを実施
しかつ円筒版３に侵入した作業位置46にある。実施され
た作業ストローク実際値HISTは、第１の間隔センサ13
（第１図）によって測定される。第２の間隔センサ15
（第１図）の瞬時の間隔実際値AISTを検出し、その際間
隔Ａは一定であることが仮定される。再現すべき階調値
を決定する、円筒版３における彫刻針２の彫刻深さ実際
値EISTは、測定された作業ストローク実際値HISTと測定
された間隔実際値AISTとの差から得られる。
第2c図において彫刻針２は、第2b図と同じ実際作業ス
トロークHISTを作業位置46において実施したが、円筒版
３の非円性または円筒版３のエラーのある支承に基づい
て間隔実際値AISTは拡大したものとしている。これによ
り、一定の作業ストロークＨでは彫刻実際値EISTは僅か
すぎるということになる。この場合、第2b図と同じ彫刻
深さを実現するためには作業ストロークを相応に拡大し
なければならない。
第2d図においても、彫刻針２は第2b図と同じ実際作業
ストロークHISTを実施したが、間隔実際値AISTは円筒版
３の非円性に基づいて縮小したものとしている。これに
より、一定の作業ストロークＨでは大きすぎる彫刻実際
値EISTが生じる。この場合も、第2b図と同じ彫刻深さを
実現するためには作業ストロークを相応に縮小しなけれ
ばならない。
第３図には、彫刻制御回路23の基本ブロック回路図
が、第3a図および第3b図に示されているように２つの部
分回路図に分割されて示されている。
第3a図において、以下差形成段と略称する、第１の差
形成手段47において連続的に、目標値発生器31において
前以て決められる間隔目標値ASOLLと、第２の測定増幅
器16から供給される間隔実際値AISTとの間の差値が形成
される。これら差値は、円筒版３の套面と、彫刻針の休
止位置との間の間隔変動に対する尺度である。線路48に
おける差値は、検出された間隔変動に基づいた値補正の
ための補正値Ｋとして用いられる。間隔変動の連続的な
考慮によって、有利にも、機械的な滑り台を省略するこ
とができる。これは従来の彫刻装置では、シリンダ表面
と彫刻装置との間の一定間隔を考慮するものである。
第２の差形成段49において、第１の測定増幅器14から
到来する作業ストローク実際値HISTと第２の測定増幅器
16から到来する間隔実際値AISTとの差形成によって連続
的に、彫刻されるセルの彫刻深さの実際値EISTが求めら
れる。
それから、テーブルメモリ27から読み出された彫刻深
さ目標値ESOLLが第１のコンパレータ50において彫刻深
さ実際値EISTと比較される。
テーブルメモリ28から読み出された彫刻信号値Ｇは第
１の以下補正段と略称する、補正手段51において、線路
48における補正値Ｋの極性正しい加算によって、検出さ
れた間隔変動に相応して補正される。補正された彫刻信
号値Ｇは制御可能なアクチュエータ増幅器52の信号入力
側に達し、この増幅器は信号出力側に、アクチュエータ
制御電圧USを発生する。アクチュエータ制御電圧USは線
路30を介して電圧・電流変換器40に供給される。この変
換器はこの電圧を、彫刻装置１のアクチュエータエレメ
ント４に対するアクチュエータ制御電流ISに変換する。
更に、テーブルメモリ27から読み出された彫刻深さ目
標値ESOLLはクロック遅延段53に達する。この遅延段に
は、クロック発生器25において発生された読み出しクロ
ック列TLが線路54を介して供給される。クロック以下遅
延段と略称する、遅延手段53において、読み出しクロッ
ク列TLの個別クロックがその時点の彫刻深さ目標値E
SOLLに依存して種々異なって時間遅延されかつ時間遅延
されたクロックは、セルのその都度の彫刻時点を検出す
るための第１の制御信号S1として、アクチュエータ増幅
器52の第１の制御入力側に供給される。
第１のコンパレータ50は、彫刻深さ目標値と彫刻深さ
実際値とが一致するとその出力側に第２の制御信号S2を
送出する。この制御信号はアクチュエータ増幅器52の第
２の制御入力側に供給される。
アクチュエータ制御電流ISは、セルの彫刻の開始時に
その都度、読み出しクロック列TLのクロックに対して時
間遅延された第１の制御信号S1によって投入され、これ
によりアクチュエータエレメント４は作動され、一方第
２の制御信号S2は既述の実施例において、目標彫刻深
さ、セルに対する最大彫刻深さに達した際に、アクチュ
エータエレメント４を非作動状態にするためにアクチュ
エータ制御電流ISを遮断する。アクチュエータ電流ISの
振幅は、アクチュエータ増幅器52に供給される、彫刻す
べき階調値に相応する彫刻信号値Ｇによって制御され
る。
その都度の目標彫刻深さに依存して制御される、アク
チュエータ制御電流ISの投入遅延によって有利にも、彫
刻されるセルの重心が彫刻深さに無関係にグラビア印刷
パターンに近似的に一致することが実現される。
アクチュエータ電流ISの階調値に依存した振幅制御に
対して択一的に、アクチュエータエレメント４は、彫刻
すべき階調値に無関係な定格アクチュエータ制御電流IS
によって制御することもできる。この制御電流は目標彫
刻深さに達するとその都度、第２の制御信号S2によって
遮断される。
定格アクチュエータ制御電流ISを用いた作動では、セ
ルの彫刻に対する時間間隔も固定することができる。目
標彫刻深さが固定された時間間隔内に実現されないと、
例えば定格アクチュエータ制御電流ISを高めるようにす
ることができる。
アクチュエータ制御電流ISのその投入接続持続時間内
の時間的な経過は適当な方法で、例えば、矩形、階段形
状または正弦波形状に選択することができる。
場合によっては、セルの最大彫刻深さに達した際にア
クチュエータ制御電流ISを第２の制御信号S2によって遮
断せずに、最大の彫刻深さに達した後の彫刻針２を抜く
期間にこの電流が減衰するように変化させることも効果
的である。
彫刻すべきセルに対して彫刻深さプロフィールを使用
する場合、瞬時的な彫刻深さ実際値EISTと、彫刻深さプ
ロフィールの彫刻深さ目標値ESOLLとの一致が検出され
るとその都度、第２の制御信号S2が発生される。この制
御信号は、アクチュエータエレメント４に対するアクチ
ュエータ制御信号ISをその都度、個々の制御信号間隔内
で変化する。その際、彫刻深さプロフィールのその都度
２つの連続する彫刻深さ目標値の比較から、アクチュエ
ータ制御電流ISの必要な変化方向および／または必要な
変化値を求めることができる。
線路55における第３の制御信号S3によって、アクチュ
エータ増幅器54の増幅度を変化することができる。第３
の制御信号S3を用いて有利にも、増幅度を介して制御さ
れて、アクチュエータ制御電流ISを高めることによっ
て、円筒版３の材料硬度の場所に依存している変動の際
の彫刻深さの付加的な補正を実施することができる。
複製すべき画像における輪郭に依存して制御される、
読み出しクロック列TLのクロックの時間的なシフトによ
ってまたはクロック遅延段53におけるアクチュエータ制
御電流ISに対する投入接続時点の相応に制御されるシフ
トによって、付加的に有利にも円筒版３の周方向におけ
る彫刻されたセルの重心移動によって輪郭の改善された
再現が行われる。
円筒版３の軸方向における彫刻されるセルの相応の重
心移動は、彫刻針２ないし彫刻針２に連結されているア
クチュエータエレメント４の機械的な横方向の旋回によ
って電気的に制御可能な偏向器を用いて行うことができ
る。この偏向器は例えば、圧電結晶または磁歪材料から
成っている。
アクチュエータエレメント４の横方向の旋回と組み合
わされて、読み出しクロック列TLのクロックないしアク
チュエータ制御電流ISに対する投入接続時点の制御され
る時間的なシフトによって、有利にも、グラビア印刷パ
ターンをほぼ任意のスクリーン角度で彫刻することがで
きる。このことは、従来の電磁彫刻装置によっては可能
ではない。
第3b図において、テーブルメモリ30から読み出された
引っ張り力目標値ZSOLLが第２の補正段56において線路4
8における補正値Ｋの極性正しい加算によって補正され
る。引っ張り力補正は、円筒版３の套面と彫刻針の休止
位置との間の間隔変動に基づいて復帰エレメント９の引
っ張り力10,11の長さの変化を考慮する。それから、補
正された引っ張り力目標値ZSOLLが第１の比較器57にお
いて、第４の測定増幅器18から到来する引っ張り力実際
値ZISTと比較される。第１の比較器57に指示ユニット58
が後置接続されていて、ここでその前に検出された、引
っ張り力目標値ZSOLLと引っ張り力実際値ZISTとの間の
最大の偏差が指示される。
テーブルメモリ29から読み出された圧力目標値DSOLL
および第３の測定増幅器17から到来する圧力実際値DIST
が、第２の比較器60において相互に比較される。第２の
比較器60にも、指示ユニット61が後置接続されており、
ここで、圧力目標値DSOLLと圧力実際値DISTとの間のそ
の前に検出された最大偏差を指示することができる。
引っ張り力測定の際に求められた値によって圧力測定
を補正するために、第２の差形成段62において、圧力目
標値DSOLLと補正された引っ張り力目標値ZSOLLとから目
標力差ΔFSOLLが形成され並びに第３の差形成段63にお
いて圧力実際値DISTと引っ張り力実際値ZISTとから相応
の実際力差ΔFISTが形成される。
それから第２のコンパレータ64において、目標力差Δ
FSOLLと実際力差ΔFISTとが相互に比較されかつこの比
較から、信号ΔＦが導出される。この信号は、円筒版３
の場所に依存している材料硬度または彫刻針２の幾何学
形状の変化に対する尺度である。それから、比較器64に
後置接続されている関数段65において、信号ΔＦが制御
信号S3に変換される。この制御信号はそれから別の補正
段66において線路48における補正値Ｋによって、検出さ
れた間隔変動に相応して補正される。それから補正され
た付加信号S3がアクチュエータ増幅器52に線路55を介し
て供給されて、アクチュエータエレメント４に対する制
御電流ISを円筒版３の場合によって種々異なっている材
料硬度に相応して補正するようにする。
第４図において、２つの異なった深さのセルを彫刻す
る際の時間的な信号経過のグラフィック表示が、彫刻深
さ目標値E1SOLLおよびE2SOLL並びに彫刻信号値G1および
G2と共に図示されている。
第4a図には読み出しクロック列TLのクロックが示され
ている。
第4b図には、アクチュエータ制御電流ISのその都度の
経過が、彫刻深さ目標値E1SOLLおよびE2SOLLに相応する
種々異なった投入接続時点および彫刻信号値G1およびG2
に相応する異なった振幅と共に図示されている。
第4c図には、セルのその都度の目標深さに達した際に
アクチュエータ制御電流ISを遮断する制御信号S2の経過
が図示されている。
第4d図には、２つの彫刻されたセルの横断面が彫刻深
さ目標値E1SOLLおよびE2SOLLと共に示されている。

Claims (47)

    (57)【特許請求の範囲】
  1. 【請求項１】版、殊に円筒版を彫刻するための電子的な
    彫刻機の彫刻装置を制御するための方法であって、 主彫刻方向に配置されているセル列を切削工具としての
    彫刻針を用いて前記版に彫刻し、 階調値を表している彫刻情報を彫刻針駆動系に対する制
    御信号に変換し、 彫刻針が、制御信号が供給される彫刻針の駆動系を用い
    てセルを彫刻するためにその都度、休止位置から版の方
    向において作業ストロークを実施しかつセルの彫刻後、
    復帰エレメントを用いて休止位置に戻し、この場合セル
    の彫刻深さが階調値を決定しかつ 前記彫刻装置はセルの面状の彫刻のために前記版に対す
    る相対運動をサブ彫刻方向において実施する 形式の方法において、 前記彫刻情報は彫刻データ（GD）として記憶されており
    かつ該彫刻情報をセルの彫刻のために呼び出し、 前記読み出された彫刻データ（GD）を第１の関数［E
    SOLL＝ｆ（GD）］に従ってセル当たり少なくとも１つの
    彫刻深さ目標値（ESOLL）に変換し、 前記彫刻駆動系（4,5）に対する制御信号（IS）をセル
    の彫刻開始の都度投入接続し、 セルの彫刻の際連続的に、前記彫刻針（２）の、休止位
    置からの作業ストローク（Ｈ）を測定し、 セルの彫刻の際連続的に、前記版（３）の套面と前記彫
    刻針（２）との間の間隔（Ａ）を該彫刻針の領域におい
    て測定し、 彫刻深さ実際値（EIST）を、前記作業ストローク（Ｈ）
    と前記その都度の間隔（Ａ）との間の差から求め、 前記彫刻深さ目標値（ESOLL）を前記求められた彫刻深
    さ実際値（EIST）と比較しかつ 前記制御信号（IS）を、彫刻深さ目標値（ESOLL）と彫
    刻深さ実際値（EIST）との一致の際その都度変化する ことを特徴とする方法。
  2. 【請求項２】前記制御信号（IS）を、彫刻深さ目標値
    （ESOLL）と彫刻深さ実際値（EIST）との一致の都度遮
    断する 請求項１記載の方法。
  3. 【請求項３】それぞれのセルに対して、彫刻深さ目標値
    （ESOLL）を、前記版（３）へのセルの彫刻の際階調値
    正しい複製のために実現されなければならない最大の彫
    刻深さとして前以て決める 請求項１または２記載の方法。
  4. 【請求項４】それぞれのセルに対して、複数の彫刻深さ
    目標値（ESOLL）を、セルの彫刻の際前記版（３）への
    彫刻針（２）の軌道を表す彫刻深さプロフィールを前以
    て決める 請求項１または２記載の方法。
  5. 【請求項５】彫刻深さ目標値（ESOLL）が比較的大きい
    場合には彫刻開始が比較的初期の時点に決められて、彫
    刻されるセルの重心とグラビア印刷パターンとの一致が
    彫刻深さに無関係に実現されるように、セルに対する彫
    刻開始を彫刻深さ目標値（ESOLL）に依存して決める 請求項１から３までのいずれか１項記載の方法。
  6. 【請求項６】呼び出された彫刻データ（GD）を第２の関
    数［Ｇ＝ｆ（GD）］に従って、関数的に対応している彫
    刻信号（Ｇ）に変換しかつ 前記彫刻信号値（Ｇ）を前記彫刻針駆動系（4,5）に対
    する制御信号（IS）に変換する 請求項１から５までのいずれか１項記載の方法。
  7. 【請求項７】前記制御信号（IS）は前記彫刻データ（G
    D）に無関係である定格値を有している 請求項１から５までのいずれか１項記載の方法。
  8. 【請求項８】セルの彫刻に対する時間間隔をその都度前
    以て決めかつ 該時間間隔に前記彫刻深さ（ESOLL）に達しなかった場
    合に、前記制御信号（IS）の定格値を高める 請求項７記載の方法。
  9. 【請求項９】読み出された彫刻データ（GD）を第３の関
    数［DSOLL＝ｆ（GD）］に従って関数的に対応してい
    る、種々異なる彫刻深さのセルの彫刻の際に彫刻針
    （２）に作用することが許される圧力目標値（DSOLL）
    に変換し、 彫刻の際彫刻針（２）に作用する実際の圧力値を圧力実
    際値（DIST）として測定しかつ 該測定された圧力実際値（DIST）が前記圧力目標値（D
    SOLL）を上回ると上回ったことを指示する 請求項１から８までのいずれか１項記載の方法。
  10. 【請求項１０】前記読み出された彫刻データ（GD）を第
    ４の関数［ZSOLL＝ｆ（GD）］に従って、関数的に対応
    している、復帰エレメント（９）に及ぼされることが許
    される引っ張り力目標値（ASOLL）に変換し、 彫刻の際、前記復帰エレメント（９）に作用する実際の
    引っ張り力を引っ張り力実際値（ZIST）として測定しか
    つ 該測定された引っ張り力実際値（ZIST）が前記引っ張り
    力目標値（ZSOLL）を上回ると上回ったことを指示する 請求項１から９までのいずれか１項記載の方法。
  11. 【請求項１１】前記版（３）の場所的に種々異なった材
    料硬度に対する尺度として、前記圧力目標値（DSOLL）
    と前記圧力実際値（DIST）とを相互に比較しかつ 前記彫刻針駆動系（4,5）に対する制御信号（IS）を、
    種々異なった材料硬度の影響を補償するために、前記比
    較結果に依存して補正する 請求項１から10までのいずれか１項目記載の方法。
  12. 【請求項１２】第１の差（ΔFSOLL）を前記圧力目標値
    （DSOLL）と前記引っ張り力目標値（ZSOLL）とから形成
    し、 第２の差（ΔFIST）を前記圧力実際値（DIST）と前記引
    っ張り力実際値（ZIST）とから形成し、 前記版（３）の場所的に種々異なる材料硬度に対する尺
    度として、前記第１の差（ΔFSOLL）と前記第２の差
    （ΔFIST）とを相互に比較しかつ 前記彫刻針の駆動系（4,5）に対する制御信号（IS）
    を、種々異なった材料硬度の影響を補償するために、前
    記比較結果に依存している付加信号（S2）を用いて補正
    する 請求項１から11までのいずれか１項記載の方法。
  13. 【請求項１３】前記第１の関数［ESOLL＝ｆ（GD）］お
    よび前記第２の関数［Ｇ＝ｆ（GD）］を複数の前以て決
    められた彫刻データ（GD）を用いた版（３）の試し彫刻
    によって求める 請求項１から12までのいずれか１項記載の方法。
  14. 【請求項１４】前記第３の関数［DSOLL＝ｆ（GD）］お
    よび前記第４の関数［ZSOLL＝ｆ（GD）］を前記試し彫
    刻の際に前記彫刻データ（GD）に依存した圧力および引
    っ張り力の測定によって求める 請求項13記載の方法。
  15. 【請求項１５】前記試し彫刻および圧力および引っ張り
    力の測定を種々異なった材料硬度の版（３）によって実
    施し、 その際得られた関数を、パラメータとしての種々異なる
    材料硬度と共に記憶しかつ 彫刻のために必要な関数を、彫刻すべき版（３）のそれ
    ぞれの材料硬度に相応して彫刻の前に前記記憶された関
    数から選択する 請求項13または14記載の方法。
  16. 【請求項１６】前記円筒版（３）の套面と休止位置にあ
    る彫刻針（２）との間隔（Ａ）に対する間隔目標値（A
    IST）を前以て決め、 前記前以て決められた間隔目標値（ASOLL）と前記測定
    された間隔実際値（ASOLL）との差値を連続的に検出し
    かつ 前記差値を補正値（Ｋ）として使用する 請求項１から15までのいずれか１項記載の方法。
  17. 【請求項１７】前記彫刻信号値（Ｇ）、前記引っ張り力
    目標値（ZSOLL）および／または前記付加信号（S2）を
    前記補正値（Ｋ）によって補正する 請求項16記載の方法。
  18. 【請求項１８】前記彫刻針の駆動系（4,5）は電磁的な
    アクチュエータエレメントを有している 請求項１から17までのいずれか１項記載の方法。
  19. 【請求項１９】前記彫刻針の駆動系（4,5）は固体アク
    チュエータエレメント（４）を有している 請求項１から17までのいずれか１項記載の方法。
  20. 【請求項２０】前記固体アクチュエータエレメント
    （４）は圧電材料から成っている 請求項19記載の方法。
  21. 【請求項２１】前記固体アクチュエータエレメント
    （４）は磁歪材料から成っている 請求項19記載の方法。
  22. 【請求項２２】前記磁歪材料から成っている固体アクチ
    ュエータエレメント（４）は、制御信号としての制御電
    流（IS）が流れる電磁コイル（５）によって取り囲まれ
    ている 請求項21記載の方法。
  23. 【請求項２３】前記彫刻データ（GD）を読み出しクロッ
    ク列（TL）を用いて読み出し、該読み出しクロック列の
    クロック間隔がグラビア印刷パターンに相応して主彫刻
    方向におけるセルの間隔を決定し、かつ セルに対するその都度の彫刻開始を彫刻深さ目標値（E
    SOLL）に依存している、前記読み出しクロック列（TL）
    のクロックの時間遅延によって導出して、比較的大きな
    彫刻深さ目標値（ESOLL）を有するセルに対する彫刻開
    始が比較的初期の時点に決められて、彫刻されるセルの
    重心とグラビア印刷パターンとの一致が彫刻深さに無関
    係に実現されるようにする 請求項１から22までのいずれか１項記載の方法。
  24. 【請求項２４】版、殊に円筒版を彫刻するための電子的
    な彫刻機の彫刻装置を制御するための装置であって、 該装置は、彫刻装置（１）と、制御回路とから成り、 彫刻装置（１）は、 前記版（３）にセルを彫刻するための切削工具として彫
    刻針（２）を備え、制御信号によって制御される彫刻針
    の駆動系（4,5）を備え、 前記彫刻針の駆動系（4,5）に対する復帰エレメント
    （９）を備え、この場合前記彫刻針（２）はセルを彫刻
    するためのその都度、休止位置から前記版（３）の方向
    において作業ストロークを実施しかつセルの彫刻の後、
    前記復帰エレメント（９）を用いて休止位置に戻されか
    つ 前記制御回路は、階調値を表している彫刻情報を前記彫
    刻針の駆動系（4,5）に対する制御信号に変換する 形式のものにおいて、 彫刻情報としての彫刻データ（GD）をファイルしかつ呼
    び出すためのメモリ装置（24）を備え、 前記彫刻データ（GD）を前以て決められた関数に従って
    彫刻信号値（Ｇ）および前記版（３）へのセルの彫刻の
    際に階調値正しい複製のために実現されなければならな
    い彫刻深さ目標値（ESOLL）に変換するための関数発生
    器（27,28）を備え、 前記彫刻針（２）の休止位置からの作業ストローク
    （Ｈ）をセルの彫刻の際の作業ストローク実際値
    （HIST）として測定するための第１の測定装置（13,1
    4）を備え、 前記版（３）の套面と休止位置にある彫刻針（２）との
    間の間隔（Ａ）を間隔実際値（AIST）として連続的に測
    定するための第２の測定装置（15,16）を備え、 前記目標値および実際値を考慮して前記彫刻信号値
    （Ｇ）を彫刻針の駆動系（4,5）に対する制御信号
    （IS）に変換するための彫刻制御回路（23）を備えてい
    る ことを特徴とする装置。
  25. 【請求項２５】前記彫刻制御回路（23）は、 彫刻針（２）の測定された作業ストローク（Ｈ）と前記
    測定された間隔（Ａ）との間の差から彫刻深さ実際値
    （EIST）を形成するための差形成手段（49）を備え、 彫刻データ（GD）を呼び出すための前記読み出しクロッ
    ク列（TL）が入力されかつそこから第１の制御信号
    （S1）が出力されるクロック遅延手段（53）を備え、 彫刻深さ目標値（ESOLL）と彫刻深さ実際値（EIST）と
    の一致の際に第２の制御信号（S2）をその都度生成する
    ための比較器（50）を備え、 前記彫刻針の駆動系（4,5）に対する制御電流（IS）を
    形成するためのアクチュエータ増幅器（52）を備え、 かつ前記第１および第２の制御信号（S1,S2）は前記制
    御電流（IS）を投入および遮断するために前記アクチュ
    エータ増幅器（S2）に供給される請求項24記載の装置。
  26. 【請求項２６】読み出された彫刻データ（GD）を関数に
    従って、種々異なった彫刻深さのセルの彫刻の際に彫刻
    針（２）に作用することが許される圧力目標値
    （DSOLL）に変換するための別の関数発生器（29）を備
    え、 彫刻の際に彫刻針（２）に作用する実際の圧力を圧力実
    際値（DIST）として測定するための別の測定装置（6,1
    7）を備え、 圧力目標値（DSOLL）と圧力実際値（DIST）とを比較す
    るための比較器（60）を前記彫刻制御回路（23）に備
    え、かつ 圧力実際値（DIST）が圧力目標値（DSOLL）を上回った
    ことを指示するための指示装置（61）を前記彫刻制御回
    路（23）に備えている 請求項24または25記載の装置。
  27. 【請求項２７】前記読み出された彫刻データ（GD）を関
    数に従って、前記復帰エレメント（９）に及ぼされるこ
    とが許される引っ張り力目標値（ZSOLL）に変換するた
    めの別の関数発生器（29）を備え、 彫刻の際前記復帰エレメント（９）に作用する実際の引
    っ張り力を引っ張り力実際値（ZIST）として測定するた
    めの別の測定装置（12,18）を備え、 引っ張り力実際値（ZIST）が引っ張り力目標値
    （ZSOLL）を上回ったことを指示するための指示装置（5
    8）を前記彫刻制御回路（23）に備えている 請求項24から26までのいずれか１項記載の装置。
  28. 【請求項２８】圧力目標値（DSOLL）と、圧力実際値（D
    IST）と、引っ張り力目標値（ZSOLL）と、引っ張り力実
    際値（ZIST）とから第３の制御信号（S3）を発生しかつ
    前記版（３）の種々異なった材料硬度の影響を補償する
    ために、前記第３の制御信号（S3）によって前記彫刻針
    の駆動系（4,5）に対する制御信号（IS）を補正するた
    めの装置（62,63,64,65）を前記彫刻制御回路（23）に
    備えている 請求項24から27までのいずれか１項記載の装置。
  29. 【請求項２９】前記版（３）の套面と休止位置にある前
    記彫刻針（２）との間の間隔（Ａ）に対する間隔目標値
    （ASOLL）を前以て決めるための目標値発生器（31）を
    備え、 前記前以て決められた間隔目標値（ASOLL）と前記測定
    された間隔実際値（AIST）との間の差値から補正値
    （Ｋ）を形成するための比較器（47）を前記彫刻制御回
    路（23）に備え、かつ 前記補正値（Ｋ）を用いて目標値を補正するための補正
    手段（52,56,66）を前記彫刻制御回路（23）に備えてい
    る 請求項24から28までのいずれか１項記載の装置。
  30. 【請求項３０】前記版（３）のそれぞれの材料硬度に依
    存して前記関数発生器（28,29,30）における種々の関数
    を選択するための入力手段（32）を備えている 請求項24から29までのいずれか１項記載の装置。
  31. 【請求項３１】前記関数発生器（28,29,30）はテーブル
    メモリとして実現されている 請求項24から30までのいずれか１項記載の装置。
  32. 【請求項３２】前記メモリ装置（24）の読み出しのため
    に読み出しクロック列（TL）を生成するためのクロック
    発生器（25）を備え、かつ 該読み出しクロック列（TL）のクロックの時間遅延によ
    って前記第１の制御信号（S1）を取り出すためのクロッ
    ク遅延手段（53）を備えている 請求項24から31までのいずれか１項記載の装置。
  33. 【請求項３３】版、殊に円筒版を彫刻するための電子的
    な彫刻機の彫刻装置であって、 該装置は、 前記版（３）にセルを彫刻するための切削工具としての
    彫刻針（２）と、 前記彫刻針（２）に対する、制御信号によって制御され
    る駆動系（4,5）と、 前記彫刻針の駆動系（4,5）に対する復帰エレメント
    （２）と から成り、前記彫刻針（２）はセルの彫刻の際その都
    度、休止位置から前記版（３）の方向に作業ストローク
    を実施しかつセルの彫刻の後、前記復帰エレメント
    （９）を用いて休止位置に戻される形式のものにおい
    て、 セルの彫刻の際に休止位置からの前記彫刻針（２）の作
    業ストローク（Ｈ）を測定するための第１の測定装置
    （13,14）を備え、 前記版（３）の套面と休止位置にある前記彫刻針（２）
    との間の間隔（Ａ）を連続的に測定するための第２の測
    定装置（15,16）を備え、 彫刻の際前記彫刻針（２）に作用する圧力を測定するた
    めの第３の測定装置（16,17）を備え、かつ 彫刻の際前記復帰エレメント（９）に作用する引っ張り
    力を測定するための第４の測定装置（12,18）を備えて
    いる ことを特徴とする彫刻装置。
  34. 【請求項３４】前記彫刻針の駆動系（4,5）は電磁系を
    有している 請求項33記載の彫刻装置。
  35. 【請求項３５】前記彫刻針の駆動系（4,5）は固体アク
    チュエータエレメント（４）を有している 請求項33記載の彫刻装置。
  36. 【請求項３６】前記固体アクチュエータエレメント
    （４）は磁歪材料から成っている 請求項35記載の彫刻装置。
  37. 【請求項３７】前記固体アクチュエータエレメント
    （４）は圧電材料から成っている 請求項35記載の彫刻装置。
  38. 【請求項３８】前記、磁歪材料から成る固体アクチュエ
    ータエレメント（４）は、制御信号としての制御電流
    （IS）が流れる電磁コイル（５）によって取り囲まれて
    いる 請求項36記載の彫刻装置。
  39. 【請求項３９】前記固体アクチュエータエレメント
    （４）はシリンダ形状に実現されており、 該固体アクチュエータエレメント（４）の、前記版
    （３）とは反対の側の端面は定置の支承体（７）に固定
    されておりかつ 前記固体アクチュエータエレメント（４）の他方の端面
    に、前記シリンダ形状の固体エレメント（４）のシリン
    ダ軸線の方向に前記彫刻針（２）が取り付けられている 請求項33から38までのいずれか１項記載の彫刻装置。
  40. 【請求項４０】前記復帰エレメント（９）は機械的な復
    帰エレメントとして実現されている 請求項33から39までのいずれか１項記載の彫刻装置。
  41. 【請求項４１】前記復帰エレメント（９）は固体アクチ
    ュエータエレメントとして実現されている 請求項33から40までのいずれか１項記載の彫刻装置。
  42. 【請求項４２】前記復帰エレメント（９）は少なくとも
    １つの引っ張りばねから成っている 請求項40記載の彫刻装置。
  43. 【請求項４３】圧力を測定するための前記第３の測定装
    置（6,17）は少なくとも１つの圧力センサ（６）を有し
    ている 請求項33から42までのいずれか１項記載の彫刻装置。
  44. 【請求項４４】前記圧力センサ（６）は該固体アクチュ
    エータエレメント（４）と前記支承体（７）との間に配
    置されている 請求項43記載の彫刻装置。
  45. 【請求項４５】前記彫刻針（２）と前記駆動系（4,5）
    との間に倍力器が挿入配置されている 請求項33から44までのいずれか１項記載の彫刻装置。
  46. 【請求項４６】前記彫刻針（２）と前記彫刻針駆動系
    （4,5）との間にレバー装置が挿入配置されている 請求項33から45までのいずれか１項記載の彫刻装置。
  47. 【請求項４７】前記彫刻針（２）と前記彫刻針駆動系
    （4,5）との間にハイドロリック装置が挿入配置されて
    いる 請求項33から46までのいずれか１項記載の彫刻装置。
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