JP3325998B2 - 剥離画像形成方法 - Google Patents
剥離画像形成方法Info
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- JP3325998B2 JP3325998B2 JP5211494A JP5211494A JP3325998B2 JP 3325998 B2 JP3325998 B2 JP 3325998B2 JP 5211494 A JP5211494 A JP 5211494A JP 5211494 A JP5211494 A JP 5211494A JP 3325998 B2 JP3325998 B2 JP 3325998B2
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Description
【０００１】
【産業上の利用分野】この発明は、光ビーム走査による
画像記録に係わり、特に、乾式現像法を採用した剥離画
像形成方法に関する。
画像記録に係わり、特に、乾式現像法を採用した剥離画
像形成方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】近年、記録材料の感度上昇等に伴い、光
ビーム走査に依り記録材料に画像を形成することが成さ
れている。すなわち、主走査方向に偏向される画像情報
を担持する光ビームを、主走査方向と直交する副走査方
向に搬送移動される熱転写シートに入射させ、これによ
り、熱転写シートを構成する画像形成層に、時系列逐次
方式で画像が記録される。
ビーム走査に依り記録材料に画像を形成することが成さ
れている。すなわち、主走査方向に偏向される画像情報
を担持する光ビームを、主走査方向と直交する副走査方
向に搬送移動される熱転写シートに入射させ、これによ
り、熱転写シートを構成する画像形成層に、時系列逐次
方式で画像が記録される。
【０００３】画像情報を担持する光ビームは、光源から
射出された光ビームの強度を、画像情報に応じて変調す
る光変調器により生成される。光ビームの出力は、同一
画像情報が時系列において同一出力レベルで設定され
る。すなわち、同一画像情報は、立ち上がりから立ち下
がりまで同一出力強度で変調される。
射出された光ビームの強度を、画像情報に応じて変調す
る光変調器により生成される。光ビームの出力は、同一
画像情報が時系列において同一出力レベルで設定され
る。すなわち、同一画像情報は、立ち上がりから立ち下
がりまで同一出力強度で変調される。
【０００４】熱転写シートを構成する画像形成層に形成
された画像は、剥離工程を得て、受像層にその画像が転
写形成される。
された画像は、剥離工程を得て、受像層にその画像が転
写形成される。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】上述の出力特性を有す
る光ビームを上記画像形成層に入射させ、画像形成層に
記録された画像を受像シートに転写形成したのち熱転写
シートを受像シートから剥離する場合、剥離工程におい
て、剥離開始位置では、光ビームの照射によるエネルギ
が、基材が低温度から光熱変換層と画像形成層の結合力
が小さくなる高温度になるまでのエネルギとして使用さ
れ、また温度上昇するまでに所要時間を要するため、記
録先端では線が細る。一方、剥離終了位置では、基材が
既に高温度であるため線は細らない。
る光ビームを上記画像形成層に入射させ、画像形成層に
記録された画像を受像シートに転写形成したのち熱転写
シートを受像シートから剥離する場合、剥離工程におい
て、剥離開始位置では、光ビームの照射によるエネルギ
が、基材が低温度から光熱変換層と画像形成層の結合力
が小さくなる高温度になるまでのエネルギとして使用さ
れ、また温度上昇するまでに所要時間を要するため、記
録先端では線が細る。一方、剥離終了位置では、基材が
既に高温度であるため線は細らない。
【０００６】従って、同一画像情報を記録したいにもか
かわらず、記録線終端に比して記録線先端での線の形状
が異なり安定しないためドット形状が不安定となり、延
いては濃度ムラが発生する事態を招く。また、受像シー
トに転写される熱溶融性インクの比熱特性に因り、剥離
開始位置では、インクに供給される熱量が不十分である
ため、インクが十分に溶融せず、従って、記録線先端が
細ってしまう。
かわらず、記録線終端に比して記録線先端での線の形状
が異なり安定しないためドット形状が不安定となり、延
いては濃度ムラが発生する事態を招く。また、受像シー
トに転写される熱溶融性インクの比熱特性に因り、剥離
開始位置では、インクに供給される熱量が不十分である
ため、インクが十分に溶融せず、従って、記録線先端が
細ってしまう。
【０００７】上記現象は、インクに供給される熱量を多
くするべく光ビームの出力強度を上げることにより対処
可能である。しかし、記録線先端でのインク転写特性に
合わせて光ビームの出力強度を上げると、今度は記録線
終端においてインクの尾引きが発生し、記録線終端が太
ってしまう。記録線先端若しくは記録線終端において、
上述の如くインクが転写されると、ドット形状が不安定
となり、延いては濃度ムラが発生する事態を招く。
くするべく光ビームの出力強度を上げることにより対処
可能である。しかし、記録線先端でのインク転写特性に
合わせて光ビームの出力強度を上げると、今度は記録線
終端においてインクの尾引きが発生し、記録線終端が太
ってしまう。記録線先端若しくは記録線終端において、
上述の如くインクが転写されると、ドット形状が不安定
となり、延いては濃度ムラが発生する事態を招く。
【０００８】そこでこの発明は、上記事情に鑑みて成さ
れたもので、画像形成層に入射する光量を時系列で制御
して濃度ムラを抑制することができる剥離画像形成方法
を提供することを目定とする。
れたもので、画像形成層に入射する光量を時系列で制御
して濃度ムラを抑制することができる剥離画像形成方法
を提供することを目定とする。
【０００９】
【００１０】この発明に係わる画像記録方法は、少なく
とも熱溶融性のインク及び被転写層を該順序で支持する
基材表面を画像情報を担持する光ビームで走査して２次
元的に画像を記録し、該光ビームの熱で軟化・溶融した
前記インクを前記被転写層に転写させたのち、前記基材
が前記被転写層から剥離される剥離画像形成方法であっ
て、各走査ラインの記録始めに、立ち上がり部分に所要
レベルのオーバーシュートが付与された前記光ビームを
入射して前記基材表面を走査して前記基材表面の略全面
に２次元的に画像を記録したのち、オーバーシュートレ
ベルの光ビームが入射された各走査ラインの記録始め位
置から、前記基材を前記被転写層から前記走査ラインの
画像記録方向に剥離するようにしたものである。
とも熱溶融性のインク及び被転写層を該順序で支持する
基材表面を画像情報を担持する光ビームで走査して２次
元的に画像を記録し、該光ビームの熱で軟化・溶融した
前記インクを前記被転写層に転写させたのち、前記基材
が前記被転写層から剥離される剥離画像形成方法であっ
て、各走査ラインの記録始めに、立ち上がり部分に所要
レベルのオーバーシュートが付与された前記光ビームを
入射して前記基材表面を走査して前記基材表面の略全面
に２次元的に画像を記録したのち、オーバーシュートレ
ベルの光ビームが入射された各走査ラインの記録始め位
置から、前記基材を前記被転写層から前記走査ラインの
画像記録方向に剥離するようにしたものである。
【００１１】
【００１２】または、光変換物質を含む光熱変換層、平
均膜厚０．０３〜０．３μｍに設定された熱剥離層及び
色材を含み該熱剥離層の介在により前記光熱変換層と結
合され、前記光熱変換層との結合力が光ビームの照射に
より小さくなる画像形成層が該順序で積層された基材表
面を画像情報を担持する光ビームで走査して２次元的に
画像を記録し、前記画像形成層に形成された画像を受像
層に転写させたのち、前記基材が前記受像層から剥離さ
れる剥離画像形成方法であって、各走査ラインの記録始
めに、立ち上がり部分に所要レベルのオーバーシュート
が付与された前記光ビームを入射して前記基材表面を走
査して前記基材表面の略全面に２次元的に画像を記録し
たのち、オーバーシュートレベルの光ビームが入射され
た各走査ラインの記録始め位置から、前記基材を前記受
像層から前記走査ラインの画像記録方向に剥離するよう
にしたものである。
均膜厚０．０３〜０．３μｍに設定された熱剥離層及び
色材を含み該熱剥離層の介在により前記光熱変換層と結
合され、前記光熱変換層との結合力が光ビームの照射に
より小さくなる画像形成層が該順序で積層された基材表
面を画像情報を担持する光ビームで走査して２次元的に
画像を記録し、前記画像形成層に形成された画像を受像
層に転写させたのち、前記基材が前記受像層から剥離さ
れる剥離画像形成方法であって、各走査ラインの記録始
めに、立ち上がり部分に所要レベルのオーバーシュート
が付与された前記光ビームを入射して前記基材表面を走
査して前記基材表面の略全面に２次元的に画像を記録し
たのち、オーバーシュートレベルの光ビームが入射され
た各走査ラインの記録始め位置から、前記基材を前記受
像層から前記走査ラインの画像記録方向に剥離するよう
にしたものである。
【００１３】
【作用】この発明に係わる前記手段によれば、被転写層
に転写後、基材と被転写層とが剥離される剥離画像形成
に際し、基材に照射される光ビームの各立ち上がり部分
には、それぞれ所要レベルのオーバーシュートが付与さ
れている。ここで、転写された画像に着目すると、その
先端部は、高出力の光ビームを照射することにより、先
端部の細りが回避される。従って、通常の出力の光ビー
ムに対して所要レベルのオーバーシュート部分を照射す
ることにより、剥離時に、先端部の細りが回避される。
に転写後、基材と被転写層とが剥離される剥離画像形成
に際し、基材に照射される光ビームの各立ち上がり部分
には、それぞれ所要レベルのオーバーシュートが付与さ
れている。ここで、転写された画像に着目すると、その
先端部は、高出力の光ビームを照射することにより、先
端部の細りが回避される。従って、通常の出力の光ビー
ムに対して所要レベルのオーバーシュート部分を照射す
ることにより、剥離時に、先端部の細りが回避される。
【００１４】また、光ビームの走査方向に基材と被転写
層とを剥離することにより、尾引きに因る後端部の太り
が回避される。適用する熱転写シートを、支持体上に光
熱変換物質を含む光熱変換層、熱剥離層、色材を含む画
像形成層がこの順に設けられて構成されており、該熱剥
離層の介在により結合されている該画像形成層と光熱変
換層の間の結合力が、高密度エネルギ光照射により小さ
くなる熱転写シートにおいて、該熱剥離層の平均膜厚を
０．０３〜０．３μｍに限定することにより、より良好
な記録画像が得られる。
層とを剥離することにより、尾引きに因る後端部の太り
が回避される。適用する熱転写シートを、支持体上に光
熱変換物質を含む光熱変換層、熱剥離層、色材を含む画
像形成層がこの順に設けられて構成されており、該熱剥
離層の介在により結合されている該画像形成層と光熱変
換層の間の結合力が、高密度エネルギ光照射により小さ
くなる熱転写シートにおいて、該熱剥離層の平均膜厚を
０．０３〜０．３μｍに限定することにより、より良好
な記録画像が得られる。
【００１５】
【実施例】以下、この発明の実施例を図面を参照して説
明する。図１はこの発明に係わる剥離画像形成方法が適
用される画像記録装置の一実施例を示している。画像信
号発生手段１０１により生成された所要電圧レベルを有
する画像情報を担持する画像信号は、入力部１０３に供
給される。
明する。図１はこの発明に係わる剥離画像形成方法が適
用される画像記録装置の一実施例を示している。画像信
号発生手段１０１により生成された所要電圧レベルを有
する画像情報を担持する画像信号は、入力部１０３に供
給される。
【００１６】入力部１０３は、入力された画像信号のデ
ューティ比を調整し、これにより得られた画像信号を電
圧／電流信号変換手段１０５に供給するとともに、画像
信号の立ち上がり部分に同期する波形入力タイミング信
号をオーバーシュート電流波形発生手段１０７に供給す
る。電圧／電流信号変換手段１０５は、画像信号の電圧
変化を電流変化に変換し、これにより得られた画像信号
を、波形合波手段１０９に供給する。
ューティ比を調整し、これにより得られた画像信号を電
圧／電流信号変換手段１０５に供給するとともに、画像
信号の立ち上がり部分に同期する波形入力タイミング信
号をオーバーシュート電流波形発生手段１０７に供給す
る。電圧／電流信号変換手段１０５は、画像信号の電圧
変化を電流変化に変換し、これにより得られた画像信号
を、波形合波手段１０９に供給する。
【００１７】オーバーシュート電流波形発生手段１０７
は、所要レベルのオーバーシュートを発生し、該オーバ
ーシュート波を波形合成手段１０９に供給する。波形合
波手段１０９は、電圧／電流信号変換手段１０５で得ら
れた画像信号の立ち上がり部分に、オーバーシュート電
流波形発生手段１０７で得られたオーバーシュート波を
合波する。波形合波手段１０９の出力は、出力部１１１
に供給される。
は、所要レベルのオーバーシュートを発生し、該オーバ
ーシュート波を波形合成手段１０９に供給する。波形合
波手段１０９は、電圧／電流信号変換手段１０５で得ら
れた画像信号の立ち上がり部分に、オーバーシュート電
流波形発生手段１０７で得られたオーバーシュート波を
合波する。波形合波手段１０９の出力は、出力部１１１
に供給される。
【００１８】以上、入力部１０３から出力部１１１まで
は、レーザ電流制御手段１１３を構成する。レーザ電流
制御手段１１３で生成されたレーザ電流は、レーザ光発
生手段１１５の制御端に供給され、該レーザ電流によ
り、射出されるレーザ光強度が外部変調される。
は、レーザ電流制御手段１１３を構成する。レーザ電流
制御手段１１３で生成されたレーザ電流は、レーザ光発
生手段１１５の制御端に供給され、該レーザ電流によ
り、射出されるレーザ光強度が外部変調される。
【００１９】射出されたレーザ光は、図中矢印方向に回
転駆動する回転ドラム１１７に巻回された熱転写シート
１２１に入射する。レーザ発生手段１１５は、回転ドラ
ム１１７の長手方向に沿設された図示しない精密移動レ
ール上を回転ドラム１１７の間欠回転に同期して図示方
向に移動可動である。レーザ発生手段１１５の移動及び
回転ドラム１１９の回転により、熱転写シート１２１に
２次元的に画像が記録される。
転駆動する回転ドラム１１７に巻回された熱転写シート
１２１に入射する。レーザ発生手段１１５は、回転ドラ
ム１１７の長手方向に沿設された図示しない精密移動レ
ール上を回転ドラム１１７の間欠回転に同期して図示方
向に移動可動である。レーザ発生手段１１５の移動及び
回転ドラム１１９の回転により、熱転写シート１２１に
２次元的に画像が記録される。
【００２０】なお、上記２次元の画像記録を達成するた
めに、レーザ発生手段１１５の移動に代えて、レーザを
ポリゴンミラーで反射走査させてレーザを熱転写シート
に照射させるようにしても良い。所定レベルのオーバー
シュートが付与されたレーザ光の走査により画像記録さ
れた熱転写シートは、受像シートから剥離される。熱転
写シートの剥離は、オーバーシュートレベルで記録され
た部分から実行され、かつ走査方向に沿って実行され
る。
めに、レーザ発生手段１１５の移動に代えて、レーザを
ポリゴンミラーで反射走査させてレーザを熱転写シート
に照射させるようにしても良い。所定レベルのオーバー
シュートが付与されたレーザ光の走査により画像記録さ
れた熱転写シートは、受像シートから剥離される。熱転
写シートの剥離は、オーバーシュートレベルで記録され
た部分から実行され、かつ走査方向に沿って実行され
る。
【００２１】上述のように、オーバーシュートレベルで
記録された熱転写シートを、最初に受像シートから剥離
することにより、オーバーシュートレベルのレーザ光で
記録された部分と通常レベルのレーザ光で記録された部
分とにおいて、各記録線幅がそれぞれ略等しくなる。従
って、熱転写シート全体に亘って、略均一記録線幅で記
録される。
記録された熱転写シートを、最初に受像シートから剥離
することにより、オーバーシュートレベルのレーザ光で
記録された部分と通常レベルのレーザ光で記録された部
分とにおいて、各記録線幅がそれぞれ略等しくなる。従
って、熱転写シート全体に亘って、略均一記録線幅で記
録される。
【００２２】以下、図２乃至図４を参照してレーザ電流
のオーバーシュートレベルと記録線先端の記録状態との
関係を説明する。なお、熱転写シートへの記録条件は、
適用材料に応じて設定され、この実施例では、後述する
特願平５−２７５７４９号明細書に開示された熱転写シ
ートを適用し、波長８３０ｎｍの半導体レーザ光をビー
ム径５〜６μｍ（半値幅）で集光し、主走査速度１０ｍ
／ｓ及び副走査ピッチ１０μｍで記録したときの特性を
示している。
のオーバーシュートレベルと記録線先端の記録状態との
関係を説明する。なお、熱転写シートへの記録条件は、
適用材料に応じて設定され、この実施例では、後述する
特願平５−２７５７４９号明細書に開示された熱転写シ
ートを適用し、波長８３０ｎｍの半導体レーザ光をビー
ム径５〜６μｍ（半値幅）で集光し、主走査速度１０ｍ
／ｓ及び副走査ピッチ１０μｍで記録したときの特性を
示している。
【００２３】図２は、レーザ電流の出力特性を示してお
り、縦軸及び横軸は、それぞれレーザ光出力及び出力時
間を示している。ここで、通常記録時の光出力を示すＰ
０と、オーバーシュート部の最大光出力を示すＰ１とに
基づいて、オーバーシュート率Ｐ１／Ｐ０（＞１）が設
定される。なお、ここでは、Ｐ０＝１００ｍＷ及びＰ１
＝１３０ｍＷとした。
り、縦軸及び横軸は、それぞれレーザ光出力及び出力時
間を示している。ここで、通常記録時の光出力を示すＰ
０と、オーバーシュート部の最大光出力を示すＰ１とに
基づいて、オーバーシュート率Ｐ１／Ｐ０（＞１）が設
定される。なお、ここでは、Ｐ０＝１００ｍＷ及びＰ１
＝１３０ｍＷとした。
【００２４】また、図３は、記録線の形状を示してお
り、全体の記録線の幅Ｗと、記録線右端から全幅Ｗの５
％の位置Ｗ１と、記録線左端から全幅Ｗの５％の位置Ｗ
２とが設定されており、位置Ｗ１と記録線エッジとの交
点Ａと、記録線先端との距離Ｌ１と、位置Ｗ２と記録線
エッジとの交点Ｂと、記録線先端との距離Ｌ２とに基づ
いて、細りＬ＝（Ｌ１＋Ｌ２）／２が設定される。
り、全体の記録線の幅Ｗと、記録線右端から全幅Ｗの５
％の位置Ｗ１と、記録線左端から全幅Ｗの５％の位置Ｗ
２とが設定されており、位置Ｗ１と記録線エッジとの交
点Ａと、記録線先端との距離Ｌ１と、位置Ｗ２と記録線
エッジとの交点Ｂと、記録線先端との距離Ｌ２とに基づ
いて、細りＬ＝（Ｌ１＋Ｌ２）／２が設定される。
【００２５】図４は、記録線先端の細り（縦軸）とオー
バーシュート率（横軸）との関係を示ている。図示のよ
うに、オーバーシュート率が、略１．２０乃至１．２５
以上で、記録線先端が細らないことが判る。なお、オー
バーシュート率が略１．２０乃至１．２５以上におい
て、記録線先端の細りは発生しないが、オーバーシュー
ト率を上げると、レーザ光源に対する負荷が大きくなり
レーザ光源の寿命を短くする原因となる。
バーシュート率（横軸）との関係を示ている。図示のよ
うに、オーバーシュート率が、略１．２０乃至１．２５
以上で、記録線先端が細らないことが判る。なお、オー
バーシュート率が略１．２０乃至１．２５以上におい
て、記録線先端の細りは発生しないが、オーバーシュー
ト率を上げると、レーザ光源に対する負荷が大きくなり
レーザ光源の寿命を短くする原因となる。
【００２６】従って、上記事情を考慮して、オーバーシ
ュート率を１．３０に設定することが好ましい。
ュート率を１．３０に設定することが好ましい。
【００２７】以下、記録線先端の記録状態と剥離方向と
の関係を説明する。図５は、記録線先端の細り（縦軸）
と剥離方向（横軸）との関係を示している。図示のよう
に、剥離方向と記録方向とを一致させると、記録線先端
が細らず、また剥離方向と記録方向とを一致させない
と、記録線先端が細ることが判る。この発明に係わる剥
離画像形成方法が適用可能な熱転写シートとしては、任
意色相の画像を高解像度で、乾式法により形成可能であ
れば良く、例えば、特願平５−２７５７４９号明細書に
開示された熱転写シートが挙げられる。
の関係を説明する。図５は、記録線先端の細り（縦軸）
と剥離方向（横軸）との関係を示している。図示のよう
に、剥離方向と記録方向とを一致させると、記録線先端
が細らず、また剥離方向と記録方向とを一致させない
と、記録線先端が細ることが判る。この発明に係わる剥
離画像形成方法が適用可能な熱転写シートとしては、任
意色相の画像を高解像度で、乾式法により形成可能であ
れば良く、例えば、特願平５−２７５７４９号明細書に
開示された熱転写シートが挙げられる。
【００２８】すなわち、支持体上に、光熱変換物質を含
む光熱変換層、熱剥離層、色材を含む画像形成層がこの
順に設けられて構成されており、該熱剥離層の介在によ
り結合されている該画像形成層と光熱変換層の間の結合
力が、高密度エネルギ光照射により小さくなる熱転写シ
ートにおいて、該熱剥離層の平均膜厚が０．０３〜０．
３μｍである。
む光熱変換層、熱剥離層、色材を含む画像形成層がこの
順に設けられて構成されており、該熱剥離層の介在によ
り結合されている該画像形成層と光熱変換層の間の結合
力が、高密度エネルギ光照射により小さくなる熱転写シ
ートにおいて、該熱剥離層の平均膜厚が０．０３〜０．
３μｍである。
【００２９】上記熱転写シートは、使用する熱転写シー
トの光熱変換層と画像形成層とが機能分離されているた
め、任意色相の画像が形成可能であるとともに、両層間
に熱剥離層が設けられているため、光熱変換層中のレー
ザ光吸収の転写、画像の変色（混色）が回避される。さ
らに、熱剥離層として熱分解温度の低い材料が用いられ
ているため、記録感度が向上する。また、画像形成層の
膜厚が小さいため、高解像度が得られる。
トの光熱変換層と画像形成層とが機能分離されているた
め、任意色相の画像が形成可能であるとともに、両層間
に熱剥離層が設けられているため、光熱変換層中のレー
ザ光吸収の転写、画像の変色（混色）が回避される。さ
らに、熱剥離層として熱分解温度の低い材料が用いられ
ているため、記録感度が向上する。また、画像形成層の
膜厚が小さいため、高解像度が得られる。
【００３０】以下、上記熱転写シートの好適な例を示
す。高密度エネルギ光照射による光熱変換層と画像形成
層間の結合力の低下が、熱剥離層と光熱変換層間の結合
力低下、熱剥離層と画像形成層間の結合力低下、または
熱剥離層の凝集力低下の一種以上によるものである。上
記熱剥離層が、上記光熱変換層材料の熱変換温度よりも
低い熱変化温度の材料を含む。
す。高密度エネルギ光照射による光熱変換層と画像形成
層間の結合力の低下が、熱剥離層と光熱変換層間の結合
力低下、熱剥離層と画像形成層間の結合力低下、または
熱剥離層の凝集力低下の一種以上によるものである。上
記熱剥離層が、上記光熱変換層材料の熱変換温度よりも
低い熱変化温度の材料を含む。
【００３１】上記熱剥離層の熱変化が、熱分解である。
上記熱剥離層が、ポリマーを含む。上記熱剥離層中のポ
リマーがニトロセルロース及び塩素化ポリオレフィンか
ら選ばれた少なくとも一種である。上記熱剥離層が、ポ
リマー以外に熱分解性低分子化合物を含む。
上記熱剥離層が、ポリマーを含む。上記熱剥離層中のポ
リマーがニトロセルロース及び塩素化ポリオレフィンか
ら選ばれた少なくとも一種である。上記熱剥離層が、ポ
リマー以外に熱分解性低分子化合物を含む。
【００３２】上記熱分解性低分子化合物が、ガス発生性
化合物である。上記熱剥離層中の発熱分解性化合物が、
２８０℃以下に熱分解温度を有する低分子化合物であ
る。上記熱剥離層中の発熱分解性化合物が、ジアゾニウ
ム化合物、アジド化合物から選ばれた少なくとも一種で
ある。
化合物である。上記熱剥離層中の発熱分解性化合物が、
２８０℃以下に熱分解温度を有する低分子化合物であ
る。上記熱剥離層中の発熱分解性化合物が、ジアゾニウ
ム化合物、アジド化合物から選ばれた少なくとも一種で
ある。
【００３３】上記光熱変換層の熱変化が、熱分解及び／
又は融解による形状変化である。上記光熱変換層の熱変
化温度が、上記熱剥離層の熱変化温度に比べ、２０℃以
上高い。上記光熱変換層の熱変換材料が、カーボンブラ
ック及び／又はグラファイトである。
又は融解による形状変化である。上記光熱変換層の熱変
化温度が、上記熱剥離層の熱変化温度に比べ、２０℃以
上高い。上記光熱変換層の熱変換材料が、カーボンブラ
ック及び／又はグラファイトである。
【００３４】上記光熱変換層の熱変換材料が、赤外線吸
収色素である。上記光熱変換層中が、水溶性ポリマー若
しくはアルコール可溶性ポリマーから成るバインダーを
含有する。上記光熱変換層の平均厚さが０．０５〜２μ
ｍである。上記光熱変換層の高密度エネルギ光波長での
光吸収率が７０％以上である。
収色素である。上記光熱変換層中が、水溶性ポリマー若
しくはアルコール可溶性ポリマーから成るバインダーを
含有する。上記光熱変換層の平均厚さが０．０５〜２μ
ｍである。上記光熱変換層の高密度エネルギ光波長での
光吸収率が７０％以上である。
【００３５】上記支持体が、高密度エネルギ光に関して
透過性の材料からなる。上記支持体が、ポリエチレンテ
レフタレートである。上記画像形成層が、色材とポリマ
ーバインダとを含む。上記画像形成層がバインダとし
て、平均分子量５，０００〜１００，０００のポリマー
を含む。
透過性の材料からなる。上記支持体が、ポリエチレンテ
レフタレートである。上記画像形成層が、色材とポリマ
ーバインダとを含む。上記画像形成層がバインダとし
て、平均分子量５，０００〜１００，０００のポリマー
を含む。
【００３６】上記画像形成層中の色材とバインダとの重
量比が、１：５〜１０：１である。上記画像形成層が、
色材とバインダ以外に、加塑剤を含有する。上記画像形
成層の厚さが、０．１〜１μｍである。また、上記熱転
写シートの他にも、上述の条件を満たす熱溶融型転写シ
ートが適用可能であり、例えば、セイコー電子（株）製
溶融４色Ａ３スーパーインクシートＣＨ７８７の熱イン
クシートが挙げられる。
量比が、１：５〜１０：１である。上記画像形成層が、
色材とバインダ以外に、加塑剤を含有する。上記画像形
成層の厚さが、０．１〜１μｍである。また、上記熱転
写シートの他にも、上述の条件を満たす熱溶融型転写シ
ートが適用可能であり、例えば、セイコー電子（株）製
溶融４色Ａ３スーパーインクシートＣＨ７８７の熱イン
クシートが挙げられる。
【００３７】
【発明の効果】以上説明した発明によれば、記録線先端
に相当する剥離開始に通常記録時の出力よりも大きいオ
ーバーシュートの光ビームが照射され、記録線後端に相
当する剥離終了位置には、通常記録時の出力の光ビーム
が照射される、これにより、画像形成層には入射する光
量は、時系列で制御されるため、記録画像の濃度ムラを
抑制することができる。
に相当する剥離開始に通常記録時の出力よりも大きいオ
ーバーシュートの光ビームが照射され、記録線後端に相
当する剥離終了位置には、通常記録時の出力の光ビーム
が照射される、これにより、画像形成層には入射する光
量は、時系列で制御されるため、記録画像の濃度ムラを
抑制することができる。
【００３８】また、剥離現像に際し、光ビームの主走査
方向に基材と被転写層とを剥離することにより、剥離開
始位置で細りが回避されるため、記録画像の濃度ムラを
抑制することができる。この発明に係わる画像記録方法
で適用する熱転写シートを、熱剥離層の平均膜厚が０．
０３〜０．３μｍに設定された薄膜材料に特定すること
により、より濃度特性に優れた画像を記録することがで
きる。
方向に基材と被転写層とを剥離することにより、剥離開
始位置で細りが回避されるため、記録画像の濃度ムラを
抑制することができる。この発明に係わる画像記録方法
で適用する熱転写シートを、熱剥離層の平均膜厚が０．
０３〜０．３μｍに設定された薄膜材料に特定すること
により、より濃度特性に優れた画像を記録することがで
きる。
【図１】この発明が適用される画像形成装置の一実施例
を示すブロック。
を示すブロック。
【図２】図１に示したレーザ光発生手段で発生するレー
ザ光の出力を示す特性図。
ザ光の出力を示す特性図。
【図３】図２に示したレーザ光により記録された画像の
記録状態を示す拡大図。
記録状態を示す拡大図。
【図４】記録線先端の細り（縦軸）とオーバーシュート
率（横軸）との関係を示すグラフ。
率（横軸）との関係を示すグラフ。
【図５】記録線先端の細り（縦軸）と剥離方向（横軸）
との関係を示すグラフ。
との関係を示すグラフ。
１０１ 画像信号発生手段 １０３ 入力部 １０５ 電圧／電流信号変換部 １０７ オーバーシュート電流波形発生手段 １０９ 波形合波部 １１１ 出力部 １１３ レーザ電流制御手段 １１５ レーザ光発生手段 １１９ 回転ドラム １２１ 熱転写シート
フロントページの続き (58)調査した分野(Int.Cl.7，ＤＢ名) B41J 2/32
Claims (2)
- 【請求項１】 少なくとも熱溶融性のインク及び被転写
層を該順序で支持する基材表面を画像情報を担持する光
ビームで走査して２次元的に画像を記録し、該光ビーム
の熱で軟化・溶融した前記インクを前記被転写層に転写
させたのち、前記基材が前記被転写層から剥離される剥
離画像形成方法であって、各走査ラインの記録始めに、立ち上がり部分に所要レベ
ル のオーバーシュートが付与された前記光ビームを入射
して前記基材表面を走査して前記基材表面の略全面に２
次元的に画像を記録したのち、オーバーシュートレベル
の光ビームが入射された各走査ラインの記録始め位置か
ら、前記基材を前記被転写層から前記走査ラインの画像
記録方向に剥離するようにしたことを特徴とする剥離画
像形成方法。 - 【請求項２】 光変換物質を含む光熱変換層、平均膜厚
０．０３〜０．３μｍに設定された熱剥離層及び色材を
含み該熱剥離層の介在により前記光熱変換層と結合さ
れ、前記光熱変換層との結合力が光ビームの照射により
小さくなる画像形成層が該順序で積層された基材表面を
画像情報を担持する光ビームで走査して２次元的に画像
を記録し、前記画像形成層に形成された画像を受像層に
転写させたのち、前記基材が前記受像層から剥離される
剥離画像形成方法であって、各走査ラインの記録始めに、立ち上がり部分に所要レベ
ル のオーバーシュートが付与された前記光ビームを入射
して前記基材表面を走査して前記基材表面の略全面に２
次元的に画像を記録したのち、オーバーシュートレベル
の光ビームが入射された各走査ラインの記録始め位置か
ら、前記基材を前記受像層から前記走査ラインの画像記
録方向に剥離するようにしたことを特徴とする剥離画像
形成方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP5211494A JP3325998B2 (ja) | 1994-03-23 | 1994-03-23 | 剥離画像形成方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP5211494A JP3325998B2 (ja) | 1994-03-23 | 1994-03-23 | 剥離画像形成方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH07256902A JPH07256902A (ja) | 1995-10-09 |
| JP3325998B2 true JP3325998B2 (ja) | 2002-09-17 |
Family
ID=12905848
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP5211494A Expired - Fee Related JP3325998B2 (ja) | 1994-03-23 | 1994-03-23 | 剥離画像形成方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3325998B2 (ja) |
Families Citing this family (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2004087595A (ja) | 2002-08-23 | 2004-03-18 | Dainippon Screen Mfg Co Ltd | 発光素子駆動回路 |
| EP3210793B1 (de) * | 2016-02-26 | 2018-04-18 | LPKF Laser & Electronics AG | Verfahren zum übertragen einer drucksubstanz auf ein substrat mittels einer laserstrahlung |
-
1994
- 1994-03-23 JP JP5211494A patent/JP3325998B2/ja not_active Expired - Fee Related
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH07256902A (ja) | 1995-10-09 |
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