JP3335190B2 - 浸漬式洗浄装置 - Google Patents

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】この発明は、例えば、半導体やプ
リント基板、電子機器等のワークに付着した研磨粉、フ
ラックス、油分等の異物を洗浄除去するために用いられ
る浸漬式洗浄装置に関する。

【０００２】

【従来の技術】従来、上述のようなワークを洗浄する洗
浄装置としては、例えば、洗浄室内の洗浄槽に貯液され
たフロン液中にワーク全体を上方から浸漬し、洗浄槽に
取付けた超音波振動子を振動してフロン液にキャビテー
ション作用を誘起させ、ワークに付着した研磨粉や油分
等の異物を洗浄除去し、この後、洗浄室内に放出された
フロン液の蒸気中にワークを移動して、洗浄処理された
ワークを室外温度に加熱してから洗浄室外に搬出する装
置がある。

【０００３】

【発明が解決しようとする課題】しかし、上述のように
洗浄槽内のフロン液中にワーク全体を上方から浸漬して
洗浄処理する場合、洗浄処理済みのワークを洗浄室外に
取り出す時、ワークと一緒に気化したフロンガスが大気
中に漏洩するので、フロンガスの漏洩を防止または低減
するための各種手段が講じられている。しかし、漏洩を
完全に阻止することは技術的に困難である。そこで、フ
ロン液に代わる洗浄液として、例えば、アルコール系溶
剤等の洗浄液でワークを洗浄処理する方法が考えられる
が、フロン液に比べてアルコール系溶剤は化学的に不安
定であり、発火温度が低いため、洗浄作業時または作業
開始時に静電気や火花が発生すると気化したアルコール
系溶剤が発火することがあり、溶剤の取扱いに注意しな
ければならないという問題点を有している。

【０００４】この発明は上記問題に鑑み、浸漬槽内に貯
液された浸漬液中に洗浄槽を浸漬した状態で、洗浄槽内
に貯液された洗浄液中にワーク全体を下方から浸漬して
洗浄処理することにより、洗浄槽内に貯液されたアルコ
ール系溶剤等の洗浄液が大気中に漏洩するのを防止し、
洗浄液の損失量を大幅に低減することができる浸漬式洗
浄装置の提供を目的とする。

【０００５】

【課題を解決するための手段】この発明は、洗浄室内に
洗浄槽を浸漬する浸漬槽を配設し、該浸漬槽内に比重の
重い浸漬液を貯液すると共に、前記洗浄槽の下面側開口
部を上記浸漬槽に貯液された浸漬液中に浸漬して、該洗
浄槽内に浸漬液よりも比重の軽い洗浄液を貯液し、比重
差により洗浄液を浸漬液上部に位置させて、ワーク全体
を浸漬液中から洗浄液に対して出し入れすると共に、浸
漬液により洗浄液の外気との接触を遮断すべく構成した
浸漬式洗浄装置であることを特徴とする。

【０００６】

【作用】この発明は、洗浄室内の浸漬槽に貯液された比
重の重い浸漬液中にワーク全体を浸漬し、浸漬槽内の浸
漬液中にワーク全体を浸漬した状態のまま洗浄槽の下部
位置まで移動する。この後、浸漬槽内の浸漬液中に浸漬
された洗浄槽の内部にワークを移動し、洗浄槽に貯液さ
れた比重の軽い洗浄液中にワーク全体を下方から浸漬し
て、ワークの外面に付着した研磨粉、フラックス、油分
等の異物を洗浄除去する。

【０００７】

【発明の効果】この発明によれば、浸漬槽内の浸漬液中
にワーク全体を浸漬した状態のまま移動させ、洗浄槽内
の洗浄液中にワーク全体を下方から浸漬して洗浄処理す
るので、洗浄槽内に貯液されたアルコール系溶剤等の洗
浄液が大気中に漏洩するのを確実に防止できる。また、
浸漬槽内の浸漬液中に洗浄槽の下面側開口部を浸漬した
状態で洗浄処理するため、同洗浄槽内に貯液されたアル
コール系溶剤等の洗浄液と外気との接触を完全に遮断す
ることができ、洗浄作業時または作業開始時において静
電気や火花等が発生しても発火することがなく、ワーク
の洗浄処理が安定して行えると共に、従来例のフロン液
と同等の洗浄効果が得られる。

【０００８】特に、比重差により洗浄液を浸漬液上部に
位置させて、ワーク全体を浸漬液中から洗浄液に対して
出し入れすると共に、浸漬液により洗浄液の外気との接
触を遮断すべく構成したので、洗浄液が外気と接触する
のを完全に遮断することができると共に、洗浄液が大気
中に漏洩するのを阻止することができる。

【０００９】

【実施例】この発明の一実施例を以下図面に基づいて詳
述する。図面は洗浄室内の浸漬槽に貯液された比重の重
い浸漬液中にワークを浸漬した状態のまま移動し、洗浄
室内の洗浄槽に貯液された比重の軽い洗浄液中にワーク
を浸漬して洗浄処理する浸漬式洗浄装置を示し、図１、
図２において、この浸漬式洗浄装置１は、気密状態に密
閉される洗浄室２底部にフッ素系溶剤（ＦＣ）等の浸漬
液Ａを所定量貯液する浸漬槽３と、アルコール系溶剤
（ＩＰＡ）等の洗浄液Ｂを所定量貯液する洗浄槽４と、
浸漬液Ａを蒸発気化するための煮沸槽５と、溶剤および
水分を分離するための液分離槽６とを配設し、浸漬槽３
に貯液された浸漬液Ａの液面部分に所定深さ浸漬して洗
浄槽４を配設し、煮沸槽５の上方蒸気領域と対応する洗
浄室２の側部壁面に液回収槽７を連設すると共に、洗浄
室２の側部位置に水分離槽８と、液再生槽９とを配設し
ている。

【００１０】上述の洗浄室２には、この洗浄室２の上面
側にワークＤを出入れするためのワーク出入口２ａを開
口し、ワーク出入口２ａの開口側周縁部に密閉板２ｂを
開閉自在に嵌合または連結している。また、洗浄室２内
の上方蒸気領域と対応する側部内壁面に蒸気を冷却凝縮
するための冷却ジャケット１０，１１を上下位置に配設
し、同室側部に連設した液回収槽７内の上方蒸気領域と
対応する側部内壁面に蒸気を凝縮液化するための冷却コ
イル１２を配設すると共に、後述する冷凍装置６６で適
宜温度に冷却された冷媒（図示省略）を冷却ジャケット
１０，１１と冷却コイル１２とに循環供給して、洗浄室
２内の上方蒸気領域に放出された蒸気および室内に侵入
する大気中の水分が冷却凝縮する温度に冷却ジャケット
１０，１１を保温し、かつ、液回収槽７内の上方蒸気領
域に放出された蒸気が凝縮液化する温度に冷却コイル１
２を保温している。

【００１１】前述の浸漬槽３には、この浸漬槽３の内部
にワーク入液位置と、ワーク洗浄位置と、ワーク出液位
置とを設定し、ワーク洗浄位置と対応する浸漬槽３の液
面中央部に２槽式の洗浄槽４を配設すると共に、浸漬槽
３に貯液された浸漬液Ａの液面部分に対して洗浄槽４の
下面側開口部４ｄを所定深さ浸漬している。また、ワー
ク出液位置と対応する洗浄槽４の右側部外壁面であっ
て、浸漬槽３に貯液された浸漬液Ａの液面部分に対して
水平となる高さ位置に液面洗浄ノズル１３を配設すると
共に、液面洗浄ノズル１３の吐出方向を下流側に配設し
た煮沸槽５に向けて設定している。さらに、ワーク出液
位置と対応する浸漬槽３の底部内壁面であって、同位置
に移動停止されたワークＤの下面側と対向する位置に残
液洗浄ノズル１４を配設すると共に、同残液洗浄ノズル
１４の吐出方向をワークＤの下面側に向けて設定してい
る。

【００１２】一方、ワーク入液位置と対応する浸漬槽３
の底部壁面に電磁弁１５，１６，１７，１８，１９と、
熱交換器２０と、循環用ポンプ２１と、フィルタ２２と
を介して液循環路２３を接続すると共に、同液循環路２
３をワーク出液位置に配設した液面洗浄ノズル１３と残
液洗浄ノズル１４とに接続している。すなわち、循環用
ポンプ２１を駆動して、浸漬槽３に貯液された浸漬液Ａ
を液面洗浄ノズル１３と残液洗浄ノズル１４とにそれぞ
れ供給し、液面洗浄ノズル１３から吐出する浸漬液Ａで
浸漬槽３に貯液された液面部分の溶剤および水分を煮沸
槽５に向けて移送する。また、残液洗浄ノズル１４から
吐出する浸漬液ＡでワークＤに付着した溶剤を洗浄除去
する。

【００１３】前述の洗浄槽４には、同洗浄槽４の内部を
左右分割する中央位置に仕切り板４ｃを垂設して第１洗
浄槽４ａと第２洗浄槽４ｂとを形成し、一方の第１洗浄
槽４ａには第２洗浄槽４ｂからの流出を許容する貯液レ
ベルにアルコール系の洗浄液Ｂを貯液し、他方の第２洗
浄槽４ｂには第１洗浄槽４ａに向けて流出する貯液レベ
ルに洗浄液Ｂを貯液すると共に、各洗浄槽４ａ，４ｂの
貯液領域に浸漬液Ａを超音波振動させるための超音波振
動子２４をそれぞれ配設している。例えば、各洗浄槽４
ａ，４ｂ内に貯液された洗浄液Ｂ中にワークＤを順次浸
漬して洗浄処理する。或いは、２７KHz 〜２００KHz の
振動周波数で超音波振動子２４を超音波振動して、各洗
浄槽４ａ，４ｂ内の洗浄液Ｂ中に浸漬されたワークＤを
洗浄処理する。かつ、第１洗浄槽４ａの上方貯液領域と
対応する側部壁面と、同槽の下方貯液領域と対応する側
部壁面とを、電磁弁２５，２６，２７，２８と、熱交換
器２９と、循環用ポンプ３０と、フィルタ３１とを介し
て液循環路３２で接続している。すなわち、循環用ポン
プ３０を駆動して、第１洗浄槽４ａに貯液された洗浄液
Ｂを清浄濾過しながら循環供給する。

【００１４】前述の煮沸槽５には、この煮沸槽５の底部
内壁面に浸漬液Ａを蒸発気化するための加熱ヒータ３３
を配設し、適宜温度に加熱されたオイルや水溶液等の加
熱媒体（図示省略）を加熱ヒータ３３に循環供給して、
フッ素系溶剤の浸漬液Ａが蒸発気化する温度に加熱ヒー
タ３３を加熱する。また、浸漬槽３側を上流とする煮沸
槽５の上流側内壁面であって、煮沸槽５に貯液された浸
漬液Ａの液面部分に対して水平となる高さ位置に液面洗
浄ノズル３４を配設すると共に、液面洗浄ノズル３４の
吐出方向を下流側に配設した液分離槽６に向けて設定し
ている。

【００１５】前述の液分離槽６は、この液分離槽６の内
部を左右分割する中央位置に仕切り板６ｄを立設して第
１分離槽６ａと第２分離槽６ｂとを形成し、第１分離槽
６ａの液面部分を三分割する位置に仕切り板６ｅ，６ｆ
を垂設して第３分離槽６ｃを形成している。また、液分
離槽６を構成する第２分離槽６ｂの底部壁面と、上述の
煮沸槽５の底部壁面とに電磁弁３５，３６を介して液循
環路３７をそれぞれ接続すると共に、液循環路３７を電
磁弁３８および循環用ポンプ３９を介して煮沸槽５内に
配設した液面洗浄ノズル３４に接続している。さらに、
液分離槽６を構成する第３分離槽６ｃの側部壁面と、前
述の洗浄槽４を構成する第２洗浄槽４ｂの上部壁面と
を、一時貯溜槽４０と、電磁弁４１，４２と、返還用ポ
ンプ４３とを介して液返還路４４で接続している。

【００１６】すなわち、循環用ポンプ３９を駆動して、
煮沸槽５および液分離槽６に貯液された浸漬液Ａを液面
洗浄ノズル３４に供給し、液面洗浄ノズル３４から吐出
する浸漬液Ａで煮沸槽５に貯液された液面部分の溶剤お
よび水分を液分離槽６の第１分離槽６ａに向けて移送す
る。同時に、液分離槽６の第１分離槽６ａに溶剤および
水分等が混入した汚液を流入して、液面上に浮上する比
重の軽い洗浄液Ｂのみを第３分離槽６ｃに貯液し、液面
下に降下する比重の重い浸漬液Ａのみを第２分離槽６ｂ
に流出して分離処理すると共に、第１分離槽６ａおよび
第２分離槽６ｂの液面上に浮上する水分は槽外部に排出
する。また、第３分離槽６ｃ内に貯液された洗浄液Ｂを
一時貯溜槽４０に一旦貯溜し、返還用ポンプ４３を駆動
して、一時貯溜槽４０に貯溜された洗浄液Ｂを洗浄槽４
の第２洗浄槽４ｂに返還する。

【００１７】前述の水分離槽８には、同水分離槽８の内
部を左右分割する中央位置に仕切り板を立設して第１分
離槽８ａと第２分離槽８ｂとを形成し、一方の第１分離
槽８ａの上部壁面と液回収槽７の底部壁面とを液回収路
４５で接続し、他方の第２分離槽８ｂの底部壁面と浸漬
槽４の上部壁面とを電磁弁４６および循環用ポンプ４７
を介して液循環路４８で接続している。すなわち、液回
収槽７の底部に滴下された再生液を水分離槽８の第１分
離槽８ａに回収して、液面上に浮上した比重の軽い水分
のみを槽外部に排出し、液面下に降下する比重の重い浸
漬液Ａのみを第２分離槽８ｂに流出する。同時に、循環
用ポンプ４７を駆動して、第２分離槽８ｂに貯液された
浸漬液Ａを浸漬槽４に返還する。

【００１８】前述の液再生槽９には、図２に示すよう
に、この液再生槽９の上流側底部に流出液貯溜槽９ａを
配設し、下流側底部に未再生液貯溜槽９ｂを配設すると
共に、流出液貯溜槽９ａの下流側端部と未再生液貯溜槽
９ｂの上流側端部との間に流下板９ｃを斜設している。
また、流下板９ｃの下面側に洗浄液Ｂを蒸発気化するた
めの加熱ヒータ４９を配設し、例えば、適宜温度に加熱
されたオイルや水溶液等の加熱媒体（図示省略）を加熱
ヒータ４９に循環供給して、流下板９ｃ上に放出された
洗浄液Ｂが蒸発気化する温度に加熱ヒータ４９を加熱す
る。さらに、未再生液貯溜槽９ｂの側部に再生液貯溜槽
９ｄを配設すると共に、この再生液貯溜槽９ｄの上方蒸
気領域に洗浄液Ｂの蒸気を凝縮液化するための冷却コイ
ル５０を配設し、後述する冷凍装置６６で適宜温度に冷
却された冷媒（図示省略）を冷却コイル５０に循環供給
して、再生液貯溜槽９ｄの上方蒸気領域に放出された蒸
気が凝縮液化する温度に冷却コイル５０を保温してい
る。

【００１９】一方、上述の液再生槽９を構成する流出液
貯溜槽９ａの上部壁面と、前述の洗浄槽４を構成する第
１洗浄槽４ａの上部壁面であって、第１洗浄槽４ａに所
定量貯液された洗浄液Ｂの液面部分と水平となる高さ位
置とを液流出路５１で接続し、同液再生槽９を構成する
流出液貯溜槽９ａの上部壁面と、未再生液貯溜槽９ｂの
底部壁面とを、電磁弁５２，５３と、循環用ポンプ５４
とを介して液循環路５５で接続すると共に、同液循環路
５５の通路途中を電磁弁５６を介してバイパス路５７で
接続している。また、液再生槽９を構成する再生液貯溜
槽９ｄの下部壁面と、前述の洗浄槽４を構成する第２洗
浄槽４ｂの上部壁面とを、電磁弁５８，５９と、返還用
ポンプ６０とを介して液返還路６１で接続している。

【００２０】すなわち、前述の洗浄槽４を構成する第１
洗浄槽４ａに所定量以上の洗浄液Ｂが貯液された場合、
同第１洗浄槽４ａに接続した液流出路５１から洗浄液Ｂ
を自然流出して、液再生槽９を構成する流出液貯溜槽９
ａに貯液すると共に、同流出液貯溜槽９ａから流下板９
ｃ上に洗浄液Ｂを自然流出して、この流下板９ｃの上流
側始端部から下流側終端部に向けて流下する途中で洗浄
液Ｂを蒸発帰化させ、液再生槽９内に放出された洗浄液
Ｂの蒸気を冷却コイル５０で凝縮液化して再生液貯溜槽
９ｄの滴下回収する。この後、返還用ポンプ６０を駆動
して、再生液貯溜槽９ｄに貯液された再生洗浄液Ｂを前
述の洗浄槽４を構成する第２洗浄槽４ｂに返還する。ま
た、流下板９ｃの下流側終端部まで流下した未再生洗浄
液Ｂは未再生液貯溜槽９ｂに一時貯留され、循環用ポン
プ５４を駆動して、未再生液貯溜槽９ｂに貯液された未
再生洗浄液Ｂを流出液貯溜槽９ａに返還して再生処理す
る。

【００２１】前述の浸漬槽３と、煮沸槽５と、液分離槽
６との間には、浸漬槽３と煮沸槽５との連結部分に形成
した流出通路６２上に電磁弁６３を介設し、煮沸槽５と
液分離槽６との連結部分に形成した流出通路６４上に電
磁弁６５を介設しており、洗浄作業時および作業開始時
に各電磁弁６３，６５を開動作して、各槽３，５，６間
の流出通路６２，６４を開放した後、浸漬槽３および煮
沸槽５の液面上に貯液される所定量以上の余剰液および
水溶液等の比重の軽い液面保護液Ｃを各槽３，５，６の
順にオーバーフローする。また、作業終了時および作業
休止時に各電磁弁６３，６５を閉動作して、各槽３，
５，６間の流出通路６２，６４を閉鎖した後、浸漬槽３
および煮沸槽５の液面上に水溶液等の比重の軽い液面保
護液Ｃを貯液して外気との接触を遮断する。

【００２２】前述の冷却ジャケット１０，１１および冷
却コイル１２，５０は冷凍装置６６の蒸発器（エバポレ
ータ）により構成され、この冷凍装置６６は、圧縮機６
７の吸引側にアキュムレータ６８を介して冷却ジャケッ
ト１０，１１および冷却コイル１２，５０を並列接続
し、圧縮機６７の吐出側に凝縮器６９と、受液器７０
と、電磁弁７１と、膨脹弁７２（キャピラリーチュー
ブ）とを介して冷却ジャケット１０，１１および冷却コ
イル１２，５０を並列接続すると共に、膨脹弁７２と冷
却コイル１２，５０との間に電磁弁７３，７４を介設し
ている。すなわち、圧縮機６７を駆動して、圧縮され高
圧となった冷媒を凝縮器６９に送り、ここで液化して受
液器７０に至った後に、この高圧冷媒液は電磁弁７１を
介して膨脹弁７２に導びかれ、この膨脹弁７２で絞り膨
脹されて低圧となった冷媒は冷却ジャケット１０，１１
および冷却コイル１２，５０に供給され、周囲より熱を
奪って蒸発気化し、アキュムレータ６８を介して再び圧
縮機６７に吸引される。

【００２３】図示実施例は上記の如く構成するものにし
て、以下、浸漬式洗浄装置によるワークＤの洗浄方法を
説明する。まず、図１に示すように、洗浄室２内の煮沸
槽５に配設した加熱ヒータ３３を加熱して、煮沸槽５内
に貯液された浸漬液Ａを蒸発気化させ、浸漬槽３および
煮沸槽５の上方蒸気領域に蒸発気化した浸漬液Ａの蒸気
を放出する。この後、洗浄室２のワーク出入口２ａを開
放し、浸漬槽３内に貯液された浸漬液ＡにワークＤを浸
漬する。ワーク入液位置において、ワークＤ全体が浸漬
液Ａに浸漬される所定深さまで垂直降下した後、洗浄室
２のワーク出入口２ａを閉鎖する。

【００２４】次に、ワークＤ全体を浸漬槽３内の浸漬液
Ａに浸漬した状態のままワーク洗浄位置まで水平移動し
て、同位置上方に配設した洗浄槽４の第１洗浄槽４ａお
よび第２洗浄槽４ｂと対応する停止位置でワークＤを垂
直上昇させ、同各洗浄槽４ａ，４ｂに貯液された洗浄液
ＢにワークＤ全体を下方から順次浸漬して、同ワークＤ
の外面に付着した研磨粉、フラックス、油分等の異物を
洗浄除去する。或いは、各洗浄槽４ａ，４ｂに配設した
超音波振動子２４，２４を振動して、同ワークＤの外面
に付着した研磨粉、フラックス、油分等の異物を洗浄除
去するもよい。この時、各洗浄槽４ａ，４ｂと対応する
停止位置でワークＤを垂直降下して、ワークＤ全体を浸
漬槽３内に貯液された浸漬液Ａに浸漬すると、同ワーク
Ｄの外面に付着した比重の軽い洗浄液Ｂが自然に浮き上
がり、同位置上方に配設した各処理槽４ａ，４ｂに回収
される。

【００２５】洗浄処理後において、ワークＤ全体を浸漬
槽３内の浸漬液Ａに浸漬した状態のままワーク出液位置
まで水平移動させ、循環用ポンプ２１を駆動して、残液
洗浄ノズル１４から吐出される浸漬液ＡでワークＤの外
面に残着した洗浄液Ｂを洗浄除去すると共に、循環用ポ
ンプ２１を駆動して、液面洗浄ノズル１３から吐出する
浸漬液Ａで浸漬槽３の液面上に浮遊する洗浄液Ｂを煮沸
槽５に向けて移送する。同時に、循環用ポンプ３９を駆
動して、液面洗浄ノズル３４から吐出する浸漬液Ａで煮
沸槽５の液面上に浮遊する洗浄液Ｂを液分離槽６に向け
て移送し、同液分離槽６において浸漬液Ａと洗浄液Ｂと
を分離処理した後、返還用ポンプ４３を駆動して、一時
貯溜槽４０に貯液された洗浄液Ｂを洗浄槽４に返還供給
する。

【００２６】次に、ワーク出液位置において、ワーク全
体Ｄを浸漬槽３内に貯液された浸漬液Ａから取り出され
る所定高さまで垂直上昇して、煮沸槽５の上方蒸気領域
に放出された蒸気中にワークＤを移動すると共に、洗浄
処理されたワークＤの外面全体に高温の蒸気を接触させ
て室外温度に加熱する。この後、洗浄室２のワーク出入
口２ａを開放し、洗浄室２内に配設した冷却ジャケット
１０，１１の冷却領域を通過する時にワークＤを乾燥処
理して、洗浄処理済みのワークＤを室外温度に加熱した
状態のまま取り出すので、ワークＤと室外との温度差が
小さくなり、洗浄処理されたワークＤの外面に水滴や霜
等が付着するのを防止できる。

【００２７】以上のように、浸漬槽３に貯液された浸漬
液Ａ中にワークＤ全体を浸漬した状態のまま洗浄槽４の
下部位置まで移動させ、洗浄槽４の第１洗浄槽４ａおよ
び第２洗浄槽４ｂに貯液された洗浄液Ｂ中にワークＤ全
体を下方から浸漬して洗浄処理するので、洗浄槽４の各
洗浄槽４ａ，４ｂに貯液されたアルコール系溶剤等の洗
浄液Ｂが大気中に漏洩するのを確実に防止できる。ま
た、浸漬槽３に貯液された浸漬液Ａ中に洗浄槽４の下面
側開口部４ｄを浸漬した状態で洗浄処理するため、同洗
浄槽４の各洗浄槽４ａ，４ｂに貯液されたアルコール系
溶剤等の洗浄液Ｂと外気との接触を完全に遮断すること
ができ、洗浄作業時または作業開始時において静電気や
火花等が発生しても発火することがなく、ワークＤの洗
浄処理が安定して行えると共に、従来例のフロン液と同
等の洗浄効果が得られる。

【００２８】特に、比重差に特に、比重差により洗浄液
を浸漬液上部に位置させて、ワーク全体を浸漬液中から
洗浄液に対して出し入れすると共に、浸漬液により洗浄
液の外気との接触を遮断すべく構成したので、洗浄液が
外気と接触するのを完全に遮断することができると共
に、洗浄液が大気中に漏洩するのを阻止することができ
る。

【００２９】この発明は、上述の実施例の構成のみに限
定されるものではない。

【００３０】上述の実施例では洗浄槽４の内部を第１洗
浄槽４ａおよび第２洗浄槽４ｂとに分割形成している
が、例えば、洗浄槽４の内部を３槽、４槽、５槽等の複
数槽に分割形成してワークＤの洗浄回数を多くしてもよ
い。

【図面の簡単な説明】

【図１】 浸漬式洗浄装置を構成する各槽の配管系統
図。

【図２】 浸漬式洗浄装置を構成する液再生槽の配管系
統図。

【符号の説明】

Ａ…浸漬液 Ｂ…洗浄液 Ｄ …ワーク ２ …洗浄室 ３…浸漬槽 ４…洗浄槽 ４ ｄ…開口部

Claims (1)

(57)【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】洗浄室内の洗浄槽に貯液された洗浄液中に
   ワーク全体を浸漬して洗浄処理する浸漬式洗浄装置であ
   って、 上記洗浄室内に洗浄槽を浸漬する浸漬槽を配設し、該浸
   漬槽内に比重の重い浸漬液を貯液すると共に、 前記洗浄槽の下面側開口部を上記浸漬槽に貯液された浸
   漬液中に浸漬して、該洗浄槽内に浸漬液よりも比重の軽
   い洗浄液を貯液し、 比重差により洗浄液を浸漬液上部に位置させて、ワーク
   全体を浸漬液中から洗浄液に対して出し入れすると共
   に、浸漬液により洗浄液の外気との接触を遮断すべく構
   成した 浸漬式洗浄装置。