JP3309475B2 - 芳香族ポリエステルまたは芳香族ポリアミドの製造方法 - Google Patents
芳香族ポリエステルまたは芳香族ポリアミドの製造方法Info
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Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、芳香族ポリエステルま
たは芳香族ポリアミドの製造方法に関する。
たは芳香族ポリアミドの製造方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】芳香族ポリエステルおよび芳香族ポリア
ミドは、ポリアリレートあるいはアラミドとも呼ばれる
耐熱性，機械特性に優れたスーパーエンプラである。
ミドは、ポリアリレートあるいはアラミドとも呼ばれる
耐熱性，機械特性に優れたスーパーエンプラである。
【０００３】従来、その製造方法は重縮合によるもので
あり、芳香族ポリエステルの場合には酸クロリド法およ
びエステル交換法（アセテート法，フェニルエステル
法）が、芳香族ポリアミドの場合には酸クロリド法、ア
ミド交換法およびイソシアネート法等が工業的に使用さ
れている。
あり、芳香族ポリエステルの場合には酸クロリド法およ
びエステル交換法（アセテート法，フェニルエステル
法）が、芳香族ポリアミドの場合には酸クロリド法、ア
ミド交換法およびイソシアネート法等が工業的に使用さ
れている。
【０００４】芳香族ポリエステルの製造における酸クロ
リド法としては、例えば、Ｉｎｄ．Ｅｎｇ．Ｃｈｅ
ｍ．，５１，１４７（１９５９）、Ｊ．Ｍａｃｒｏｍｏ
ｌ．Ｓｃｉ．−Ｃｈｅｍ．，Ａ１５，８３３（１９８
１）およびＪ．Ａｐｐｌ．Ｐｏｌｙｍ．Ｓｃｉ．，２
３，２４０９（１９７９）等が知られているが、これら
の方法では副生成物として塩が生成し、また、触媒の添
加または１００〜２００℃の加熱が必要である。
リド法としては、例えば、Ｉｎｄ．Ｅｎｇ．Ｃｈｅ
ｍ．，５１，１４７（１９５９）、Ｊ．Ｍａｃｒｏｍｏ
ｌ．Ｓｃｉ．−Ｃｈｅｍ．，Ａ１５，８３３（１９８
１）およびＪ．Ａｐｐｌ．Ｐｏｌｙｍ．Ｓｃｉ．，２
３，２４０９（１９７９）等が知られているが、これら
の方法では副生成物として塩が生成し、また、触媒の添
加または１００〜２００℃の加熱が必要である。
【０００５】エステル交換法（アセテート法，フェニル
エステル法）としては、Ｊ．Ｐｏｌｙｍ．Ｓｃｉ．Ｃｈ
ｅｍ．Ｅｄ．，１４，２２０７（１９７６）、Ｊ．Ｍａ
ｃｒｏｍｏｌ．Ｓｃｉ．−Ｃｈｅｍ．，Ａ２１，１７０
５（１９８４）およびＰｏｌｙｍｅｒ，１５，５２７
（１９７４）等が知られているが、この場合、２００〜
３００℃の加熱が必要であり、また、副生成物としての
酢酸またはフェノールの除去等の問題がある。
エステル法）としては、Ｊ．Ｐｏｌｙｍ．Ｓｃｉ．Ｃｈ
ｅｍ．Ｅｄ．，１４，２２０７（１９７６）、Ｊ．Ｍａ
ｃｒｏｍｏｌ．Ｓｃｉ．−Ｃｈｅｍ．，Ａ２１，１７０
５（１９８４）およびＰｏｌｙｍｅｒ，１５，５２７
（１９７４）等が知られているが、この場合、２００〜
３００℃の加熱が必要であり、また、副生成物としての
酢酸またはフェノールの除去等の問題がある。
【０００６】芳香族ポリアミドの製造における酸クロリ
ド法としては、例えば、Ｍａｃｒｏｍｏｌ．，１０，１
３９６（１９７７）が知られているが、この場合も副生
成物である塩の生成が問題となっている。
ド法としては、例えば、Ｍａｃｒｏｍｏｌ．，１０，１
３９６（１９７７）が知られているが、この場合も副生
成物である塩の生成が問題となっている。
【０００７】アミド交換法としては、例えば、Ｊ．Ａｐ
ｐｌ．Ｐｏｌｙｍ．Ｓｃｉ．，２５，１６８５（１９８
０）およびＰｒｏｃ．Ａｍ．Ｃｈｅｍ．Ｓｏｃ．Ｐｏｌ
ｙｍ．Ｍａｔｅｒ．Ｓｃｉ．Ｅｎｇ．，６０，６２３
（１９８９）等が知られているが、副生成物としての酢
酸の除去および２００〜３５０℃の加熱が必要である。
ｐｌ．Ｐｏｌｙｍ．Ｓｃｉ．，２５，１６８５（１９８
０）およびＰｒｏｃ．Ａｍ．Ｃｈｅｍ．Ｓｏｃ．Ｐｏｌ
ｙｍ．Ｍａｔｅｒ．Ｓｃｉ．Ｅｎｇ．，６０，６２３
（１９８９）等が知られているが、副生成物としての酢
酸の除去および２００〜３５０℃の加熱が必要である。
【０００８】イソシアネート法としては、Ｐｏｌｙｍ．
Ｅｎｇ．Ｓｃｉ．，２５，９４２（１９８５）および
Ｊ．Ｐｏｌｙｍ．Ｓｃｉ．，Ｐａｒｔ Ａ，Ｐｏｌｙ
ｍ．Ｃｈｅｍ．，２７，１７７５（１９８９）等が知ら
れている。しかし、これらの方法では触媒の添加および
２００℃の加熱が必要である。
Ｅｎｇ．Ｓｃｉ．，２５，９４２（１９８５）および
Ｊ．Ｐｏｌｙｍ．Ｓｃｉ．，Ｐａｒｔ Ａ，Ｐｏｌｙ
ｍ．Ｃｈｅｍ．，２７，１７７５（１９８９）等が知ら
れている。しかし、これらの方法では触媒の添加および
２００℃の加熱が必要である。
【０００９】一方、Ｃ. Ｓ. Ｍａｒｖｅｌらは、９，１
０−ジカルボニル−９，１０−アントラキノンとｍ−フ
ェニレンジアミンとの反応におけるケテン基へのアミノ
基付加反応によるポリアミドの合成を報告した（Ｊ．Ｐ
ｏｌｙｍ．Ｓｃｉ．，Ｐａｒｔ Ａ−１，８，２６１１
（１９７０））。この方法では、生成するアントラセン
環は９，１０−ジヒドロ体であり、また、その後、キノ
ンジケテン類を用いたポリエステルおよびポリアミドの
合成に関する報告はない。
０−ジカルボニル−９，１０−アントラキノンとｍ−フ
ェニレンジアミンとの反応におけるケテン基へのアミノ
基付加反応によるポリアミドの合成を報告した（Ｊ．Ｐ
ｏｌｙｍ．Ｓｃｉ．，Ｐａｒｔ Ａ−１，８，２６１１
（１９７０））。この方法では、生成するアントラセン
環は９，１０−ジヒドロ体であり、また、その後、キノ
ンジケテン類を用いたポリエステルおよびポリアミドの
合成に関する報告はない。
【００１０】
【発明が解決しようとする課題】本発明の目的は、芳香
族ポリエステルまたは芳香族ポリアミドの製造方法を提
供することにあり、さらに詳しくは、副生成物を伴わず
無触媒で、かつ、加熱を必要としない簡便な工程による
芳香族ポリエステルまたは芳香族ポリアミドの新規な製
造方法を提供することにある。
族ポリエステルまたは芳香族ポリアミドの製造方法を提
供することにあり、さらに詳しくは、副生成物を伴わず
無触媒で、かつ、加熱を必要としない簡便な工程による
芳香族ポリエステルまたは芳香族ポリアミドの新規な製
造方法を提供することにある。
【００１１】
【課題を解決するための手段】本発明者らはこの問題に
鑑み鋭意検討した結果、キノンジケテン類とベンゾキノ
ン類またはベンゾキノンジイミン類を原料とした新規な
芳香族ポリエステルまたは芳香族ポリアミドの製造方法
を見いだし、本発明を完成するに至った。
鑑み鋭意検討した結果、キノンジケテン類とベンゾキノ
ン類またはベンゾキノンジイミン類を原料とした新規な
芳香族ポリエステルまたは芳香族ポリアミドの製造方法
を見いだし、本発明を完成するに至った。
【００１２】すなわち本発明は、一般式（Ｉ）または
（ＩＩ）で示される新規な芳香族ポリエステルまたは芳
香族ポリアミドを製造するに際し、一般式（ＩＩＩ）ま
たは（ＩＶ）で示されるキノンジケテン類と一般式
（Ｖ）〜（ＶＩＩ）で示されるキノン類または一般式
（ＶＩＩＩ）〜（Ｘ）で示されるキノンジイミン類とを
０〜３０℃で反応させることを特徴とする芳香族ポリエ
ステルまたは芳香族ポリアミドの製造方法に関する。
（ＩＩ）で示される新規な芳香族ポリエステルまたは芳
香族ポリアミドを製造するに際し、一般式（ＩＩＩ）ま
たは（ＩＶ）で示されるキノンジケテン類と一般式
（Ｖ）〜（ＶＩＩ）で示されるキノン類または一般式
（ＶＩＩＩ）〜（Ｘ）で示されるキノンジイミン類とを
０〜３０℃で反応させることを特徴とする芳香族ポリエ
ステルまたは芳香族ポリアミドの製造方法に関する。
【００１３】本発明の製造方法で用いる一般式（ＩＩ
Ｉ）または（ＩＶ）で示されるキノンジケテン類として
は、９，１０−ジカルボニル−９，１０−アントラキノ
ン、１，４−ジカルボニル−１，４−ナフトキノン等が
挙げられ、これらは１種または２種以上組み合わせて用
いることができる。
Ｉ）または（ＩＶ）で示されるキノンジケテン類として
は、９，１０−ジカルボニル−９，１０−アントラキノ
ン、１，４−ジカルボニル−１，４−ナフトキノン等が
挙げられ、これらは１種または２種以上組み合わせて用
いることができる。
【００１４】これらキノンジケテン類の合成法は、例え
ば、Ｊ．Ｐｏｌｙｍ．Ｓｃｉ．，Ｐａｒｔ Ａ−１，
８，２６１１（１９７０）に記載されており、また、高
反応性であるためベンゼン、トルエン、キシレン、エチ
ルベンゼン、シクロヘキサン、ｎ−ペンタン、ｎ−ヘキ
サン、ｎ−ヘプタン等の不活性溶媒の溶液として用いら
れる。
ば、Ｊ．Ｐｏｌｙｍ．Ｓｃｉ．，Ｐａｒｔ Ａ−１，
８，２６１１（１９７０）に記載されており、また、高
反応性であるためベンゼン、トルエン、キシレン、エチ
ルベンゼン、シクロヘキサン、ｎ−ペンタン、ｎ−ヘキ
サン、ｎ−ヘプタン等の不活性溶媒の溶液として用いら
れる。
【００１５】また、一般式（Ｖ）〜（ＶＩＩ）で示され
るキノン類としては、１，４−ベンゾキノン、２，５−
ジ（ｔ−ブチル）−１，４−ベンゾキノン、２，６−ジ
（ｔ−ブチル）−１，４−ベンゾキノン、ｐ−クロラニ
ル、１，４−ナフトキノン、２−クロロ−１，４−ナフ
トキノン、２，６−ナフトキノン、１，５−ジブロモ−
２，６−ナフトキノン等が挙げられ、これらは１種また
は２種以上組み合わせて用いることができる。
るキノン類としては、１，４−ベンゾキノン、２，５−
ジ（ｔ−ブチル）−１，４−ベンゾキノン、２，６−ジ
（ｔ−ブチル）−１，４−ベンゾキノン、ｐ−クロラニ
ル、１，４−ナフトキノン、２−クロロ−１，４−ナフ
トキノン、２，６−ナフトキノン、１，５−ジブロモ−
２，６−ナフトキノン等が挙げられ、これらは１種また
は２種以上組み合わせて用いることができる。
【００１６】さらに、一般式（ＶＩＩＩ）〜（Ｘ）で示
されるキノンジイミン類としては、１，４−ベンゾキノ
ンジイミン、Ｎ，Ｎ’−ジクロロ−１，４−ベンゾキノ
ンジイミン、Ｎ，Ｎ’−ジフェニル−１，４−ベンゾキ
ノンジイミン、１，４−ナフトキノンジイミン、Ｎ，
Ｎ’−ビス（フェニルスルホニル）−１，４−ナフトキ
ノンジイミン、Ｎ，Ｎ’−ビス（フェニルスルホニル）
−２，６−ナフトキノンジイミン等が挙げられ、これら
は１種または２種以上組み合わせて用いることができ
る。
されるキノンジイミン類としては、１，４−ベンゾキノ
ンジイミン、Ｎ，Ｎ’−ジクロロ−１，４−ベンゾキノ
ンジイミン、Ｎ，Ｎ’−ジフェニル−１，４−ベンゾキ
ノンジイミン、１，４−ナフトキノンジイミン、Ｎ，
Ｎ’−ビス（フェニルスルホニル）−１，４−ナフトキ
ノンジイミン、Ｎ，Ｎ’−ビス（フェニルスルホニル）
−２，６−ナフトキノンジイミン等が挙げられ、これら
は１種または２種以上組み合わせて用いることができ
る。
【００１７】本発明の製造方法におけるキノンジケテン
類とキノン類またはキノンジイミン類との使用割合は特
に制限はないが、キノンジケテン類１モルに対してキノ
ン類またはキノンジイミン類は０．１〜２０モル用いら
れ、特に０．５〜１０モル用いることが好ましい。
類とキノン類またはキノンジイミン類との使用割合は特
に制限はないが、キノンジケテン類１モルに対してキノ
ン類またはキノンジイミン類は０．１〜２０モル用いら
れ、特に０．５〜１０モル用いることが好ましい。
【００１８】本発明の反応において用いられる重合溶媒
としては、ベンゼン、トルエン、キシレン、エチルベン
ゼン、シクロヘキサン、ｎ−ペンタン、ｎ−ヘキサン、
ｎ−ヘプタン等が挙げられ、特にベンゼンが好ましい。
としては、ベンゼン、トルエン、キシレン、エチルベン
ゼン、シクロヘキサン、ｎ−ペンタン、ｎ−ヘキサン、
ｎ−ヘプタン等が挙げられ、特にベンゼンが好ましい。
【００１９】重合温度は特に加熱する必要はなく、０〜
３０℃で重合することができる。
３０℃で重合することができる。
【００２０】重合時間は特に制限はないが、反応は瞬時
に終了するため０．１〜２０時間、好ましくは０．５〜
１０時間である。
に終了するため０．１〜２０時間、好ましくは０．５〜
１０時間である。
【００２１】本発明の製造方法の特徴は、原料として一
般式（ＩＩＩ）または（ＩＶ）で示されるキノンジケテ
ン類と一般式（Ｖ）〜（ＶＩＩ）で示されるキノン類ま
たは一般式（ＶＩＩＩ）〜（Ｘ）で示されるキノンジイ
ミン類とを用いることにある。すなわち、本発明の製造
方法では、重合はキノンジケテン類とキノン類またはキ
ノンジイミン類との無触媒ラジカル交互共重合により進
行すると考えられる。従って、従来の重縮合による製造
方法でみられた塩または酢酸等の副生成物は伴わない。
般式（ＩＩＩ）または（ＩＶ）で示されるキノンジケテ
ン類と一般式（Ｖ）〜（ＶＩＩ）で示されるキノン類ま
たは一般式（ＶＩＩＩ）〜（Ｘ）で示されるキノンジイ
ミン類とを用いることにある。すなわち、本発明の製造
方法では、重合はキノンジケテン類とキノン類またはキ
ノンジイミン類との無触媒ラジカル交互共重合により進
行すると考えられる。従って、従来の重縮合による製造
方法でみられた塩または酢酸等の副生成物は伴わない。
【００２２】また、Ｊ. Ｃ. Ｍａｒｔｉｎらは１，４−
ベンゾキノンとジメチルケテンの反応においてケテンと
カルボニルの付加反応によるモノ−β−ラクトンの合成
を報告しているが（Ｊ．Ｏｒｇ．Ｃｈｅｍ．，３６，２
２１６（１９７１））、本発明の製造方法ではベンゾキ
ノンジイミン類、キノン類およびキノンジイミン類が、
キノイド化合物とその三重項励起状態であるベンゾノイ
ド状態との間のエネルギー差がビニル化合物に比べて低
いことにより高反応性であるため、ラジカル交互共重合
が選択的に起こると考えられ、ラクトン環形成を伴う副
反応は抑制される。さらに、本発明の製造方法では無触
媒、室温で重合を行うため、触媒の除去、昇温および冷
却工程等が簡略化され、また、不純物を含まない純粋な
ポリマーを得ることができる。
ベンゾキノンとジメチルケテンの反応においてケテンと
カルボニルの付加反応によるモノ−β−ラクトンの合成
を報告しているが（Ｊ．Ｏｒｇ．Ｃｈｅｍ．，３６，２
２１６（１９７１））、本発明の製造方法ではベンゾキ
ノンジイミン類、キノン類およびキノンジイミン類が、
キノイド化合物とその三重項励起状態であるベンゾノイ
ド状態との間のエネルギー差がビニル化合物に比べて低
いことにより高反応性であるため、ラジカル交互共重合
が選択的に起こると考えられ、ラクトン環形成を伴う副
反応は抑制される。さらに、本発明の製造方法では無触
媒、室温で重合を行うため、触媒の除去、昇温および冷
却工程等が簡略化され、また、不純物を含まない純粋な
ポリマーを得ることができる。
【００２３】
【実施例】以下、本発明を実施例により説明するが、本
発明は実施例に限定されるものではない。
発明は実施例に限定されるものではない。
【００２４】なお、本実施例中、生成ポリマーの分子量
は、ＧＰＣ（東ソー（株）製 ＨＬＣ−８０２Ａ）を用
い、ポリスチレン換算により求めた。
は、ＧＰＣ（東ソー（株）製 ＨＬＣ−８０２Ａ）を用
い、ポリスチレン換算により求めた。
【００２５】また、生成したポリマーの構造は、ＮＭＲ
（ＪＥＯＬ製 ＥＸ−２７０ ＦＴ−ＮＭＲ）、ＩＲ
（日本分光（株）製 ＩＲ−７００型 赤外分光光度
計）、元素分析（Ｙａｎａｃｏ製 ＣＨＮ ｃｏｒｄｅ
ｒ ＭＴ−３型）を用い、同定した。
（ＪＥＯＬ製 ＥＸ−２７０ ＦＴ−ＮＭＲ）、ＩＲ
（日本分光（株）製 ＩＲ−７００型 赤外分光光度
計）、元素分析（Ｙａｎａｃｏ製 ＣＨＮ ｃｏｒｄｅ
ｒ ＭＴ−３型）を用い、同定した。
【００２６】実施例１ 精製、脱気処理したベンゼン５ｍｌに１，４−ベンゾキ
ノン ０．１２ｇを溶解した溶液を９，１０−ジカルボ
ニル−９，１０−アントラキノンのベンゼン溶液（０．
２モル／ｌ）５ｍｌに窒素雰囲気下で撹拌しながら添加
し、室温で５時間反応を行った。析出した固体を濾過
後、減圧乾燥した結果、不溶不融のポリマー０．２２ｇ
を得た。
ノン ０．１２ｇを溶解した溶液を９，１０−ジカルボ
ニル−９，１０−アントラキノンのベンゼン溶液（０．
２モル／ｌ）５ｍｌに窒素雰囲気下で撹拌しながら添加
し、室温で５時間反応を行った。析出した固体を濾過
後、減圧乾燥した結果、不溶不融のポリマー０．２２ｇ
を得た。
【００２７】得られたポリマーの元素分析結果より、生
成ポリマー中のキノンジケテン単位は５０．８モル％で
あった。また、ＩＲ測定より副反応によるラクトン環の
形成は認められず、純粋なポリマーが得られていた。
成ポリマー中のキノンジケテン単位は５０．８モル％で
あった。また、ＩＲ測定より副反応によるラクトン環の
形成は認められず、純粋なポリマーが得られていた。
【００２８】実施例２ 精製、脱気処理したベンゼン１０ｍｌにｐ−クロラニル
０．１６ｇを溶解した溶液を９，１０−ジカルボニル−
９，１０−アントラキノンのベンゼン溶液（０．１３モ
ル／ｌ）５ｍｌに窒素雰囲気下で撹拌しながら添加し、
室温で３時間反応を行った。析出した固体を濾過後、減
圧乾燥した結果、不溶不融のポリマー０．１５ｇを得
た。
０．１６ｇを溶解した溶液を９，１０−ジカルボニル−
９，１０−アントラキノンのベンゼン溶液（０．１３モ
ル／ｌ）５ｍｌに窒素雰囲気下で撹拌しながら添加し、
室温で３時間反応を行った。析出した固体を濾過後、減
圧乾燥した結果、不溶不融のポリマー０．１５ｇを得
た。
【００２９】得られたポリマーの元素分析結果より、生
成ポリマー中のキノンジケテン単位は５１．３モル％で
あった。また、ＩＲ測定より副反応によるラクトン環の
形成は認められず、純粋なポリマーが得られていた。
成ポリマー中のキノンジケテン単位は５１．３モル％で
あった。また、ＩＲ測定より副反応によるラクトン環の
形成は認められず、純粋なポリマーが得られていた。
【００３０】実施例３ 精製、脱気処理したベンゼン６ｍｌに２，６−ジ（ｔ−
ブチル）−１，４−ベンゾキノン ０．１１ｇを溶解し
た溶液を９，１０−ジカルボニル−９，１０−アントラ
キノンのベンゼン溶液（０．０９モル／ｌ）５ｍｌに窒
素雰囲気下で撹拌しながら添加し、室温で５時間反応を
行った。反応内容物をヘキサンに注ぎ析出させた後、濾
過、減圧乾燥した。収量は０．０３ｇであった。
ブチル）−１，４−ベンゾキノン ０．１１ｇを溶解し
た溶液を９，１０−ジカルボニル−９，１０−アントラ
キノンのベンゼン溶液（０．０９モル／ｌ）５ｍｌに窒
素雰囲気下で撹拌しながら添加し、室温で５時間反応を
行った。反応内容物をヘキサンに注ぎ析出させた後、濾
過、減圧乾燥した。収量は０．０３ｇであった。
【００３１】得られたポリマーのＮＭＲ測定および元素
分析結果より、生成ポリマー中のキノンジケテン単位は
５０．６モル％であり、また、分子量（Ｍｗ）は４３０
０であった。ＮＭＲ測定およびＩＲ測定より純粋なポリ
マーが得られていることが確認された。
分析結果より、生成ポリマー中のキノンジケテン単位は
５０．６モル％であり、また、分子量（Ｍｗ）は４３０
０であった。ＮＭＲ測定およびＩＲ測定より純粋なポリ
マーが得られていることが確認された。
【００３２】実施例４ 精製、脱気処理したベンゼン１０ｍｌにＮ，Ｎ’−ジフ
ェニル−１，４−ベンゾキノンジイミン ０．１７ｇを
溶解した溶液を９，１０−ジカルボニル−９，１０−ア
ントラキノンのベンゼン溶液（０．１１モル／ｌ）６ｍ
ｌに窒素雰囲気下で撹拌しながら添加し、室温で５時間
反応を行った。反応内容物をヘキサンに注ぎ析出させた
後、濾過、減圧乾燥した。収量は０．１１ｇであった。
ェニル−１，４−ベンゾキノンジイミン ０．１７ｇを
溶解した溶液を９，１０−ジカルボニル−９，１０−ア
ントラキノンのベンゼン溶液（０．１１モル／ｌ）６ｍ
ｌに窒素雰囲気下で撹拌しながら添加し、室温で５時間
反応を行った。反応内容物をヘキサンに注ぎ析出させた
後、濾過、減圧乾燥した。収量は０．１１ｇであった。
【００３３】得られたポリマーのＮＭＲ測定および元素
分析結果より、生成ポリマー中のキノンジケテン単位は
５０．４モル％であり、また、分子量（Ｍｗ）は１６０
０であった。ＮＭＲ測定およびＩＲ測定より純粋なポリ
マーが得られていることが確認された。
分析結果より、生成ポリマー中のキノンジケテン単位は
５０．４モル％であり、また、分子量（Ｍｗ）は１６０
０であった。ＮＭＲ測定およびＩＲ測定より純粋なポリ
マーが得られていることが確認された。
【００３４】実施例５ 精製、脱気処理したベンゼン３ｍｌに１，４−ベンゾキ
ノンジイミン ０．０６ｇを溶解した溶液を９，１０−
ジカルボニル−９，１０−アントラキノンのベンゼン溶
液（０．０４モル／ｌ）１３ｍｌに窒素雰囲気下で撹拌
しながら添加し、室温で５時間反応を行った。析出した
固体を濾過後、減圧乾燥した。収量は０．１６ｇであっ
た。
ノンジイミン ０．０６ｇを溶解した溶液を９，１０−
ジカルボニル−９，１０−アントラキノンのベンゼン溶
液（０．０４モル／ｌ）１３ｍｌに窒素雰囲気下で撹拌
しながら添加し、室温で５時間反応を行った。析出した
固体を濾過後、減圧乾燥した。収量は０．１６ｇであっ
た。
【００３５】得られたポリマーの元素分析結果より、生
成ポリマー中のキノンジケテン単位は５１．０モル％で
あった。また、ＩＲ測定より副反応によるラクトン環の
形成は認められず、純粋なポリマーが得られていた。
成ポリマー中のキノンジケテン単位は５１．０モル％で
あった。また、ＩＲ測定より副反応によるラクトン環の
形成は認められず、純粋なポリマーが得られていた。
【００３６】
【発明の効果】本発明の製造方法によれば、無触媒、室
温で重合を行うため、触媒の除去、昇温および冷却工程
等が簡略化され、また、不純物を含まない純粋なポリマ
ーを得ることができる。
温で重合を行うため、触媒の除去、昇温および冷却工程
等が簡略化され、また、不純物を含まない純粋なポリマ
ーを得ることができる。
Claims (1)
- 【請求項１】下記一般式（Ｉ）または（ＩＩ）で表され
る芳香族ポリエステルまたは芳香族ポリアミド【化１】 【化２】 （ここで、Ａｒは同一でも異なっていてもよく、 【化３】 、Ｙは−Ｏ−または−ＮＸ1−、Ｒ1〜Ｒ14はそれぞれ独
立して水素、炭素数１〜１８のアルキル基、炭素数１〜
１８のアルコキシル基、ハロゲンまたはフェニル基、Ｒ
15〜Ｒ30はそれぞれ独立して水素、炭素数１〜１８のア
ルキル基、炭素数１〜１８のアルコキシル基、ハロゲ
ン、シアノ基、フェニル基またはニトロ基、Ｘ1は同一
でも異なっていてもよく、水素、炭素数１〜１８のアル
キル基、炭素数１〜１８のアルコキシル基、炭素数１〜
１８のアルキルスルホニル基、ハロゲン、シアノ基、フ
ェニル基、フェニルスルホニル基またはトルエンスルホ
ニル基を示す）を製造するにあたり、下記一般式（ＩＩ
Ｉ）または（ＩＶ）で示されるキノンジケテン類と下記
一般式（Ｖ）〜（ＶＩＩ）で示されるキノン類または下
記一般式（ＶＩＩＩ）〜（Ｘ）で示されるキノンジイミ
ン類とを０〜３０℃で反応させることを特徴とする芳香
族ポリエステルまたは芳香族ポリアミドの製造方法。 【化４】 （ここで、Ｒ31〜Ｒ38はそれぞれ独立して水素、炭素数
１〜１８のアルキル基、炭素数１〜１８のアルコキシル
基、ハロゲンまたはフェニル基を示す） 【化５】 （ここで、Ｒ39〜Ｒ44はそれぞれ独立して水素、炭素数
１〜１８のアルキル基、炭素数１〜１８のアルコキシル
基、ハロゲンまたはフェニル基を示す） 【化６】 （ここで、Ｒ45〜Ｒ48はそれぞれ独立して水素、炭素数
１〜１８のアルキル基、炭素数１〜１８のアルコキシル
基、ハロゲン、シアノ基、フェニル基またはニトロ基を
示す） 【化７】 （ここで、Ｒ49〜Ｒ54はそれぞれ独立して水素、炭素数
１〜１８のアルキル基、炭素数１〜１８のアルコキシル
基、ハロゲン、シアノ基、フェニル基またはニトロ基を
示す） 【化８】 （ここで、Ｒ55〜Ｒ60はそれぞれ独立して水素、炭素数
１〜１８のアルキル基、炭素数１〜１８のアルコキシル
基、ハロゲン、シアノ基、フェニル基またはニトロ基を
示す） 【化９】 （ここで、Ｒ61〜Ｒ64はそれぞれ独立して水素、炭素数
１〜１８のアルキル基、炭素数１〜１８のアルコキシル
基、ハロゲン、シアノ基、フェニル基またはニトロ基、
Ｘ2〜Ｘ3はそれぞれ独立して水素、炭素数１〜１８のア
ルキル基、炭素数１〜１８のアルコキシル基、炭素数１
〜１８のアルキルスルホニル基、ハロゲン、シアノ基、
フェニル基、フェニルスルホニル基またはトルエンスル
ホニル基を示す） 【化１０】（ここで、Ｒ65〜Ｒ70はそれぞれ独立して水
素、炭素数１〜１８のアルキル基、炭素数１〜１８のア
ルコキシル基、ハロゲン、シアノ基、フェニル基または
ニトロ基、Ｘ4〜Ｘ5はそれぞれ独立して水素、炭素数１
〜１８のアルキル基、炭素数１〜１８のアルコキシル
基、炭素数１〜１８のアルキルスルホニル基、ハロゲ
ン、シアノ基、フェニル基、フェニルスルホニル基また
はトルエンスルホニル基を示す） 【化１１】 （ここで、Ｒ71〜Ｒ76はそれぞれ独立して水素、炭素数
１〜１８のアルキル基、炭素数１〜１８のアルコキシル
基、ハロゲン、シアノ基、フェニル基またはニトロ基、
Ｘ6〜Ｘ7はそれぞれ独立して水素、炭素数１〜１８のア
ルキル基、炭素数１〜１８のアルコキシル基、炭素数１
〜１８のアルキルスルホニル基、ハロゲン、シアノ基、
フェニル基、フェニルスルホニル基またはトルエンスル
ホニル基を示す）
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|---|---|---|---|
| JP05206693A JP3309475B2 (ja) | 1993-03-12 | 1993-03-12 | 芳香族ポリエステルまたは芳香族ポリアミドの製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
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|---|---|---|---|
| JP05206693A JP3309475B2 (ja) | 1993-03-12 | 1993-03-12 | 芳香族ポリエステルまたは芳香族ポリアミドの製造方法 |
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| JP2002095045A Division JP3610385B2 (ja) | 2002-03-29 | 2002-03-29 | 芳香族ポリエステルまたは芳香族ポリアミド |
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- 1993-03-12 JP JP05206693A patent/JP3309475B2/ja not_active Expired - Fee Related
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| JPH06263852A (ja) | 1994-09-20 |
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