JP2000502628A - 彫刻装置を制御するための方法および装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 本発明は、駆動系（４，５）によって制御される彫刻針（２）を用いて版を彫刻するための彫刻装置を制御するための方法に関する。彫刻データから、セルに対する彫刻深さ目標値および前記駆動系（４，５）に対する制御信号としての彫刻信号値が生成される。彫刻針（２）の作業ストロークおよび版（３）と彫刻針（２）との間の間隔（Ａ）が測定されかつ差から彫刻実際値が求められ、これが彫刻目標値と比較される。前記駆動系（４，５）に対する制御信号はセルの彫刻開始の都度投入接続されかつセルの彫刻終了時に彫刻深さに達した際に遮断される。付加的に、彫刻データから、圧力目標値および引っ張り力目標値が取り出されかつ彫刻針（２）に作用する圧力実際値および彫刻針（２）の復帰エレメント（９）に発生する復帰力実際値が比較される。目標値の超過は指示される。版（３）の種々異なった材料硬度を考慮するために、制御信号は前記圧力および引っ張り力測定に依存して補正される。

Description

【発明の詳細な説明】 彫刻装置を制御するための方法および装置 本発明は、電子複製技術の分野に関連しかつ切削工具としての彫刻針を用いた グラビア印刷のための、版、殊に円筒版を彫刻するための電子彫刻機の彫刻装置 を制御するための方法および装置並びに相応の彫刻装置に関する。 電子彫刻機における円筒版の彫刻の際に、切削工具としての彫刻針を有する彫 刻装置は回転する円筒版に沿って軸線方向に移動し、かつ彫刻信号によって制御 される彫刻針は、グラビア印刷パターンにおいて配置されている、円筒版の套面 における、以下にセルと称する、一連の凹部を切削する。彫刻信号は、「黒」と 「白」との間の階調値を表している画像信号と周期的なパターン信号との重畳か ら形成される。周期的なパターン信号は、円筒版と彫刻装置との間の相対速度と 共に、グラビア印刷パターンの幾何学模様を決定する。周期的なパターン信号が 彫刻針の震動するストローク運動に作用する一方、画像信号は再現すべき階調値 に相応して、円筒版の套面における彫刻針の侵入深度、ひいては彫刻されるセル の体積を制御する。印刷機において、円筒版において彫刻されるセルはその体積 に相応して多かれ少なかれインキが充填され、それは それから印刷過程の際に円筒版のセルから印刷材料に転写される。 殊にカラーセットのスクリーン化された色分解版の彫刻の際、グラビア印刷パ ターンにおいて彫刻されるセルの位置に関しおよび彫刻されるセルの形状および 深さに関して高い精度が厳守されなければならない。セルがグラビア印刷パター ンから位置偏差していると、スクリーン化された色分解版を重ねて印刷する際に モアレ現象および色ばみが生じる。侵入深度ないし彫刻深度の偏差はセルの体積 を、ひいてはセルに蓄積されるインキ量を変化する。その結果は、印刷材料にお ける障害となる階調値の歪みである。 ドイツ連邦共和国特許出願公開第２３３６０８９号公報から、電磁的な彫刻装 置、即ち彫刻針に対して電磁的な駆動エレメントを備えている彫刻装置が公知で ある。電磁的な駆動エレメントは、彫刻信号が供給される、定置の電磁石から成 っている。電磁石のギャツプにおいて、回転系の可動子が移動する。回転系は、 軸と、プランジャと、軸受けと、減衰装置とから成っている。軸の一端は、空間 固定されて保持されている、弾性的なねじリロッドに移行し、一方軸の他端はレ バーを支持し、このレバーに彫刻針が取り付けられている。軸のプランジャに、 電磁石において生成される磁界によって電気的なトルクが作用する。このトルク に、ねじりロッドの機械的なトルクが反対に作用する 。電気的なトルクは軸を彫刻信号に比例する回転角度だけ休止位置から旋回し、 かつねじりロッドは軸を休止位置に復帰させる。軸の回転運動によって、彫刻針 は円筒版の套面の方向に配向されたストロークを実施し、このストロークが彫刻 針の、円筒版における侵入深さを決定する。 電磁的な彫刻装置は振動性の系なので、彫刻針は、急峻な濃度変化（輪郭）に おける彫刻信号の跳躍的な変化の場合に殊に、障害の伴うビルドアップ特性を有 している。この特性は回転系の回転慣性および減衰度によって影響される。彫刻 針の障害あるビルドアップ特性の結果は、円筒版における彫刻エラーないし印刷 における障害のある階調値変化である。回転系の減衰が不十分であると、濃度の 跳躍的変化のところに、彫刻針の過振動に基づいて障害のある多重輪郭が生じる 。回転系の減衰が強すぎると、彫刻針は急峻な濃度の変化に十分迅速に追従する ことができず、かつ目標彫刻深度は濃度の跳躍的変化の後間隔をおいて漸く実現 され、これにより急峻な濃度の跳躍的変化はアンシャープに再現される。 従って、従来の電磁的な彫刻針では、障害となる彫刻エラーが発生する可能性 がある。というのは、ビルドアップ過程をコントロールしにくいからである。更 に、回転系の温度に依存している減衰度を安定化させるには大きなコストが必要 である。 ヨーロッパ特許第０４３７４２１号明細書から、電磁的な彫刻装置のビルドア ップ特性を彫刻装置の特有の電気的な制御によって改善する方法が公知である。 このために画像信号がメモリ段に短時間一時記憶されかつメモリ時間だけ遅延さ れて彫刻装置に供給される。メモリ時間の間、画像信号から振幅および作用持続 時間が調整設定可能である補正信号が導出され、この補正信号が彫刻装置に時間 的に早めに供給される。 米国特許第５４９１５５９号明細書から、円筒版の彫刻のための磁歪彫刻装置 が公知である。即ち、彫刻針に対する磁歪駆動エレメントを有する彫刻装置であ る。磁歪駆動エレメントは実質的に、磁歪材料から成るシリンダ形状のアクチュ エータを有している。このアクチュエータに彫刻針が結合されている。アクチュ エータは、直流電流が流れるリング形状の補助コイルと、交流電流が流れるリン グ形状のドライバコイルとによって取り囲まれている。直流電流は、補助コイル にアクチュエータをバイアス磁化するための一定の磁界を生成する。このバイア ス磁化によってアクチュエータはバイアス負荷された位置に伸張される。交流電 流はドライバコイルに交番する方向のダイナミックな磁界を生成し、この磁界は 一定の磁界に重畳され、その際合成磁界は、方向に応じて、アクチュエータを彫 刻するための作業位置に更に伸張するように作用するかまたはアクチュエータを 休止位置に収縮するように 作用する。磁歪式彫刻装置に対する制御回路は実質的に、補助コイルに対する直 流電流を生成するための電流発生器と、電圧・電流変換器とから成っている。電 圧・電流変換器に、彫刻情報を含んでいる画像信号および一定の周波数の交流電 圧がパターン信号として供給される。この交流電圧がグラビア印刷パターンを生 成するために彫刻針の振動するストローク運動を行う。 それ故に本発明の課題は、切削工具としての彫刻針を用いたグラビア印刷のた めの、版、殊に円筒版を彫刻するための彫刻装置を制御するための方法および装 置並びに彫刻装置を、迅速でかつエラーのない彫刻を実現するために、彫刻過程 の作動パラメータの障害のある変化が補償調整されるように改良することである 。 この課題は方法に関しては請求項１の特徴部分に記載の構成によって、装置に 関しては請求項２４の特徴部分に記載の構成によってかつ彫刻装置に関しては請 求項３３の特徴部分に記載の構成によって解決される゜ 有利な形態および実施例はその他の請求項に記載されている。 本発明により殊に、公知の電磁彫刻装置の障害となる、電子的な制御および減 衰の不安定性に基づく、時間に依存したドリフトが低減される。更に、彫刻の際 に、円筒版の種々異なった材料硬度および円筒版の非円性または撓みに基づく彫 刻装置と円筒版との間の間隔の変動が、通例は彫刻装置と円筒版との間の一定の 間隔を考慮する従来の機械的なすべり台（Gleitfuss）を使用しないでも補償さ れる。全体として、短い彫刻時間および良好な彫刻品質が実現される。 次に本発明を第１図ないし第４図に基づいて詳細に説明する。 その際： 第１図は、グラビア印刷に対する版を彫刻するための彫刻装置に対する基本的な 実施例並びに基本的なブロック回路図の形の、彫刻装置を制御するための装置に 対する実施例を示し、 第２図は、グラフィック表示の形の、彫刻装置の彫刻針の休止位置および種々異 なった作業ストロークを示し、 第３図は、彫刻制御回路に対する基本ブロック回路図を示しかつ 第４図は、別のグラフィック表示を示す。 第１図には、グラビア印刷に対する版、殊に円筒版を彫刻するための彫刻装置 の基本的な実施例が断面図にて示されていると同時に、彫刻装置を制御するため の装置に対する実施例が基本的なブロック回路図にて示されている。 切削工具としての彫刻針２を有する彫刻装置１は、 一部だけが示されている回転する円筒版３の套面に周方向（主彫刻方向）におい て一連のセルを彫刻する。面状の彫刻は、彫刻装置１と円筒版３との間の相対運 動によって円筒版３の軸方向（サブ彫刻方向）において行われる。 彫刻装置１は実質的に、彫刻針２に対する駆動系から成っている。彫刻針の駆 動系は、電磁的な駆動系であってよいが、例えば電歪、圧電結晶または磁歪材料 から成る固体のアクチュエータエレメントを有する駆動系であってもよい。実施 例において、彫刻針の駆動系は、磁歪材料から成るシリンダ形状のアクチュエー タエレメント４と、このアクチュエータエレメント４を取り囲む電磁コイル５と を有している。アクチュエータエレメント４は、中実体として実現されているか または絶縁性の中間層を有する磁歪個別エレメントから成っている。磁歪材料と して例えば、Etrema Products，Inc.，Ames，lowa 社の市販の Terfenol-DTM を 使用することができる。電磁コイル５を流れるアクチュエータ電流Ｉ_Ｓは電磁コ イル５に、アクチュエータエレメント４のシリンダ軸線の方向における磁界を生 成する。この磁界によって、アクチュエータエレメント４は実質的に、そのシリ ンダ軸線の方向に長手方向の変化を受ける。 アクチュエータエレメントの端面は圧力センサ６を介して定置の支承体７に連 結されている。アクチュエ ータエレメント４の相対する端面に、フロントプレート８が配置されている。こ のプレートには、例えばダイヤモンドから成る針尖端を有する彫刻針２が組み込 まれている。圧力センサ６は択一的にフロントプレート８とアクチュエータエレ メント４との間にあってよいが、２つの圧力センサをアクチュエータエレメント ４と支承体７との間もしくはアクチュエータエレメント４とフロントプレート８ との間に組み込むこともできる。 彫刻装置１は、彫刻針２の尖端が円筒版３に半径方向に指向されているように 、円筒版３に配向されている。アクチュエータエレメント４の長さの変化により 、円筒版３の方向における彫刻針２の作業ストロークＨが生じる。この作業スト ロークＨの大きさは、電磁コイル５に供給されるアクチュエータ制御電流Ｉ_Ｓに 依存している。作業ストロークＨとアクチュエータ制御電流Ｉ_Ｓとの間の関係は 、作業点が飽和の外側の、アクチュエータエレメント４の特性曲線の線形部分に あるとき、近似的に線形である。 彫刻針２の作業ストロークＨを拡大するために、彫刻針２とアクチュエータエ レメント４との間に付加的に機械的なレバー装置またはハイドロリック装置を接 続することができる。同様に、更に適当な倍力装置も中間に配置される。 アクチュエータエレメント４は復帰エレメント９に よってバイアスをかけられている。復帰エレメントの復帰力は、彫刻針２を有す るアクチュエータエレメントを１作業ストロークＨの後に所定の休止位置に戻す 。実施例において、復帰力は、機械的な復帰エレメント９によって生成される。 この復帰エレメントは、少なくとも１つの引っ張りばね、例えば直列に接続され た、２つのばねバイアスされた引っ張りばね１０，１１から成っており、これら の自由端部は支承体７およびフロントプレート８に固定されている。機械的な復 帰エレメント９は引っ張り力センサ１２を有している。引っ張り力センサは、実 施例において図示されているように、引っ張りばね１０，１１の間に取り付けら れている。択一的に、引っ張り力センサ１２は、フロントプレート８と引っ張り ばね１０との間または引っ張りばね１１と支承体７との間に取り付けられていて もよい。圧力センサ６および引っ張り力センサ１２として、例えば圧電結晶式の 圧力検出器を使用することができる。 引っ張りばねを有する機械的な復帰エレメントに代わって、引っ張り力測定装 置を備えた、例えば磁歪材料から成る別の復帰エレメントを使用することもでき る。 彫刻装置１の既述の構成はそれぞれの適当な方法で変形される。 休止位置から円筒版３の套面の方向への、彫刻針２ の作業ストロークＨは、定置の第１の間隔センサ１３を用いて測定される。間隔 センサは例えば、移動するフロントプレート８に対するその都度の間隔を検出す る。第１の間隔センサ１３において発生される測定信号は第１の測定増幅器１４ に供給され、そこで測定信号は増幅されかつ第１の間隔センサ１３の非線形の特 性曲線に相応して線形化される。その際測定増幅器１４は、休止位置にある彫刻 針２と定置の第１の間隔センサ１３との間の構造上の間隔を考慮して、測定信号 が彫刻針の休止位置において値０をとるように、較正される。従って、第１の測 定増幅器１４の出力側における測定信号は、彫刻針２の、その休止位置からの作 業ストロークの実際値Ｈ_ＩＳＴに対する尺度である。 円筒版３の套面と、休止位置における彫刻針２との間の間隔Ａは例えば、円筒 版３の非円性、撓みまたはエラーを伴った支承に基づいて変動する可能性がある 。円筒版３の套面は彫刻針２の彫刻の深さに対する基準面として用いられるので 、セルの彫刻場所におけるその都度の間隔Ａは第２の間隔センサ１５を用いて測 定される。第２の間隔センサ１５は可動のフロントプレート８に固定されていて よいしまたは定置であってよい。第２の間隔センサ１５において発生される測定 信号は第２の測定増幅器１６に供給されかつそこで同様に増幅されかつ間隔セン サ１５の非線形の特性曲線に相応して線形化される。その際測定増幅器１６は、 休止位置にある彫刻針２と定置の第２の間隔センサ１５との間の構造的な間隔を 考慮して、第２の測定増幅器１６の出力側における測定信号が、円筒版３の套面 と休止位置にある彫刻針２との間のその都度の間隔実際値Ａ_ＩＳＴに対する尺度 であるように調整される。間隔センサ１３，１５として例えば、容量性または光 センサを使用することができる。 彫刻針２の作業ストローク実際値Ｈ_ＩＳＴと、円筒版３の套面とセルの彫刻場 所において休止位置にある彫刻針２との間の間隔実際値Ａ_ＩＳＴとの差値から、 彫刻の際に、セルの彫刻深さの実際値Ｅ_ＩＳＴが得られる（第２図）。セルの彫 刻深さは、再現すべき階調値に対する尺度である。 圧力センサ６によって、彫刻針２を円筒版３に侵入させる圧力ないしアクチュ エータエレメント４の基本面が支承体７に対して及ぼす圧力が測定される。彫刻 針２と円筒版３の套面との間の接触までは、圧力は零でありかつそれから彫刻針 ２の、円筒版３への侵入深度に伴う彫刻針２の横断面積の増大に基づいて上昇す る。更に、測定された圧力は、彫刻すべき円筒版３の場合により場所に依存して いる種々異なった材料硬度に対するおよび切削品質ないし彫刻針２の消耗度に対 する尺度である。例えば針が折れたことで、測定された圧力が過度に上昇すれば 、必要に応じてこのことを指示することができる。 圧力センサ６において発生された測定信号は第３の測定増幅器１７に供給され る。ここで測定信号は同様に増幅されかつ圧力センサ６の非線形の特性曲線に相 応して線形化される。第３の測定増幅器１７の出力側における線形化された測定 信号は、彫刻針２が円筒版３に侵入した際の圧力実際値Ｄ_ＩＳＴである。 復帰エレメント９における引っ張り力センサ１２の測定信号は、別の測定増幅 器１８において線形化された測定信号に変換される。この測定信号は、アクチュ エータエレメント４をその休止位置に復帰させかつばねバイアスする引っ張り力 実際値Ｚ_ＩＳＴである。引っ張り力は、引っ張りばね１０，１１の長さの変化に 基づいて作業ストロークＨないし間隔Ａに依存している。引っ張り力測定を用い て、例えば欠陥のある引っ張りばねまたは温度と共に変化する、引っ張りばねの ばね定数に基づいた復帰力の変動を検出することができる。引っ張り力の許容で きない変動は指示することができる。引っ張り力測定の際の結果を用いて有利に も、圧力測定の補正も行うことができる。 測定された作業ストローク実際値Ｈ_ＩＳＴ、間隔実際値Ａ_ＩＳＴ、圧力実際値 Ｄ_ＩＳＴおよび引っ張り力実際値Ｚ_ＩＳＴは線路１９，２０，２１，２２を介し て彫刻制御回路２３の実際値入力側に達する。彫刻制御回路２３は更に、目標値 入力側を有しており、それらには相応の目標値が供給される。 円筒版３の彫刻のために必要である彫刻データ［ＧＤ］は彫刻メモリ２４にフ ァイルされている。彫刻すべきそれぞれのセルには少なくとも１バイトの彫刻デ ータが割り当てられている。彫刻データは、彫刻情報として「０」（白）と「２ ５５」（黒）との間の再現すべき階調値を含んでいる。 彫刻データＧＤは例えば、再現すべき画像の点および行毎の光電走査によって スキャナーにおいて得られたものである。 彫刻データＧＤは、円筒版３の彫刻の際に読み出しクロツク列Ｔ_Ｌのクロック を用いて彫刻データメモリ２４から読み出される。読み出しクロック列Ｔ_Ｌはク ロック発生器２５において生成される。クロック発生器２５は例えば、回転パル ス発生器として実現されている。それは、円筒版３の軸に機械的に連結されてい るので、読み出しクロック列Ｔ_Ｌは円筒版３の回転運動と同期をとられている。 読み出しクロック列Ｔ_Ｌのクロックから、セルに対する彫刻時点が導出される。 クロック間隔が、グラビア印刷パターンに相応して周方向におけるセル間隔を決 定する。グラビア印刷パターンの軸線方向のセル間隔は、円筒版３の軸方向にお ける彫刻装置１と円筒版３との間の相対運動によって決定される。 彫刻データメモリ２４から読み出される彫刻データＧＤは、線路２６を介して 並列に４つの関数発生器２ ７，２８，２９，３０に供給される。実施例において関数発生器２７，２８，２ ９，３０はＤＡ変換器が集積されているテーブルメモリとして実現されている。 ＡＤ変換器において彫刻データＧＤはテーブルの形に記憶されている関数に基づ いて、アナログ値、即ちセルに対する彫刻深度目標値Ｅ_ＳＯＬＬ、圧力目標値Ｄ_ＳＯＬＬ および引っ張り力目標値Ｚ_ＳＯＬＬ並びにアクチュエータエレメントを 制御するための彫刻信号値Ｇに変換される。付加的に更に、目標値発生器３１に おいて、円筒版３と彫刻針の休止位置との間の間隔に対する間隔目標値Ａ_{ＳＯＬ Ｌ} も前以て決められる。入力段３２において、彫刻すべき円筒版３の種々異なっ た材料硬度を手動で入力することができる。 テーブルメモリ２７には、関数Ｅ_ＳＯＬＬ＝ｆ（ＧＤ）に従って求められる、 セルに対する彫刻深さが関数的に対応している彫刻データＧＤによって呼び出し 可能に記憶されている。関数Ｅ_ＳＯＬＬ＝ｆ（ＧＤ）は、階調値を表す彫刻デー タＧＤと、階調値正しい印刷を実現するために円筒版３において実現されなけれ ばならない彫刻深さの目標値Ｇ_ＳＯＬＬとの間の関係を表すものである。彫刻デ ータＧＤ＝０（白）に対してセルの目標彫刻深さは例えば３５μｍでありかつ彫 刻データＧＤ＝２５５（黒）に対して例えば５μｍである。 テーブルメモリ２７には、既述の実施例において、 それぞれの彫刻データＧＤに対して、当該のセルの最大の目標の彫刻深さを表し ている彫刻深さ目標値Ｅ_ＳＯＬＬがファイルされている。択一的に、テーブルメ モリ２７に、それぞれの彫刻データＧＤに対して、当該のセルに対する彫刻深さ プロフィールの形の複数の彫刻深さ目標値Ｅ_ＳＯＬＬをファイルすることもでき る。これは、セルの彫刻の期間に彫刻針２が円筒版３へ侵入するないし円筒版か ら出て行く際の彫刻針の所望の軌道を表すものである。この場合、彫刻深さプロ フィールの彫刻深さ目標値Ｅ_ＳＯＬＬは、読み出しクロック列Ｔ_Ｌより相応に高 い周波数を有しているクロック列でテーブルメモリ２７から読み出される。 テーブルメモリ２８には、関数Ｇ＝ｆ（ＧＤ）に従って求められた彫刻信号値 Ｇが関数的に対応している彫刻データ「ＧＤ」によって呼び出し可能に記憶され ている。関数Ｇ＝ｆ（ＧＤ）は、彫刻データＧＤと、円筒版３において彫刻針２ の所定の侵入深度を実現するために必要である、アクチュエータエレメント４に 対する彫刻信号値Ｇとの間の関係を表すものである。彫刻針２の侵入深度が大き ければ大きい程、彫刻針２の横断面積が増大するため、円筒版３に彫刻針２を侵 入するために必要な彫刻信号値Ｇないし力はますます大きくなる。 テーブルメモリ２９には、関数Ｇ＝ｆ（ＧＤ）に従って求められた圧力目標値 Ｄ_ＳＯＬＬが関数的に対応 している彫刻データ「ＧＤ」によって呼び出し可能に記憶されている。関数Ｄ_{Ｓ ＯＬＬ} ＝ｆ（ＧＤ）は、彫刻針の形状に基づいて種々異なった彫刻深さにおいて 彫刻針２に及ぼされる圧力目標値Ｄ_ＳＯＬＬと、彫刻データ「ＧＤ」ないし彫刻 深さとの間の関係を表すものである。その際、所定の彫刻深さに対する圧力目標 値Ｄ_ＳＯＬＬは、この彫刻深さの実現の際にほぼ生じる最大の圧力に相応してい る。 テーブルメモリ３０には、関数Ｚ_ＳＯＬＬ＝ｆ（ＧＤ）に従って求められる引 っ張り力目標値Ｚ_ＳＯＬＬが関数的に対応している彫刻データ「ＧＤ」によって 呼び出し可能に記憶されている。関数Ｚ_ＳＯＬＬ＝ｆ（ＧＤ）は、彫刻データＧ Ｄと、所定の彫刻深さのセルの彫刻の際に発生する、復帰エレメント９の対応す る引っ張り力目標値Ｚ_ＳＯＬＬとの間の関係を表すものである。復帰エレメント ９の引っ張り力は、ばねバイアスされた引っ張りばね１０，１１の伸張に基づい て彫刻深さの増大に伴って増加する。その際、所定の彫刻深さに対する引っ張り 力の目標値Ｚ_ＳＯＬＬは、この彫刻深さの実現の際にほぼ発生する最大の引っ張 り力に相応している。 彫刻信号値Ｇ、圧力目標値Ｄ_ＳＯＬＬおよび引っ張り力目標値Ｚ_ＳＯＬＬは彫 刻データＧＤのみならず、円筒版３の材料硬度にも依存しているので、３つのテ ーブルメモリ２８，２９，３０において有利には、パ ラメータ「材料硬度」を有する複数の値テーブルがファイルされており、これら のテーブルのうちその都度１つの値テーブルが、入力段３２に入力される「材料 硬度」に相応して制御線路３３を介して選択されかつ彫刻に対して活性化される 。 テーブルメモリ２７にファイルされている、パラメータ「材料硬度」を有する 関数Ｅ_ＳＯＬＬ＝ｆ（ＧＤ）は、種々異なった材料硬度の円筒版３を用いたテス トまたは見本彫刻によってかつ彫刻された円筒版を用いた試し刷りによって求め ることができる。まず、「黒」と「白」との間のグラデーションスケールの形の 前以て決められた彫刻データによって、種々異なった材料硬度の円筒版３に複数 のセルが彫刻される。それから、彫刻されたセルの彫刻深さないし横対角線が測 定されかつ引き続いて試し刷りが作成され、これらにおいて各彫刻深さに基づい て実現された階調値が測定される。それから、試し刷りにおいて実現された階調 値ないしこのために必要である彫刻深さおよび所属の彫刻データから、関数Ｅ_{Ｓ ＯＬＬ} ＝ｆ（ＧＤ）を求めることができる。 この種の見本彫刻において同時に、相応の測定によって、関数Ｇ＝ｆ（ＧＤ） 、Ｄ_ＳＯＬＬ＝ｆ（ＧＤ）およびＺ_ＳＯＬＬ＝ｆ（ＧＤ）も求めることができか つ３つのテーブルメモリ２８，２９，３０に記憶することができる。 求められた値は、テーブルメモリ２７，２８，２９，３０から線路３４，３５ ，３６，３７を介して彫刻制御回路２３の目標値入力側に供給される。彫刻制御 回路２３の目標値入力側に、線路３８を介して目標値発生器３１おいて前以て決 められている、円筒版３の套面と、休止位置にある彫刻針２との間の間隔Ａに対 する間隔目標値Ａ_ＳＯＬＬが達する。 彫刻制御回路２３において、彫刻信号値Ｇからアクチュエータ制御電圧Ｕ_Ｓが 発生される。これは線路３９を介して電圧・電流変換器４０に達する。この電圧 ・電流変換器４０において、アクチュエータ制御電圧Ｕ_Ｓは、アクチュエータエ レメント４に対するアクチュエータ電流Ｉ_Ｓに変換され、それはアクチュエータ エレメントに線路４１を介して供給される。 第２図には、彫刻装置１の動作を明らかにするために、彫刻の際の彫刻針２の 種々の作業ストロークＨがグラフィックの形で示されている。 第２ａ図において彫刻針２は休止位置４５において図示されている。作業スト ローク実際値Ｈ_ＩＳＴおよび測定増幅器１４の出力側における測定信号（第１図 ）は同様に零に等しい。第２の間隔センサ１５（第１図）は、円筒版３と休止位 置４５にある彫刻針２との間の瞬時の間隔実際値Ａ_ＩＳＴを測定する。 第２ｂ図において、彫刻針２は、彫刻針２が円筒版３においてセルを彫刻する ために作業ストロークＨ_{Ｉ ＳＴ} を実施しかつ円筒版３に侵入した作業位置４６にある。実施された作業スト ローク実際値Ｈ_ＩＳＴは、第１の間隔センサ１３（第１図）によって測定される 。第２の間隔センサ１５（第１図）の瞬時の間隔実際値Ａ_ＩＳＴを検出し、その 際間隔Ａは一定であることが仮定される。再現すべき階調値を決定する、円筒版 ３における彫刻針２の彫刻深さ実際値Ｅ_ＩＳＴは、測定された作業ストローク実 際値Ｈ_ＩＳＴと測定された間隔実際値Ａ_ＩＳＴとの差から得られる。 第２ｃ図において彫刻針２は、第２ｂ図と同じ実際作業ストロークＨ_ＩＳＴを 作業位置４６において実施したが、円筒版３の非円性または円筒版３のエラーの ある支承に基づいて間隔実際値Ａ_ＩＳＴは拡大したものとしている。これにより 、一定の作業ストロークＨでは彫刻実際値Ｅ_ＩＳＴは僅かすぎるということにな る。この場合、第２ｂ図と同じ彫刻深さを実現するためには作業ストロークを相 応に拡大しなければならない。 第２ｄ図においても、彫刻針２は第２ｂ図と同じ実際作業ストロークＨ_ＩＳＴ を実施したが、間隔実際値Ａ_ＩＳＴは円筒版３の非円性に基づいて縮小したもの としている。これにより、一定の作業ストロークＨでは大きすぎる彫刻実際値Ｅ_ＩＳＴ が生じる。この場合も、第２ｂ図と同じ彫刻深さを実現するためには作業 ストロークを相応に縮小しなければならない。 第３図には、彫刻制御回路２３の基本ブロック回路図が、第３ａ図および第３ ｂ図に示されているように２つの部分回路図に分割されて示されている。 第３ａ図において、第１の差形成段４７において連続的に、目標値発生器３１ において前以て決められる間隔目標値Ａ_ＳＯＬＬと、第２の測定増幅器１６から 供給される間隔実際値Ａ_ＩＳＴとの間の差値が形成される。これら差値は、円筒 版３の套面と、彫刻針の休止位置との間の間隔変動に対する尺度である。線路４ ８における差値は、検出された間隔変動に基づいた値補正のための補正値Ｋとし て用いられる。間隔変動の連続的な考慮によって、有利にも、機械的な滑り台を 省略することができる。これは従来の彫刻装置では、シリンダ表面と彫刻装置と の間の一定間隔を考慮するものである。 第２の差形成段４９において、第１の測定増幅器１４から到来する作業ストロ ーク実際値Ｈ_ＩＳＴと第２の測定増幅器１６から到来する間隔実際値Ａ_ＩＳＴと の差形成によって連続的に、彫刻されるセルの彫刻深さの実際値Ｅ_ＩＳＴが求め られる。 それから、テーブルメモリ２７から読み出された彫刻深さ目標値Ｅ_ＳＯＬＬが 第１のコンパレータ５０において彫刻深さ実際値Ｅ_ＩＳＴと比較される。 テーブルメモリ２８から読み出された彫刻信号値Ｇは第１の補正段５１におい て、線路４８における補正 値Ｋの極性正しい加算によって、検出された間隔変動に相応して補正される。補 正された彫刻信号値Ｇは制御可能なアクチュエータ増幅器５２の信号入力側に達 し、この増幅器は信号出力側に、アクチュエータ制御電圧Ｕｓを発生する。アク チュエータ制御電圧Ｕｓは線路３０を介して電圧・電流変換器４０に供給される 。この変換器はこの電圧を、彫刻装置１のアクチュエータエレメント４に対する アクチュエータ制御電流Ｉ_Ｓに変換する。 更に、テーブルメモリ２７から読み出された彫刻深さ目標値Ｅ_ＳＯＬＬはクロ ック遅延段５３に達する。 この遅延段には、クロック発生器２５において発生された読み出しクロック列Ｔ_Ｌ が線路５４を介して供給される。クロック遅延段５３において、読み出しクロ ック列Ｔ_Ｌの個別クロックがその時点の彫刻深さ目標値Ｅ_ＳＯＬＬに依存して種 々異なって時間遅延されかつ時問遅延されたクロックは、セルのその都度の彫刻 時点を検出するための第１の制御信号Ｓ_１として、アクチュエータ増幅器５２の 第１の制御入力側に供給される。 第１のコンパレータ５０は、彫刻深さ目標値と彫刻深さ実際値とが一致すると その出力側に第２の制御信号Ｓ_２を送出する。この制御信号はアクチュエータ増 幅器５２の第２の制御入力側に供給される。 アクチュエータ制御電流Ｉｓは、セルの彫刻の開始 時にその都度、読み出しクロック列Ｔ_Ｌのクロックに対して時間遅延された第１ の制御信号Ｓ_１によって投入され、これによりアクチュエータエレメント４は作 動され、一方第２の制御信号Ｓ_２は既述の実施例において、目標彫刻深さ、セル に対する最大彫刻深さに達した際に、アクチュエータエレメント４を非作動状態 にするためにアクチュエータ制御電流Ｉ_Ｓを遮断する。アクチュエータ電流Ｉ_Ｓ の振幅は、アクチュエータ増幅器５２に供給される、彫刻すべき階調値に相応す る彫刻信号値Ｇによって制御される。 その都度の目標彫刻深さに依存して制御される、アクチュエータ制御電流Ｉｓ の投入遅延によって有利にも、彫刻されるセルの重心が彫刻深さに無関係にグラ ビア印刷パターンに近似的に一致することが実現される。 アクチュエータ電流Ｉ_Ｓの階調値に依存した振幅制御に対して択一的に、アク チュエータエレメント４は、彫刻すべき階調値に無関係な定格アクチュエータ制 御電流Ｉ_Ｓによって制御することもできる。この制御電流は目標彫刻深さに達す るとその都度、第２の制御信号Ｓ２によって遮断される。 定格アクチュエータ制御電流Ｉ_Ｓを用いた作動では、セルの彫刻に対する時間 間隔も固定することができる。目標彫刻深さが固定された時間間隔内に実現され ないと、例えば定格アクチュエータ制御電流Ｉ_Ｓを高 めるようにすることができる。 アクチュエータ制御電流Ｉ_Ｓのその投入接続持続時間内の時間的な経過は適当 な方法で、例えば、矩形、階段形状または正弦波形状に選択することができる。 場合によっては、セルの最大彫刻深さに達した際にアクチュエータ制御電流Ｉ_Ｓ を第２の制御信号Ｓ_２によって遮断せずに、最大の彫刻深さに達した後の彫刻 針２を抜く期間にこの電流が減衰するように変化させることも効果的である。 彫刻すべきセルに対して彫刻深さプロフィールを使用する場合、瞬時的な彫刻 深さ実際値Ｅ_ＩＳＴと、彫刻深さプロフィールの彫刻深さ目標値Ｅ_ＳＯＬＬとの 一致が検出されるとその都度、第２の制御信号Ｓ_２が発生される。この制御信号 は、アクチュエータエレメント４に対するアクチュエータ制御信号Ｉ_Ｓをその都 度、個々の制御信号間隔内で変化する。その際、彫刻深さプロフィールのその都 度２つの連続する彫刻深さ目標値の比較から、アクチュエータ制御電流Ｉ_Ｓの必 要な変化方向および／または必要な変化値を求めることができる。 線路５５における第３の制御信号Ｓ_３によって、アクチュエータ増幅器５４の 増幅度を変化することができる。第３の制御信号Ｓ_３を用いて有利にも、増幅度 を介して制御されて、アクチュエータ制御電流Ｉ_Ｓを高めることによって、円筒 版３の材料硬度の場所に依 存している変動の際の彫刻深さの付加的な補正を実施することができる。 複製すべき画像における輪郭に依存して制御される、読み出しクロック列Ｔ_Ｌ のクロックの時間的なシフトによってまたはクロック遅延段５３におけるアクチ ュエータ制御電流Ｉ_Ｓに対する投入接続時点の相応に制御されるシフトによって 、付加的に有利にも円筒版３の周方向における彫刻されたセルの重心移動によっ て輪郭の改善された再現が行われる。 円筒版３の軸方向における彫刻されるセルの相応の重心移動は、彫刻針２ない し彫刻針２に連結されているアクチュエータエレメント４の機械的な横方向の旋 回によって電気的に制御可能な偏向器を用いて行うことができる。この偏向器は 例えば、圧電結晶または磁歪材料から成っている。 アクチュエータエレメント４の横方向の旋回と組み合わされて、読み出しクロ ック列Ｔ_Ｌのクロックないしアクチュエータ制御電流Ｉ_Ｓに対する投入接続時点 の制御される時間的なシフトによって、有利にも、グラビア印刷パターンをほぼ 任意のスクリーン角度で彫刻することができる。このことは、従来の電磁彫刻装 置によっては可能ではない。 第３ｂ図において、テーブルメモリ３０から読み出された引っ張り力目標値Ｚ_ＳＯＬＬ が第２の補正段５６において線路４８における補正値Ｋの極性正しい加 算によって補正される。引っ張り力補正は、円筒版３の套面と彫刻針の休止位置 との間の間隔変動に基づいて復帰エレメント９の引っ張り力１０，１１の長さの 変化を考慮する。それから、補正された引っ張り力目標値Ｚ_ＳＯＬＬが第１の比 較器５７において、第４の測定増幅器１８から到来する引っ張り力実際値Ｚ_{ＩＳ Ｔ} と比較される。第１の比較器５７に指示ユニット５８が後置接続されていて、 ここでその前に検出された、引っ張り力目標値Ｚ_ＳＯＬＬと引っ張り力実際値Ｚ_ＩＳＴ との間の最大の偏差が指示される。 テーブルメモリ２９から読み出された圧力目標値Ｄ_ＳＯＬＬおよび第３の測定 増幅器１７から到来する圧力実際値Ｄ_ＩＳＴが、第２の比較器６０において相互 に比較される。第２の比較器６０にも、指示ユニット６１が後置接続されており 、ここで、圧力目標値Ｄ_ＳＯＬＬと圧力実際値Ｄ_ＩＳＴとの間のその前に検出さ れた最大偏差を指示することができる。 引っ張り力測定の際に求められた値によって圧力測定を補正するために、第２ の差形成段６２において、圧力目標値Ｄ_ＳＯＬＬと補正された引っ張り力目標値 Ｚ_ＳＯＬＬとから目標力差ΔＦ_ＳＯＬＬが形成され並びに第３の差形成段６３に おいて圧力実際値Ｄ_ＩＳＴと引っ張り力実際値Ｚ_ＩＳＴとから相応の実際力差Δ Ｆ_ＩＳＴが形成される。 それから第２のコンパレータ６４において、目標力 差ΔＦ_ＳＯＬＬと実際力差ΔＦ_ＩＳＴとが相互に比較されかつこの比較から、信 号ΔＦが導出される。この信号は、円筒版３の場所に依存している材料硬度また は彫刻針２の幾何学形状の変化に対する尺度である。それから、比較器６４に後 置接続されている関数段６５において、信号ΔＦが制御信号Ｓ_３に変換される。 この制御信号はそれから別の補正段６６において線路４８における補正値Ｋによ って、検出された間隔変動に相応して補正される。それから補正された付加信号 Ｓ_３がアクチュエータ増幅器５２に線路５５を介して供給されて、アクチュエー タエレメント４に対する制御電流Ｉｓを円筒版３の場合によって種々異なってい る材料硬度に相応して補正するようにする。 第４図において、２つの異なった深さのセルを彫刻する際の時間的な信号経過 のグラフィック表示が、彫刻深さ目標値Ｅ_{１ＳＯＬＬ}およびＥ_{２ＳＯＬＬ}並びに 彫刻信号値Ｇ_１およびＧ_２と共に図示されている。 第４ａ図には読み出しクロック列Ｔ_Ｌのクロックが示されている。 第４ｂ図には、アクチュエータ制御電流Ｉ_Ｓのその都度の経過が、彫刻深さ目 標値Ｅ_{１ＳＯＬＬ}およびＥ_{２ＳＯＬＬ}に相応する種々異なった投入接続時点およ び彫刻信号値Ｇ_１およびＧ_２に相応する異なった振幅と共に図示されている。 第４ｃ図には、セルのその都度の目標深さに達した 際にアクチュエータ制御電流Ｉｓを遮断する制御信号Ｓ_２の経過が図示されてい る。 第４ｄ図には、２つの彫刻されたセルの横断面が彫刻深さ目標値Ｅ_{１ＳＯＬＬ} およびＥ_{２ＳＯＬＬ}と共に示されている。

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 １．版、殊に円筒版を彫刻するための電子的な彫刻機の彫刻装置を制御するため の方法であって、 主彫刻方向に配置されているセル列を切削工具としての彫刻針を用いて前記版 に彫刻し、 階調値を表している彫刻情報を彫刻針駆動系に対する制御信号に変換し、 彫刻針が、制御信号が供給される彫刻針の駆動系を用いてセルを彫刻するため にその都度、休止位置から版の方向において作業ストロークを実施しかつセルの 彫刻後、復帰エレメントを用いて休止位置に戻し、この場合セルの彫刻深さが階 調値を決定しかつ前記彫刻装置はセルの面状の彫刻のために前記版に対する相対 運動をサブ彫刻方向において実施する形式の方法において、 前記彫刻情報は彫刻データ（ＧＤ）として記憶されておりかつ該彫刻情報をセ ルの彫刻のために呼び出し、 前記読み出された彫刻データ（ＧＤ）を第１の関数 ［Ｅ_ＳＯＬＬ＝ｆ（ＧＤ）］に従ってセル当たり少なくとも１つの彫刻深さ目 標値（Ｅ_ＳＯＬＬ）に変換し、 前記彫刻駆動系（４，５）に対する制御信号（Ｉ_Ｓ）をセルの彫刻開始の都度 投入接続し、 セルの彫刻の際連続的に、前記彫刻針（２）の、休止位置からの作業ストロー ク（Ｈ）を測定し、 セルの彫刻の際連続的に、前記版（３）の套面と前記彫刻針（２）との間の間 隔（Ａ）を該彫刻針の領域において測定し、 彫刻深さ実際値（Ｅ_ＩＳＴ）を、前記作業ストローク（Ｈ）と前記その都度の 間隔（Ａ）との間の差から求め、 前記彫刻深さ目標値（Ｅ_ＳＯＬＬ）を前記求められた彫刻深さ実際値（Ｅ_{ＩＳ Ｔ} ）と比較しかつ前記制御信号（Ｉ_Ｓ）を、彫刻深さ目標値（Ｅ_ＳＯＬＬ）と彫 刻深さ実際値（Ｅ_ＩＳＴ）との一致の際その都度変化する ことを特徴とする方法。 ２．前記制御信号（Ｉ_Ｓ）を、彫刻深さ目標値（Ｅ_ＳＯＬＬ）と彫刻深さ実際値 （Ｅ_ＩＳＴ）との一致の都度遮断する 請求項１記載の方法。 ３．それぞれのセルに対して、彫刻深さ目標値（Ｅ_ＳＯＬＬ）を、前記版（３） へのセルの彫刻の際階調値正しい複製のために実現されなければならない最大の 彫刻深さとして前以て決める 請求項１または２記載の方法。 ４．それぞれのセルに対して、複数の彫刻深さ目標値（Ｅ_ＳＯＬＬ）を、セルの 彫刻の際前記版（３）へ の彫刻針（２）の軌道を表す彫刻深さプロフィールを前以て決める 請求項１または２記載の方法。 ５．セルに対する彫刻開始を、彫刻深さ目標値（Ｅ_ＳＯＬＬ）に依存して決定す る 請求項１から３までのいずれか１項記載の方法。 ６．呼び出された彫刻データ（ＧＤ）を第２の関数［Ｇ＝ｆ（ＧＤ）］に従って 、関数的に対応している彫刻信号値（Ｇ）に変換しかつ 前記彫刻信号値（Ｇ）を前記彫刻針駆動系（４，５）に対する制御信号（Ｉ_Ｓ ）に変換する 請求項１から５までのいずれか１項記載の方法。 ７．前記制御信号（Ｉ_Ｓ）は前記彫刻データ（ＧＤ）に無関係である定格値を有 している 請求項１から５までのいずれか１項記載の方法。 ８．セルの彫刻に対する時間間隔をその都度前以て決めかつ 該時間間隔に前記彫刻深さ（Ｅ_ＳＯＬＬ）に達しな かった場合に、前記制御信号（Ｉ_Ｓ）の定格値を高める 請求項７記載の方法。 ９．読み出された彫刻データ（ＧＤ）を第３の関数［Ｄ_ＳＯＬＬ＝ｆ（ＧＤ）］ に従って関数的に対応している、種々異なる彫刻深さのセルの彫刻の際に彫刻針 （２）に作用することが許される圧力目標値（ Ｄ_ＳＯＬＬ）に変換し、 彫刻の際彫刻針（２）に作用する実際の圧力値を圧力実際値（Ｄ_ＩＳＴ）とし て測定しかつ 該測定された圧力実際値（Ｄ_ＩＳＴ）が前記圧力目標値（Ｄ_ＳＯＬＬ）を上回 るとこのことを指示する請求項１から８までのいずれか１項記載の方法。 10．前記読み出された彫刻データ（ＧＤ）を第４の関数［Ｚ_ＳＯＬＬ＝ｆ（ＧＤ ）］に従って、関数的に対応している、復帰エレメント（９）に及ぼされること が許される引っ張り力目標値（Ａ_ＳＯＬＬ）に変換し、 彫刻の際、前記復帰エレメント（９）に作用する実際の引っ張り力を引っ張り 力実際値（Ｚ_ＩＳＴ）として測定しかつ 該測定された引っ張り力実際値（Ｚ_ＩＳＴ）が前記引っ張り力目標値（Ｚ_{ＳＯ ＬＬ} ）を上回るとこのことを指示する 請求項１から９までのいずれか１項記載の方法。 11．前記版（３）の場所的に種々異なった材料硬度に対する尺度として、前記圧 力目標値（Ｄ_ＳＯＬＬ）と前記圧力実際値（Ｄ_ＩＳＴ）とを相互に比較しかつ 前記彫刻針駆動系（４，５）に対する制御信号（Ｉ_Ｓ）を、種々異なった材料 硬度の影響を補償するために、前記比較結果に依存して補正する 請求項１から１０までのいずれか１項記載の方法。 12．第１の差（ΔＦ_ＳＯＬＬ）を前記圧力目標値（Ｄ_ＳＯＬＬ）と前記引っ張り 力目標値（Ｚ_ＳＯＬＬ）とから形成し、 第２の差（ΔＦ_ＩＳＴ）を前記圧力実際値（Ｄ_ＩＳＴ）と前記引っ張り力実際 値（Ｚ_ＩＳＴ）とから形成し、 前記版（３）の場所的に種々異なる材料硬度に対する尺度として、前記第１の 差（ΔＦ_ＳＯＬＬ）と前記第２の差（ΔＦ_ＩＳＴ）とを相互に比較しかつ前記彫 刻針の駆動系（４，５）に対する制御信号（Ｉ_Ｓ）を、種々異なった材料硬度の 影響を補償するために、前記比較結果に依存している付加信号（Ｓ_２）を用いて 補正する 請求項１から１１までのいずれか１項記載の方法。 13．前記第１の関数［Ｅ_ＳＯＬＬ＝ｆ（ＧＤ）］および前記第２の関数［Ｇ＝ｆ （ＧＤ）］を複数の前以て決められた彫刻データ（ＧＤ）を用いた版（３）の試 し彫刻によって求める 請求項１から１２までのいずれか１項記載の方法。 14．前記第３の関数［Ｄ_ＳＯＬＬ＝ｆ（ＧＤ）］および前記第４の関数［Ｚ_{ＳＯ ＬＬ} ＝ｆ（ＧＤ）］を前記試し彫刻の際に前記彫刻データ（ＧＤ）に依存した圧 力および引っ張り力の測定によって求める 請求項１３記載の方法。 15．前記試し彫刻および圧力および引っ張り力の測定 を種々異なった材料硬度の版（３）によって実施し 、 その際得られた関数を、パラメータとしての種々異なる材料硬度と共に記憶し かつ 彫刻のために必要な関数を、彫刻すべき版（３）のそれぞれの材料硬度に相応 して彫刻の前に前記記憶された関数から選択する 請求項１３または１４記載の方法。 16．前記円筒版（３）の套面と休止位置にある彫刻針（２）との間隔（Ａ）に対 する間隔目標値（Ｓ_ＳＯＬＬ）を前以て決め、 前記前以て決められた間隔目標値（Ａ_ＳＯＬＬ）と前記測定された間隔実際値 （Ａ_ＩＳＴ）との差値を連続的に検出しかつ 前記差値を補正値（Ｋ）として使用する 請求項１から１５までのいずれか１項記載の方法。 17．前記彫刻信号値（Ｇ）、前記引っ張り力目標値（Ｚ_ＳＯＬＬ）および／また は前記付加信号（Ｓ_２）を前記補正値（Ｋ）によって補正する 請求項１６記載の方法。 18．前記彫刻針の駆動系（４，５）は電磁的なアクチュエータエレメントを有し ている 請求項１から１７までのいずれか１項記載の方法。 19．前記彫刻針の駆動系（４，５）は固体アクチュエ ータエレメント（４）を有している 請求項１から１７までのいずれか１項記載の方法。 20．前記固体アクチュエータエレメント（４）は圧電材料から成っている 請求項１９記載の方法。 21．前記固体アクチュエータエレメント（４）は磁歪材料から成つている 請求項１９記載の方法。 22．前記磁歪材料から成っている固体アクチュエータエレメント（４）は、制御 信号としての制御電流（Ｉ_Ｓ）が流れる電磁コイル（５）によって取り囲まれて いる 請求項２１記載の方法。 23．前記彫刻データ（ＧＤ）を、そのクロック間隔がグラビア印刷パターンに相 応して主彫刻方向におけるセルの間隔を決定する読み出しクロック列（Ｔ_Ｌ）を 用いて読み出しかつ セルに対するその都度の彫刻開始を彫刻深さ目標値（Ｅ_ＳＯＬＬ）に依存して いる、前記読み出しクロック列（Ｔ_Ｌ）のクロックの時間遅延によって導出する 請求項１から２２までのいずれか１項記載の方法。 24．版、殊に円筒版を彫刻するための電子的な彫刻機の彫刻装置を制御するため の装置であって、 該装置は、彫刻装置（１）と、制御回路とから成り 、 彫刻装置（１）は、 前記版（３）にセルを彫刻するための切削工具として彫刻針（２）を備え、 制御信号によって制御される彫刻針の駆動系（４，５）を備え、 前記彫刻針の駆動系（４，５）に対する復帰エレメント（９）を備え、この場合 前記彫刻針（２）はセルを彫刻するためのその都度、休止位置から前記版（３） の方向において作業ストロークを実施しかつセルの彫刻の後、前記復帰エレメン ト（９）を用いて休止位置に戻されかつ 前記制御回路は、階調値を表している彫刻情報を前記彫刻針の駆動系（４，５） に対する制御信号に変換する 形式のものにおいて、 彫刻情報としての彫刻データ（ＧＤ）をファイルしかつ呼び出すためのメモリ装 置（２４）を備え、 前記彫刻データ（ＧＤ）を前以て決められた関数に従って彫刻信号値（Ｇ）およ び前記版（３）へのセルの彫刻の際に階調値正しい複製のために実現されなけれ ばならない彫刻深さ目標値（Ｅ_ＳＯＬＬ）に変換するための関数発生器（２７， ２８）を備え、前記彫刻針（２）の休止位置からの作業ストローク（Ｈ）をセル の彫刻の際の作業ストローク実際値（ Ｈ_ＩＳＴ）として測定するための第１の測定装置（１３，１４）を備え、 前記版（３）の套面と休止位置にある彫刻針（２）との間の間隔（Ａ）を間隔実 際値（Ａ_ＩＳＴ）として連続的に測定するための第２の測定装置（１５，１６） を備え、 前記目標値および実際値を考慮して前記彫刻信号値（Ｇ）を彫刻針の駆動系（ ４，５）に対する制御信号（Ｉ_Ｓ）に変換するための彫刻制御回路（２３）を備 えている ことを特徴とする装置。 25．前記彫刻制御回路（２３）は、 彫刻針（２）の測定された作業ストローク（Ｈ）と前記測定された間隔（Ａ） との間の差から彫刻深さ実際値（Ｅ_ＩＳＴ）を形成するための差形成段（４９） を備え、 彫刻深さ目標値（Ｅ_ＳＯＬＬ）と彫刻深さ実際値（Ｅ_ＩＳＴ）との一致の際に 第２の制御信号（Ｓ_２）をその都度生成するための比較器（５０）を備え、 前記彫刻針の駆動系（４，５）に対する制御電流（Ｉ_Ｓ）を形成するためのア クチュエータ増幅器（５２）を備え、この場合該制御電流（Ｉ_Ｓ）はセルの彫刻 開始の際その都度前記第１の制御信号（Ｓ_１）によって投入接続されかつセルの 彫刻終了時に彫刻深さ目標値（Ｅ_ＳＯＬＬ）と彫刻深さ実際値（Ｅ_{Ｉ ＳＴ} ）とが一致する際その都度、前記制御信号（Ｓ_２）によって遮断される 請求項２４記載の装置。 26．読み出された彫刻データ（ＧＤ）を関数に従つて、種々異なった彫刻深さの セルの彫刻の際に彫刻針（２）に作用することが許される圧力目標値（Ｄ_{ＳＯＬ Ｌ} ）に変換するための別の関数発生器（２９）を備え、 彫刻の際に彫刻針（２）に作用する実際の圧力を圧力実際値（Ｄ_ＩＳＴ）とし て測定するための別の測定装置（６，１７）を備え、 圧力目標値（Ｄ_ＳＯＬＬ）と圧力実際値（Ｄ_ＩＳＴ）とを比較するための比較 器（６０）を前記彫刻制御回路（２３）に備え、かつ 圧力実際値（Ｄ_ＩＳＴ）が圧力目標値（Ｄ_ＳＯＬＬ）を上回ったことを指示す るための指示装置（６１）を前記彫刻制御回路（２３）に備えている 請求項２４または２５記載の装置。 27．前記読み出された彫刻データ（ＧＤ）を関数に従って、前記復帰エレメント （９）に及ぼされることが許される引っ張り力目標値（Ｚ_ＳＯＬＬ）に変換する ための別の関数発生器（２９）を備え、 彫刻の際前記復帰エレメント（９）に作用する実際の引つ張り力を引っ張り力 実際値（Ｚ_ＩＳＴ）として測定するための別の測定装置（１２，１８）を備 え、 引っ張り力実際値（Ｚ_ＩＳＴ）が引っ張り力目標値（Ｚ_ＳＯＬＬ）を上回った ことを指示するための指示装置（５８）を前記彫刻制御回路（２３）に備えてい る 請求項２４から２６までのいずれか１項記載の装置。 28．圧力目標値（Ｄ_ＳＯＬＬ）と、圧力実際値（Ｄ_ＩＳＴ）と、引っ張り力目標 値（Ｚ_ＳＯＬＬ）と、引っ張り力実際値（Ｚ_ＩＳＴ）とから第３の制御信号（Ｓ_３ ）を発生しかつ前記版（３）の種々異なった材料硬度の影響を補償するために 、前記第３の制御信号（Ｓ_３）によって前記彫刻針の駆動系（４，５）に対する 制御信号（Ｉ_Ｓ）を補正するための装置（６２，６３，６４，６５）を前記彫刻 制御回路（２３）に備えている 請求項２４から２７までのいずれか１項記載の装置。 29．前記版（３）の套面と休止位置にある前記彫刻針（２）との間の間隔（Ａ） に対する間隔目標値（Ａ_ＳＯＬＬ）を前以て決めるための目標値発生器（３１） を備え、 前記前以て決められた間隔目標値（Ａ_ＳＯＬＬ）と前記測定された間隔実際値 （Ａ_ＩＳＴ）との間の差値から補正値（Ｋ）を形成するための比較器（４７ ）を前記彫刻制御回路（２３）に備え、かつ 前記補正値（Ｋ）を用いて目標値を補正するための補正段（５２，５６，６６ ）を前記彫刻制御回路（２３）に備えている 請求項２４から２８までのいずれか１項記載の装置。 30．前記版（３）のそれぞれの材料硬度に依存して前記関数発生器（２８，２９ ，３０）における種々の関数を選択するための入力段（３２）を備えている請求 項２４から２９までのいずれか１項記載の装置。 31．前記関数発生器（２８，２９，３０）はテーブルメモリとして実現されてい る 請求項２４から３０までのいずれか１項記載の装置。 32．前記メモリ装置（２４）の読み出しのために読み出しクロック列（Ｔ_Ｌ）を 生成するためのクロック発生器（２５）を備え、かつ 該読み出しクロック列（Ｔ_Ｌ）のクロックの時間遅延によって前記第１の制御信 号（Ｓ_１）を取り出すためのクロック遅延段（５３）を備えている 請求項２４から３１までのいずれか１項記載の装置。 33．版、殊に円筒版を彫刻するための電子的な彫刻機の彫刻装置であって、 該装置は、 前記版（３）にセルを彫刻するための切削工具としての彫刻針（２）と、 前記彫刻針（２）に対する、制御信号によって制御される駆動系（４，５）と 、 前記彫刻針の駆動系（４，５）に対する復帰エレメント（２）と から成り、前記彫刻針（２）はセルの彫刻の際その都度、休止位置から前記版 （３）の方向に作業ストロークを実施しかつセルの彫刻の後、前記復帰エレメン ト（９）を用いて休止位置に戻される形式のものにおいて、 セルの彫刻の際に休止位置からの前記彫刻針（２）の作業ストローク（Ｈ）を 測定するための第１の測定装置（１３，１４）を備え、 前記版（３）の套面と休止位置にある前記彫刻針（２）との間の間隔（Ａ）を 連続的に測定するための第２の測定装置（１５，１６）を備え、 彫刻の際前記彫刻針（２）に作用する圧力を測定するための第３の測定装置（ ６，１７）を備え、かつ 彫刻の際前記復帰エレメント（９）に作用する引っ張り力を測定するための第 ４の測定装置（１２，１８）を備えている ことを特徴とする彫刻装置。 34．前記彫刻針の駆動系（４，５）は電磁系を有して いる 請求項３３記載の彫刻装置。 35．前記彫刻針の駆動系（４，５）は固体アクチュエータエレメント（４）を有 している 請求項３３記載の彫刻装置。 36．前記固体アクチュエータエレメント（４）は磁歪材料から成っている 請求項３５記載の彫刻装置。 37．前記固体アクチュエータエレメント（４）は圧電材料から成っている 請求項３５記載の彫刻装置。 38．前記、磁歪材料から成る固体アクチュエータエレメント（４）は、制御信号 としての制御電流（Ｉ_Ｓ）が流れる電磁コイル（５）によって取り囲まれている 請求項３６記載の彫刻装置。 39．前記固体アクチュエータエレメント（４）はシリンダ形状に実現されており 、 該固体アクチュエータエレメント（４）の、前記版（３）とは反対の側の端面は 定置の支承体（７）に固定されておりかつ 前記固体アクチュエータエレメント（４）の他方の端面に、前記シリンダ形状 の固体エレメント（４）のシリンダ軸線の方向に前記彫刻針（２）が取り付けら れている 請求項３３から３８までのいずれか１項記載の彫刻装置。 40．前記復帰エレメント（９）は機械的な復帰エレメントとして実現されている 請求項３３から３９までのいずれか１項記載の彫刻装置。 41．前記復帰エレメント（９）は固体アクチュエータエレメントとして実現され ている 請求項３３から４０までのいずれか１項記載の彫刻装置。 42．前記復帰エレメント（９）は少なくとも１つの引っ張りばねから成っている 請求項４０記載の彫刻装置。 43．圧力を測定するための前記第３の測定装置（６，１７）は少なくとも１つの 圧力センサ（６）を有している 請求項３３から４２までのいずれか１項記載の彫刻装置。 44．前記圧力センサ（６）は該固体アクチュエータエレメント（４）と前記支承 体（７）との間に配置されている 請求項４３記載の彫刻装置。 45．前記彫刻針（２）と前記駆動系（４，５）との間に倍力器が挿入配置されて いる 請求項３３から４４までのいずれか１項記載の彫刻 装置。 46．前記彫刻針（２）と前記彫刻針駆動系（４，５）との間にレバー装置が挿入 配置されている 請求項３３から４５までのいずれか１項記載の彫刻装置。 47．前記彫刻針（２）と前記彫刻針駆動系（４，５）との間にハイドロリック装 置が挿入配置されている請求項３３から４６までのいずれか１項記載の彫刻装置 。