JP3327395B2 - 押出したキャパシタ電極及びその製造方法 - Google Patents

押出したキャパシタ電極及びその製造方法

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Description

【発明の詳細な説明】 〔技術分野〕 本発明が関与する技術分野は、弁金属材料、それから
作られたアノード及びキャパシタ、及びその製造方法で
ある。
〔背景技術〕
固体電解質型のタンタルキャパシタは、電気回路の小
型化に大きく貢献してきた。それらは広い温度範囲に亙
って作動する利点及び良好な保存寿命、長い有効寿命を
有し、極端な環境中で有用である。
そのようなキャパシタは、典型的には次のようにして
製造されてきた。タンタル粉末をペレットに圧搾し、そ
のペレットを焼結して多孔質物体を成形する。次にその
多孔質物体を適当な電解質中でアノード酸化し焼結物体
上に連続的誘導体酸化物膜を形成する。気孔に電解質を
充填し、リード線を付けてキャパシタを形成する。銅ビ
レット中に長手方向に開けた孔の中にタンタルフィラメ
ントを挿入することにより、多孔質電極も製造されてき
た。ウォング(Wong)による米国特許第5,034,857号明
細書に記載された方法は、更にビレットを押出し、引延
ばし、再び重ね、そして絞り込んでいる。複合ビレット
押出し物を、更に切断及び絞り込み、複合体棒生成物を
与え、それを処理して銅を浸出し、アノード酸化する。
エレクトロニクスの小型化が進むにつれて、エレクト
ロニクス工業では益々小さなアノードが要求されるよう
になってきているが、このことはタンタルアノード工業
に新しい問題を与えるに至っている。アノードが益々小
さくなるにつれて、アノードの高周波性能の欠如が次第
に大きな問題となってきている。更にアノードが小さく
なる程、アノードの自動的取扱い、例えばリード線の結
合などで製造業者は益々大きな困難に直面するようにな
ってきている。そのような線を結合するためには或る操
作を必要とし、そのような線をコスト的に有効に結合す
るのに充分なやり方で小型化したアノードを取扱うのが
困難になってきている。
従って、当分野で必要なことは、一層小さなアノードを
製造する改良された方法、及びそのような問題を解決し
たアノード自体である。
〔本発明の要旨〕
電極用途に特に適合するタンタル材料について記述す
る。タンタル材料は多数の板交差部を除き、間隙によっ
て互いに隔てられたタンタル薄板の断面を有する個々の
構造体からなり、この場合、断面内でそれらの板が電気
的に確実に接続されるようにそれらの板の間で冶金的結
合が確立されており、そのことは構造的安定性も与えて
いる。この形態の板は長手方向に沿って互いに実質的に
平行であり、この方向ではその構造体は無限的に伸びて
いてもよい。この物体をその長手方向に対し直角な平面
で薄片に切ると、長手方向から見た切断面は互いに接続
された複数のタンタル薄板の模様を生じ、この模様はそ
の構造体の長手方向に沿ってどこでその薄片を作ろうと
も、実質的に同じに見えるであろう。板の間の間隙は、
このように見た時、構造体の全長に亙って長手方向に通
ずる長い真直ぐな溝として見えるであろう。従って、得
られる構造体は、これらの実質的に真直ぐな、板間の間
隙が集ったものであるため、屈曲のない気孔を有する。
間隙が補助的延性金属で満たされている物品の形態も記
述する。キャパシタの誘導体として働く露出タンタル表
面上の酸化タンタル層及び非屈曲気孔中に含有された対
電極を有する、そのような物品のキャパシタ形態につい
ても記述する。
そのような物品を製造する方法も記述する。延性金属
の棒、シート、鍛造物及び(又は)粉末の形のタンタル
を、予め計画した模様状にビレットの中に、そのビレッ
トの長手方向(それは加工構造体について上で述べた長
手方向になる)に対しタンタル片の長手方向が平行にな
るようにして挿入する。予め計画した模様の間の間隙に
は延性補助金属を満たして、下に記述する押出し及び引
抜き工程中タンタル片の分離を維持するようにする。ビ
レットを、そのビレットの全長に沿った長手方向に押出
し及び(又は)引延ばしを行うことにより予め定められ
た大きさまで絞る(reduce)。その絞り中、ビレットが
断面で75%まで減少する度毎にビレットを焼なますこと
が必須である。絞り後、ビレットを、その引いた方向に
沿って予め定められた距離で切断する。延性金属を、例
えば、鉱酸を用いた溶解により除去すると、非屈曲気孔
を有するタンタル物品が残る。
上記物品から作られたキャパシタは極めて小さな大きさ
に作ることができ、改良された高周波応答を示し、大き
な体積効率、低い等価直列抵抗、及び正確な構造形態及
び機械的安定性を有するように設計することができ、制
御可能な等価直列インダクタンスをもたらすことができ
る。
〔図面の簡単な説明〕
第1図は、絞り前の、六角形の弁金属(valve meta
l)及び補助延性金属棒の典型的な組み方を示す図であ
る。
第2図は、補助延性金属が依然として存在している場
合の本発明による典型的なキャパシタアノードの断面を
示す図である。
第3図及び第4図は、延性金属を除去した、本発明によ
るキャパシタアノードの典型的な断面を示す図である。
第5図及び第6図は、非屈曲気孔を示す、本発明によ
るアノードの長手方向の断面図である。
第7図は、屈曲した気孔を示す、従来の方法により作
られたアノード材料の長手方向の断面図である。
第8図及び第9図は、本発明によるアノード材料の荷重
変形を示す曲線のグラフである。
第10図は、タンタル粉末から作られた慣用的アノード
の荷重変形を示す曲線のグラフである。
第11図は、本発明による方法を示す工程図である。
第12図は、本発明による完成キャパシタの例である。
〔本発明の詳細な説明〕
本発明によるアノードの重要な特徴は、小型化に適し
ていることである。本発明によるアノードは重量で10μ
g位の小さいものに作ることができる。この重量範囲
で、それらは厚さが1.27mm(0.05インチ)より薄いのが
典型的であり、好ましくは厚さは0.38mm(0.015イン
チ)未満である。上で述べたように、ペレット化したタ
ンタル粉末から作られたキャパシタアノードを用いた場
合、多孔質ペレット中に電解質を含浸させるための通路
が小さな粒子の結合によって形成されているので、この
ようにして形成されたアノード中の通路は非常に屈曲し
ていることがある。慣用的粉末プレス法によって製造さ
れた2.54mm(0.100インチ)直径のアノード物体の長手
方向の断面の200倍の光学顕微鏡写真である第7図に注
意されたい。そこでは暗い領域は屈曲した気孔を表して
いる。これは、体積効率に悪影響を及ぼすと共に、得ら
れるキャパシタの高周波応答に欠点を有する。本発明に
よる材料は、幾何学的形態を非常に類似させて構成する
ことができるので、実質的に屈曲性のない気孔を与える
結果になる。上で述べたように、板と板の間の間隙はそ
の構造体の全長に亙って長手方向に通ずる長くて真直ぐ
な通路として見える。従って、得られる構造体は、これ
らの実質的に真直ぐな板間の間隙を集めたものからなる
ため、非屈曲性の気孔を有する。0.38mm(0.015イン
チ)直径のアノード物体の長手方向の断面の200倍の光
学顕微鏡写真である第5図、及び1.68mm(0.066イン
チ)直径のアノード物体の長手方向の断面の100倍の光
学顕微鏡写真である第6図を参照されたい。ここでは明
るい領域が非屈曲気孔を表している。これにより電解質
の導入が遥かに容易になり、極端な小型化も可能にして
いる。それは、リード線結合工程の必要性を無くしてい
る付加的利点も有する。
アノードの全体の大きさは直径が200μ〜1000μである
のが典型的である(本発明により製造されたアノード構
造体は、実際に直径を300μ未満、例えば100〜300μ、
更には50μ未満の小さな直径に作ることさえできる)。
個々の「腕」(アノードの内部エレメント)は典型的
に、15μの厚さを有するが、一層小さく、例えば5μ以
下に作ることができる。それは設計に大きく依存する
が、間隙はその物品の約40体積%〜60体積%を占めるの
が典型的であり、最も典型的には、その物品の約50体積
%を占める。
上でも述べたように、小型化したアノード材料にリー
ド線を取付けるのは非常に困難で労力のかかる仕事にな
る。ここに記載したアノード材料を製造する方法のため
に、この全工程は、例えば電極物体の一部分をリード線
として用いることにより、省略することができる(任意
に)。本発明の別の利点は、多くの個々の電極構造体を
同じビレット中に詰めることができることである。例え
ば、ここに記載した方法を最初6.35mm(0.25インチ)の
直径を有するアノード材料を製造し、次にそれを薄く切
り、それらセグメントを別のビレット中に詰めてアノー
ド材料を製造することに利用すると、一時に300個のア
ノードを加工することができることになる。最終的大き
さに、押出し及び絞り込みをした後、このようにして絞
った物体を通る断面で切断することにより、多くの(例
えば、数百個)の個々の電極構造体を生じ、それによっ
て非常に迅速且つ効果的なキャパシタ製造方法を与える
ことができる。
本発明による四つの基本的な重要な物品がある。第一
のものは、弁金属構造体の間にあってそれを取り巻く間
隙全体に亙って補助金属が入っている、弁金属の電気的
に連続した複数の薄板を有する弁金属物品である。この
形態では、その物品の弁金属成分は極めて構造的に安定
であり、取り巻く補助金属の存在によって保護されてい
る。機械的損傷に対するこの程度の保護は、最終的キャ
パシタに変換する前の材料の輸送及び取扱いにとって重
要である。本発明による0.38mm(0.015インチ)直径の
アノード物体の横断面の200倍の光学顕微鏡写真である
第2図を参照されたい。この場合、暗い中心部領域がタ
ンタルを表し、円形の断面の明るい部分が銅を表す。こ
の型の物品の構造安定性の一例として、この形態ではア
ノード材料は、通常の延性ワイヤーのように、実際には
巻枠に巻いて与えることができ、それはキャパシタ製造
の実現性を著しく増大する。
この形態の本発明の物品の構造体安定性の一例とし
て、第8図、第9図及び第10図に注意されたい。これら
の図面は、ASTM標準E−9に従って行われた圧搾試験の
結果を示している。本発明により製造された、0.38mm
(0.015インチ)の直径及び1.68mm(0.066インチ)の直
径を有するアノードを試験した。平らに立てた状態で、
それらは徐々に変形し、冶金的に結合した物体であるこ
とを示している。〔第8図及び第9図では適用した荷重
は垂直軸に示し、圧縮量は水平軸に示してあり、水平軸
の1cmは0.063mm(0.0025インチ)の圧縮を示してい
る〕。タンタル粉末から作られた従来の2.54mm(0.100
インチ)直径のアノードも試験し、第10図に示してあ
る。第8図及び第9図の場合のように荷重は垂直軸に示
し、圧縮量は水平軸に示してある。これは、冶金的結合
のない物品の場合に存在する型の曲線を示している。
重要な物品の第二の態様は、補助金属を除去した弁金
属マトリックスである。これは、キャパシタ段階まで更
に加工するのに特に有用な形態である。本発明による0.
38mm(0.015インチ)直径のアノード物体の横断面の200
倍の光学的顕微鏡写真である第3図、及び破壊し、食刻
した1.68mm(0.066インチ)直径のアノード物体で、銅
を除去してタンタル棒間の冶金的結合を示している100
倍の走査電子顕微鏡写真である第4図を参照されたい。
一方の端から見ると、上述の如く、弁金属板の模様はど
のような形態を持っていてもよい。しかし、或る特定の
形態が特別な利点を与えることができる。例えば、小さ
な体積中への板の充填を最大にする必要性から、端から
見た時、板が実質的に互いに平行である模様が好まし
い。弁金属板の模様を異なった目的を達成するために変
更し易いことは、本方法の特別な利点である。この構造
は個々の素子、即ち、平行な板及び連結するリブ(ri
b)部分の間の電気的流れに対し実質的に抵抗を持たな
い(電圧低下がない)ことが重要である。これらのセグ
メントは絞り工程中に結合するのが典型的であるが、慣
用的やり方で同様に物理的に溶接してもよい。
重要な物品の別の形態は、補助的金属を除去した弁金
属マトリックスであり、それはアノード酸化もされてい
る。アノード酸化は、材料を燐酸又は他の電解質中に入
れて、その物品に電流を流し、弁金属の表面に酸化物膜
を形成する標準的方法である。弁金属の或る量がこの工
程で消費される。
本発明の更に別の態様は完成したキャパシタである。
これは、アノード酸化し、次に二酸化マンガン又は硫酸
の如き標準的電解質を含浸させたバルブ金属マトリック
スからなる。電解質は、弁金属電極本体の全長に亙って
通じている板間気孔を満たしており、即ち、電解質は上
で言及した非屈曲気孔を満たしている。このように処理
したバルブ金属/誘電体酸化物/電解液物体(第12図の
番号1参照)を、次に慣用的やり方及び割合で、炭素の
如き伝導体(番号2)、銀、タンタル、又はニオブ、又
はそれらの合金の如き伝導性金属(番号3)、及びポリ
エチレン、ポリプロピレン、又はアクリル重合体の如き
プラスチックケース(番号4)の連続的層で被覆する。
図面に示したタンタル模様は特に有用な模様である
が、最終的用途によりどのような模様でも設計すること
ができる。実際、本発明の利点の一つは、その材料を利
用すべき特定の用途により、タンタルの模様及びその成
分部分の厚さの両方に関し、その用途にとって最大の効
率又は最大の性能を与えるように模様を個別化すること
ができる。
本発明の別の利点は、本発明によるキャパシタのμF
定格容量を非常に低くすることができ、物品の性能をセ
ラミック材料の範囲に近づけることができることであ
る。しかし、本発明の物品は、それらがセラミックで製
造できるものよりも物理的に遥かに小さな物品で再現性
があり、或る用途ではセラミックキャパシタを制限する
電気的性質の温度敏感性を持たない点で、セラミック材
料よりも著しい利点を有する。
タンタルキャパシタに基づく出力技術では、電気的応
答は周波数が高くなるほど低下する。これは、一つには
その物品の屈曲した多孔性によって起こされる。このこ
とは「表皮効果」をもたらし、それによってキャパシタ
アノードペレットの外側層しか外部回路に対するキャパ
シタンスを与えるのに有効に利用することができない。
高周波信号でキャパシタアノードの内部表面を利用する
ことができないことは、キャパシタ内部への気孔構造の
屈曲性を減少させることにより部分的に軽減することが
できる。実際、このことは非屈曲気孔の大きな利点の一
つである。屈曲性によって起こされる高周波損失の幾ら
かを取り戻すことは、この分野では大きな利点である。
なぜなら、これらのアノードを用いたエレクトロニクス
製品の状況は、操作周波数が次第に高くなる方向に行き
つつあるからである。セラミックは、それらが平坦であ
るため、屈曲性の問題は起こさない。しかし、それらは
非常に小さくすることができず、その定格キャパシタン
スに固有の温度依存性を有する。本発明による弁金属物
品は、実質的に非屈曲性の通路を持つ利点を有するのみ
ならず、セラミックでは不可能な小型化ができる利点を
有する。また、本発明による弁金属物品の電気的性質の
熱的安定性は、セラミック材料よりもよい。
本発明をアノード用途に関して記述してきたが、一般
にその方法は機械的物品、例えば、殆どの簡単な機械
(梃子、脱進機、歯車、ギア等)の外、断面構造、電気
的キャパシタンス、又は長手方向の気孔率が有利になる
特定の医学的埋め込み体の小型化に対しても同様に用い
ることができる。
本発明の別の利点は、図面に見られるような板を、中間
の構造的架橋と実質的に平行になるように設計すること
ができることである。このことは、当分野では知られて
いなかった小型化アノード材料の取扱いを一層容易にす
る機械的強度を与えることができる。
本発明をタンタルに関連して記述してきたが、本発明
で有用な他の材料は、ニオブ、タンタル及びその合金で
ある。総称的にこれらの金属は弁金属として知られてい
る。
本発明による構造は対称的構造(例えば、円形断面)
として示してきたが、これは必要なことではない。含ま
れる特定の用途により、非対称的構造も設計することが
でき、特定の用途のために作ることができる。
本発明によるアノードは改良されたESR、等価直列抵
抗を有する。これはキャパシタの真の抵抗である。屈曲
性が無いと低いESRを与える。なぜなら、屈曲性の存在
は伝導路の長さを増大しそれによって抵抗を増大する働
きをするからである。同様に、物品を改良されたESL、
等価直列インダクタンスを示すように設計することがで
きる。この場合も屈曲性の減少と、タンタル板の形状を
調節することができることとの両方を、誘導損失を減少
させるように利用することができる。これらの特性に対
する全ての改良は、部品の高周波能力を拡大する働きを
し、そのことは本発明の材料から作られたキャパシタが
依然としてキャパシタとしての役割を果たす周波数を拡
大することを意味する。
本発明による材料の更に別の大きな利点は、材料の取扱
い及び加工にある。必要な部品の大きさを与えるように
それだけの量の補助金属をアノードの全長に沿って浸出
除去しさえすればよい。残留するタンタル及び補助金属
マトリックスを、付加的リード線を付ける必要なく、露
出したタンタル部分をアノード酸化するための電流を供
給するためのリード線として用いることができる。この
ことは、小型化に特徴的な困難さを考慮に入れなくて
も、アノードの処理について大きな節約になっている。
リード線の長さは用途/適用により変化するが、リード
線はアノードの直径の約2倍になるのが典型的である。
最初の取扱いの目的にとって、リード線はアノードの長
さの約4倍であるのが好ましい。ニッケル、弁金属、又
は他の慣用的リード線を、慣用的やり方で、例えば溶接
により、アノードに付着させることができる。
本発明の物品は、一つのアノード当たりのタンタル消
費量を減少する性質も有する。上で述べた表皮効果は多
量のタンタルを、特に高周波で浪費する。慣用的ペレッ
トの内部は利用されていない。このことは、大きな外側
表面領域だけを利用するために、製造業者は高周波用に
用いるペレットを物理的に大きく作らなければならなく
なっている。本発明の方法を用いることにより、タンタ
ル表面の全て、外部と同様内部も効果的に用いることが
できるアノードを作ることができる。なぜなら、内部表
面に到達する気孔の屈曲性が低いためである。
ビレットに関し、タンタル及び補助金属を取り囲むの
に用いる材料(缶)は、容易に除去することができる材
料から作るべきであるが、押出し中にタンタル中に容易
に拡散しない材料であるべきである。ビレットの機能は
棒(rod,bar)等を適所に維持し、タンタルが酸化され
ないように維持することにある。本発明をタンタル(又
は弁金属)及び補助金属の棒に関連して記述してきた
が、材料の他の形態のものも用いることができる。例え
ば、溶接タンタル棒又は板の予め製造された構造体(又
は鍛造構造体)を作り、缶の中に入れることができる。
次に間隙を板、粉末、又は溶融物状の補助金属で充填す
ることができる。補助金属は延性で、基本的にタンタル
に対し不活性であるべきである。銅が好ましい。缶はタ
ンタル及び銅、例えばそれらの棒の周りに置き、真空に
し、溶接封鎖して空気を除去し密封する。それを次にホ
ットアイソスタティックプレス(HIP)にかけ、一体的
物体にする。
缶は典型的には、0.63mm(約0.025インチ)の厚さを
もち、HIPプレスの形、典型的にはプレスが取扱うこと
ができる限り、円筒状になっている。銅缶の場合、酸素
を含まない銅を用いることが重要である。酸素は銅より
もタンタルに対し一層大きな親和力を有する。ビレット
をHIPにかけたならば、それを慣用的やり方で押出す。
本発明の方法の特徴的部分は焼なましである(第11図参
照)。絞り前に最初に設計した構造の形態を維持するこ
とが必須である。押出し又は引抜きによるビレットの絞
り過程中、直径が75%以下まで減少した時にはいつで
も、その押出し材料を少なくとも1回焼なましすべきで
ある。
実施例1 直径2.54mm(0.1インチ)の銅及びタンタル棒を清浄
にした後、それらを銅缶の中に挿入した。密着性を向上
させるために六角形棒を用いた。缶中のタンタル(黒色
六角形)と銅(白色六角形)との配列の一例については
第1図を参照されたい。銅の蓋を缶の上に置き、頂部と
底部を溶接閉鎖し、缶を真空にする。慣用的やり方でホ
ットアイソスタティックプレスにかけ、全ての間隙を除
去する。理想的には全ての間隙が第一の例では棒を満た
されているが、形、曲率等の僅かの差のため、これは必
ずしも可能ではない。ビレットをHIPにかけたならば、
約700℃で慣用的やり方で慣用的押出し器に通して押出
す。缶は直径(内径)が約101.6mm(4インチ)で、直
径が44.45mm(1.75インチ)になるまで押出す。次にそ
れを19.05mm(0.75インチ)の直径まで冷間引抜きし、
最終的に0.38mm(0.015インチ)の直径まで引抜きする
が、この場合両方共慣用的やり方で行う。非屈曲気孔を
維持するため、引抜き中模様を維持することが必須であ
る。加工は金属を硬くし、一層脆くするので、中間的熱
処理を行わずに101.6mm(4インチ)から0.38mm(0.015
インチ)の内径までそのまま減少させると、模様は崩壊
するであろう。金属は異なった速度で長くなるので、断
面積が75%(又はそれ以下)減少する毎に標準的焼鈍工
程を行うのが必須であることが判明している。典型的に
は900℃で2時間の焼なまし工程を用いている。これは
金属の歪みを減少する。強度を一層大きくするため、缶
の中心部を銅で満たすのが望ましいことも判明してい
る。理想的には表面積を大きくするためできるだけ多く
の腕やヒレ状部分を物品に入れた設計をすべきである
が、上で述べたようにその設計は全く選択の問題であ
る。銅の進出は機械的取扱いのための物品の強度を維持
するため、できるだけ後で行う。
実施例2 実施例1の銅含有タンタルアノードを、小さな気孔中
の銅の除去を補助するため超音波振動を用いて計画的に
酸で食刻する。しかし、好ましい方法として、この目的
のために考えられた電気分解による除去装置を用いる。
カソードとして働く銅板に対し、アノードを、200gpl
(g/リットル)のH2SO4及び40gplのCuSO4を含有する水
と硫酸中に硫酸銅を入れた溶液中に浸漬する。アノード
を、例えば、0.3V〜0.4Vの非常に低い電圧にかけ、銅を
アノードから溶液中に溶解して、銅板上に再び付着させ
る。これは電気浸出法と呼ばれている。
実施例3 アノード物体を、銅の除去を含む上記例に従って製造
し、次に希釈硫酸水溶液中で標準的工業的方法を用いて
アノード酸化した。次にそれらを種々の長さでキャパシ
タンスについて試験した。試験結果は、それらアノード
が標準的アノードのような機能を果たすが、唯一つの重
要な相違は、応答が正常な応答であるが、この大きさ、
即ち、この小さなアノードとしては普通のものとは異な
ることを示していた。試験の結果を表1に示すが、表中
直径はμ、長さはmm、形成電圧はV、キャパシタンスは
μFで示してある。
本発明によるアノードで今度達成することができる極
端な小型化の外に、高周波での性能及び例外的なESL及
びESR、広い高周波性能、及び非常に大きな体積効率は
本発明の別の利点である。後のキャパシタ加工のための
構造体安定性及び取扱い易さも重要な改良を表してい
る。
フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 FI H01G 9/00 H01G 9/24 C (72)発明者 ヌッドソン,デビッド アンドリュー アメリカ合衆国 19525 ペンシルバニ ア州ギルバーツビル,レイディー ロー ド 2836 (72)発明者 パサレ,ビレン アメリカ合衆国 18103 ペンシルバニ ア州アレンタウン,アシュレイ レーン 1307 (58)調査した分野(Int.Cl.7,DB名) H01G 9/04 H01G 9/00

Claims (31)

    (57)【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】調節された厚さの複数の弁金属板の断面を
    有する、電極用に特に適した弁金属材料であって、前記
    板が予め定められた調節された大きさの間隙によって互
    いに分離されており、前記板が、板交差部での冶金的接
    触により、又は前記断面内の選択された点での板の弁金
    属接続により電気的連続しており、前記構造体が構造的
    に安定であり、非屈曲気孔を有する、弁金属材料。
  2. 【請求項2】材料の最大の大きさが1.27mm(0.05イン
    チ)未満である、請求項1に記載の材料。
  3. 【請求項3】最大の大きさが0.38mm(0.015インチ)未
    満である、請求項2に記載の材料。
  4. 【請求項4】材料が押出し可能な補助金属のケースの中
    に入っており、その金属が弁金属材料間の間隙も埋めて
    いる、請求項1に記載の材料。
  5. 【請求項5】材料がロールに巻かれている、請求項4に
    記載の材料。
  6. 【請求項6】補助金属が銅である、請求項4に記載の材
    料。
  7. 【請求項7】弁金属がタンタルである、請求項6に記載
    の材料。
  8. 【請求項8】露出した弁金属表面上に、約0.004μm〜
    約0.85μmの厚さのバルブ金属酸化物層を更に有する、
    請求項1に記載の材料。
  9. 【請求項9】間隙に電解質を含浸させてある、請求項8
    に記載の材料。
  10. 【請求項10】材料(1)が、伝導体(2)、金属
    (3)、及び重合体(4)の連続層で被覆してある、請
    求項9に記載の含浸した材料。
  11. 【請求項11】伝導体(2)が炭素であり、金属(3)
    が銀、タンタル、ニオブ、又はそれらの合金であり、プ
    ラスチック(4)がポリエチレン、ポリプロピレン、又
    はアクリル重合体である、請求項10に記載の被覆材料。
  12. 【請求項12】電極用に特に適合する弁金属物品の製造
    方法において、延性補助金属の存在及び配列により生じ
    た間隙により互いに隔てられた弁金属の予め計画された
    模様状に、ビレット缶に弁金属及び延性補助金属を実質
    的に満たし、前記ビレットを予め定められた大きさまで
    絞り、然も前記ビレットを、それが75%以下まで絞り込
    んだ後、少なくとも1回焼なましする、ことからなる弁
    金属物品製造方法。
  13. 【請求項13】ビレット中に入れる前の弁金属又は延性
    補助金属の少なくとも一方が、棒、シート、鍛造物、粉
    末、又はそれらの組合せの形態をしている、請求項12に
    記載の方法。
  14. 【請求項14】弁金属又は延性補助金属の少なくとも一
    方が、棒、シート、又はそれらの組合せの形態をしてい
    る、請求項12に記載の方法。
  15. 【請求項15】絞ったビレットをその長さに沿って予め
    定められた点で切断する、請求項12に記載の方法。
  16. 【請求項16】ビレットを絞った後、延性金属を除去す
    ることを更に含む、請求項12に記載の方法。
  17. 【請求項17】ビレット缶が銅である、請求項12に記載
    の方法。
  18. 【請求項18】延性補助金属が銅である、請求項12に記
    載の方法。
  19. 【請求項19】ビレットを断面で75%まで減少させる度
    にビレットを焼なますことを含む、請求項12に記載の方
    法。
  20. 【請求項20】延性補助金属を電解的に印加した電圧に
    より除去する、請求項16に記載の方法。
  21. 【請求項21】用いた電圧が0.3〜0.4Vである、請求項2
    0に記載の方法。
  22. 【請求項22】物品を予め定められた長さで切断し、そ
    の物品の全長に沿って補助金属の一部分を切断端から除
    去することを含む、請求項12に記載の方法。
  23. 【請求項23】予め定められた大きさが、約0.1mm〜10m
    mの長さを有する、請求項12に記載の方法。
  24. 【請求項24】弁金属酸化物の層を露出した弁金属表面
    上に発生させる、請求項16に記載の方法。
  25. 【請求項25】層を、約2〜500Vの電圧を用いて電解的
    に形成する、請求項12に記載の方法。
  26. 【請求項26】予め定められた大きさが、1.27mm(0.05
    インチ)未満の厚さを有する、請求項12に記載の方法。
  27. 【請求項27】予め定められた大きさが、0.38mm(0.01
    5インチ)未満の厚さを有する、請求項12に記載の方
    法。
  28. 【請求項28】間隙に電解質を含浸させる、請求項16に
    記載の方法。
  29. 【請求項29】含浸した弁金属(1)を、伝導体
    (2)、金属(3)、及び重合体(4)の連続層で被覆
    する、請求項28に記載の方法。
  30. 【請求項30】伝導体(2)が炭素であり、金属(3)
    が銀、タンタル、ニオブ、又はそれらの合金であり、プ
    ラスチック(4)がポリエチレン、ポリプロピレン、又
    はアクリル重合体である、請求項29に記載の方法。
  31. 【請求項31】絞った物品を切断し、それら切断片をビ
    レット缶中に組立てて前記缶を実質的に充填し、絞り工
    程を繰り返し、それによって複数の弁金属物品を形成す
    る、請求項12に記載の方法。
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