JP3315238B2 - 感光材料用支持体の真空処理用シール方法及び装置 - Google Patents
感光材料用支持体の真空処理用シール方法及び装置Info
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- G03C1/76—Photosensitive materials characterised by the base or auxiliary layers
- G03C1/91—Photosensitive materials characterised by the base or auxiliary layers characterised by subbing layers or subbing means
- G03C1/915—Photosensitive materials characterised by the base or auxiliary layers characterised by subbing layers or subbing means using mechanical or physical means therefor, e.g. corona
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Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本願発明は、グロー放電処理等の
真空処理を行なう際、大気と真空との遮断を行なうため
のシール方法及び装置に関するものであり、より具体的
には、感光材料用の支持体についてグロー放電処理を連
続的に行なう際のシール方法及び装置に関するものであ
る。
真空処理を行なう際、大気と真空との遮断を行なうため
のシール方法及び装置に関するものであり、より具体的
には、感光材料用の支持体についてグロー放電処理を連
続的に行なう際のシール方法及び装置に関するものであ
る。
【０００２】
【従来の技術】従来プラスチックフィルム、金属板等に
対し、その表面に設けられた樹脂層或いは金属層との接
着力を向上させる目的で、真空グロー放電処理、無電極
プラズマ放電処理等の低温プラズマ処理、コロナ放電処
理、紫外線照射処理等種々の表面処理が行われている。
特にポリマーフィルムに対して接着性、親水性、染色性
等の改良のために真空グロー放電処理を行なうことが知
られている。真空グロー放電処理については、例えば米
国特許第３，４６２，３３５号、同３，７６１，２９９
号、同４，０７２，７６９号等に記載されている。特に
写真感光材料の支持体については、平面性や表面特性を
損なわずにグロー放電処理が好ましく用いられる例が、
特開昭５９−５６４３０号、特公昭６０−１６６１４
号、特公平３−３９１０６号等の各公報に開示されてい
る他、本件出願人が提出した特願平５−１４７８６４
号、同５−１９９７０４号等に提案されている。
対し、その表面に設けられた樹脂層或いは金属層との接
着力を向上させる目的で、真空グロー放電処理、無電極
プラズマ放電処理等の低温プラズマ処理、コロナ放電処
理、紫外線照射処理等種々の表面処理が行われている。
特にポリマーフィルムに対して接着性、親水性、染色性
等の改良のために真空グロー放電処理を行なうことが知
られている。真空グロー放電処理については、例えば米
国特許第３，４６２，３３５号、同３，７６１，２９９
号、同４，０７２，７６９号等に記載されている。特に
写真感光材料の支持体については、平面性や表面特性を
損なわずにグロー放電処理が好ましく用いられる例が、
特開昭５９−５６４３０号、特公昭６０−１６６１４
号、特公平３−３９１０６号等の各公報に開示されてい
る他、本件出願人が提出した特願平５−１４７８６４
号、同５−１９９７０４号等に提案されている。
【０００３】薄膜帯状の支持体に対して真空処理を連続
的に行なう場合には、大気から真空中に支持体を導入
し、処理した後に再び大気中に導出するという工程とな
るため、大気と真空との間を遮蔽 (シール) しつつ支持
体の導入・導出を行なう手段が必要となる。このような
手段として、例えば特開平１−２７２７６７号、同１２
５９１６９号、同１−２８７２７５号、及び特表平５−
５０７３８３号等の各公報に、真空蒸着装置のシール装
置が提案され、また低温プラズマ処理装置のシール装置
の例が特表平５−５０７３８３号公報に開示されてい
る。
的に行なう場合には、大気から真空中に支持体を導入
し、処理した後に再び大気中に導出するという工程とな
るため、大気と真空との間を遮蔽 (シール) しつつ支持
体の導入・導出を行なう手段が必要となる。このような
手段として、例えば特開平１−２７２７６７号、同１２
５９１６９号、同１−２８７２７５号、及び特表平５−
５０７３８３号等の各公報に、真空蒸着装置のシール装
置が提案され、また低温プラズマ処理装置のシール装置
の例が特表平５−５０７３８３号公報に開示されてい
る。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】図５に、特開平１−２
８７２７５号公報に記載の真空蒸着装置のシール装置を
示す。特開平１−２８７２７５号公報に記載のシール装
置は、３本一組のピンチローラからなるシールローラ１
００により、大気中から真空室までを複数の圧力室に区
切り、ウエブＷをシールローラ１００に対して１０°以
上のラップ角で巻き付けて走行させる構成である。しか
し、この装置は、２０μｍ程度の厚さのウエブＷのバタ
ツキを防止するためには有効であるとしているが、ウエ
ブＷの厚さが８０μｍ以上になると、ウエブＷの剛性等
の差により走行状況が異なり、ウエブＷとローラ１００
との間に巻き込まれる大気の量も異なる。例えば写真感
光材料支持体用のポリエステルフィルムのようなウエブ
Ｗの場合には、１０度程度のラップ角ではローラ１００
による搬送性能が充分ではなく、バタツキの問題が解決
されない。このように、ウエブＷのバタツキが生じる
と、ウエブＷのローラ１００との接触面に微小なスリキ
ズが発生して、ウエブの平面性や表面特性が損なわれて
しまう。
８７２７５号公報に記載の真空蒸着装置のシール装置を
示す。特開平１−２８７２７５号公報に記載のシール装
置は、３本一組のピンチローラからなるシールローラ１
００により、大気中から真空室までを複数の圧力室に区
切り、ウエブＷをシールローラ１００に対して１０°以
上のラップ角で巻き付けて走行させる構成である。しか
し、この装置は、２０μｍ程度の厚さのウエブＷのバタ
ツキを防止するためには有効であるとしているが、ウエ
ブＷの厚さが８０μｍ以上になると、ウエブＷの剛性等
の差により走行状況が異なり、ウエブＷとローラ１００
との間に巻き込まれる大気の量も異なる。例えば写真感
光材料支持体用のポリエステルフィルムのようなウエブ
Ｗの場合には、１０度程度のラップ角ではローラ１００
による搬送性能が充分ではなく、バタツキの問題が解決
されない。このように、ウエブＷのバタツキが生じる
と、ウエブＷのローラ１００との接触面に微小なスリキ
ズが発生して、ウエブの平面性や表面特性が損なわれて
しまう。
【０００５】また、特表平５−５０７３８３号公報に
は、ローラによりウエブをニップして搬送する構成が開
示されているが、この構成では、ローラとウエブとの摺
接が避けられず、ウエブにはスリキズが発生し、やはり
ウエブの平面性や表面特性が損なわれてしまう。本発明
の目的は、特に写真感光材料の支持体のように機械的な
障害に敏感な素材について、真空搬送中でのバタツキを
防止し、スリキズの発生を防止できる真空処理用シール
方法及び装置を提供することにある。
は、ローラによりウエブをニップして搬送する構成が開
示されているが、この構成では、ローラとウエブとの摺
接が避けられず、ウエブにはスリキズが発生し、やはり
ウエブの平面性や表面特性が損なわれてしまう。本発明
の目的は、特に写真感光材料の支持体のように機械的な
障害に敏感な素材について、真空搬送中でのバタツキを
防止し、スリキズの発生を防止できる真空処理用シール
方法及び装置を提供することにある。
【０００６】
【課題を解決するための手段】本発明の上記目的は、薄
膜帯状の支持体を連続的に大気中から真空中に導入して
表面処理を行い、再び大気中に導出する方法において、
該支持体の導入部及び導出部の大気と真空との遮断部
を、僅かな間隙を挟んで互いに近接する支持体導入用ロ
ーラ及び支持体導出用ローラのローラ対を整列させたシ
ールローラ群で構成し、該シールローラ群の少なくとも
最も大気寄りに位置するローラ対に対して、支持体を３
０〜１５０度の角度でラップさせつつ該支持体の導入・
導出を行うことを特徴とする感光材料用支持体の真空処
理用シール方法によって達成される。
膜帯状の支持体を連続的に大気中から真空中に導入して
表面処理を行い、再び大気中に導出する方法において、
該支持体の導入部及び導出部の大気と真空との遮断部
を、僅かな間隙を挟んで互いに近接する支持体導入用ロ
ーラ及び支持体導出用ローラのローラ対を整列させたシ
ールローラ群で構成し、該シールローラ群の少なくとも
最も大気寄りに位置するローラ対に対して、支持体を３
０〜１５０度の角度でラップさせつつ該支持体の導入・
導出を行うことを特徴とする感光材料用支持体の真空処
理用シール方法によって達成される。
【０００７】本発明において、支持体として、厚さ８０
〜１９０μｍのポリエチレンナフタレートフィルム又は
ポリエチレンテレフタレートのフィルムを用いる場合に
特に有効である。本発明において、支持体の両側端部に
ナーリング処理を施した場合には、支持体を５０〜１２
０度の範囲でシールローラにラップさせつつ支持体の導
入・導出を行うことが好ましい。本発明において、支持
体の幅は４００ｍｍ以上が好ましく、特に１０００〜２
０００ｍｍが好ましい。
〜１９０μｍのポリエチレンナフタレートフィルム又は
ポリエチレンテレフタレートのフィルムを用いる場合に
特に有効である。本発明において、支持体の両側端部に
ナーリング処理を施した場合には、支持体を５０〜１２
０度の範囲でシールローラにラップさせつつ支持体の導
入・導出を行うことが好ましい。本発明において、支持
体の幅は４００ｍｍ以上が好ましく、特に１０００〜２
０００ｍｍが好ましい。
【０００８】
【作用】シールローラ群の少なくとも最も大気寄りに位
置するローラ対に対して、支持体を３０〜１５０度のラ
ップ角でラップさせつつ支持体の導入・導出を行うこと
により、搬送中の支持体のバタツキを防止することがで
き、バタツキに起因する支持体のスリキズを防止するこ
とができる。ラップ角を３０〜１５０度とするシールロ
ーラ対は、最も大気寄りに位置するローラ対だけでもバ
タツキ防止及びスリキズ防止の効果があるが、すべての
シールローラ対へのラップ角を３０〜１５０度としても
よい。
置するローラ対に対して、支持体を３０〜１５０度のラ
ップ角でラップさせつつ支持体の導入・導出を行うこと
により、搬送中の支持体のバタツキを防止することがで
き、バタツキに起因する支持体のスリキズを防止するこ
とができる。ラップ角を３０〜１５０度とするシールロ
ーラ対は、最も大気寄りに位置するローラ対だけでもバ
タツキ防止及びスリキズ防止の効果があるが、すべての
シールローラ対へのラップ角を３０〜１５０度としても
よい。
【０００９】本発明の構成を図１及び図２を用いて説明
する。図１に本発明に用いる真空処理装置全体の概念図
を、図２に支持体を連続的に大気中から真空中に導入
し、真空中で表面処理を行った後再び大気中に導出する
支持体の導入導出部の説明図を示す。図１において、真
空処理装置２は真空処理室３、支持体導入導出部４及び
外部搬送系５とからなる。真空処理室３の内部には、表
面処理部６（例えばグロー放電処理部）と、支持体１を
表面処理部６に案内する内部搬送系７を備えている。内
部搬送系７には、更に選ばれる条件に応じて適宜搬送制
御（速度、テンション、エッジポジション等の制御）
や、温度制御（表面処理温度までの加熱、処理後の冷却
等の制御）、帯電制御（搬送中の帯電の除去等）等に必
要な手段を加えることができる。
する。図１に本発明に用いる真空処理装置全体の概念図
を、図２に支持体を連続的に大気中から真空中に導入
し、真空中で表面処理を行った後再び大気中に導出する
支持体の導入導出部の説明図を示す。図１において、真
空処理装置２は真空処理室３、支持体導入導出部４及び
外部搬送系５とからなる。真空処理室３の内部には、表
面処理部６（例えばグロー放電処理部）と、支持体１を
表面処理部６に案内する内部搬送系７を備えている。内
部搬送系７には、更に選ばれる条件に応じて適宜搬送制
御（速度、テンション、エッジポジション等の制御）
や、温度制御（表面処理温度までの加熱、処理後の冷却
等の制御）、帯電制御（搬送中の帯電の除去等）等に必
要な手段を加えることができる。
【００１０】図２に示す支持体１の導入導出部４は、ケ
ーシング８の中に、複数の支持体導入ローラ９を縦に整
列させた支持体導入ローラ群、同じく複数の支持体導出
ローラ１０を縦に整列させた支持体導出ローラ群、及び
ケーシング８内の各区画のシールを補助する補助シール
ローラ１１を縦に整列させた補助シールローラ群を備え
ている。そして、これらの支持体導入ローラ９と、支持
体導出ローラ１０と、補助シールローラ１１とで一組の
シールローラ対を構成している。更に、導入送出部４
は、支持体導入ローラ群及び支持体導出ローラ群に所定
のラップ角θを与えるための補助ローラ１２を、支持体
導入ローラ群及び支持体導出ローラ群の各間に備えてい
る。補助ローラ１２の図中左右方向の位置を調整するこ
とにより、支持体導入ローラ群及び支持体導出ローラ群
への支持体１のラップ角θを調整することができる。支
持体導入ローラ９、支持体導出ローラ１０はそれぞれ横
並びの隣のローラとの間に僅かな間隙Ｓをおいてローラ
対を成すように配置される。図２においては、更に補助
シールローラ１１が支持体導出ローラ１０とも同様に僅
かな間隙Ｓをおいて対をなすように配置されている。
ーシング８の中に、複数の支持体導入ローラ９を縦に整
列させた支持体導入ローラ群、同じく複数の支持体導出
ローラ１０を縦に整列させた支持体導出ローラ群、及び
ケーシング８内の各区画のシールを補助する補助シール
ローラ１１を縦に整列させた補助シールローラ群を備え
ている。そして、これらの支持体導入ローラ９と、支持
体導出ローラ１０と、補助シールローラ１１とで一組の
シールローラ対を構成している。更に、導入送出部４
は、支持体導入ローラ群及び支持体導出ローラ群に所定
のラップ角θを与えるための補助ローラ１２を、支持体
導入ローラ群及び支持体導出ローラ群の各間に備えてい
る。補助ローラ１２の図中左右方向の位置を調整するこ
とにより、支持体導入ローラ群及び支持体導出ローラ群
への支持体１のラップ角θを調整することができる。支
持体導入ローラ９、支持体導出ローラ１０はそれぞれ横
並びの隣のローラとの間に僅かな間隙Ｓをおいてローラ
対を成すように配置される。図２においては、更に補助
シールローラ１１が支持体導出ローラ１０とも同様に僅
かな間隙Ｓをおいて対をなすように配置されている。
【００１１】ケーシング８と支持体導入ローラ９との近
接部、並びにケーシング８と補助シールローラ１１との
近接部には、それぞれのローラと摺接するシールバー１
４を備え、ケーシング８内の各小室間の気体の移動を遮
断している。シールバー１４で区切られるケーシング８
の各小室は、図示していない減圧手段に個別に接続され
ており、大気に面した部分から真空処理室にかけて次第
に真空度を高めていくように構成されている。
接部、並びにケーシング８と補助シールローラ１１との
近接部には、それぞれのローラと摺接するシールバー１
４を備え、ケーシング８内の各小室間の気体の移動を遮
断している。シールバー１４で区切られるケーシング８
の各小室は、図示していない減圧手段に個別に接続され
ており、大気に面した部分から真空処理室にかけて次第
に真空度を高めていくように構成されている。
【００１２】支持体導入ローラ９と、支持体導出ローラ
１０の各横並びのローラの間隙Ｓは、支持体の厚さより
５０μｍ以上大きい値とする。前出の従来技術のように
間隙をゼロとする、即ちローラがニップすることは、必
要な真空度を短い導入導出部で得る上では有利である
が、ローラがニップする構成は、写真感光材料用支持体
のようなスリキズに敏感な支持体には採用できない。ま
た、支持体を接合して連続的に処理を行う場合、支持体
の接合部がニップ部を適正に通過するために特別な操作
を必要とする。したがって、本発明のように、スリキズ
の防止を完全にするためにローラ間に間隙を形成するこ
とが極めて有効である。
１０の各横並びのローラの間隙Ｓは、支持体の厚さより
５０μｍ以上大きい値とする。前出の従来技術のように
間隙をゼロとする、即ちローラがニップすることは、必
要な真空度を短い導入導出部で得る上では有利である
が、ローラがニップする構成は、写真感光材料用支持体
のようなスリキズに敏感な支持体には採用できない。ま
た、支持体を接合して連続的に処理を行う場合、支持体
の接合部がニップ部を適正に通過するために特別な操作
を必要とする。したがって、本発明のように、スリキズ
の防止を完全にするためにローラ間に間隙を形成するこ
とが極めて有効である。
【００１３】一方、本発明の方法においては、段階的に
真空度の異なる小室を逐次通過しながら支持体を搬送す
るために、圧力差によって生ずる各間隙における空気の
流れに起因する支持体のバタツキを防止する配慮が必要
となる。本発明においては、対象となる支持体の素材の
物理的性質、厚さ等を考慮し、３０〜１５０度、好まし
くは５０〜１２０度の範囲のラップ角θを持たせて搬送
することにより、支持体のバタツキを防止し、且つスリ
キズを発生させることなく、搬送が可能である。これに
対し、ラップ角θが３０度以下ではバタツキに起因する
スリキズ発生の機会が増し、１５０度以上ではローラと
のキシミ等に起因するスリキズ発生の機会が増す。
真空度の異なる小室を逐次通過しながら支持体を搬送す
るために、圧力差によって生ずる各間隙における空気の
流れに起因する支持体のバタツキを防止する配慮が必要
となる。本発明においては、対象となる支持体の素材の
物理的性質、厚さ等を考慮し、３０〜１５０度、好まし
くは５０〜１２０度の範囲のラップ角θを持たせて搬送
することにより、支持体のバタツキを防止し、且つスリ
キズを発生させることなく、搬送が可能である。これに
対し、ラップ角θが３０度以下ではバタツキに起因する
スリキズ発生の機会が増し、１５０度以上ではローラと
のキシミ等に起因するスリキズ発生の機会が増す。
【００１４】本発明において処理対象として適用できる
支持体用素材としては、例えばポリエチレンテレフタレ
ート、ポリエチレンナフタレート、ポリブチレンテレフ
タレート、ポリ−１，４−シクロヘキサンジメチレンテ
レフタレート、ポリエチレン１，２−ジフェノキシエタ
ン−４，４’−ジカルボキシレート、ポリエチレンフタ
レート金属スルホネートを有する芳香族ジカルボン酸を
共重合成分とする共重合ポリエステル、金属スルホネー
トを有する芳香族ジカルボン酸と脂肪族ジカルボン酸を
共重合成分とする共重合ポリエステル等のポリエステ
ル、セルローストリアセテート、セルロースジアセテー
ト、セルロースプロピオネート、セルロースアセテート
プロピオネート、セルロースブチレート、セルロースア
セテートブチレート等のセルロースエステル、ポリアミ
ド、ポリカーボネート、ポリスチレン、ポリプロピレ
ン、ポリエチレン、ポリメチルペンテン、ポリスルホ
ン、ポリエーテルスルホン、ポリアリレート、芳香族ポ
リエーテルイミド、ポリフェニレンサルファイド等が挙
げられる。
支持体用素材としては、例えばポリエチレンテレフタレ
ート、ポリエチレンナフタレート、ポリブチレンテレフ
タレート、ポリ−１，４−シクロヘキサンジメチレンテ
レフタレート、ポリエチレン１，２−ジフェノキシエタ
ン−４，４’−ジカルボキシレート、ポリエチレンフタ
レート金属スルホネートを有する芳香族ジカルボン酸を
共重合成分とする共重合ポリエステル、金属スルホネー
トを有する芳香族ジカルボン酸と脂肪族ジカルボン酸を
共重合成分とする共重合ポリエステル等のポリエステ
ル、セルローストリアセテート、セルロースジアセテー
ト、セルロースプロピオネート、セルロースアセテート
プロピオネート、セルロースブチレート、セルロースア
セテートブチレート等のセルロースエステル、ポリアミ
ド、ポリカーボネート、ポリスチレン、ポリプロピレ
ン、ポリエチレン、ポリメチルペンテン、ポリスルホ
ン、ポリエーテルスルホン、ポリアリレート、芳香族ポ
リエーテルイミド、ポリフェニレンサルファイド等が挙
げられる。
【００１５】この他本発明が適用できる支持体の例は、
特開平１−２４４４４６号、同３−５４５５１号、同３
−８４５４２号、同４−２２０３２９号、同４−２３４
０３９号、同４−２３５０３６号、同５−３０７２２９
号、同５−３０７２３０号、欧州特許第５７２，２７５
−Ａ１号の各公報にも開示されている。本発明は、上記
支持体のいずれか、或いはそれらのポリマーブレンドに
適用できるものであるが、特にポリエチレンテレフタレ
ート、ポリエチレンナフタレート等のポリエステルフィ
ルムに好ましく適用できる。これらのポリエステルフィ
ルムを用いる場合の好ましい厚みの範囲は８０〜１９０
μｍである。
特開平１−２４４４４６号、同３−５４５５１号、同３
−８４５４２号、同４−２２０３２９号、同４−２３４
０３９号、同４−２３５０３６号、同５−３０７２２９
号、同５−３０７２３０号、欧州特許第５７２，２７５
−Ａ１号の各公報にも開示されている。本発明は、上記
支持体のいずれか、或いはそれらのポリマーブレンドに
適用できるものであるが、特にポリエチレンテレフタレ
ート、ポリエチレンナフタレート等のポリエステルフィ
ルムに好ましく適用できる。これらのポリエステルフィ
ルムを用いる場合の好ましい厚みの範囲は８０〜１９０
μｍである。
【００１６】ポリマーフィルムについての真空グロー放
電処理に用いられる条件、即ち真空度、放電処理強度、
放電周波数、処理温度、雰囲気ガス等の条件は、処理対
象となる支持体の組成や処理目的に従って適宜選択され
るが、例えば圧力０．００５〜２０Ｔｏｒｒ、好ましく
は０．０２〜２Ｔｏｒｒ、電圧５００〜５０００Ｖ、好
ましくは２０００〜４０００Ｖ、放電周波数は直流から
数千ＭＨｚ、好ましくは５０Ｈｚ〜２０ＭＨｚ、更に好
ましくは１ＫＨｚ〜１ＭＨｚ、放電処理強度は０．０１
〜５ＫＶ・Ａ・分／ｍ2 、好ましくは０．１５〜１ＫＶ
・Ａ・分／ｍ2である。
電処理に用いられる条件、即ち真空度、放電処理強度、
放電周波数、処理温度、雰囲気ガス等の条件は、処理対
象となる支持体の組成や処理目的に従って適宜選択され
るが、例えば圧力０．００５〜２０Ｔｏｒｒ、好ましく
は０．０２〜２Ｔｏｒｒ、電圧５００〜５０００Ｖ、好
ましくは２０００〜４０００Ｖ、放電周波数は直流から
数千ＭＨｚ、好ましくは５０Ｈｚ〜２０ＭＨｚ、更に好
ましくは１ＫＨｚ〜１ＭＨｚ、放電処理強度は０．０１
〜５ＫＶ・Ａ・分／ｍ2 、好ましくは０．１５〜１ＫＶ
・Ａ・分／ｍ2である。
【００１７】真空グロー放電処理の温度については、対
象とする支持体のガラス転移点を考慮して選択するが、
上記の支持体素材に対しては概ね５０℃〜（ガラス転移
点＋４０）℃程度の範囲である。例えばポリエチレンテ
レフタレートフィルムに対しては５０〜１００℃、ポリ
エチレンナフタレートフィルムに対しては５０〜１２０
℃の範囲が好ましく用いられる。なお、グロー放電処理
を施すことにより支持体の温度が上昇し、ガラス転移点
を大幅に超過する場合があるが、例えば特公平３−３９
１０６号公報に記載された方法により、グロー放電処理
後、ガラス転移点以下になるまで所定のパターンで冷却
する方法が採用できる。即ち、グロー放電処理後の支持
体を数本の冷却ローラで冷却し、その際、冷却される支
持体の温度差が４０℃以下になるように順次冷却する方
法を採用することができる。
象とする支持体のガラス転移点を考慮して選択するが、
上記の支持体素材に対しては概ね５０℃〜（ガラス転移
点＋４０）℃程度の範囲である。例えばポリエチレンテ
レフタレートフィルムに対しては５０〜１００℃、ポリ
エチレンナフタレートフィルムに対しては５０〜１２０
℃の範囲が好ましく用いられる。なお、グロー放電処理
を施すことにより支持体の温度が上昇し、ガラス転移点
を大幅に超過する場合があるが、例えば特公平３−３９
１０６号公報に記載された方法により、グロー放電処理
後、ガラス転移点以下になるまで所定のパターンで冷却
する方法が採用できる。即ち、グロー放電処理後の支持
体を数本の冷却ローラで冷却し、その際、冷却される支
持体の温度差が４０℃以下になるように順次冷却する方
法を採用することができる。
【００１８】真空中では、支持体をローラにより搬送す
る際に空気層の同伴がないために、一般にローラの支持
体保持力は強くなる。このような条件下では、支持体に
よって運ばれる、或いは雰囲気中から飛来する異物が、
支持体に付着しパスローラに乗ることによって支持体に
ダメージを与えることがある。このため、特に本発明に
おける大気から真空への支持体導入部には、防塵・除塵
の手段を施すことが重要である。また、真空中で支持体
の搬送によって生ずる静電気は、水蒸気等の媒体がない
ために大気中に比べて逃れにくく、高い荷電を持ったま
ま大気中に導出されてくることがある。荷電電圧が高い
と大気中の搬送でゴミを引きつけやすくなり、上記と同
様支持体にダメージを与え易い。このため、本発明にお
ける支持体導出部には、導電バー等の除電手段を設ける
とよい。
る際に空気層の同伴がないために、一般にローラの支持
体保持力は強くなる。このような条件下では、支持体に
よって運ばれる、或いは雰囲気中から飛来する異物が、
支持体に付着しパスローラに乗ることによって支持体に
ダメージを与えることがある。このため、特に本発明に
おける大気から真空への支持体導入部には、防塵・除塵
の手段を施すことが重要である。また、真空中で支持体
の搬送によって生ずる静電気は、水蒸気等の媒体がない
ために大気中に比べて逃れにくく、高い荷電を持ったま
ま大気中に導出されてくることがある。荷電電圧が高い
と大気中の搬送でゴミを引きつけやすくなり、上記と同
様支持体にダメージを与え易い。このため、本発明にお
ける支持体導出部には、導電バー等の除電手段を設ける
とよい。
【００１９】支持体を大気中又は真空中で搬送する場合
に、搬送性を高めるために支持体の両耳端部にナーリン
グ処理を施すことがよく行なわれ、本発明においてもナ
ーリング処理を適用することができる。ナーリング処理
は、支持体の両耳端部を凹凸を有するローラで挟み、支
持体の耳部に凹凸パターンの変形を起こさせる処理であ
り、例えば特公昭５７−３６１２９号公報にナーリング
処理の態様例が紹介されており、これらを採用すること
ができる。例えば、凹凸パターンは、支持体の両側部に
長手方向に沿って帯状に形成され、この帯状パターン
は、一方の側部について１本でも複数本でもよい。凹凸
の高さは、支持体の厚さの１０％〜６０％程度が好まし
い。帯状パターンの幅は３〜１５ｍｍが好ましく、特に
８〜１２ｍｍが好ましい。凹凸のピッチは、０．５〜５
ｍｍが好ましく、特に０．８〜３ｍｍが好ましい。
に、搬送性を高めるために支持体の両耳端部にナーリン
グ処理を施すことがよく行なわれ、本発明においてもナ
ーリング処理を適用することができる。ナーリング処理
は、支持体の両耳端部を凹凸を有するローラで挟み、支
持体の耳部に凹凸パターンの変形を起こさせる処理であ
り、例えば特公昭５７−３６１２９号公報にナーリング
処理の態様例が紹介されており、これらを採用すること
ができる。例えば、凹凸パターンは、支持体の両側部に
長手方向に沿って帯状に形成され、この帯状パターン
は、一方の側部について１本でも複数本でもよい。凹凸
の高さは、支持体の厚さの１０％〜６０％程度が好まし
い。帯状パターンの幅は３〜１５ｍｍが好ましく、特に
８〜１２ｍｍが好ましい。凹凸のピッチは、０．５〜５
ｍｍが好ましく、特に０．８〜３ｍｍが好ましい。
【００２０】ナーリング処理を施した支持体は、工程中
の搬送或いは巻取状態の保存時において、支持体同士の
接触又はパスローラとの接触の強さが軽減され、有害な
接着が防止され、巻き取った時の通気性が確保できる
等、搬送中の問題解決に有用である。ナーリング処理を
施した支持体を本発明に適用する場合には、見掛けの剛
性が上がるためと思われるが、支持体の導入・導出部に
おけるラップ角θの最適範囲は若干狭くなり、５０〜１
２０度の範囲が好ましい範囲である。
の搬送或いは巻取状態の保存時において、支持体同士の
接触又はパスローラとの接触の強さが軽減され、有害な
接着が防止され、巻き取った時の通気性が確保できる
等、搬送中の問題解決に有用である。ナーリング処理を
施した支持体を本発明に適用する場合には、見掛けの剛
性が上がるためと思われるが、支持体の導入・導出部に
おけるラップ角θの最適範囲は若干狭くなり、５０〜１
２０度の範囲が好ましい範囲である。
【００２１】
【実施例】本発明の効果を明確にするために、本発明の
実施例を説明する。 （実施例１）支持体として幅１５００ｍｍのポリエチレ
ンナフタレートフィルムを用い、支持体の厚み２０μｍ
と８０μｍの場合について、ローラへのラップ角θを変
えて支持体のバタツキの状態を目視にて評価した。支持
体導入ローラ対と支持体導出ローラ対の各間隙は支持体
の厚さより５０μｍ多くした。図３にバタツキの程度で
評価した結果を示す。図３から明らかなように、支持体
の厚さが２０μｍの場合は、ラップ角θが１０度未満で
は目視によってもバタツキを確認でき、ラップ角θが１
０度以上ではバタツキがなくなった。しかし、支持体の
厚さが８０μｍの場合には、ラップ角θが２０度未満で
は目視によってもバタツキを確認できた。この理由は、
例えば支持体の剛性が高くなったことによると考えられ
る。このように、支持体の厚さが８０μｍの場合はラッ
プ角θが２０度以上でバタツキ防止効果が現れ、バタツ
キ防止にはラップ角θが２０度以上必要であることがわ
かる。
実施例を説明する。 （実施例１）支持体として幅１５００ｍｍのポリエチレ
ンナフタレートフィルムを用い、支持体の厚み２０μｍ
と８０μｍの場合について、ローラへのラップ角θを変
えて支持体のバタツキの状態を目視にて評価した。支持
体導入ローラ対と支持体導出ローラ対の各間隙は支持体
の厚さより５０μｍ多くした。図３にバタツキの程度で
評価した結果を示す。図３から明らかなように、支持体
の厚さが２０μｍの場合は、ラップ角θが１０度未満で
は目視によってもバタツキを確認でき、ラップ角θが１
０度以上ではバタツキがなくなった。しかし、支持体の
厚さが８０μｍの場合には、ラップ角θが２０度未満で
は目視によってもバタツキを確認できた。この理由は、
例えば支持体の剛性が高くなったことによると考えられ
る。このように、支持体の厚さが８０μｍの場合はラッ
プ角θが２０度以上でバタツキ防止効果が現れ、バタツ
キ防止にはラップ角θが２０度以上必要であることがわ
かる。
【００２２】（実施例２）上記のラップ角θの範囲に対
し、支持体の厚さを変えてバタツキの状況を確認した。
支持体の厚さがそれぞれ１００μｍ、１３０μｍ、１５
０μｍ、１７０μｍ、１９０μｍのものを用いて、ラッ
プ角θの変化によるバタツキ状況を目視により観察した
ところ、実施例１と同様に、ラップ角θが２０度以上で
はバタツキが観察されなかった。したがって、支持体の
厚さが８０〜１９０μｍの範囲では、ローラへのラップ
角θが２０度以上であれば、支持体のバタツキを確実に
防止できることがわかる。
し、支持体の厚さを変えてバタツキの状況を確認した。
支持体の厚さがそれぞれ１００μｍ、１３０μｍ、１５
０μｍ、１７０μｍ、１９０μｍのものを用いて、ラッ
プ角θの変化によるバタツキ状況を目視により観察した
ところ、実施例１と同様に、ラップ角θが２０度以上で
はバタツキが観察されなかった。したがって、支持体の
厚さが８０〜１９０μｍの範囲では、ローラへのラップ
角θが２０度以上であれば、支持体のバタツキを確実に
防止できることがわかる。
【００２３】（実施例３）実施例１の厚さ８０μｍの支
持体について、ナーリング処理の有無に応じた、ローラ
へのラップ角θとスリキズの発生状態を調べた。ナーリ
ング処理としては、高さ１０μｍの突起（円錐形状又は
半球形状）をピッチ２ｍｍで支持体の両側部に長手方向
に沿って帯状（幅１０ｍｍ）にエンボス形成した。スリ
キズ発生の判断に際しては、許容可能なスリキズを有す
るサンプルを用意し、これと試料との目視による相対比
較で許容可能（ＯＫ）か否（ＮＧ）かを判断した。
持体について、ナーリング処理の有無に応じた、ローラ
へのラップ角θとスリキズの発生状態を調べた。ナーリ
ング処理としては、高さ１０μｍの突起（円錐形状又は
半球形状）をピッチ２ｍｍで支持体の両側部に長手方向
に沿って帯状（幅１０ｍｍ）にエンボス形成した。スリ
キズ発生の判断に際しては、許容可能なスリキズを有す
るサンプルを用意し、これと試料との目視による相対比
較で許容可能（ＯＫ）か否（ＮＧ）かを判断した。
【００２４】図４に示すように、上記のナーリング処理
した支持体では、ラップ角θが２０度であっても、スリ
キズが生じており、スリキズが生じないのは、ラップ角
θが５０度以上１２０度以下のときであった。このこと
から、ナーリング処理を施さない支持体の場合にはラッ
プ角θは３０〜１５０度の範囲でスリキズを防止でき、
ナーリング処理を施した支持体の場合には５０〜１２０
度の範囲でスリキズを防止でき、安定な結果が得られる
ことがわかる。なお、同時に比較した支持体の厚さが２
０μｍ程度の場合には、ラップ角θが１５〜１８０度の
範囲でスリキズのない良好な結果が得られた。逆に、厚
さが２０μｍの支持体では、目視によればラップ角θが
１０度でもバタツキが防止されていたが、実際には微小
なバタツキによるスリキズが発生していたことがわか
る。
した支持体では、ラップ角θが２０度であっても、スリ
キズが生じており、スリキズが生じないのは、ラップ角
θが５０度以上１２０度以下のときであった。このこと
から、ナーリング処理を施さない支持体の場合にはラッ
プ角θは３０〜１５０度の範囲でスリキズを防止でき、
ナーリング処理を施した支持体の場合には５０〜１２０
度の範囲でスリキズを防止でき、安定な結果が得られる
ことがわかる。なお、同時に比較した支持体の厚さが２
０μｍ程度の場合には、ラップ角θが１５〜１８０度の
範囲でスリキズのない良好な結果が得られた。逆に、厚
さが２０μｍの支持体では、目視によればラップ角θが
１０度でもバタツキが防止されていたが、実際には微小
なバタツキによるスリキズが発生していたことがわか
る。
【００２５】
【発明の効果】本発明の方法及び装置により、支持体導
入ローラ群と支持体導出ローラ群との間隙を持たせ、ラ
ップ角を３０〜１５０度の範囲とすることにより、また
ナーリング処理を施した支持体の場合には５０〜１２０
度とすることにより、支持体のバタツキ、スリキズを完
全に防止でき、連続的に真空処理装置への支持体の導入
・導出を安定に行うことができる。
入ローラ群と支持体導出ローラ群との間隙を持たせ、ラ
ップ角を３０〜１５０度の範囲とすることにより、また
ナーリング処理を施した支持体の場合には５０〜１２０
度とすることにより、支持体のバタツキ、スリキズを完
全に防止でき、連続的に真空処理装置への支持体の導入
・導出を安定に行うことができる。
【図１】本発明に用いる真空処理装置全体の構成図であ
る。
る。
【図２】支持体を連続的に大気中から真空中に導入し、
真空中で表面処理を行った後再び大気中に導出する支持
体の導入導出部の拡大説明図である。
真空中で表面処理を行った後再び大気中に導出する支持
体の導入導出部の拡大説明図である。
【図３】支持体ラップ角とバタツキの関係を表すグラフ
である。
である。
【図４】ナーリング処理の有無とスリキズの関係を表す
グラフである。
グラフである。
【図５】従来技術を表す真空蒸着装置のシール装置の構
成図である。
成図である。
１ 支持体 ２ 真空処理装置 ３ 真空処理室 ４ 導入導出部 ５ 外部搬送系 ６ 表面処理部 ７ 内部搬送系 ８ ケーシング ９ 支持体導入ローラ １０ 支持体導出ローラ １１ 補助シールローラ １２ 補助ローラ １４ シールバー Ｓ 間隙 Ｗ ウエブ １００ シールローラ
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 津端 久史 神奈川県南足柄市中沼210番地 富士写 真フイルム株式会社内 (72)発明者 饗庭 正志 神奈川県南足柄市中沼210番地 富士写 真フイルム株式会社内 (56)参考文献 特開 平１−287275（ＪＰ，Ａ) 特開 平１−272767（ＪＰ，Ａ) 特開 昭60−202049（ＪＰ，Ａ) 特開 昭56−12244（ＪＰ，Ａ) 特開 平５−8914（ＪＰ，Ａ) 特開 昭57−36129（ＪＰ，Ａ) (58)調査した分野(Int.Cl.7，ＤＢ名) B65H 20/02 C08J 7/00 G03C 1/91 G03C 1/795
Claims (4)
- 【請求項１】 薄膜帯状の支持体を連続的に大気中から
真空中に導入して表面処理を行い、再び大気中に導出す
る方法において、該支持体の導入部及び導出部の大気と
真空との遮断部を、僅かな間隙を挟んで互いに近接する
支持体導入用ローラ及び支持体導出用ローラのローラ対
を整列させたシールローラ群で構成し、該シールローラ
群の少なくとも最も大気寄りに位置するローラ対に対し
て、支持体を３０〜１５０度の角度でラップさせつつ該
支持体の導入・導出を行うことを特徴とする感光材料用
支持体の真空処理用シール方法。 - 【請求項２】 前記支持体として、厚さ８０〜１９０μ
ｍのポリエチレンナフタレートフィルム又はポリエチレ
ンテレフタレートのフィルムを用いることを特徴とする
請求項１記載の感光材料用支持体の真空処理用シール方
法。 - 【請求項３】 前記支持体として該支持体の両側端部に
ナーリング処理を行なったものを用い、前記支持体を５
０〜１２０度の角度で前記シールローラにラップさせつ
つ該支持体の導入・導出を行うことを特徴とする請求項
１又は２に記載の感光材料用支持体の真空処理用シール
方法。 - 【請求項４】 薄膜帯状の支持体を連続的に大気中から
真空中に導入して表面処理を行い、再び大気中に導出す
る装置において、該支持体の導入部及び導出部の大気と
真空との遮断部に、僅かな間隙を挟んで互いに近接する
支持体導入用ローラ及び支持体導出用ローラのローラ対
を複数個整列させたシールローラ群と、少なくとも最も
大気寄りに位置するローラ対に対して、支持体のラップ
角を３０〜１５０度の範囲とするための補助ローラを設
けることを特徴とする感光材料用支持体の真空処理用シ
ール装置。
Priority Applications (5)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP01662694A JP3315238B2 (ja) | 1994-02-10 | 1994-02-10 | 感光材料用支持体の真空処理用シール方法及び装置 |
| EP95101791A EP0668370B1 (en) | 1994-02-10 | 1995-02-09 | Sealing method and apparatus for vacuum treatment of support for light-sensitive material |
| DE69506595T DE69506595T2 (de) | 1994-02-10 | 1995-02-09 | Abdichtvorrichting und -verfahren bei einer Vakuumbehandlung eines lichtempfindlichen Materialträgers |
| US08/835,636 US5865932A (en) | 1994-02-10 | 1997-04-10 | Sealing method and apparatus for vacuum treatment of support for light-sensitive material |
| US09/092,083 US5961727A (en) | 1994-02-10 | 1998-06-05 | Sealing apparatus for vacuum treatment of support for light-sensitive material |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP01662694A JP3315238B2 (ja) | 1994-02-10 | 1994-02-10 | 感光材料用支持体の真空処理用シール方法及び装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH07223761A JPH07223761A (ja) | 1995-08-22 |
| JP3315238B2 true JP3315238B2 (ja) | 2002-08-19 |
Family
ID=11921569
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP01662694A Expired - Fee Related JP3315238B2 (ja) | 1994-02-10 | 1994-02-10 | 感光材料用支持体の真空処理用シール方法及び装置 |
Country Status (4)
| Country | Link |
|---|---|
| US (2) | US5865932A (ja) |
| EP (1) | EP0668370B1 (ja) |
| JP (1) | JP3315238B2 (ja) |
| DE (1) | DE69506595T2 (ja) |
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| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP0989455A1 (en) * | 1998-09-22 | 2000-03-29 | Agfa-Gevaert N.V. | An apparatus for the continuous treatment of sheet material under reduced pressure |
| US6250222B1 (en) | 1998-09-22 | 2001-06-26 | Agfa-Gevaert | Apparatus for the continuous treatment of sheet material under reduced pressure |
| DE69824295T3 (de) † | 1998-11-26 | 2009-07-30 | Arcelormittal France | Abgedichtete Schleuse für eine Vakuumkammer |
| US6797091B2 (en) * | 2000-05-10 | 2004-09-28 | Ballard Power Systems Inc. | Method for embossing expanded graphite sheet material under reduced pressure |
| EP1479789A1 (fr) * | 2003-05-23 | 2004-11-24 | Recherche Et Developpement Du Groupe Cockerill Sambre | Sas d'étanchéité pour ligne de dépôt sous vide sur produit plat |
| JP5130413B2 (ja) * | 2010-03-08 | 2013-01-30 | 積水化学工業株式会社 | 表面処理装置 |
| EP2799589B1 (en) * | 2011-12-28 | 2021-04-07 | Dai Nippon Printing Co., Ltd. | Vapor deposition method having pretreatment that uses plasma |
Family Cites Families (13)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| LU36143A1 (ja) * | 1957-09-16 | |||
| US2989026A (en) * | 1957-11-19 | 1961-06-20 | Nat Steel Corp | Vacuum coating apparatus |
| US3158507A (en) * | 1960-01-11 | 1964-11-24 | Continental Can Co | Floating roller seal |
| GB1042049A (en) * | 1963-11-12 | 1966-09-07 | Ici Ltd | Treatment of plastics surfaces |
| US3729648A (en) * | 1971-09-30 | 1973-04-24 | Eastman Kodak Co | Method and apparatus for treating a web |
| US4021179A (en) * | 1973-06-01 | 1977-05-03 | Agfa-Gevaert N.V. | Apparatus for the edges of thermoplastic webs |
| JPS5474862A (en) * | 1977-11-28 | 1979-06-15 | Fuji Photo Film Co Ltd | Thickening device |
| KR910005158B1 (ko) * | 1987-06-05 | 1991-07-23 | 가부시기가이샤 히다찌세이사꾸쇼 | 진공연속 처리장치 |
| KR920003591B1 (ko) * | 1988-04-11 | 1992-05-04 | 미쯔비시주우고오교오 가부시기가이샤 | 연속진공증착장치 |
| JPH05507383A (ja) * | 1990-05-10 | 1993-10-21 | イーストマン・コダック・カンパニー | 連続的材料のプラズマ処理装置 |
| JP3082120B2 (ja) * | 1992-08-20 | 2000-08-28 | 富士写真フイルム株式会社 | ハロゲン化銀写真感光材料 |
| US5328555A (en) * | 1992-11-24 | 1994-07-12 | Applied Materials, Inc. | Reducing particulate contamination during semiconductor device processing |
| CH687987A5 (de) * | 1993-05-03 | 1997-04-15 | Balzers Hochvakuum | Verfahren zur Erhoehung der Beschichtungsrate in einem Plasmaentladungsraum und Plasmakammer. |
-
1994
- 1994-02-10 JP JP01662694A patent/JP3315238B2/ja not_active Expired - Fee Related
-
1995
- 1995-02-09 DE DE69506595T patent/DE69506595T2/de not_active Expired - Lifetime
- 1995-02-09 EP EP95101791A patent/EP0668370B1/en not_active Expired - Lifetime
-
1997
- 1997-04-10 US US08/835,636 patent/US5865932A/en not_active Expired - Lifetime
-
1998
- 1998-06-05 US US09/092,083 patent/US5961727A/en not_active Expired - Fee Related
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|---|---|
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| DE69506595D1 (de) | 1999-01-28 |
| US5865932A (en) | 1999-02-02 |
| EP0668370A1 (en) | 1995-08-23 |
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| DE69506595T2 (de) | 1999-04-29 |
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