JP3302630B2 - 光記録媒体の製造方法 - Google Patents

Description

【発明の詳細な説明】 【０００１】 【発明の属する技術分野】本発明は、レーザー光を用い
て読み出し、書き込みが可能な光記録媒体及びその製造
方法に関する。 【０００２】 【従来の技術】従来、２枚の基板の貼り合わせ面側に情
報記録層部をもつ密着貼り合わせ光記録媒体は、接着剤
をロールコータ、スプレー方式を用いて大気中で塗布
し、大気中で加圧しながら貼り合わせる方法により一般
的に製造されていた。 【０００３】 【発明が解決しようとする課題】従来の製造方法を図２
６に示す。９１、９３は貼り合わせられる基板、９２は
基板を貼り合わせる接着層、９０は加圧のための重りで
ある。この方法で製造された光記録媒体は、接着層９２
への気泡混入が避けられず、前記気泡と接する情報記録
媒体層部は記録読み出しの際、情報記録の欠陥部とな
る。更に、接着層への気泡混入は、情報記録層部の保護
を目的とした誘電体層にクラックを引き起こし、バース
トエラー及びビットエラーの原因となる。 【０００４】又、貼り合わせの寸法精度を高めるために
加圧しながら貼り合わせる方法は、加圧力を基板全面に
均一に分布させることは製造技術的に極めて難しく、加
圧力の不均一は基板及び接着層に複屈折を引き起こす
他、治具に付着した塵埃が基板表面に押しつけられ、基
板表面に凹凸が生じるので、結果として記録再生特性を
劣化させる原因となる。 【０００５】一方、射出成形法で製造されたプラスチッ
ク基板は基板の外周の寸法等が一定していないので、加
圧接着すると面ブレ、ソリ量とも、単板より大きくなる
傾向がある。 【０００６】以上のように、従来の密着貼り合わせ光記
録媒体の製造方法では、高品質の密着貼り合わせ光記録
媒体を高い歩留で作ることがでなかった。 【０００７】本発明は以上の様な従来技術の欠点を解決
するもので、その目的は、 光記録媒体の初期エラー率を低下させること 光記録媒体の長期信頼性を高めること 光記録媒体の製造歩留を高めること にある。 【０００８】 【課題を解決するための手段】本発明は以下の構成を有
する。 （１）少なくとも一方に情報記録層が形成され、それぞ
れ中心に貫通穴を有する２枚の基板を、前記情報記録層
が形成された面を貼り合わせ面とし接着剤を介して貼り
合わせる光記録媒体の製造方法であって、前記２枚の基
板の少なくとも一方の貼り合わせ面側に前記接着剤の前
記基板の内周部へのはみ出しを防止する溝を前記基板の
貫通穴と同心円状に設け、前記接着剤を前記基板上の溝
に対して外周側に塗布し、真空雰囲気中で、前記２枚の
基板を貼り合わせることを特徴とする光記録媒体の製造
方法。 【０００９】（２）前記接着剤を前記基板と同心円のリ
ング状に塗布することを特徴とする上記（１）の光記録
媒体の製造方法。 【００１０】（３）前記接着剤の塗布初め位置と、塗布
終わり位置が離れていることを特徴とする上記（２）の
光記録媒体の製造方法。 【００１１】（４）前記接着剤の塗布初め位置と、塗布
終わり位置と、前記基板の中心による扇形状の中心角が
５°以内であることと、前記接着剤の塗布幅Ｗの変動が
２５％以内であることと、前記接着剤が塗布される基板
の径をＤ_１とし、前記リング状に塗布された接着剤の塗
布中心線によるリング径をＤ_２として、Ｄ_２／Ｄ_１が
０．６以上であることと、前記接着剤の塗布初め位置の
形状と、前記接着剤の塗布終わり位置の形状がほぼ等し
いこと、とを特徴とする上記（３）の光記録媒体の製造
方法。 【００１２】 （５）前記接着剤を前記基板上に点状に塗布することを
特徴とする上記（１）の光記録媒体の製造方法。 （６）前記点状に塗布される接着剤を同心円状に配置す
る上記（５）の光記録媒体の製造方法。 【００１３】 （７）前記点状に塗布される接着剤による同心円の径ｄ
のすべての塗布箇所における変動幅が１０％以内である
ことを特徴とする上記（６）の光記録媒体の製造方法。 （８）前記２枚の基板の少なくとも一方の情報記録層上
に誘電体膜を形成することを特徴とする上記（１）の光
記録媒体の製造方法。 （９）前記接着剤が接触する基板表面に、前記接着剤の
硬化反応を促進する触媒機能物質を設けることを特徴と
する上記（１）の光記録媒体の製造方法。 【００１４】（９）前記２枚の基板の少なくとも一方の
情報記録層上に誘電体膜を形成することを特徴とする上
記（１）の光記録媒体の製造方法。（１０）前記接着剤
が接触する基板表面に、該接着剤の硬化反応を促進する
触媒機能物質を設けることを特徴とする上記（１）の光
記録媒体の製造方法。 【００１５】 【００１６】 【００１７】 【００１８】 【００１９】 【００２０】 【００２１】 【００２２】 【００２３】 【００２４】 【００２５】 【００２６】 【００２７】 【００２８】 【００２９】 【００３０】 【００３１】 【００３２】 【００３３】 【００３４】 【００３５】 【００３６】 【００３７】 【００３８】 【００３９】 【００４０】 【００４１】 【００４２】 【００４３】 【００４４】 【００４５】 【００４６】 【００４７】 【００４８】 【００４９】 【００５０】を特徴とする。 【００５１】 【作用】本発明の上記の構成によれば、 接着層への気泡混入を皆無にできるので、気泡が原因
で生じる再生における初期エラーレイトを改善させるこ
とができる。 【００５２】接着層への気泡混入を皆無にできるの
で、気泡が原因で生じていた誘電体層のクラックの発生
を皆無にでき、透過光、反射光を用いた再生におけるエ
ラーレイトを改善させることができる。 【００５３】接着層への気泡混入を皆無にできるの
で、気泡によるレーザー光の屈折及び反射を皆無にでき
且つ記録層への熱伝導を均一にできるので、安定した情
報記録のビットが形成できる。 【００５４】低加重で貼り合わせることにより、局部
的な複屈折の発生及び塵埃・加工治具の凹凸等の光記録
媒体基板表面への転写等を防止できる。 【００５５】低加重で貼り合わせることにより、光記
録媒体及び情報記録層部に発生しているピンホール周辺
の誘電体層及び記録層の脆弱な領域を破壊せずに貼り合
わせることができる。 【００５６】二枚の単板を低加重で貼り合わせること
により、面ブレ及びソリの値を単板より小さくできる。 【００５７】光記録媒体の基板に溝を設けることによ
り、貼り合わせ光記録媒体の内周又は外周部への接着剤
のはみ出しを皆無にし、はみ出した接着剤を拭き取る工
程が不要となるのみならず、製造歩留を高めることがで
きる。 【００５８】 【発明の実施の形態】以下に、本発明の実施例をあげ図
面にもとづいて具体的に詳述する。 【００５９】実施例１ 図１は、二枚の基板の貼り合わせ面にそれぞれ誘電体を
有する光記録媒体の断面の主要部を示す。ポリカーボネ
イト基板１は板厚が１．２mmで、その一主面にピッチ
１．６μm 、幅０．８μm 、深さ６５０Åの溝が形成さ
れている。誘電体層２及び４は厚み１０００Åの窒化シ
リコン膜、光磁気記録層３は厚み８００ÅのＴｂ−Ｆｅ
−Ｃｏ合金層からなる。基板７はポリカーボネイト基板
１、窒化シリコン膜２、光磁気記録層３及び窒化シリコ
ン膜４からなるものを指す。ポリカーボネイト基板６は
板厚が１．２mmで、その一主面に厚み１０００Åの窒化
シリコン膜７が形成されている。そして、基板９はポリ
カーボネイト基板６と窒化シリコン膜７から成るものを
指す。基板９はＵＶ硬化型接着剤層５を介して基板７と
密着貼り合わせされている。 【００６０】次に、上記光記録媒体の製造方法を説明す
る。 【００６１】図４（ａ）〜（ｃ）は、ＵＶ露光を上方か
ら行うプロセスの主要工程を示す。図４（ａ）は接着剤
のデイスペンス装置の略図と方法を示す。デイスペンサ
３１をデイスペンサの水平方向移動ユニット３２により
基板７上の所定の位置に移動し、モータ３３により回転
している基板７上に、デイスペンサ３１を用いてＵＶ硬
化型接着剤を塗布する。図４（ｂ）は２枚の基板を真空
中で貼り合わせる装置の略図と方法を示す。３４は真空
チャンバー、３５は真空ポンプ、３６は基板９を支持し
ているフレーム、３７はフレーム３６から基板９を解放
し、基板７上に落とし込むための電磁スイッチである。
ＵＶ硬化型接着剤が塗布された基板７を真空チャンバー
３４内にセットし、真空チャンバー内の真空度が１×１
^−１torrに達した時点で、電磁スイッチ３７により基板
９を支持しているフレーム３６から基板９を解放し、基
板９を基板７の上に自重だけで落とし込む。図４（ｃ）
はＵＶ露光の装置の略図と方法を示す。前記工程で接着
された基板７及び９を大気中でＵＶ露光する露光装置に
セットし、ＵＶ光源３８を用いて上方から露光しＵＶ硬
化型接着剤を完全に硬化させる。 【００６２】尚、ＵＶ光源３８にはバーキーテクニカル
社製の２KW高圧水銀灯を用いた。 【００６３】上記の方法により製造された図１に示す構
造の光記録媒体は、接着剤層５の中とその界面に気泡の
混入が全く無く、更に記録層部にあるピンホール部周辺
の誘電体層、記録層の破壊が全く生じなかった。ビット
エラーレートは、気泡混入に帰因するバーストエラーは
皆無になり、４×１０^−６回／bit に達した。又、面ブ
レ量は、基板単体で７０μm あったが、貼り合わせ後は
３５μm となり大幅に改善された。 【００６４】実施例２ 図５は、図１に示す光記録媒体を下方からのＵＶ露光す
る方法を示す。図４（ａ）に示す様に接着剤は基板９に
大気中で塗布され、次に図４（ｂ）に示す様に真空中で
基板９と基板７が接着され、最後に図５に示す様に大気
中で下方からＵＶ露光されＵＶ硬化型接着剤は完全に硬
化される。 【００６５】上記の方法により製造された図１に示す光
記録媒体は、実施例１と同様に、接着剤層５の中とその
界面に気泡の混入が全く無く、更に記録層部にあるピン
ホール部周辺の誘電体層、記録層の破壊が全く生じなか
った。従って、気泡混入に帰因するバーストエラーは皆
無になり、ビットエラーレートは３×１０^−６回／bit
となった。又、面ブレ量は、基板単体で８０μm あった
が、貼り合わせ後は３０μm となり大幅に改善された。
更に、記録層部を持たない基板９に接着剤を塗布するこ
とにより、接着剤のピンホールから記録層への侵入を極
力抑えることができた。 【００６６】実施例３ 図２は、１枚のポリカーボネイト基板の貼り合わせ面に
誘電体層を有しない光記録媒体の断面の主要部を示す。
ポリカーボネイト基板１６は板厚が１．２mmで、その表
面には誘電体層は形成されていない。又、ポリカーボネ
イト基板１１は板厚が１．２mmで、その一主面にピッチ
１．８μm 、 幅０．６μm 、深さ６７０Åの溝が形成さ
れている。１２及び１４は厚み８００Åの窒化シリコン
アルミニュウム複合誘電体層、１３は厚み８００ÅのＮ
ｄ−Ｄｙ−Ｆｅ−Ｃｏ−Ｔｉ合金層からなる光磁気記録
層である。基板１７は、ポリカーボネイト基板１１、窒
化シリコンアルミニュウム複合誘電体層１２、１４及び
光磁気記録層１３からなるものを指す。この光記録媒体
は実施例１とほぼ同じ製造方法で密着貼り合わせされ
る。基板１６はＵＶ硬化接着剤層５を介して基板１７と
密着貼り合わせされている。 【００６７】上記の方法により製造された光記録媒体
は、ビットエラーレートは４×１０^−６回／bit で、面
ブレ量は４０μm である。 【００６８】実施例４ 図６は、光記録媒体を加圧しながら貼り合わせる製造装
置の略図と方法を示す。接着剤の塗布工程と接着剤のＵ
Ｖ硬化工程は実施例１とほぼ同じである。ＵＶ硬化型接
着剤が塗布された基板７を真空チャンバー３４内にセッ
トし、真空チャンバー内の真空度が２×１０^−２torrに
達した時点で、エアシリンダー４０により加圧しなが
ら、基板９を基板７に貼り合わせる。４１は表面が平滑
な加圧板、４２は基板９を保持する保持ユニットであ
る。この保持ユニットはセンターボス４３に合うと基板
９を解放する機構であり、基板９を基板７の上に自重だ
けで落とし込む。 【００６９】上記の方法により製造された光記録媒体
は、接着剤層５の中とその界面に気泡の混入が全く無
く、更に記録層部にあるピンホール部周辺の誘電体層、
記録層の破壊が全く生じなかった。ビットエラーレート
は、気泡混入に帰因するバーストエラーは皆無になり、
４×１０^−６回／bit に達した。又、面ブレ量は、基板
単体で７０μm あったが、貼り合わせ後は３５μm とな
り大幅に改善された。 【００７０】実施例５ 図７及び図８は、加圧しながらＵＶ露光する装置の略図
で、実施例１で説明した図４（ｃ）の改良である。図７
において、４４は石英ガラス、図８において、４５は加
圧シリンダー、４６は加圧シリンダー４５と連動して上
下に動くランプユニット、４７は石英ガラスである。露
光時に加圧することを除いて、他の貼り合わせ工程は実
施例１と同一で図１に示す光記録媒体を制作した。加圧
は低荷重のほうが良く、その試験結果を表２に示す。図
７と図８の装置でほぼ同等な歩留が得られた。 【００７１】実施例６ 図９は、大気中で接着剤を基板上に塗布した後、２枚の
基板を真空中で加圧貼り合わせ、加圧状態のままでＵＶ
露光を行い、光記録媒体を製造する装置の略図と方法を
示す。図９において、５４は真空ポンプ、５５は真空チ
ャンバー、４８は加圧シリンダー、４９は表面が平滑な
加圧板、５０は基板７の保持ユニット、５１は位置決用
センターボス、５２は石英ガラス、５３はＵＶランプで
ある。この装置をもちいて図１に示す構造の光記録媒体
を制作した。加圧は低荷重の方が、高い歩留が得られ
た。試験結果は実施例５とほぼ同様な歩留で表２に示す
通りである。 【００７２】実施例７ 図１０は、本実施例で用いた光記録媒体の製造装置の略
図で、６２は真空チャンバー、６３は真空ポンプ、５６
はモータ、５７は接着剤塗布用デイスペンサノズル、５
８はデイスペンサユニット、５９はデイスペンサ水平方
向移動ユニット、６０は基板９を記録層が片面に設けら
れた基板７の上に落とすための電磁スイッチである。６
１は基板９の支持フレーム、６４は電磁スイッチの操作
部である。この装置を用いて、１×１０^−Ｉtorrの真空
中で基板７の上に接着剤塗布用デイスペンサノズル５７
を用いてＵＶ硬化接着剤を塗布し、基板９を基板７の上
に自重だけで落とし基板同士を接着した後、図４（ｃ）
に示すＵＶ露光機を用いて大気中で完全硬化させて図１
に示す光記録媒体を製造した。この方法で制作された光
記録媒体は接着剤層中及び接着界面への気泡の混入と記
録層部のピンホール破壊がなく、ビットエラーレート４
×１０^−６回／bit が得られた。特に気泡混入に起因す
るバーストエラーを皆無にできた。更に、基板単体で７
０μm あった光記録媒体の基板の面ブレ量は、貼り合わ
せ後３５μm となった。又、基板のソリ量の大幅に減少
させることができた。 【００７３】実施例８ 図１１は光記録媒体の貼り合わせ装置の一例である。ゲ
ートバルブ６５を開きデイスペンサ５７’を真空チャン
バー６２’の中に挿入して基板２７に接着剤を大気中で
塗布する。デイスペンサ５７を真空チャンバー６２’外
に移動しゲートバルブ６５を閉鎖した後、真空チャンバ
ー６２’を真空引きし真空度が５×１０^−２torr達した
時基板の貼り合わせを行う。その後、図４（ｃ）に示す
ＵＶ露光機を用いて接着剤を完全硬化させた。図１１中
に示す６０’は電磁スイッチ、６１は基板２７の支持フ
レーム、５８’はデイスペンスユニット、６３’は真空
ポンプ、６４’は電磁スイッチ６０’の操作部である。
製造した光記録媒体は図３に示す構造で、ポリカーボネ
イト基板２１は板厚が１．２μm で、その片面にピッチ
１．６μm 、幅０．６μm 、深さ７００Åの溝が形成さ
れている。誘電体層２２及び２４は窒化シリコンと窒化
アルミニュウムの複合層で膜厚は８００Å、光磁気記録
層２３はＴｂ−Ｆｅ−Ｃｏ合金で膜厚は４５０Åであ
る。基板２７はポリカーボネイト基板２１、誘電体層２
２及び２４及び光磁気記録層２３からなるものを指す。
二枚の基板２７はＵＶ接着剤２５を介して互いに密着貼
り合わせされている。この方法で制作された光記録媒体
は接着剤層中及び接着界面への気泡の混入と記録層部の
ピンホール周辺の誘電体層、記録層の破壊がなく、ビッ
トエラーレート２×１０^−６回／bit が得られた。特に
気泡混入に起因するバーストエラーを皆無にできた。更
に、基板単体で６０μm あった光記録媒体の基板の面ブ
レ量は、貼り合わせ後２５μm となった。又、基板のソ
リ量を大幅に減少させることができた。 【００７４】実施例９ 図４に示すデイスペンス装置を用いたデイスペンス方法
を以下に述べる。ポイントはいかに均一に接着剤５を基
板７上に塗布するかである。図１２（ａ）は基板７をタ
ーンテーブル６８上に保持し、デイスペンサ３１により
接着剤５をリング状に塗布する状態を示している。塗布
した接着剤は図１２（ｂ）に示す如く、塗布初めＡと塗
布終わりＢが離れている塗布状態でαが５°以内、Ｗ変
動が２５％以内、Ｄ_２ /Ｄ_１ が０．６に以上で、尚
且つ、ＡとＢの形状がほぼ均しくなければ、真空貼り合
わせ時に外周へ接着剤がはみ出したり、内面スタンパ押
さえ溝６６を通りこし、ターンテーブルセンターボスへ
達してしまう事が避けられなかった。連続的に光記録媒
体を貼り合わせる時に接着剤のはみ出しは、記録媒体表
面を接着剤で汚染したり、ハンドリング装置を汚染した
り、真空チャンバーを汚染したり、光記録媒体に光学的
歪みを与える原因であった。図１３（ａ）〜（ｅ）に示
すデイスペンス方法は先の問題点を全て解決し、図１４
に示す理想的な塗布状態を与える方法である。図１３
（ａ）は所定塗布位置（Ｄ２ )に水平移動してきたデ
イスペンサを示している。図１３（ｂ）はノズル先端が
基板７に接触しない範囲（δが０．０２mm〜５mmで垂直
方向へ下降した状態で接着剤の塗布開始を示している。
塗布開始時にはターンテーブルは既に回転していること
が好ましい。図１３（ｃ）はリング状に接着剤を塗布し
ている途中の様子を示している。図１３（ｄ）は接着剤
の塗布が終了し、デイスペンサノズルが垂直方向へ移動
した様子を示している。垂直方向への移動時ターンテー
ブルは回転している方が好ましい。図１３（ｅ）はデイ
スペンサノズルの水平方向へ移動した様子を示してい
る。図１３（ｃ）の状態で、接着剤塗布の均一性を増す
ため、デイスペンサノズルからの接着剤の塗布が終了し
た後複数回ターンテーブルを回転させてその後、図１３
（ｄ）の工程へ移っても良い。 【００７５】以上図１３（ａ）〜（ｅ）の工程を経て、
図１４に示す理想的な接着剤の塗布が可能になった。Ｗ
の変動幅は接着剤粘度が２〜１０００cps の範囲で１０
％以内であった。４〜１０００cps の接着剤については
その後真空貼り合わせを各サンプルにつき１００回行
い、図２３に示す光記録媒体とした。接着剤のはみ出し
は皆無であった。 【００７６】尚、図１５に示す如く、複数のリング状態
を示す接着剤の塗布でも接着剤のはみ出しは皆無であっ
た。 【００７７】図１６（ａ）は点状塗布による理想的な塗
布を実現する方法である。デイスペンスノズル３１は図
１３（ａ）〜（ｅ）と同様に水平、垂直方向の移動が可
能である。塗布のシーケンスはデイスペンサノズルがＤ
２ の位置に移動して停止し、その後、図１６（ｂ）で
示す（ａ）〜（ｈ）の位置でターンテーブルが停止する
都度、δの位置迄デイスペンサノズルは降下し、接着剤
を塗布し、その後塗布が終了後デイスペンスノズルは上
昇する。この工程を複数回繰り返し、図１６（ｂ）の塗
布状態とした。基板７上への点状塗布箇所は図１６
（ｂ）では８カ所であるが塗布箇所が多ければ多い程貼
り合わせは良好であった。点状塗布の径ｄは全ての箇所
で変動幅が１０％以内であった（接着剤粘度が２〜１０
００cps の範囲）。４〜１０００cps の接着剤について
はその後真空貼り合わせを各サンプルにつき１００回行
い図２３で示す光記録媒体としたが、接着剤の内面、外
面へのはみ出しは無かった。図１７（ａ）は複数のデイ
スペンサノズル（６８ａ〜６８ｈ）を用いた接着剤の点
状塗布（６８ａ_０ 〜６８ｈ_０ )状況を示している。
デイスペンサノズル６８は複数有り、一度の塗布操作で
図１７（ｂ）の状態に塗布することが可能である。図１
７（ａ）の方式で点状塗布を実施し、真空中での貼り合
わせを実施したが。図１６（ａ）で示した結果と同様、
接着剤のはみ出しは無かった。 【００７８】本実施例では光記録媒体の最終形状として
図２３を示したグループ６６が、図２４、図２５に示
す、段さ８７、及びテーパ８８を基板内周に有するもの
でも良い。図２３〜図２５の構造で使用される基板はポ
リカーボネイトに限らず、ＰＭＭＡ，エポキシ、ＴＰ
Ｘ，ガラスの基板を使用することが可能である。 【００７９】実施例１０ 図１８（ａ）は接着剤塗布の装置にスピンコータを用い
て行った実施例である。７０はターンテーブル、７１は
デイスペンスノズルである。接着剤塗布時、基板７を低
速回転（５〜３００RPM ）で回転しその後、高速回転
（２０００〜４０００RPM ）で接着剤を図１８（ｂ）に
示す如く基板７表面に均一に塗り接着剤厚みを３０μm
とした後、図４（ｂ）、図４（ｃ）に示す装置で真空貼
り合わせ、ＵＶ露光を行った。 【００８０】接着剤としては表４に示すもので粘度５０
cps のものを用いた。結果は、外周に若干の接着剤はみ
出しがあったが、実用上は問題のないものであった。 【００８１】実施例１１ 図１９、図２０、図２１は接着剤の塗布装置にローラを
用いて行った実施例である。図１９の６９は接着剤タン
ク、７５は接着剤（表４参照）、７６はフッ素ゴム製ゴ
ムローラ、７２はフッ素ゴム製塗布ローラ、７３は基板
７搬送用ベルト、７４は塗布量調整用ブレードである。
塗布ローラの直径は８０mmで６０RPM で回転させて、基
板７上に接着剤を均一に塗り、接着剤厚みを３０μm と
した後、図４（ｂ）図４（ｃ）に示す装置で真空貼り合
わせ、ＵＶ露光を行った。結果は外周、内周に接着剤の
はみ出しがあり、実用的ではなかった。 図２０は、
図１９と構成は似ているが、塗布ローラ７７が、フッ素
ゴムとシリコンゴムの二種類の表面を持つ特徴がある。
７７の表面には、基板７の外周より小さく、内周より大
きなドーナツ状のフッ素ゴム表面とそれ以外の部分のシ
リコンゴムの表面がある。塗布ローラ７７のフッ素ゴム
表面は接着剤（表４参照）が表面によく濡れる性質があ
り、シリコンゴム表面は濡れ性が非常に悪いためドーナ
ツ状のフッ素ゴム表面のみ接着剤が付着しており、その
付着接着剤を基板７上に図２０で示す如く塗布した。接
着剤厚みは３０μm 、７７ロール表面の周速は０．０１
ｍ /sec で塗布した。７８搬送用ベルトには７９の基
板位置決めボスが付いており、ローラ７７の回転と基板
の位置がずれないように同期をとっている。接着剤塗布
後、図４（ｂ）図４（ｃ）に示す装置で真空貼り合わ
せ、ＵＶ露光を行った。結果は、外周、内周に接着剤は
はみ出しておらず良好な結果を得た。 【００８２】図２１は、塗布ローラ８０の表面に基板７
の外周より小さく、内周より大きなドーナツ状の凸部が
形成されている。８０の材質は接着剤（表４参照）が表
面に良く濡れるフッ素ゴムである。塗布ローラ８０のド
ーナツパターンの上に接着剤厚みは３０μm 、７８ロー
ラ表面周速０．０３ｍ /sec で基板７上に塗布した。
接着剤塗布後、図４（ｂ）、図４（ｃ）に示す装置で真
空貼り合わせ、ＵＶ露光を行った。結果は、外周、内周
に接着剤ははみ出しておらず良好な結果を得た。 【００８３】塗布ローラの表面速は０．００１〜５ｍ
/sec が良好である。５ｍ /sec 以上では接着剤中への
気泡混入量が多量となりすぎ気味となる。又、０，００
１ｍ/sec 以下では接着剤が低粘度の時安定したローラ
への付着が得られないからである。使用接着剤の粘度は
０．５〜１００００cps のものを用いることが可能であ
るが、上記、気泡混入、不安定なローラへの接着剤付着
のことにより４〜１０００cps の粘度のものが好まし
い。 実施例１２ 図２２（ａ）、図２２（ｂ）は接着剤の塗布装置にスク
リーン印刷を用いて行った実施例である。図２２（ａ）
で８６はポリウレタン製スキージ、８１は接着剤（表４
参照）、８２はスクリーンの版、８３はドーナツ状パタ
ーン部、８４は基板固定台、基板７は８４固定台のセン
ターボスにより位置決め固定されている。図２２（ｂ）
は接着剤８１が塗布された基板７を版を８５ヒンジを回
転させて取り出す様子を示している。使用したスクリー
ンの版はパターン上で、貫通している部分と貫通してい
ない部分の比率が３対７のものを用いた。接着剤が塗布
された基板７は、図４（ｂ）、図４（ｃ）に示す装置で
真空貼り合わせ、ＵＶ露光を行い光記録媒体とした。結
果は外周、内周に接着剤のはみ出しはな１、良好な結果
であった。スクリーン印刷の場合、使用接着剤粘度は、
０．５〜７００００cps のものが好ましい。又、５００
cps 以上のものについてはシリコン系消泡剤を接着剤中
に混入することにより脱気性を向上させることが必要で
ある。スクリーンの版はパターン上で貫通している部分
と貫通していない部分との比率が２０cps 以下の接着剤
では３対７よりも小さいことが必要である。 【００８４】以上は本発明の一部を述べたに過ぎず、本
発明における各要因の適正な範囲は次の通りである。 【００８５】貼り合わせ加重：本発明において、貼り合
わせ加圧くは基板の自重１０kg／cm^２ の範囲で貼り合
わせは可能であるが、基板の自重１kg／cm２ の範囲は
外周及び内周への接着剤のはみ出しが無く更に光記録層
部にあるピンホール周辺の誘電体層、記録層の破壊がな
いので最も適しているといえる。 【００８６】接着剤の粘度：又、接着剤の粘度は０．５
〜１００００cps の範囲で貼り合わせが可能であるが、
１０００cps 以上では、貼り合わせ時、接着剤の拡散性
と脱泡性が少々劣り、又、４cps 以下では記録層部ピン
ホールへの接着剤侵入によるエラーレートの劣化を引き
起こすため、４〜１０００cps の範囲が最も好ましい。 【００８７】真空度：貼り合わせは、１００torr〜１×
１０^−４torrの範囲で可能である。しかし、３０torr以
上では気泡の混入の確率が高く、５×１０^−３torr以下
では接着剤が突沸するので、３０torr〜５×１０^−３to
rrの範囲が適している。但し、プラスチック基板の接着
面に誘電体が被覆されプラスチックの表面が露出してい
ない第１及び図２に示す光記録媒体の構造とプラスチッ
ク基板の接着面に誘電体の被覆がなくプラスチックが露
出している図２に示す光記録媒体の構造とでは、後者の
方がプラスチック基板よりのガス放出が多く、プラスチ
ック表面と接着剤との濡れ性が不均一となり、気泡の混
入を招き易い。そのため、前者と後者の構造では、貼り
合わせ時の適正な真空度が異なり、後者の適正真空度は
前者より高くなり１０torr〜５×１０^−３torrである。 【００８８】真空中で接着剤を塗布し、真空貼り合わせ
をする場合と、大気中塗布、真空中貼り合わせの場合で
制作した光記録媒体の間に、気泡混入に帰因するバース
トエラーに差はなく、光記録媒体の内周、外周への接着
剤はみ出しは両者ともなく、面プレ等の貼り合わせ光記
録媒体の寸法精度とも同等の品質であった。 【００８９】接着剤の塗布方法：接着剤の基板上への塗
布方法としては、デイスペンサ法、スピンコート法、ロ
ールコート法及びスクリーン印刷法のいずれでも可能で
ある。但し、接着剤中及び接着界面への気泡混入の確率
を低く抑えるには、デイスペンサ法によるリング状塗布
と点状塗布が最も勝れており、最も高い製造歩留が得ら
れる。 【００９０】デイスペンス時の雰囲気： 接着剤をデイスペンスする時の雰囲気は、大気と真空と
双方で可能であり、双方でほぼ同等なのビットエラーレ
ートを有する光記録媒体を得ることができる。但し、デ
イスペンス操作の安定性及び装置のメンテナンスの点よ
り、デイスペンス時の雰囲気は大気の方が適している。 【００９１】接着剤：接着剤としては、ＵＶ硬化型接着
剤に限らず、嫌気性硬化型接着剤、シアノアクリレート
系接着剤、２液硬化型エポキシ系接着剤及び２液硬化型
ウレタン系接着剤等を使用することが可能である。嫌気
性接着剤、嫌気性付与ＵＶ接着剤を使用する接着剤をデ
イスペンスする時の雰囲気は、大気と真空と双方でほぼ
同等なビットエラーレートを有する光記録媒体を得るこ
とができる。但し、デイスペンス操作の安定性及び装置
のメンテナンスの点より、デイスペンス時の雰囲気は大
気の方が適している。 【００９２】接着剤：接着剤としては、ＵＶ硬化型接着
剤に限らず、嫌気性硬化型接着剤、シアノアクリレート
系接着剤、２液硬化型エポキシ系接着剤及び２液硬化型
ウレタン系接着剤等を使用することが可能である。嫌気
性接着剤、嫌気性付与ＵＶ接着剤を使用する場合は、接
着剤が接触する基板表面に嫌気性硬化を促進する触媒物
質を点状又は層状に塗布することが望ましい。触媒物質
としては、Ｆｅ，Ｃｕ，Ｚｎ，Ａ１等の金属又はそれら
を１部に含む合金が使用可能である。 【００９３】上記接着剤は熱、水分、紫外線、嫌気性雰
囲気及びそれらの複合により硬化するので、接着剤の硬
化方法は上記硬化方法が全て本発明に含まれる。 【００９４】ＵＶ露光の照射エネルギー：ＵＶ硬化型接
着剤は、ＵＶ露光の照射エネルギーが１００mj／cm^２
以上で重合を速やかに起こし、光記録媒体として必要な
接着剤硬化物の物性値をうることができる。一方、１０
０mj／cm^２ 以下では、重合反応が不安定で接着剤硬化
物の物性値の変動が大きくなり、良好な物性値を得るこ
とが少々難しくなる。 【００９５】尚、本発明において、基板の材料はポリカ
ーボネイトに限定されるものではなく、ＰＭＭＡ，エポ
キシ、ＴＰＸ，ガラス等の光学物性に優れたものであれ
ば、全て使用することができる。 【００９６】 【発明の効果】本発明の製造方法及び媒体構造を用いる
ことにより、下記の効果があった。 【００９７】 【００９８】接着剤への気泡混入を皆無にでき、透過
光及び反射光再生の場合のエラーレートを著しく改善で
きた。 【００９９】接着剤層中の気泡により引き起こされる
誘電体層のクラックの発生を皆無にでき、透過光及び反
射光再生の場合のエラーレートを著しく改善できた。 【０１００】接着剤層中の気泡により発生するレーザ
ー光の熱拡散の乱れを皆無にすることができ、安定した
ビットを形成することができた。 【０１０１】低加圧荷重で貼り合わせることにより、
局部的な複屈折の発生及び従来の加圧治具による基板表
面へのゴミ、塵、加圧治具の凹凸等の転写を防止するこ
とができた。 【０１０２】低加圧荷重で貼り合わせることにより、
光記録媒体の記録部に発生しているピンホール部を破壊
せずに貼り合わせることができた。（ピンホールを破壊
するとその部分はバーストエラーとなりビットエラーレ
ートを低下させる。）貼り合わせる基板単体の面ブ
レ、ソリの値よりも貼り合わせた光記録媒体の値が約５
割程度良くなった。 【０１０３】貼り合わせ光記録媒体の内周、外周部へ
の接着剤のはみ出しが皆無となり、歩留の高い、高信頼
性の光記録媒体を得ることができた。 【０１０４】 【表１】 【０１０５】 【表２】【０１０６】 【表３】【０１０７】 【表４】【０１０８】 【表５】

【図面の簡単な説明】 【図１】本発明の光記録媒体の一実施例を示す主要断面
図。 【図２】本発明の光記録媒体の一実施例を示す主要断面
図。 【図３】本発明の光記録媒体の一実施例を示す主要断面
図。 【図４】（ａ）〜（ｃ）は本発明のデイスペンス装置、
真空貼り合わせ装置、ＵＶ露光装置の概念図。 【図５】本発明の下方からＵＶ露光する装置の概念図。 【図６】本発明の真空貼り合わせ装置の概念図。 【図７】本発明の加圧しながらＵＶ露光する装置の概念
図。 【図８】本発明の加圧しながらＵＶ露光する装置の概念
図。 【図９】本発明の真空貼り合わせ工程とＵＶ露光工程を
一つの装置で行う装置の概念図。 【図１０】本発明のデイスペンス工程、真空貼り合わせ
工程とＵＶ露光工程を一つの装置で行う装置の概念図。 【図１１】本発明のデイスペンス工程、真空貼り合わせ
工程とＵＶ露光工程を一つの装置で行う装置の概念図。 【図１２】（ａ）は本発明のリング状に接着剤をデイス
ペンスした基板の断面図、（ｂ）は本発明のはリング状
に接着剤をデイスペンスした基板の平面図。 【図１３】（ａ）〜（ｅ）は本発明のリング状に接着剤
をデイスペンスする工程を示す図。 【図１４】本発明の一重のリング状に接着剤をデイスペ
ンスした基板の平面図。 【図１５】本発明の多重リング状にデイスペンスした基
板の平面図。 【図１６】（ａ）は本発明の点状に接着剤をデイスペン
スする手順を示す基板とセンターボスの断面図、（ｂ）
は本発明の点状に接着剤をデイスペンスした基板の平面
図。 【図１７】（ａ）は本発明の多重の同心円周上いおいて
点状に接着剤をデイスペンスする手順を示す基板とセン
ターボスの断面図、（ｂ）は本発明の多重の同心円周上
いおいて点状に接着剤をデイスペンスした基板の平面
図。 【図１８】（ａ）はスピンコータ法による接着剤塗布の
手順を示す概念図、（ｂ）はスピンコート法により接着
剤を基板に塗布した基板とセンタボスの断面図。 【図１９】ロールコータ法により接着剤を基板に塗布す
る装置の概略図。 【図２０】ロールコータ法により接着剤を基板に塗布す
る装置の概略図。 【図２１】ロールコータ法により接着剤を基板に塗布す
る装置の概略図。 【図２２】（ａ）（ｂ）はスクリーン印刷法により接着
剤を基板に塗布する装置の概略図と手順を示す図。 【図２３】本発明の製造方法を用いて制作された各種光
記録媒体の断面図。 【図２４】本発明の製造方法を用いて制作された各種光
記録媒体の断面図。 【図２５】本発明の製造方法を用いて制作された各種光
記録媒体の断面図。 【図２６】従来の基板貼り合わせ方法の概略図。 【図２７】射出成形プラスチック基板の形状を示す図で
ある。

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (56)参考文献 特開 昭60−234249（ＪＰ，Ａ) 特開 昭60−261040（ＪＰ，Ａ) 特開 昭61−148649（ＪＰ，Ａ) 特開 昭59−139147（ＪＰ，Ａ) 特開 昭57−88538（ＪＰ，Ａ) 特開 昭62−38544（ＪＰ，Ａ)

Claims (1)

1. (57)【特許請求の範囲】 １．少なくとも一方に情報記録層が形成され、それぞれ
   中心に貫通穴を有する２枚の基板を、前記情報記録層が
   形成された面を貼り合わせ面とし接着剤を介して貼り合
   わせる光記録媒体の製造方法であって、 前記２枚の基板の少なくとも一方の貼り合わせ面側に前
   記接着剤の前記基板の内周部へのはみ出しを防止する溝
   を前記基板の貫通穴と同心円状に設け、前記接着剤を前
   記基板上の溝に対して外周側に塗布し、真空雰囲気中
   で、前記２枚の基板を貼り合わせることを特徴とする光
   記録媒体の製造方法。 ２．前記接着剤を前記基板と同心円のリング状に塗布す
   ることを特徴とする請求項１記載の光記録媒体の製造方
   法。 ３．前記接着剤の塗布初め位置と、塗布終わり位置が離
   れていることを特徴とする請求項１記載の光記録媒体の
   製造方法。 ４．前記接着剤の塗布初め位置と、塗布終わり位置と、
   前記基板の中心による扇形状の中心角が５°以内である
   ことと、 前記接着剤の塗布幅Ｗの変動が２５％以内であること
   と、 前記接着剤が塗布される基板の径をＤ_１とし、前記リン
   グ状に塗布された接着剤の塗布中心線によるリング径を
   Ｄ_２として、Ｄ_２／Ｄ_１が０．６以上であることと、 前記接着剤の塗布初め位置の形状と、前記接着剤の塗布
   終わり位置の形状がほぼ等しいこと、とを特徴とする請
   求項３記載の光記録媒体の製造方法。 ５．前記接着剤を前記基板上に点状に塗布することを特
   徴とする請求項１記載の光記録媒体の製造方法。 ６．前記点状に塗布される接着剤を同心円状に配置する
   請求項５記載の光記録媒体の製造方法。 ７．前記点状に塗布される接着剤による同心円の径ｄの
   すべての塗布箇所における変動幅が１０％以内であるこ
   とを特徴とする請求項６記載の光記録媒体の製造方法。 ８．前記２枚の基板の少なくとも一方の情報記録層上に
   誘電体膜を形成することを特徴とする請求項１記載の光
   記録媒体の製造方法。 ９．前記接着剤が接触する基板表面に、前記接着剤の硬
   化反応を促進する触媒機能物質を設けることを特徴とす
   る請求項１記載の光記録媒体の製造方法。