JPH05267266A - 浸漬式洗浄装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【目的】洗浄槽内に貯液された洗浄液の漏洩を防止し、
損失量を大幅に低減することのできる浸漬式洗浄装置を
提供する。 【構成】洗浄室内の浸漬槽に貯液された比重の重い浸漬
液中にワーク全体を浸漬し、同浸漬槽内の浸漬液にワー
ク全体を浸漬した状態のまま洗浄槽の下部位置まで移動
すると共に、同浸漬槽内の浸漬液に浸漬された洗浄槽の
内部にワークを移動し、同洗浄槽に貯液された比重の軽
い洗浄液中にワーク全体を浸漬して、ワークの外面に付
着した研磨粉、フラックス、油分等の異物を洗浄除去す
る。或いは、同洗浄槽に設けた超音波振動子を振動し
て、ワークの外面に付着した異物を洗浄除去するので、
洗浄槽内に貯液されたアルコール溶剤等の洗浄液が大気
中に放出されるのを確実に防止できる。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】この発明は、例えば、半導体やプ
リント基板、電子機器等のワークに付着した研磨粉、フ
ラックス、油分等の異物を洗浄除去するために用いられ
る浸漬式洗浄装置に関する。

【０００２】

【従来の技術】従来、上述例のようなワークを洗浄する
洗浄装置としては、例えば、洗浄室内の洗浄槽に貯液さ
れたフロン液中にワーク全体を上方から浸漬し、同洗浄
槽に取付けた超音波振動子を振動してフロン液にキャビ
テーション作用を誘起させ、ワークに付着した研磨粉や
油分等の異物を洗浄除去する。この後、洗浄室内に放出
されたフロン液の蒸気中にワークを移動して、洗浄処理
されたワークを室外温度に加熱してから洗浄室外に搬出
する装置がある。

【０００３】

【発明が解決しようとする課題】しかし、上述のように
洗浄槽内のフロン液中にワーク全体を上方から浸漬して
洗浄処理する場合、洗浄処理済みのワークを洗浄室外に
取り出すとき、ワークと一緒に気化したフロンガスが大
気中に漏洩するので、フロンガスの漏洩を防止又は低減
するための各種手段が講じられているが、漏洩を完全に
阻止することは技術的に困難である。そこで、フロン液
に代わる洗浄液として、例えば、アルコール系溶剤等の
洗浄液でワークを洗浄処理する方法が考えられるが、フ
ロン液に比べてアルコール系溶剤は化学的に不安定であ
り、発火温度が低いため、洗浄作業時又は作業開始時に
静電気や火花が発生すると気化したアルコール系溶剤が
発火することがあり、溶剤の取扱いに注意しなければな
らないという問題点を有している。

【０００４】この発明は上記問題に鑑み、浸漬槽内に貯
液された浸漬液中に洗浄槽を浸漬した状態で、同洗浄槽
内に貯液された洗浄液中にワーク全体を下方から浸漬し
て洗浄処理することにより、洗浄槽内に貯液されたアル
コール系溶剤等の洗浄液が大気中に漏洩するのを防止
し、損失量を大幅に低減することができる浸漬式洗浄装
置の提供を目的とする。

【０００５】

【課題を解決するための手段】この発明は、上記洗浄室
内に洗浄槽を浸漬する大きさに形成した浸漬槽を配設
し、該浸漬槽内に比重の重い浸漬液を所定量貯液すると
共に、前記洗浄槽の下面側開口部を上記浸漬槽に貯液さ
れた浸漬液中に浸漬して、該洗浄槽内に浸漬液よりも比
重の軽い洗浄液を所定量貯液した浸漬式洗浄装置である
ことを特徴とする。

【０００６】

【作用】この発明は、洗浄室内の浸漬槽に貯液された比
重の重い浸漬液中にワーク全体を浸漬し、同浸漬槽内の
浸漬液中にワーク全体を浸漬した状態のまま洗浄槽の下
部位置まで移動する。この後、同浸漬槽内の浸漬液中に
浸漬された洗浄槽の内部にワークを移動し、同洗浄槽に
貯液された比重の軽い洗浄液中にワーク全体を下方から
浸漬して、ワークの外面に付着した研磨粉、フラック
ス、油分等の異物を洗浄除去する。

【０００７】

【発明の効果】この発明によれば、浸漬槽内の浸漬液中
にワーク全体を浸漬した状態のまま移動させ、洗浄槽内
の洗浄液中にワーク全体を下方から浸漬して洗浄処理す
るので、同洗浄槽内に貯液されたアルコール系溶剤等の
洗浄液が大気中に漏洩するのを確実に防止できる。且
つ、浸漬槽内の浸漬液中に洗浄槽の下面側開口部を浸漬
した状態で洗浄処理するため、同洗浄槽内に貯液された
アルコール系溶剤等の洗浄液と外気との接触を完全に遮
断することができ、洗浄作業時又は作業開始時に於いて
静電気や火花等が発生しても発火することが無く、ワー
クの洗浄処理が安定して行えると共に、従来例に示すフ
ロン液と同等の洗浄効果が得られる。

【０００８】

【実施例】この発明の一実施例を以下図面に基づいて詳
述する。図面は洗浄室内の浸漬槽に貯液された比重の重
い浸漬液中にワークを浸漬した状態のまま移動し、同洗
浄室内の洗浄槽に貯液された比重の軽い洗浄液中にワー
クを浸漬して洗浄処理する浸漬式洗浄装置を示し、図１
及び図２に於いて、この浸漬式洗浄装置１は、気密状態
に密閉される洗浄室２底部にフッ素系溶剤（ＦＣ）等の
浸漬液Ａを所定量貯液する浸漬槽３と、アルコール系溶
剤（ＩＰＡ）等の洗浄液Ｂを所定量貯液する洗浄槽４
と、浸漬液Ａを蒸発気化するための煮沸槽５と、溶剤及
び水分を分離するための液分離槽６とを配設し、浸漬槽
３に貯液された浸漬液Ａの液面部分に所定深さ浸漬して
洗浄槽４を配設し、煮沸槽５の上方蒸気領域と対応する
洗浄室２の側部壁面に液回収槽７を連設すると共に、同
洗浄室２の側部位置に水分離槽８と、液再生槽９とを配
設している。

【０００９】上述の洗浄室２には、同洗浄室２の上面側
にワークＤを出入れするためのワーク出入口２ａを開口
し、同ワーク出入口２ａの開口側周縁部に密閉板２ｂを
開閉自在に嵌合又は連結している。且つ、洗浄室２内の
上方蒸気領域と対応する側部内壁面に蒸気を冷却凝縮す
るための冷却ジャケット１０，１１を上下位置に配設
し、同室側部に連設した液回収槽７内の上方蒸気領域と
対応する側部内壁面に蒸気を凝縮液化するための冷却コ
イル１２を配設すると共に、後述する冷凍装置６６で適
宜温度に冷却された冷媒（図示省略）を冷却ジャケット
１０，１１と冷却コイル１２とに循環供給して、洗浄室
２内の上方蒸気領域に放出された蒸気及び室内に侵入す
る大気中の水分が冷却凝縮する温度に冷却ジャケット１
０，１１を保温し、且つ、液回収槽７内の上方蒸気領域
に放出された蒸気が凝縮液化する温度に冷却コイル１２
を保温している。

【００１０】前述の浸漬槽３には、同浸漬槽３の内部に
ワーク入液位置と、ワーク洗浄位置と、ワーク出液位置
とを設定し、ワーク洗浄位置と対応する浸漬槽３の液面
中央部に２槽式の洗浄槽４を配設すると共に、同浸漬槽
３に貯液された浸漬液Ａの液面部分に対して洗浄槽４の
下面側開口部４ｄを所定深さ浸漬している。且つ、ワー
ク出液位置と対応する洗浄槽４の右側部外壁面であっ
て、浸漬槽３に貯液された浸漬液Ａの液面部分に対して
水平となる高さ位置に液面洗浄ノズル１３を配設すると
共に、同液面洗浄ノズル１３の吐出方向を下流側に配設
した煮沸槽５に向けて設定している。且つ、ワーク出液
位置と対応する浸漬槽３の底部内壁面であって、同位置
に移動停止されたワークＤの下面側と対向する位置に残
液洗浄ノズル１４を配設すると共に、同残液洗浄ノズル
１４の吐出方向をワークＤの下面側に向けて設定してい
る。

【００１１】一方、ワーク入液位置と対応する浸漬槽３
の底部壁面に電磁弁１５，１６，１７，１８，１９と、
熱交換器２０と、循環用ポンプ２１と、フィルター２２
とを介して液循環路２３を接続すると共に、同液循環路
２３をワーク出液位置に配設した液面洗浄ノズル１３と
残液洗浄ノズル１４とに接続している。すなわち、循環
用ポンプ２１を駆動して、浸漬槽３に貯液された浸漬液
Ａを液面洗浄ノズル１３と残液洗浄ノズル１４とに夫々
供給し、液面洗浄ノズル１３から吐出する浸漬液Ａで浸
漬槽３に貯液された液面部分の溶剤及び水分を煮沸槽５
に向けて移送する。且つ、残液洗浄ノズル１４から吐出
する浸漬液ＡでワークＤに付着した溶剤を洗浄除去す
る。

【００１２】前述の洗浄槽４には、同洗浄槽４の内部を
左右分割する中央位置に仕切り板４ｃを垂設して第１洗
浄槽４ａと第２洗浄槽４ｂとを形成し、一方の第１洗浄
槽４ａには第２洗浄槽４ｂからの流出を許容する貯液レ
ベルにアルコール系の洗浄液Ｂを貯液し、他方の第２洗
浄槽４ｂには第１洗浄槽４ａに向けて流出する貯液レベ
ルに洗浄液Ｂを貯液すると共に、同各洗浄槽４ａ，４ｂ
の貯液領域に浸漬液Ａを超音波振動させるための超音波
振動子２４を夫々配設している。例えば、各洗浄槽４
ａ，４ｂ内に貯液された洗浄液Ｂ中にワークＤを順次浸
漬して洗浄処理する。或いは、２７KHz 〜２００KHz の
振動周波数で超音波振動子２４を超音波振動して、各洗
浄槽４ａ，４ｂ内の洗浄液Ｂ中に浸漬されたワークＤを
洗浄処理する。且つ、第１洗浄槽４ａの上方貯液領域と
対応する側部壁面と、同槽の下方貯液領域と対応する側
部壁面とを、電磁弁２５，２６，２７，２８と、熱交換
器２９と、循環用ポンプ３０と、フィルター３１とを介
して液循環路３２で接続している。すなわち、循環用ポ
ンプ３０を駆動して、第１洗浄槽４ａに貯液された洗浄
液Ｂを清浄濾過しながら循環供給する。

【００１３】前述の煮沸槽５には、同煮沸槽５の底部内
壁面に浸漬液Ａを蒸発気化するための加熱ヒータ３３を
配設し、例えば、適宜温度に加熱されたオイルや水溶液
等の加熱媒体（図示省略）を加熱ヒータ３３に循環供給
して、フッ素系溶剤の浸漬液Ａが蒸発気化する温度に加
熱ヒータ３３を加熱する。且つ、浸漬槽３側を上流とす
る煮沸槽５の上流側内壁面であって、同煮沸槽５に貯液
された浸漬液Ａの液面部分に対して水平となる高さ位置
に液面洗浄ノズル３４を配設すると共に、同液面洗浄ノ
ズル３４の吐出方向を下流側に配設した液分離槽６に向
けて設定している。

【００１４】前述の液分離槽６は、同液分離槽６の内部
を左右分割する中央位置に仕切り板６ｄを立設して第１
分離槽６ａと第２分離槽６ｂとを形成し、同第１分離槽
６ａの液面部分を三分割する位置に仕切り板６ｅ，６ｆ
を垂設して第３分離槽６ｃを形成している。且つ、液分
離槽６を構成する第２分離槽６ｂの底部壁面と、上述の
煮沸槽５の底部壁面とに電磁弁３５，３６を介して液循
環路３７を夫々接続すると共に、同液循環路３７を電磁
弁３８及び循環用ポンプ３９を介して煮沸槽５内に配設
した液面洗浄ノズル３４に接続している。且つ、液分離
槽６を構成する第３分離槽６ｃの側部壁面と、前述の洗
浄槽４を構成する第２洗浄槽４ｂの上部壁面とを、一時
貯溜槽４０と、電磁弁４１，４２と、返還用ポンプ４３
とを介して液返還路４４で接続している。

【００１５】すなわち、循環用ポンプ３９を駆動して、
煮沸槽５及び液分離槽６に貯液された浸漬液Ａを液面洗
浄ノズル３４に供給し、液面洗浄ノズル３４から吐出す
る浸漬液Ａで煮沸槽５に貯液された液面部分の溶剤及び
水分を液分離槽６の第１分離槽６ａに向けて移送する。
同時に、液分離槽６の第１分離槽６ａに溶剤及び水分等
が混入した汚液を流入して、液面上に浮上する比重の軽
い洗浄液Ｂのみを第３分離槽６ｃに貯液し、液面下に降
下する比重の重い浸漬液Ａのみを第２分離槽６ｂに流出
して分離処理すると共に、第１分離槽６ａ及び第２分離
槽６ｂの液面上に浮上する水分は槽外部に排出する。且
つ、第３分離槽６ｃ内に貯液された洗浄液Ｂを一時貯溜
槽４０に一旦貯溜し、返還用ポンプ４３を駆動して、一
時貯溜槽４０に貯溜された洗浄液Ｂを洗浄槽４の第２洗
浄槽４ｂに返還する。

【００１６】前述の水分離槽８には、同水分離槽８の内
部を左右分割する中央位置に仕切り板を立設して第１分
離槽８ａと第２分離槽８ｂとを形成し、一方の第１分離
槽８ａの上部壁面と液回収槽７の底部壁面とを液回収路
４５で接続し、他方の第２分離槽８ｂの底部壁面と浸漬
槽４の上部壁面とを電磁弁４６及び循環用ポンプ４７を
介して液循環路４８で接続している。すなわち、液回収
槽７の底部に滴下された再生液を水分離槽８の第１分離
槽８ａに回収して、液面上に浮上した比重の軽い水分の
みを槽外部に排出し、液面下に降下する比重の重い浸漬
液Ａのみを第２分離槽８ｂに流出する。同時に、循環用
ポンプ４７を駆動して、第２分離槽８ｂに貯液された浸
漬液Ａを浸漬槽４に返還する。

【００１７】前述の液再生槽９には、図２に示すよう
に、同液再生槽９の上流側底部に流出液貯溜槽９ａを配
設し、下流側底部に未再生液貯溜槽９ｂを配設すると共
に、流出液貯溜槽９ａの下流側端部と未再生液貯溜槽９
ｂの上流側端部との間に流下板９ｃを斜設している。且
つ、流下板９ｃの下面側に洗浄液Ｂを蒸発気化するため
の加熱ヒータ４９を配設し、例えば、適宜温度に加熱さ
れたオイルや水溶液等の加熱媒体（図示省略）を加熱ヒ
ータ４９に循環供給して、流下板９ｃ上に放出された洗
浄液Ｂが蒸発気化する温度に加熱ヒータ４９を加熱す
る。且つ、未再生液貯溜槽９ｂの側部に再生液貯溜槽９
ｄを配設すると共に、同再生液貯溜槽９ｄの上方蒸気領
域に洗浄液Ｂの蒸気を凝縮液化するための冷却コイル５
０を配設し、後述する冷凍装置６６で適宜温度に冷却さ
れた冷媒（図示省略）を冷却コイル５０に循環供給し
て、再生液貯溜槽９ｄの上方蒸気領域に放出された蒸気
が凝縮液化する温度に冷却コイル５０を保温している。

【００１８】一方、上述の液再生槽９を構成する流出液
貯溜槽９ａの上部壁面と、前述の洗浄槽４を構成する第
１洗浄槽４ａの上部壁面であって、同第１洗浄槽４ａに
所定量貯液された洗浄液Ｂの液面部分と水平となる高さ
位置とを液流出路５１で接続し、同液再生槽９を構成す
る流出液貯溜槽９ａの上部壁面と、未再生液貯溜槽９ｂ
の底部壁面とを、電磁弁５２，５３と、循環用ポンプ５
４とを介して液循環路５５で接続すると共に、同液循環
路５５の通路途中を電磁弁５６を介してバイパス路５７
で接続している。且つ、同液再生槽９を構成する再生液
貯溜槽９ｄの下部壁面と、前述の洗浄槽４を構成する第
２洗浄槽４ｂの上部壁面とを、電磁弁５８，５９と、返
還用ポンプ６０とを介して液返還路６１で接続してい
る。

【００１９】すなわち、前述の洗浄槽４を構成する第１
洗浄槽４ａに所定量以上の洗浄液Ｂが貯液された場合、
同第１洗浄槽４ａに接続した液流出路５１から洗浄液Ｂ
を自然流出して、液再生槽９を構成する流出液貯溜槽９
ａに貯液すると共に、同流出液貯溜槽９ａから流下板９
ｃ上に洗浄液Ｂを自然流出して、同流下板９ｃの上流側
始端部から下流側終端部に向けて流下する途中で洗浄液
Ｂを蒸発帰化させ、液再生槽９内に放出された洗浄液Ｂ
の蒸気を冷却コイル５０で凝縮液化して再生液貯溜槽９
ｄの滴下回収する。この後、返還用ポンプ６０を駆動し
て、再生液貯溜槽９ｄに貯液された再生洗浄液Ｂを前述
の洗浄槽４を構成する第２洗浄槽４ｂに返還する。且
つ、流下板９ｃの下流側終端部まで流下した未再生洗浄
液Ｂは未再生液貯溜槽９ｂに一時貯留され、循環用ポン
プ５４を駆動して、未再生液貯溜槽９ｂに貯液された未
再生洗浄液Ｂを流出液貯溜槽９ａに返還して再生処理す
る。

【００２０】前述の浸漬槽３と、煮沸槽５と、液分離槽
６との間には、同浸漬槽３と煮沸槽５との連結部分に形
成した流出通路６２上に電磁弁６３を介設し、煮沸槽５
と液分離槽６との連結部分に形成した流出通路６４上に
電磁弁６５を介設しており、洗浄作業時及び作業開始時
に各電磁弁６３，６５を開動作して、各槽３，５，６間
の流出通路６２，６４を開放した後、浸漬槽３及び煮沸
槽５の液面上に貯液される所定量以上の余剰液及び水溶
液等の比重の軽い液面保護液Ｃを各槽３，５，６の順に
オーバーフローする。且つ、作業終了時及び作業休止時
に各電磁弁６３，６５を閉動作して、各槽３，５，６間
の流出通路６２，６４を閉鎖した後、浸漬槽３及び煮沸
槽５の液面上に水溶液等の比重の軽い液面保護液Ｃを貯
液して外気との接触を遮断する。

【００２１】前述の冷却ジャケット１０，１１及び冷却
コイル１２，５０は冷凍装置６６の蒸発器（エバポレー
タ）により構成され、この冷凍装置６６は、圧縮機６７
の吸引側にアキュムレータ６８を介して冷却ジャケット
１０，１１及び冷却コイル１２，５０を並列接続し、圧
縮機６７の吐出側に凝縮器６９と、受液器７０と、電磁
弁７１と、膨脹弁７２（キャピラリーチューブ）とを介
して冷却ジャケット１０，１１及び冷却コイル１２，５
０を並列接続すると共に、膨脹弁７２と冷却コイル１
２，５０との間に電磁弁７３，７４を介設している。す
なわち、圧縮機６７を駆動して、圧縮され高圧となった
冷媒を凝縮器６９に送り、ここで液化して受液器７０に
至った後に、この高圧冷媒液は電磁弁７１を介して膨脹
弁７２に導びかれ、同膨脹弁７２で絞り膨脹されて低圧
となった冷媒は冷却ジャケット１０，１１及び冷却コイ
ル１２，５０に供給され、周囲より熱を奪って蒸発気化
し、アキュムレータ６８を介して再び圧縮機６７に吸引
される。

【００２２】図示実施例は上記の如く構成するものとし
て、以下、浸漬式洗浄装置によるワークＤの洗浄方法を
説明する。先ず、図１に示すように、洗浄室２内の煮沸
槽５に配設した加熱ヒータ３３を加熱して、同煮沸槽５
内に貯液された浸漬液Ａを蒸発気化させ、浸漬槽３及び
煮沸槽５の上方蒸気領域に蒸発気化した浸漬液Ａの蒸気
を放出する。この後、洗浄室２のワーク出入口２ａを開
放し、浸漬槽３内に貯液された浸漬液ＡにワークＤを浸
漬する。ワーク入液位置に於いて、ワークＤ全体が浸漬
液Ａに浸漬される所定深さまで垂直降下した後、洗浄室
２のワーク出入口２ａを閉鎖する。

【００２３】次に、ワークＤ全体を浸漬槽３内の浸漬液
Ａに浸漬した状態のままワーク洗浄位置まで水平移動し
て、同位置上方に配設した洗浄槽４の第１洗浄槽４ａ及
び第２洗浄槽４ｂと対応する停止位置でワークＤを垂直
上昇させ、同各洗浄槽４ａ，４ｂに貯液された洗浄液Ｂ
にワークＤ全体を下方から順次浸漬して、同ワークＤの
外面に付着した研磨粉、フラックス、油分等の異物を洗
浄除去する。或いは、各洗浄槽４ａ，４ｂに配設した超
音波振動子２４，２４を振動して、同ワークＤの外面に
付着した研磨粉、フラックス、油分等の異物を洗浄除去
するもよい。この時、各洗浄槽４ａ，４ｂと対応する停
止位置でワークＤを垂直降下して、ワークＤ全体を浸漬
槽３内に貯液された浸漬液Ａに浸漬すると、同ワークＤ
の外面に付着した比重の軽い洗浄液Ｂが自然に浮き上が
り、同位置上方に配設した各処理槽４ａ，４ｂに回収さ
れる。

【００２４】洗浄処理後に於いて、ワークＤ全体を浸漬
槽３内の浸漬液Ａに浸漬した状態のままワーク出液位置
まで水平移動させ、循環用ポンプ２１を駆動して、残液
洗浄ノズル１４から吐出される浸漬液ＡでワークＤの外
面に残着した洗浄液Ｂを洗浄除去すると共に、循環用ポ
ンプ２１を駆動して、液面洗浄ノズル１３から吐出する
浸漬液Ａで浸漬槽３の液面上に浮遊する洗浄液Ｂを煮沸
槽５に向けて移送する。同時に、循環用ポンプ３９を駆
動して、液面洗浄ノズル３４から吐出する浸漬液Ａで煮
沸槽５の液面上に浮遊する洗浄液Ｂを液分離槽６に向け
て移送し、同液分離槽６に於いて浸漬液Ａと洗浄液Ｂと
を分離処理した後、返還用ポンプ４３を駆動して、一時
貯溜槽４０に貯液された洗浄液Ｂを洗浄槽４に返還供給
する。

【００２５】次に、ワーク出液位置に於いて、ワーク全
体Ｄを浸漬槽３内に貯液された浸漬液Ａから取り出され
る所定高さまで垂直上昇して、煮沸槽５の上方蒸気領域
に放出された蒸気中にワークＤを移動すると共に、洗浄
処理されたワークＤの外面全体に高温の蒸気を接触させ
て室外温度に加熱する。この後、洗浄室２のワーク出入
口２ａを開放し、洗浄室２内に配設した冷却ジャケット
１０，１１の冷却領域を通過するときにワークＤを乾燥
処理して、洗浄処理済みのワークＤを室外温度に加熱し
た状態のまま取り出すので、ワークＤと室外との温度差
が小さくなり、洗浄処理されたワークＤの外面に水滴や
霜等が付着するのを防止できる。

【００２６】以上のように、浸漬槽３に貯液された浸漬
液Ａ中にワークＤ全体を浸漬した状態のまま洗浄槽４の
下部位置まで移動させ、同洗浄槽４の第１洗浄槽４ａ及
び第２洗浄槽４ｂに貯液された洗浄液Ｂ中にワークＤ全
体を下方から浸漬して洗浄処理するので、同洗浄槽４の
各洗浄槽４ａ，４ｂに貯液されたアルコール系溶剤等の
洗浄液Ｂが大気中に漏洩するのを確実に防止できる。且
つ、浸漬槽３に貯液された浸漬液Ａ中に洗浄槽４の下面
側開口部４ｄを浸漬した状態で洗浄処理するため、同洗
浄槽４の各洗浄槽４ａ，４ｂに貯液されたアルコール系
溶剤等の洗浄液Ｂと外気との接触を完全に遮断すること
ができ、洗浄作業時又は作業開始時に於いて静電気や火
花等が発生しても発火することが無く、ワークＤの洗浄
処理が安定して行えると共に、従来例に示すフロン液と
同等の洗浄効果が得られる。

【００２７】この発明は、上述の実施例の構成のみに限
定されるものではない。

【００２８】上述の実施例では洗浄槽４の内部を第１洗
浄槽４ａ及び第２洗浄槽４ｂとに分割形成しているが、
例えば、洗浄槽４の内部を３槽、４槽、５槽等の複数槽
に分割形成してワークＤの洗浄回数を多くしてもよい。

【図面の簡単な説明】

【図１】浸漬式洗浄装置を構成する各槽の配管系統図。

【図２】浸漬式洗浄装置を構成する液再生槽の配管系統
図。

【符号の説明】

Ａ…浸漬液 Ｂ…洗浄液 Ｃ…液面保護液 Ｄ…ワーク １…浸漬式洗浄装置 ２…洗浄室 ３…浸漬槽 ４…洗浄槽 ４ａ…第１洗浄槽 ４ｂ…第２洗浄槽 ４ｄ…開口部

Claims (1)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】洗浄室内の洗浄槽に貯液された洗浄液中に
   ワーク全体を浸漬して洗浄処理する浸漬式洗浄装置であ
   って、上記洗浄室内に洗浄槽を浸漬する大きさに形成し
   た浸漬槽を配設し、該浸漬槽内に比重の重い浸漬液を所
   定量貯液すると共に、前記洗浄槽の下面側開口部を上記
   浸漬槽に貯液された浸漬液中に浸漬して、該洗浄槽内に
   浸漬液よりも比重の軽い洗浄液を所定量貯液した浸漬式
   洗浄装置。