JP3307377B2 - レジストベーキング装置及びベーキング方法 - Google Patents

レジストベーキング装置及びベーキング方法

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Description

【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明はレジストベーキング
装置及びベーキング方法に関し、特にガラス基板等の表
面に形成されたレジスト膜をベーキングするベーキング
装置及びベーキング方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】液晶表示装置の製造工程には、ガラス基
板上に素子や配線等を形成するためのホトレジスト工程
があり、ガラス基板上に形成されたレジスト膜はレジス
トベーキング装置によりベーキングされる。
【０００３】この従来のレジストベーキング装置は、例
えば図４に示すように、内部にヒーター８を有し、ガラ
ス基板５が接触する面２Ａの端部に、吸着溝９とガラス
基板５を接触面２Ａより分離し受渡すための昇降ピン１
０を備えており、接触面２Ａはヒーター８により任意の
温度に調整可能に構成されていた。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上述し
た従来のレジストベーキング装置は、接触面に吸着溝及
び昇降ピンが設けられているため、その部分の温度分布
が不均一になり、レジスト膜厚が変化する。このため素
子形成のパターン精度がばらつき、液晶表示装置の表示
むらを発生させるという欠点があった。またガラス基板
の受渡のための昇降ピンの摺動によりゴミが発生して基
板に付着し、表示むらの原因となっていた。
【０００５】本発明の目的は、基板全体を均一に加熱で
き、しかもゴミの発生することのないレジストベーキン
グ装置及びベーキング方法を提供することにある。
【０００６】
【課題を解決するための手段】第１の発明のレジストベ
ーキング装置は、レジスト膜が形成された基板を載置す
る変形可能な基板載置部を有し、内部に空間部を有する
ベーキングプレートと、このベーキングプレートに接続
され前記空間部内に温度調整液を循環させるための温度
調整器とを含むことを特徴とするものであり、特に基板
載置部はポリイミド樹脂またはシリコンゴムからなり、
また温度調整液としては純水またはジエチレングリコー
ルを用いるものである。第２の発明のベーキング方法は
請求項１〜４のいずれか記載のレジストベーキング装置
を用いて基板表面に形成されたレジスト膜をベーキング
することを特徴とするものである。
【０００７】
【発明の実施の形態】次に本発明について図面を参照し
て説明する。図１は本発明の第１の実施の形態を説明す
る為のベーキング装置の正面図である。
【０００８】図１を参照すると、レジストベーキング装
置は、レジスト膜が形成されたガラスからなる基板５を
載置するポリイミド樹脂またはシリコンゴムからなる変
形可能な基板載置部２を有し、内部に空間部３を有する
ベーキングプレート１と、このベーキングプレート１に
接続され空間部３に純水またはジエチレングリコールか
らなる温度調整液７を循環させるための温度調整器４と
から構成されている。次に第２の実施の形態としてこの
ベーキング装置を用いてガラス基板上に形成されたレジ
スト膜のベーキング方法について図２を用いて説明す
る。
【０００９】まず図２（ａ）に示すように、Ａｌ合金か
らなり表面にアルマイトコーティングされた基板把持具
６により表面にレジスト膜が形成されたガラス基板５
（例えば５５０ｍｍ×６５０ｍｍ）をベーキングプレー
ト１の上部に搬送する。
【００１０】次に図２（ｂ）に示すように、温度調整器
４から空間部３内に循環させる温度調整液の吐出圧力を
上昇させて基板載置部２を上に凸に（約１０ｍｍ）変形
させて、ガラス基板５の裏面に接触させ、ガラス基板５
を基板把持具６から離れた位置まで上昇させたのち、基
板把持具６をベーキングプレート１の上部から離れた位
置まで遠ざける。
【００１１】次いで温度調整器４の循環液の吐出圧力を
下げて基板載置部を平板状に戻すと同時に、ガラス基板
５を基板載置部２に密着させる。この操作により数ｍｍ
のたわみのあるガラス基板は基板載置部に密着する。次
いでヒーターや熱交換器等から構成されている温度調整
器により所定の温度に調整された温度調整液７を空間部
３内に循環させて、ガラス基板５上のレジスト膜のベー
キングを行う。ベーキングの温度を８０〜１００℃とす
る場合は、温度調整液に純水を用い、またベーキングの
温度を１００〜１３０℃とする場合はジエチレングリコ
ールを用いる。
【００１２】次に図２（ｃ）に示すように、レジスト膜
が完了したら再び循環液の吐出圧力を上げて基板載置部
２を凸状としてガラス基板５を持上げ、基板把持具６を
基板５の端部の下部に挿入する。
【００１３】次いで図２（ｄ）に示すように、循環液の
吐出圧力を下げて基板載置部２を平板状に戻し、ガラス
基板５を基板把持具６に受渡す。そして把持具６により
ガラス基板５を搬送することにより、一連のベーキング
処理が完了する。
【００１４】図３は本発明第３の実施の形態を説明する
ためのベーキング装置の正面図であり、図１と異なると
ころは温度調整器をヒーターを有する加熱用温度調整器
１１と冷媒用タンクを有する冷却用温度調整器１２とで
構成したことである。
【００１５】この第３の実施の形態においては、空間部
３の温度調整液７は、加熱用温度調整器１１および冷却
用温度調整器１２により所定の温度に迅速に調整可能で
あり、更に温度調整液７の圧力も調整可能となってい
る。このように第３の実施の形態においては、温度調整
器を冷却用と加熱用とで構成しているため、所定温度へ
の変更時間を短縮できるため、ベーキング装置のタクト
を短縮できるという効果がある。
【００１６】なお上記実施の形態においては、基板とし
てガラスを用いた場合について説明したが、直径３００
ｍｍ以上の半導体基板上のレジスト膜のベーキングにも
応用可能である。
【００１７】
【発明の効果】以上説明したように本発明によれば以下
に記載する効果がある。
【００１８】第１に基板の裏面全体を基板載置部に密着
させることができるため、基板全面にわたって均一な加
熱ができ、均一な厚さのレジスト膜を得ることができ
る。第２に基板受渡しのための昇降ピン等の複雑な構造
が不要なため、ベーキング装置の故障の発生を低減させ
ることができる。第３に基板受渡しのための昇降ピンな
どの摺動部がなくなるため、ゴミの発生がなくベーキン
グ不良を低減させることができる。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明の第１の実施の形態を説明するためのベ
ーキング装置の正面図。
【図２】第２の実施の形態のベーキング方法を説明する
ためのベーキング装置の正面図。
【図３】第３の実施の形態を説明するためのベーキング
装置の正面図。
【図４】従来のベーキング装置の正面図。
【符号の説明】
１ ベーキングプレート ２ 基板載置部 ２Ａ 接触面 ３ 空間部 ４ 温度調整器 ５ ガラス基板 ６ 基板把持具 ７ 温度調整液 ８ ヒーター ９ 吸着溝 １０ 昇降ピン １１ 加熱用温度調整器 １２ 冷却用温度調整器
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (58)調査した分野(Int.Cl.7，ＤＢ名) H01L 21/027

Claims (6)

    (57)【特許請求の範囲】
  1. 【請求項１】 レジスト膜が形成された基板を載置する
    変形可能な基板載置部を有し、内部に空間部を有するベ
    ーキングプレートと、このベーキングプレートに接続さ
    れ前記空間部内に温度調整液を循環させるための温度調
    整器とを含むことを特徴とするレジストベーキング装
    置。
  2. 【請求項２】 基板載置部はポリイミド樹脂またはシリ
    コンゴムである請求項１記載のレジストベーキング装
    置。
  3. 【請求項３】 温度調整液は純水またはジエチレングリ
    コールである請求項１または請求項２記載のレジストベ
    ーキング装置。
  4. 【請求項４】 温度調整器は加熱用温度調整器と冷却用
    温度調整器とから構成されている請求項１〜３のいずれ
    か記載のレジストベーキング装置。
  5. 【請求項５】 請求項１〜４のいずれか記載のレジスト
    ベーキング装置を用いて基板表面に形成されたレジスト
    膜をベーキングすることを特徴とするレジストベーキン
    グ方法。
  6. 【請求項６】 ベーキングプレートの空間部の圧力を上
    げて基板載置面を凸にした状態で端部を基板把持具で支
    えられた基板を基板載置面におき、次いで基板把持具を
    はずしたのち前記空間部の圧力を下げて基板載置面を平
    坦として前記基板を基板載置面に密着させることを特徴
    とするレジストベーキング方法。
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