JP3320445B2 - 電流メモリセル - Google Patents

電流メモリセル

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JP3320445B2
JP3320445B2 JP11484992A JP11484992A JP3320445B2 JP 3320445 B2 JP3320445 B2 JP 3320445B2 JP 11484992 A JP11484992 A JP 11484992A JP 11484992 A JP11484992 A JP 11484992A JP 3320445 B2 JP3320445 B2 JP 3320445B2
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  • Control Of Electrical Variables (AREA)
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  • Amplifiers (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は保持期間前のサンプル期
間中に電流端子に現われる入力電流にほぼ等しい出力電
流を保持期間中電流端子に供給する電流メモリセルであ
って、第1電流端子と、ソース、ドレインおよびゲート
を有し、ドレインを前記第1電流端子に結合する第1ト
ランジスタと、前の第1トランジスタのソースおよびゲ
ート間に挿入されたコンデンサと、サンプル期間中前の
第1トランジスタのゲートを第1電流端子に結合する第
1スイッチとを具える電流メモリセルに関するものであ
る。
【0002】
【従来の技術】この型の電流メモリセルは米国特許第
4,967,140号から既知である。この従来の型の
電流メモリセルはデジタル−アナログ変換器を正確に較
正し得る電流源として、並びにアナログ離散時間信号処
理(スイッチド電流技術)の電流メモリ、ダイナミック
電流ミラー回路および電流ドライバとして用いることが
できる。これら素子は電流コピアとも称される。
【0003】
【発明が解決しようとする課題】電流メモリセルの第1
トランジスタはしばしば集積回路のP型基板のNMOS
トランジスタとする。この電流メモリセルは、基板効果
のため、例えば同一基板に形成されたデジタル回路によ
り生ずる基板電圧変化に感応するようになる。保持期間
中、NMOSトランジスタのゲートはトリステートとな
り、サンプル期間中生じる電流により確立されるコンデ
ンサの電圧は供給電流を保持するようになる。従ってソ
ースおよび基板間の電圧変化によって基板効果のため、
供給電流に悪影響を及ぼすようになる。この効果は基板
をソースに部分的に接続することにより低減させること
ができる。しかし、これは単に部分効果である。その理
由はゲートが基板の下に直接到達し得ないからである。
また、種々の理由で、電流メモリセルのソースを基板に
接続するのが不所望である場合がしばしばある。さら
に、NMOS電流メモリセルは、同一チップに配置され
た雑音源により発生し、NMOSトランジスタにより捕
捉される少数電荷キャリアにも感応するようになる。
【0004】特定の用途に対してはNMOS電流メモリ
セルの代わりにPMOS電流メモリセルを用いることが
でき、この際、PMOSトランジスタは任意の雑音のな
い電圧源に接続し得るN型ウエル内に埋設する。この解
決手段はシステムに供給する入力電流およびこれから出
る出力電流の方向が何ら影響を及ぼさない場合にのみ可
能である。しかし、両型式の電流メモリセル、例えば2
方向デジタル−アナログ変換器を用いる必要のあるシス
テムも存在する。この場合には一方の電流メモリセル
(NMOS)が電流シンクとして作用し、他方の電流メ
モリセル(PMOS)が電流源として作用する。
【0005】本発明の目的は、基板電圧の変化には殆ど
感応せず、同一チップの雑音源の少数電荷キャリアにも
感応しない電流シンク型の電流メモリセルを提供せんと
するにある。
【0006】
【課題を解決するための手段】本発明は保持期間前のサ
ンプル期間中に電流端子に現われる入力電流にほぼ等し
い出力電流を保持期間中電流端子に供給する電流メモリ
セルであって、第1電流端子と、ソース、ドレインおよ
びゲートを有し、ドレインを前記第1電流端子に結合す
る第1トランジスタと、前の第1トランジスタのソース
およびゲート間に挿入されたコンデンサと、サンプル期
間中前の第1トランジスタのゲートを第1電流端子に結
合する第1スイッチとを具えるものにおいて、第2電流
端子と、各々がソース、ドレインおよびゲートを有し、
第1トランジスタの導電型とは逆の導電型の第2および
第3トランジスタとを具え、第2トランジスタのドレイ
ンを前記第1電流端子に結合し、第3トランジスタのド
レインを第2電流端子に結合し、第2トランジスタのゲ
ートを第3トランジスタのゲートに接続し、第2および
第3トランジスタのゲートおよびソースにより形成され
るゲート−ソース接合を並列に接続し、他に前記第2お
よび第3トランジスタのゲートを保持期間中前記第1電
流端子に結合し、サンプル期間中第2電流端子に結合す
る第2スイッチを具えることを特徴とする。
【0007】
【作用】第2および第3トランジスタは第2スイッチと
組合せてサンプル期間および保持期間で反転する入力お
よび出力を有するNMOS電流ミラー回路を形成する。
サンプル期間では、第2電流端子に供給される電流を第
1電流端子でコピーし且つ第1トランジスタに入力す
る。保持期間では、第1トランジスタを保持すべき電流
を第1電流端子に流すとともに第2電流端子にコピーす
る。従って保持期間における不正確さは何らの役目も呈
さない。その理由はこの保持期間中の不正確さがサンプ
ル期間の不正確さの反転となるからである。従って基板
電圧の変化は電流ミラー回路の電流転送に何ら影響を及
ぼさない。その理由はこれらの電流変化は両トランジス
タに同様の効果を呈するからである。電流源として配列
された第1トランジスタおよび電流ミラー回路は基板電
圧の変化に感応しない電流シンク型の電流メモリセルを
構成する。第1トランジスタが逆導電型(PMOS)の
トランジスタであるため、このトランジスタは少数電荷
キャリアが流入するのを防止するために分離Nウエル内
に形成するようにする。
【0008】本発明電流メモリセルの第2例は、保持期
間前のサンプル期間中に電流端子に現われる入力電流に
ほぼ等しい出力電流を保持期間中電流端子に供給する電
流メモリセルであって、第1電流端子と、ソース、ドレ
インおよびゲートを有し、ドレインを前記第1電流端子
に結合する第1トランジスタと、前の第1トランジスタ
のソースおよびゲート間に挿入されたコンデンサと、サ
ンプル期間中前の第1トランジスタのゲートを第1電流
端子に結合する第1スイッチとを具えるものにおいて、
第2電流端子と、各々がソース、ドレインおよびゲート
を有し、第1トランジスタの導電型とは逆の導電型の第
2および第3トランジスタとを具え、第2トランジスタ
のドレインを前記第1電流端子に結合し、第3トランジ
スタのドレインを第2電流端子に結合し、第2トランジ
スタのゲートを第3トランジスタのゲートに接続し、第
2および第3トランジスタのゲートおよびソースにより
形成されるゲート−ソース接合を並列に接続し、他に前
記第3トランジスタのゲートおよび第2電流端子間にほ
ぼ一定の電圧差を発生する手段と、前記第2電流端子に
結合されたバイアス電流源とを具えることを特徴とす
る。
【0009】また、第2および第3トランジスタもNM
OS電流ミラー回路を構成する。この場合その入力端子
は第2電流端子を形成するとともにバイアス電流源から
電流を受ける。さらにその出力端子は第1電流端子に結
合する。サンプル期間中、第1電流端子に供給される電
流とバイアス電流源のミラー電流との差に等しい電流が
ダイオード配列の第1トランジスタに流れるようにな
る。また、保持期間中電流源として作用する第1トラン
ジスタの電流とバイアス電流源のミラー電流源との和に
等しい電流が第1電流端子に得られるようになる。この
第2例では電流ミラー回路の不正確さは何ら影響を与え
ない。従って基板電圧変化も電流ミラー回路の電流転送
には何ら影響を与えない。その理由はこれら電圧変化が
両トランジスタに同様に影響するからである。また電流
源配列の第1トランジスタと電流ミラー回路の組合せに
よっても基板電圧変化に感応しない電流シンク型の電流
メモリセルを構成する。さらに、この場合には第1トラ
ンジスタは逆導電型(PMOS)を呈するとともに少数
電荷キャリアが導入するのを防止する分離Nウエルに形
成する。
【0010】両電圧変化において、基板およびトランジ
スタの導電型が互いに逆の導電型、即ち、P型ウエルに
N型基板、PMOS電流ミラー回路およびNMOS蓄積
トランジスタとなるように選定することができる。
【0011】本発明の第3例では、前記第1、第2およ
び第3トランジスタのドレインの少なくとも1つをカス
コード回路を経て関連する電流端子に結合し、このカス
コード回路は、他のバイアス電流源と、ソース、ドレイ
ンおよびゲートを有し、関連する前記第1,第2および
第3トランジスタの導電型と同一導電型のカスコードト
ランジスタおよび負帰還トランジスタとを具え、カスコ
ードトランジスタのドレインを関連する電流端子に接続
し、カスコードトランジスタのソースおよび負帰還トラ
ンジスタのゲートを関連する第1,第2および第3トラ
ンジスタのドレインに接続し、負帰還トランジスタのソ
ースを関連する第1,第2および第3トランジスタのソ
ースに接続し、負帰還トランジスタのドレインおよびカ
スコードトランジスタのゲートをバイアス電流源に接続
するようにしたことを特徴とする。
【0012】カスコード回路によれば、第1,第2およ
び/または第3トランジスタの出力インピーダンスを著
しく増大する。これがため、第1および第2電流端子の
電圧変化は電流端子を流れる電流に殆ど影響を与えず、
これにより電流メモリセルの精度を増大させるようにす
る。
【0013】
【実施例】図面につき本発明の実施例を説明する。図1
は本発明電流メモリセルの第1例を示す。即ち、PMO
SトランジスタP1のソースを正の給電端子1に接続す
る。このトランジスタのゲート−ソース接合をコンデン
サ2により側路し、このコンデンサは別個のコンデン
サ、またはトランジスタP1の内部ゲート−ソース容量
により形成する。トランジスタP1のドレインを第1電
流端子3に結合する。トランジスタP1のゲートおよび
電流端子3間には第1スイッチS1を挿入する。このス
イッチS1は2つの状態AおよびBを有する。状態Aで
は、スイッチS1によりトランジスタP1のゲートを第
1電流端子3に接続する。状態Bでは、この接続を遮断
する。また電流メモリセルには2つのNMOSトランジ
スタN1およびN2を具え、これらトランジスタのソー
スを負の給電端子4に接続するとともにそのゲートを相
互接続する。トランジスタN1のドレインを第1電流端
子3に結合する。トランジスタN2のドレインを第2電
流端子5に結合する。第2スイッチS2によって、両ト
ランジスタN1およびN2のゲートを状態A電流端子第
2電流端子に接続するとともに状態Bでは第1電流端子
に接続する。トランジスタN1およびN2は基板に形成
し、これに基板電圧を基板端子6を経て印加する。トラ
ンジスタP1は例えば正の給電端子1に接続されたN−
ウエル内に形成する。
【0014】サンプル期間中スイッチS1およびS2は
状態Aをとる。従ってトランジスタN1およびN2は電
流ミラー回路を構成し、この場合その第2電流端子5は
入力端子を形成するとともに第1電流端子3は出力端子
を構成する。電流源(図示せず)により第2電流端子5
に供給される電流源Iは電流端子3にコピーされるとと
もにダイオードとして配列されたトランジスタP1を経
て流れる。トランジスタP1を流れる電流を示す電圧を
コンデンサ2の両端間に形成する。サンプル期間後に保
持期間が到来する。次いでスイッチS1およびS2は状
態Bをとる。この場合トランジスタN1およびN2は電
流ミラー回路を構成し、この場合その第1電流端子3は
入力端子を構成し、第2電流端子5は出力端子を構成す
る。従ってトランジスタP1は電流源として配列され、
これにより電流端子3に、前のサンプル期間中にトラン
ジスタP1を流れる電流よりも大きな電流を供給する。
この電流はトランジスタN1およびN2により第2電流
端子5にコピーされるとともに負荷(図示せず)に流れ
るようになる。
【0015】電流端子5では、トランジスタ構体P1、
N1およびN2は電流シンクとして作用し、従って電流
Iは電流端子5で捕捉されるようになる。かかる電流シ
ンクは、トランジスタP1およびスイッチS1の構体と
相補を成す構体でスイッチを有する単一NMOSトラン
ジスタにより達成させることができる。この場合には基
板電圧は基板効果のため供給電流に影響を与えるように
なる。この効果は基板を単一NMOSトランジスタのソ
ースに部分的に接続することにより低減させることがで
きる。これは常時満足に行い得るものではない。その理
由はこれがゲートの下側の基板まで到達し得ないからで
ある。さらに、特に複雑な集積回路ではソースが接続さ
れた負の給電端子4を基板接続部6に結合するのは不所
望である。図に示す電流メモリセルは基板電圧に不感応
となる電流シンクの特性を示す。PMOSトランジスタ
P1は雑音のない電圧源に接続され得るN−ウエルに埋
設する。電流ミラー回路N1−N2の電流転送は基板電
圧には影響を受けない。その理由はこれら電流ミラー回
路がこれらトランジスタN1およびN2に等しく影響を
受けるからである。
【0016】トランジスタN1およびN2の不等性は保
持期間の電流メモリセルはサンプル期間に存在する電流
をコピーする精度には何ら影響を与えない。サンプル期
間および保持期間のにおけるコピーは互いに逆となるた
め、この不等性は除去されるようになる。
【0017】スイッチS1およびS2は例えばMOSト
ランジスタによって既知のように形成することができ
る。 また、電流メモリセルの精度は電流端子3および
5の電圧変化によっても決まる。これら変化はトランジ
スタP1、N1およびN2の有限出力インピーダンスか
ら生じる電流端子を流れる電流に影響を与えるようにな
る。これらトランジスタをカスコード接続することによ
り出力インピーダンスを大きくすることができる。
【0018】図2はトランジスタP1、N1およびN2
がそれぞれカスコード回路を具える電流メモリセル第1
例の他の例を示す。しかし、全てのトランジスタがカス
コード回路を具えない場合も存在する。本例では、トラ
ンジスタN1のカスコード回路はカスコードトランジス
タNC1と、負帰還トランジスタNF1と、バイアス電
流源7とを具える。カスコードトランジスタNC1およ
び負帰還トランジスタNF1はトランジスタN1と同一
導電型とする。カスコードトランジスタNC1のドレイ
ンを第1電流端子3に接続する。カスコードトランジス
タNC1のソースをトランジスタN1のドレインに接続
するとともに負帰還トランジスタNF1のゲートに接続
し、この負帰還トランジスタのソースを負の給電端子4
に接続する。カスコードトランジスタNC1のゲートを
負帰還トランジスタNF1のドレインに接続する。バイ
アス電流源7によって負帰還トランジスタNF1のドレ
インにバイアス電流を供給するとともに負帰還トランジ
スタNF1に対する高インピーダンス負荷を形成する。
トランジスタN1のドレイン−ソース電圧の変化は負帰
還トランジスタNF1により増幅するとともに反転し、
且つカスコードトランジスタNC1を経て帰還する。こ
れがため、トランジスタN1により供給された電流はほ
ぼ一定となる。トランジスタN2およびP1に対しても
同様のカスコード回路を配列し、従ってカスコードトラ
ンジスタに対しNC2およびPC1の符号を付し、負帰
還トランジスタに対しNF2およびPF1を付し、バイ
アス電流源に対し8および9をそれぞれ付す。
【0019】図3はトランジスタP1、N1およびN2
に対し交互のカスコード回路を具える第2の例を示す。
図2に示す回路の負帰還トランジスタNF1、NF2お
よびPF1は省略するとともにバイアス電流源7、8お
よび9の代わりにバイアス電圧源10、11および12
を用い、これにより好適に選択されたバイアス電流をカ
スコードトランジスタNC1、NC2およびPC1のゲ
ートに供給する。
【0020】図4は電流メモリセルの第2の例を示す。
本例では、字1に示す第1変形例の回路と同様の回路を
示す。この第2の変形例から明らかなようにスイッチS
2は省略する。トランジスタN2のゲートおよび第2電
流端子5間の電圧差を短絡回路ライン21により一定レ
ベルに保持する。電圧ホロワ、例えばソースホロワによ
っても同様の高かを得ることができる。この場合ソース
ホロワのゲートを第2電流端子5に接続するとともにそ
のソースをトランジスタN2のゲートに接続する。これ
がため、トランジスタN1およびN2によって電流ミラ
ー回路を形成し、この場合その第2電流端子5を入力端
子とし、第1電流端子を出力端子とする。第2電流端子
5はバイアス電流源20に結合し、これによりバイアス
電流IOを発生する。このバイアス電流IOはミラー化
してミラー電流I1として第1電流端子3に流れる。サ
ンプル期間中スイッチS1は状態Aにある。従って電流
I3は電流源(図示せず)により第1電流端子3び供給
される。これがため、電流I1−I3に等しい差電流I
2はトランジスタP1に流れるようになる。保持期間中
スイッチS1は状態Bにある。従ってトランジスタP1
によって電流I2=I1−I3を第1電流端子3に供給
し、この電流端子I2も電流ミラー回路のトランジスタ
N1およびN2によりこの端子から取出す。これがため
電流I2=I1−I3に等しい電流を第1電流端子3に
供給する。従ってサンプル期間中第1電流端子3に供給
される電流は保持期間中負荷(図示せず)の両端間に得
るようにする。
【0021】図5および図6は第2変形例の第1および
第2例を示し、本例の特徴は図2および図3にそれぞれ
示すものと同一であり、従ってその説明は省略する。
【0022】電流メモリセルのこれら変形例はP型基板
に設けられた2つのNMOSトランジスタN1およびN
2と、N−ウエルに設けられたPMOSトランジスタを
有するものとして説明した。或は又、電流ミラー回路と
しての2つのPMOSトランジスタおよび蓄積電流源と
してのP−ウエルに設けられた1つのNMOSトランジ
スタを具えるN型基板を基材として用いることもでき
る。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明電流メモリセルの第1例の構成を示す回
路図である。
【図2】本発明電流メモリセルの第1例の他の構成を示
す回路図である。
【図3】本発明電流メモリセルの第1例の更に他の構成
を示す回路図である。
【図4】本発明電流メモリセルの第2例の構成を示す回
路図である。
【図5】本発明電流メモリセルの第2例の他の構成を示
す回路図である。
【図6】本発明電流メモリセルの第2例の更に他の構成
を示す回路図である。
【符号の説明】
1 正の給電端子 2 コンデンサ 3 第1電流端子 4 負の給電端子 5 第2電流端子 6 基板接続部 7 バイアス電流源 8 バイアス電流源 9 バイアス電流源 10 バイアス電圧源 11 バイアス電圧源 12 バイアス電圧源 P1 PMOSトランジスタ N1,N2 NMOSトランジスタ S1,S2 スイッチ PC1 カスコードトランジスタ PF1 負帰還トランジスタ NC1,NC2 カスコードトランジスタ NF1,NF2 負帰還トランジスタ 20 バイアス電流源 21 短絡回路ライン
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (73)特許権者 590000248 Groenewoudseweg 1, 5621 BA Eindhoven, T he Netherlands (72)発明者 ヘンドリカス ヨハネス スホーウェナ ールス オランダ国 5621 ベーアー アインド ーフェン フルーネバウツウェッハ1 (56)参考文献 米国特許4864217(US,A) 米国特許5023489(US,A) 米国特許5109169(US,A) (58)調査した分野(Int.Cl.7,DB名) G05F 3/24 G11C 27/02 H03M 1/74

Claims (4)

    (57)【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 保持期間前のサンプル期間中に電流端子
    に現われる入力電流にほぼ等しい出力電流を保持期間中
    電流端子に供給する電流メモリセルであって、第1電流
    端子(3)と、ソース、ドレインおよびゲートを有し、
    ドレインを前記第1電流端子(3)に結合する第1トラ
    ンジスタ(P1)と、前の第1トランジスタ(P1)の
    ソースおよびゲート間に挿入されたコンデンサ(2)
    と、サンプル期間中前の第1トランジスタ(P1)のゲ
    ートを第1電流端子(3)に結合する第1スイッチ(S
    1)とを具えるものにおいて、第2電流端子(5)と、
    各々がソース、ドレインおよびゲートを有し、第1トラ
    ンジスタ(P1)の導電型とは逆の導電型の第2および
    第3トランジスタ(N1,N2)とを具え、第2トラン
    ジスタ(N1)のドレインを前記第1電流端子(3)に
    結合し、第3トランジスタ(N2)のドレインを第2電
    流端子(5)に結合し、第2トランジスタ(N1)のゲ
    ートを第3トランジスタ(N2)のゲートに接続し、第
    2および第3トランジスタ(N1,N2)のゲートおよ
    びソースにより形成されるゲート−ソース接合を並列に
    接続し、他に前記第2および第3トランジスタ(N1,
    N2)のゲートを保持期間中前記第1電流端子(3)に
    結合し、サンプル期間中第2電流端子(5)に結合する
    第2スイッチ(S2)を具えることを特徴とする電流メ
    モリセル。
  2. 【請求項2】 保持期間前のサンプル期間中に電流端子
    に現われる入力電流にほぼ等しい出力電流を保持期間中
    電流端子に供給する電流メモリセルであって、第1電流
    端子(3)と、ソース、ドレインおよびゲートを有し、
    ドレインを前記第1電流端子(3)に結合する第1トラ
    ンジスタ(P1)と、前の第1トランジスタ(P1)の
    ソースおよびゲート間に挿入されたコンデンサ(2)
    と、サンプル期間中前の第1トランジスタ(P1)のゲ
    ートを第1電流端子(3)に結合する第1スイッチ(S
    1)とを具えるものにおいて、第2電流端子(5)と、
    各々がソース、ドレインおよびゲートを有し、第1トラ
    ンジスタ(P1)の導電型とは逆の導電型の第2および
    第3トランジスタ(N1,N2)とを具え、第2トラン
    ジスタ(N1)のドレインを前記第1電流端子(3)に
    結合し、第3トランジスタ(N2)のドレインを第2電
    流端子(5)に結合し、第2トランジスタ(N1)のゲ
    ートを第3トランジスタ(N2)のゲートに接続し、第
    2および第3トランジスタ(N1,N2)のゲートおよ
    びソースにより形成されるゲート−ソース接合を並列に
    接続し、他に前記第3トランジスタ(N2)のゲートお
    よび第2電流端子(5)間にほぼ一定の電圧差を発生す
    る手段(21)と、前記第2電流端子(5)に結合され
    たバイアス電流源(20)とを具えることを特徴とする
    電流メモリセル。
  3. 【請求項3】 前記第1、第2および第3トランジスタ
    (P1,N1,N2)のドレインの少なくとも1つをカ
    スコード回路を経て関連する電流端子(3,3,5)に
    結合し、このカスコード回路は、他のバイアス電流源
    (9,7,8)と、ソース、ドレインおよびゲートを有
    し、関連する前記第1,第2および第3トランジスタの
    導電型と同一導電型のカスコードトランジスタ(PC
    1,NC1,NC2)および負帰還トランジスタ(PF
    1,NF1,NF2)とを具え、カスコードトランジス
    タのドレインを関連する電流端子に接続し、カスコード
    トランジスタのソースおよび負帰還トランジスタのゲー
    トを関連する第1,第2および第3トランジスタのドレ
    インに接続し、負帰還トランジスタのソースを関連する
    第1,第2および第3トランジスタのソースに接続し、
    負帰還トランジスタのドレインおよびカスコードトラン
    ジスタのゲートをバイアス電流源に接続するようにした
    ことを特徴とする請求項1または2に記載の電流メモリ
    セル。
  4. 【請求項4】 前記第1、第2および第3トランジスタ
    (P1,N1,N2)のドレインの少なくとも1つをカ
    スコード回路により関連する電流端子(3,3,5)に
    結合し、このカスコード回路は、バイアス電圧源(1
    2,10,11)と、ソース、ドレインおよびゲートを
    有し、関連する前記第1,第2および第3トランジスタ
    の導電型と同一導電型のカスコードトランジスタ(PC
    1,NC1,NC2)を具え、前記カスコードトランジ
    スタのドレインを関連する電流端子に接続し、カスコー
    ドトランジスタのソースを関連する前記第1,第2およ
    び第3トランジスタのドレインに接続し、カスコードト
    ランジスタのゲートをバイアス電圧源に接続するように
    したことを特徴とする請求項1または2に記載の電流メ
    モリセル。
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