JP3331533B2 - フリップチップ・ボンデイング装置の制御方法 - Google Patents

フリップチップ・ボンデイング装置の制御方法

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JP3331533B2 JP30007094A JP30007094A JP3331533B2 JP 3331533 B2 JP3331533 B2 JP 3331533B2 JP 30007094 A JP30007094 A JP 30007094A JP 30007094 A JP30007094 A JP 30007094A JP 3331533 B2 JP3331533 B2 JP 3331533B2
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正風 細矢
秀起 恒次
公介 三木
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Nippon Telegraph and Telephone Corp
Tritek Co Ltd
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Nippon Telegraph and Telephone Corp
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    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2224/00Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
    • H01L2224/01Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/10Bump connectors; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/15Structure, shape, material or disposition of the bump connectors after the connecting process
    • H01L2224/16Structure, shape, material or disposition of the bump connectors after the connecting process of an individual bump connector

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  • Wire Bonding (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、適正なボンデイングを
行なわせることができるフリップチップ・ボンデイング
装置の制御方法に関するものである。
【0002】
【従来の技術】従来のフリップチップ・ボンデイング装
置では、図1に示すように、下部のヒートツール1に基
盤2を、また上部のヒートツール3にフリップチップ4
(半導体デバイス)をそれぞれ吸着させて、上部のヒー
トツール3を所定の速度で降下加圧して、基盤2又はフ
リップチップ4に付着させた半田、金、金錫合金等から
成るバンプ5により加熱接着していた。
【0003】しかしながら、バンプは50μ程度の微粒
子であるため、上部のヒートツール3の制御が難しく、
バンプ5全体が接着温度にならないうちに、接着完了さ
せてしまう場合があり、その場合は、加熱接着後バンプ
5に残留応力が生じ、基盤2又はフリップチップ4にク
ラックが発生したり剥離して、接着後の半導体デバイス
の電気的特性に支障を来たす。また、溶融し過ぎた場合
には、不必要な部分にバンプが流れて基盤の回路をショ
ートさせたりすることがあった。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】そこで本発明は、この
ような問題を生じないように調整を的確に行うことがで
き、従って適正なボンデイングを可能とするフリップチ
ップ・ボンデイング装置の制御方法を提案しようとする
ものである。
【0005】
【課題を解決するための手段】即ち、本発明は上記の課
題を解決するためになされたもので、フリップチップを
吸着した上部のヒートツールを降下させ、フリップチッ
プ又は基盤がバンプと接触したことを検出する接触検出
手段と、上部又は下部のヒートツールの温度検出手段を
設け、前記接触検出手段から検出信号が送出された時の
上部ヒートツールの位置を絶対値高さの基準位置(0基
準点)とし、その基準位置から各ヒートツールに通電し
て加熱し、設定温度になったことを前記温度検出手段を
介して検出した時、上部ヒートツールを所定量降下さ
せ、次いでフリップチップの吸着を停止して釈放すると
同時に通電を停止した後上昇させるようにしたものであ
る。
【0006】
【作用】フリップチップ又は基盤がバンプと接触した時
のヒートツールの位置を絶対値高さの基準位置(0基準
点)とし、その基準位置から加熱を開始し、設定温度に
達した時、その基準位置から設定量上部ヒートツールを
降下させるという制御であるため、バンプの大きさや材
質に応じた設定を的確に行うことができ、フリップチッ
プの最適のボンデイングを行うことができる。
【0007】
【実施例】図2は本発明を適用したフリップチップ・ボ
ンデイング装置のブロック図で、1は下部ヒートツー
ル、2は基盤、3は上部ヒートツール、4はフリップチ
ップ(半導体デバイス)、5はバンプである。
【0008】下部及び上部のヒートツール1,3にはそ
れぞれ吸着装置が装備されていて、第1のCPU6によ
って制御される弁V,Vの開閉によって基盤2及び
フリップチップ4の着脱を行う。7は真空ポンプ4であ
る。
【0009】上部ヒートツール3は第1のCPU6及び
ACサーボモータドライバ8によって制御されるACサ
ーボモータMによって昇降し、内装されたロードセル9
を介してフリップチップ4がバンプ5と接触したことを
検知され、その検知信号はA/D変換器10及びマルチ
プレクサ11を介して第1のCPU6に伝達される。
【0010】上部ヒートツール3の位置は、本体12に
設けたリニアスケール13を位置センサ14が検知し、
そのデータは、カウンターインターフェース15及びマ
ルチプレクサ11を介して第1のCPU6に送られ、デ
イスプレイ16に表示される。
【0011】下部及び上部ヒートツール1,3のヒート
制御は、前記第1のCPU6と同期して運転される第2
のCPU17によって制御される高周波パルスインバー
タ18、19により、直流電源20がパルストランス2
1,22を介して供給されるように構成されている。そ
してヒートツールの温度制御は、熱電対23,T/Aコ
ンバータ24及びマルチプレクサ25を介して第2のC
PU17が温度を検出し、設定温度に達した時、高周波
パルスインバータ18,19を制御することによって温
度制御を行うようになっている。
【0012】26は酸化防止用フラックスを混入しない
バンプを用いる場合の密閉用ジャバラで、使用時は図示
しなかったがエヤーシリンダーで開閉し、Nなどの不
活性ガスをパージしてボンデイングを行う。
【0013】図2では第1及び第2のCPU6,17を
用いたが、1つのCPUとすることも出来る。27は設
定値入力用キーボードである。
【0014】次に本装置の取扱いについて説明する。
【0015】先ず下部ヒートツール1に基盤2を、上部
ヒートツール3にフリップチップ4をそれぞれ吸着させ
る。図2ではバンプ5を基盤2側に付着させた場合を図
示したが、フリップチップ4側に付着させることもあ
る。
【0016】次にキーボード27を操作して上部ヒート
ツール3を降下させ、フリップチップ4が図3の(b)
のようにバンプ5に接触した時停止させる指令を与え
る。
【0017】この接触点を0点とし、バンプ5の大きさ
や材質などの条件から、基準位置からの圧下量を設定す
ると共に、下部及び上部ヒートツール1,3の上限温度
を設定し、且つ設定値に達した時上部ヒートツール3の
上昇及びヒート電源の遮断をプログラムする。
【0018】以上の設定操作が終ったならば自動運転に
移る。
【0019】先ず、下部ヒートツール1には基盤2を、
そして上部ヒートツール3にはフリップチップ4を吸着
させた後キーボード27で起動指令を与える。
【0020】かくすると、上部ヒートツール3は降下
し、フリップチップ4が図3の(b)に示す如く、バン
プ5と接触した時、ロードセル9がそれを検知し、直流
電源20から高周波パルスインバータ18,19及びパ
ルストランス21,22を介して下部及び上部のヒート
ツール1,3に高周波パルスが供給される。この高周波
パルスの供給により、ヒートツール1,3の温度が上昇
し、設定温度に達成すると、熱電対23を介して第2の
CPU17がそれを検出し、第1のCPU6がそれに応
じて0点即ち絶対値高さの基準位置から設定量だけ図3
の(c)のようにヒートツール3を降下させる。
【0021】このようにして設定量だけ降下すると、次
いで第2のCPU17が高周波パルスの供給を停止する
と同時に第1のCPU6がフリップチップ4の吸着を停
止して釈放し、さらに上部ヒートツール3を上昇させ
る。
【0022】以上のボンデイング操作の場合は、バンプ
5は図3の(c)のようにラクビーボール状に融着する
ことになる。
【0023】なお、図3の(d)のようにバンプ5を鼓
状としたい場合は、上部ヒートツール3を(c)の場合
よりも余計に降下させた後、適量上昇させ、次いで高周
波パルスの供給を停止し、その後にフリップチップ4の
吸着を停止して釈放してから上部ヒートツール3を上昇
させるようにプログラムを組めばよい。
【0024】
【発明の効果】以上のように、本発明は従来のように、
設定位置までヒートツールを加熱し乍ら一様に圧下接着
させるのではなく、バンプに接触した時を絶対値高さの
基準位置(0基準点)とし、その0点から、上部ヒート
ツールを所定量加熱降下させるという制御方法を採った
ので、バンプの大きさや材質に応じた適正な接着を行う
ための設定が的確になり、従来のような問題を生じない
フリップチップのボンデイングを行うことができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】従来のフリップチップの接着方法を示す図であ
る。
【図2】本発明の実施例のブロック図である。
【図3】本発明にかゝる制御工程を示す図である。
【符号の説明】
1 下部ヒートツール 2 基盤 3 上部ヒートツール 4 フリップチップ 5 バンプ 6 第1のCPU 7 真空ポンプ 8 サーボモータドライバ 9 ロードセル 10 A/D変換器 11 マルチプレクサ 12 本体 13 リニアスケール 14 位置センサ 15 カウンターインターフェース 16 デイスプレイ 17 第2のCPU 18,19 高周波パルスインバータ 20 直流電源 21,22 パルストランス 23 熱電対 24 T/Aコンバータ 25 マルチプレクサ 26 密閉用ジャバラ 27 キーボード
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き 審査官 守安 太郎 (56)参考文献 特開 平2−5444(JP,A) 特開 平3−120844(JP,A) 特開 平6−252211(JP,A) (58)調査した分野(Int.Cl.7,DB名) H01L 21/60

Claims (1)

    (57)【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 コンピュータ制御されるフリップチップ
    ・ボンデイング装置において、フリップチップを吸着し
    た上部ヒートツールを降下させ、フリップチップ又は基
    盤がバンプと接触したことを検出する接触検出手段と、
    上部又は下部のヒートツールの温度検出手段を設け、上
    部ヒートツールを降下させ、前記接触検出手段から検出
    信号が送出された時の上部ヒートツールの位置を絶対値
    高さの基準位置(0基準点)とし、その基準位置から各
    ヒートツールに通電して加熱し、設定温度になったこと
    を前記温度検出手段を介して検出した時、上部ヒートツ
    ールを前記基準位置から所定量降下させ、次いでフリッ
    プチップの吸着を停止して釈放すると同時に通電を停止
    した後上昇させることを特徴とするフリップチップ・ボ
    ンデイング装置の制御方法。
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