JP3300141B2 - 焼成塗膜形成剤とその製造法 - Google Patents
焼成塗膜形成剤とその製造法Info
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Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は新規な焼成塗膜形成剤と
その製造法に関する。特にガラスや金属などの無機材料
の基体に塗布して焼成して形成され、耐熱保護膜、電子
部品、光学材料などに有効に利用される焼成塗膜形成剤
とその製造法に関するものである。
その製造法に関する。特にガラスや金属などの無機材料
の基体に塗布して焼成して形成され、耐熱保護膜、電子
部品、光学材料などに有効に利用される焼成塗膜形成剤
とその製造法に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】従来、金属酸化粉末や酸化して酸化物を
与える有機金属化合物などベヒクルに分散させて基体に
塗布し４００〜８００℃に加熱して無機質膜を形成する
方法は広く利用されている。この形成剤のベヒクルとし
ては金属脂肪酸化合物や金属アルコキシドなどが使用さ
れている。金属アルコキシドはチタンアルコキシドやオ
リゴマー或いはキレートなどが主として利用されてい
る。調製された塗布剤は浸漬法やスクリーン法などで処
理して使用されている（神谷、横尾、表面２４、１３
１）（K Kamiya Y Yamamoto J Non-Crys Solis 63 22
3(1984))。
与える有機金属化合物などベヒクルに分散させて基体に
塗布し４００〜８００℃に加熱して無機質膜を形成する
方法は広く利用されている。この形成剤のベヒクルとし
ては金属脂肪酸化合物や金属アルコキシドなどが使用さ
れている。金属アルコキシドはチタンアルコキシドやオ
リゴマー或いはキレートなどが主として利用されてい
る。調製された塗布剤は浸漬法やスクリーン法などで処
理して使用されている（神谷、横尾、表面２４、１３
１）（K Kamiya Y Yamamoto J Non-Crys Solis 63 22
3(1984))。
【０００３】電子部品の加工には特にスクリーン印刷法
が多く利用されるので調製された塗布剤はスクリーン印
刷に適した特性が要求されている。
が多く利用されるので調製された塗布剤はスクリーン印
刷に適した特性が要求されている。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】従来、この焼成膜形成
のベヒクルとして使用されている金属アルコキシドやキ
レート或いは脂肪酸化合物から調製した塗布剤は作業中
の湿気の影響を受けて粘度や流動性が変化し易くスクリ
ーン印刷や他の方法で塗装し難かった。さらに焼成して
形成された膜の基体への密着性や膜の硬度、膜強度、耐
熱性などの機械特性、電気抵抗、誘電特性などの電気特
性、耐酸性、耐塩基性などの耐薬品性も十分でなく改善
が求められていた。
のベヒクルとして使用されている金属アルコキシドやキ
レート或いは脂肪酸化合物から調製した塗布剤は作業中
の湿気の影響を受けて粘度や流動性が変化し易くスクリ
ーン印刷や他の方法で塗装し難かった。さらに焼成して
形成された膜の基体への密着性や膜の硬度、膜強度、耐
熱性などの機械特性、電気抵抗、誘電特性などの電気特
性、耐酸性、耐塩基性などの耐薬品性も十分でなく改善
が求められていた。
【０００５】本発明は上記従来の技術の課題を解決する
ために研究されたものであり、粘度が安定して作業中の
湿気の影響を受けることなく塗装し易く、スクリーン印
刷もし易く、優れた特性を有する膜を塗布後の焼成によ
り形成し得る焼成塗膜形成剤とその製造法を提供するこ
とを目的とするものである。
ために研究されたものであり、粘度が安定して作業中の
湿気の影響を受けることなく塗装し易く、スクリーン印
刷もし易く、優れた特性を有する膜を塗布後の焼成によ
り形成し得る焼成塗膜形成剤とその製造法を提供するこ
とを目的とするものである。
【０００６】
【課題を解決するための手段】かくて本発明は、金属に
結合したＰを含むＡｌ−Ｏ−Ｔｉ結合化合物がグリコー
ル及びジケトン又はケトエステルのリガンドを持った複
合キレートであるアルミノオキシチタングリコキシドホ
スフェートキレートからなる焼成塗膜形成剤を提供する
ものである。
結合したＰを含むＡｌ−Ｏ−Ｔｉ結合化合物がグリコー
ル及びジケトン又はケトエステルのリガンドを持った複
合キレートであるアルミノオキシチタングリコキシドホ
スフェートキレートからなる焼成塗膜形成剤を提供する
ものである。
【０００７】本発明は、また、アルミニウムアルコキシ
ドとチタンアルコキシドを縮合してＡｌ−Ｏ−Ｔｉ結合
の化合物を形成し、次いでグリコールとジケトン又はケ
トエステルを反応させてキレート化し、更に酸性リン酸
エステル又は酸性リン酸を反応させて前記化合物の金属
にリンＰを結合せしめることを特徴とする、アルミノオ
キシチタングルコキシドホスフェートキレートからなる
焼成塗膜形成剤の製造法を提供するものである。
ドとチタンアルコキシドを縮合してＡｌ−Ｏ−Ｔｉ結合
の化合物を形成し、次いでグリコールとジケトン又はケ
トエステルを反応させてキレート化し、更に酸性リン酸
エステル又は酸性リン酸を反応させて前記化合物の金属
にリンＰを結合せしめることを特徴とする、アルミノオ
キシチタングルコキシドホスフェートキレートからなる
焼成塗膜形成剤の製造法を提供するものである。
【０００８】本発明について以下詳しく説明する。
【０００９】当業者の周知の事実として、金属有機化合
物を焼成して酸化物にするとき単一の組成物よりも複合
酸化物にした方が焼結性がよい事が知られている。
物を焼成して酸化物にするとき単一の組成物よりも複合
酸化物にした方が焼結性がよい事が知られている。
【００１０】そこで、本発明の目的の塗布膜形成剤のベ
ヒクル組成物として従来使用されているチタン化合物単
体とか、単なる混合物よりも良い焼結性が期待できる複
合化合物にして改善する事を計った。
ヒクル組成物として従来使用されているチタン化合物単
体とか、単なる混合物よりも良い焼結性が期待できる複
合化合物にして改善する事を計った。
【００１１】そこで本発明のベヒクルのベース材料とし
ては造膜性の良い酸化物を与える事が知られているチタ
ンのアルコキシドを用いこのチタン化合物と複合する他
の金属成分の選択をした。選択はチタンアルコキシドに
組合わせる試料の金属有機化合物を反応させて得たＴｉ
−Ｏ−Ｍ結合の化合物をトルエン溶液とする。この溶液
をガラスに塗布し溶剤を除去した後５５０℃で焼成して
形成される酸化被膜の状態をしらべて金属の選択をし
た。
ては造膜性の良い酸化物を与える事が知られているチタ
ンのアルコキシドを用いこのチタン化合物と複合する他
の金属成分の選択をした。選択はチタンアルコキシドに
組合わせる試料の金属有機化合物を反応させて得たＴｉ
−Ｏ−Ｍ結合の化合物をトルエン溶液とする。この溶液
をガラスに塗布し溶剤を除去した後５５０℃で焼成して
形成される酸化被膜の状態をしらべて金属の選択をし
た。
【００１２】Ｔｉ−Ｏ−Ｍ複合酸化物の形成は ａ ＴｉＯＲ＋ＭＯＨ ＴｉＯＭ＋ＲＯＨ ｂ ＴｉＯＲ＋ＭＯＲ ＴｉＯＭ＋２ＲＯＨ ｃ ＴｉＯＲ＋Ｍ−ＯＯＣＲ ＴｉＯＭ＋ＲＯＯＣＲ （Ｒは炭化水素基、Ｍは金属を示す） など幾つかの反応で合成する事が出来る。
【００１３】いずれの反応方法によるかは金属の種類に
よって選んで利用出来る。
よって選んで利用出来る。
【００１４】本発明者等は種々の金属について検討した
結果アルミニウムとチタンの複合酸化物の被膜形成性が
良いことを見出した。かくて上記反応式ｂに従ってチタ
ンアルコキシドとアルミニウムアルコキシドを反応させ
て得られたＡｌ−Ｏ−Ｔｉ結合を有する複合酸化物が好
ましいことが見出された。このアルミノオキシチタン複
合酸化物を塗布膜形成組成物にするために、塗布剤の調
製時の無機粉末の混合分散のし易さ、分散物の安定性や
塗布性、さらに焼成時の有機物揮発成分の除去性を考慮
してリガンドの選択をし組成構造を設計した。
結果アルミニウムとチタンの複合酸化物の被膜形成性が
良いことを見出した。かくて上記反応式ｂに従ってチタ
ンアルコキシドとアルミニウムアルコキシドを反応させ
て得られたＡｌ−Ｏ−Ｔｉ結合を有する複合酸化物が好
ましいことが見出された。このアルミノオキシチタン複
合酸化物を塗布膜形成組成物にするために、塗布剤の調
製時の無機粉末の混合分散のし易さ、分散物の安定性や
塗布性、さらに焼成時の有機物揮発成分の除去性を考慮
してリガンドの選択をし組成構造を設計した。
【００１５】チタンベースとしてはチタンテトラｉｓｏ
‐プロポキシド、チタンテトラｎ‐ブトキシド（テトラ
ブチルチタネート）など低炭素数（Ｃ＝４以下）のチタ
ンアルコキシドをそのまま或いはオリゴマーにして使用
出来る。
‐プロポキシド、チタンテトラｎ‐ブトキシド（テトラ
ブチルチタネート）など低炭素数（Ｃ＝４以下）のチタ
ンアルコキシドをそのまま或いはオリゴマーにして使用
出来る。
【００１６】このチタンアルコキシドはオリゴマーの方
が造膜性に優れているが重合度が高すぎると流動性が低
下しスクリーン印刷性や作業性が損なわれるので、通常
の用途には１０量体以下が望ましい。このチタンアルコ
キシドと複合化して使用できるアルミニウムはアルミニ
ウムトリイソプロポキシド等の低炭素数（Ｃ＝４以下）
のアルミニウムアルコキシドが用いられる。この場合ア
ルミニウムの比率が多すぎると形成された塗装剤の造膜
性が低下するのでＡｌ／Ｔｉの比率は１に等しいか１よ
り小さく、特に１／２〜１／１２程度にするのが望まし
い。
が造膜性に優れているが重合度が高すぎると流動性が低
下しスクリーン印刷性や作業性が損なわれるので、通常
の用途には１０量体以下が望ましい。このチタンアルコ
キシドと複合化して使用できるアルミニウムはアルミニ
ウムトリイソプロポキシド等の低炭素数（Ｃ＝４以下）
のアルミニウムアルコキシドが用いられる。この場合ア
ルミニウムの比率が多すぎると形成された塗装剤の造膜
性が低下するのでＡｌ／Ｔｉの比率は１に等しいか１よ
り小さく、特に１／２〜１／１２程度にするのが望まし
い。
【００１７】チタンやアルミニウムに結合させるリガン
ドの大きさは、形成されるチタン化合物が安定で流動性
があり塗布剤にしたときスクリーン印刷し易い物である
様に選ばれることが望まれ、また形成される酸化膜の焼
結性にも影響するのでリガンド又は有機基はＣ≦１８が
通常使用される。好ましいリガンド又は有機基はグリコ
ールとジケトン、ケトエステルであり炭素数６〜１６の
範囲のものが好ましい。例えばヘキサングリコール（ヘ
キサンジオール）、オクチレングリコール、アセチルア
セトン、アセト酢酸メチル、アセト酢酸エチルがその一
例である。グリコールの他ジケトン、ケトエステルの一
部をアルコール、カルボン酸におきかえると流動性の調
製ができるので有効である。
ドの大きさは、形成されるチタン化合物が安定で流動性
があり塗布剤にしたときスクリーン印刷し易い物である
様に選ばれることが望まれ、また形成される酸化膜の焼
結性にも影響するのでリガンド又は有機基はＣ≦１８が
通常使用される。好ましいリガンド又は有機基はグリコ
ールとジケトン、ケトエステルであり炭素数６〜１６の
範囲のものが好ましい。例えばヘキサングリコール（ヘ
キサンジオール）、オクチレングリコール、アセチルア
セトン、アセト酢酸メチル、アセト酢酸エチルがその一
例である。グリコールの他ジケトン、ケトエステルの一
部をアルコール、カルボン酸におきかえると流動性の調
製ができるので有効である。
【００１８】この様にして合成される複合酸化物組成物
の焼結性を改良するためにＰ化合物をドーパントとして
加える。単にＰ化合物を混合したのでは、加熱時の分解
性の相違から含有量が変化してしまう恐れがある時は、
加えるＰはＭ−Ｏ−Ｐ（ＭはＡｌ又はＴｉ）などで結合
している事が望ましい。
の焼結性を改良するためにＰ化合物をドーパントとして
加える。単にＰ化合物を混合したのでは、加熱時の分解
性の相違から含有量が変化してしまう恐れがある時は、
加えるＰはＭ−Ｏ−Ｐ（ＭはＡｌ又はＴｉ）などで結合
している事が望ましい。
【００１９】ここに用いるＰ化合物としては一般式 Ｏ＝Ｐ（ＯＲ）ｎ（ＯＨ）3-n で表わされる酸性リン酸エステルか、又は Ｏ＝Ｐ（Ｒ）ｎ（ＯＨ）3-n で表わされる酸性リン酸を用いるのが好ましい。尚、上
記式中Ｒは炭素数１〜８、好ましくは１〜６の炭化水素
基、たとえばブチル基、プロピル基、フェニル基等であ
り、ｎは１又は２である。
記式中Ｒは炭素数１〜８、好ましくは１〜６の炭化水素
基、たとえばブチル基、プロピル基、フェニル基等であ
り、ｎは１又は２である。
【００２０】上記のようにドーパントとして分子中にＰ
−ＯＨ基を有する有機化合物としては例えばブチルジホ
スホン酸、ジブチルホスホン酸、フェニルジホスホン酸
などのホスホン酸類、ジブチルアシドホスフェート、ブ
チルジアシドホスフェート、ジメチルアシドホスフェー
ト等のアシドホスフェート類を挙げることができる。
−ＯＨ基を有する有機化合物としては例えばブチルジホ
スホン酸、ジブチルホスホン酸、フェニルジホスホン酸
などのホスホン酸類、ジブチルアシドホスフェート、ブ
チルジアシドホスフェート、ジメチルアシドホスフェー
ト等のアシドホスフェート類を挙げることができる。
【００２１】ホスホン酸類は夫々の化合物で用いること
もできるが混合物の形で、たとえば（モノ）ブチルジホ
スホン酸とジブチル（モノ）ホスホン酸のモル比１：１
混合物としてつくられ、用いられる場合もある。又アシ
ッドホスフェート類の場合は通常モノとジ化合物の１：
１混合物の形、たとえばジブチル（モノ）アシッドホス
フェートと（モノ）ブチルジアシッドホスフェートの
１：１のモル比の混合物の形でつくられ、提供されるの
でそのまま単離することなく用いられる。従って生成す
る化合物も対応する混合物の形で得られる。ここに用い
られるリンＰとチタンＴｉの比率Ｐ／Ｔｉは１に等しい
か、又は１より小さく１／２〜１／８の程度にするのが
望ましい。１／４が最も好ましい。
もできるが混合物の形で、たとえば（モノ）ブチルジホ
スホン酸とジブチル（モノ）ホスホン酸のモル比１：１
混合物としてつくられ、用いられる場合もある。又アシ
ッドホスフェート類の場合は通常モノとジ化合物の１：
１混合物の形、たとえばジブチル（モノ）アシッドホス
フェートと（モノ）ブチルジアシッドホスフェートの
１：１のモル比の混合物の形でつくられ、提供されるの
でそのまま単離することなく用いられる。従って生成す
る化合物も対応する混合物の形で得られる。ここに用い
られるリンＰとチタンＴｉの比率Ｐ／Ｔｉは１に等しい
か、又は１より小さく１／２〜１／８の程度にするのが
望ましい。１／４が最も好ましい。
【００２２】かくて、本発明に係る焼成塗膜形成剤はア
ルミニウムアルコキシドとチタンアルコキシドを縮合し
てＡｌ−Ｏ−Ｔｉ結合を有する化合物をつくり、次いで
グリコールとジケトン又はケトエステルを反応させ、更
にリン化合物を作用させて前記の金属Ａｌ又はＴｉにリ
ンを結合せしめてアルミノオキシチタングリコキシドホ
スフェートキレート化合物としてつくられるが、通常こ
のような順序でつくられる外、若干の順序を変えてつく
ることもできる。例えばさきにアルミニウムアルコキシ
ドとケトエステルを反応させて得られた化合物を出発化
合物として用いたり、アルミニウムアルコキシドにグリ
コールとケトエステルを反応させ、次いでチタンアルコ
キシド、更にリン化合物を加えたり、或はグリコールを
２回に分けて用いたり、することは任意である。要する
に上記の如き化合物を用いて目的とするアルミノオキシ
チタングリコキシドホスフェートキレート化合物を得る
ことができる方法ならば適宜変更して行なうことができ
る。
ルミニウムアルコキシドとチタンアルコキシドを縮合し
てＡｌ−Ｏ−Ｔｉ結合を有する化合物をつくり、次いで
グリコールとジケトン又はケトエステルを反応させ、更
にリン化合物を作用させて前記の金属Ａｌ又はＴｉにリ
ンを結合せしめてアルミノオキシチタングリコキシドホ
スフェートキレート化合物としてつくられるが、通常こ
のような順序でつくられる外、若干の順序を変えてつく
ることもできる。例えばさきにアルミニウムアルコキシ
ドとケトエステルを反応させて得られた化合物を出発化
合物として用いたり、アルミニウムアルコキシドにグリ
コールとケトエステルを反応させ、次いでチタンアルコ
キシド、更にリン化合物を加えたり、或はグリコールを
２回に分けて用いたり、することは任意である。要する
に上記の如き化合物を用いて目的とするアルミノオキシ
チタングリコキシドホスフェートキレート化合物を得る
ことができる方法ならば適宜変更して行なうことができ
る。
【００２３】このようにして得られた焼成塗膜形成剤は
良好な性質を有するが、更にドープ剤としてイットリウ
ムを用いて変成すると焼成膜の硬度を改善することが出
来る。ドープする時ドーパントのイットリウムはＰの場
合の如く骨格に結合させてもよいが焼成時に揮散する事
が無いので、骨格となるＡｌ／Ｔｉと結合させる必要は
無く混合して変成出来る。
良好な性質を有するが、更にドープ剤としてイットリウ
ムを用いて変成すると焼成膜の硬度を改善することが出
来る。ドープする時ドーパントのイットリウムはＰの場
合の如く骨格に結合させてもよいが焼成時に揮散する事
が無いので、骨格となるＡｌ／Ｔｉと結合させる必要は
無く混合して変成出来る。
【００２４】イットリウム変成すると焼成膜の硬度を改
善出来る。
善出来る。
【００２５】変成量は希望する硬度に応じて決定するこ
とが出来る。イットリウムが多すぎると得られるアルミ
ノオキシチタン複合酸化物の流動性が低下し塗料化する
時に支障が出るのでイットリウムはＡｌと同モル又はそ
れ以下が望ましい。
とが出来る。イットリウムが多すぎると得られるアルミ
ノオキシチタン複合酸化物の流動性が低下し塗料化する
時に支障が出るのでイットリウムはＡｌと同モル又はそ
れ以下が望ましい。
【００２６】これらの方法で合成された組成物は無機粉
末や顔料などを加えて塗布剤を調製出来る。無機粉末と
してＺｒＯ２を本組成物に分散混合して調合した塗布液
を市販ホウロー材にディップコーティングし９０℃で１
５分乾燥した後５５０℃で１０分加熱処理して形成した
被膜は膜厚０．８μであり耐酸性、耐塩基がすぐれてい
る。
末や顔料などを加えて塗布剤を調製出来る。無機粉末と
してＺｒＯ２を本組成物に分散混合して調合した塗布液
を市販ホウロー材にディップコーティングし９０℃で１
５分乾燥した後５５０℃で１０分加熱処理して形成した
被膜は膜厚０．８μであり耐酸性、耐塩基がすぐれてい
る。
【００２７】また、本発明の組成物は特にスクリーン印
刷法の加工に適したスクリーンインキを調製する事がで
きる。本発明の焼成塗膜形成剤を用いると蛍光顔料や導
電材料を分散させやくす、調製した塗布剤を使用してス
クリーン印刷すると、印刷作業時にはスクリーンメッシ
ュを通過し易く流動性が有りかつ滲み難い。印刷直後に
はメッシュ跡を埋めその後は垂れる事なくパターン形状
を保持するという液特性を示す。本発明の塗膜形成剤は
空気中で４００〜５５０℃で酸化分解され強靭な酸化膜
をのこすので顔料、導電材料が強固に固着し脱落の無い
良好な焼成膜を与える。
刷法の加工に適したスクリーンインキを調製する事がで
きる。本発明の焼成塗膜形成剤を用いると蛍光顔料や導
電材料を分散させやくす、調製した塗布剤を使用してス
クリーン印刷すると、印刷作業時にはスクリーンメッシ
ュを通過し易く流動性が有りかつ滲み難い。印刷直後に
はメッシュ跡を埋めその後は垂れる事なくパターン形状
を保持するという液特性を示す。本発明の塗膜形成剤は
空気中で４００〜５５０℃で酸化分解され強靭な酸化膜
をのこすので顔料、導電材料が強固に固着し脱落の無い
良好な焼成膜を与える。
【００２８】
【実施例】以下に本発明の実施例を示すが、本発明はこ
れにより限定されるべきではない。 実施例１ アセト酢酸エチルイソプロポキシアルミニウムアセテー
ト１２３．５部、テトラブチルチタネート２量体２５６
部を加えて攪拌しながら１００℃で３０分反応させる。
これに２‐エチル‐１，３‐ヘキサンジオール３６７．
５部を加えて１２５℃でさらに３０分反応した後６０℃
以下に冷却してこれにブチルアシッドホスフェート７４
部を加えて更に１２５℃で３０分反応して終了した。
れにより限定されるべきではない。 実施例１ アセト酢酸エチルイソプロポキシアルミニウムアセテー
ト１２３．５部、テトラブチルチタネート２量体２５６
部を加えて攪拌しながら１００℃で３０分反応させる。
これに２‐エチル‐１，３‐ヘキサンジオール３６７．
５部を加えて１２５℃でさらに３０分反応した後６０℃
以下に冷却してこれにブチルアシッドホスフェート７４
部を加えて更に１２５℃で３０分反応して終了した。
【００２９】これを５０ｍｍＨｇ９０℃で減圧蒸留して
生成したｎ‐ブタノールと酢酸ブチルを留去して淡黄色
粘性の液体５８５部を得た。
生成したｎ‐ブタノールと酢酸ブチルを留去して淡黄色
粘性の液体５８５部を得た。
【００３０】図１に示す赤外線分析と金属酸化物分析か
ら下記式の組成物である事を認めた。
ら下記式の組成物である事を認めた。
【００３１】 ＥｔＯＡｃＡｃ＝エチル・アセトアセテート ＯＧ＝２‐エチル‐１，３‐ヘキサンジオール ｊｐ＝ブチルアシッドホスフェートモノ・ジ１：１（モ
ル比）混合物 試験結果 粘度 １４Ｐ ３０℃ 屈折率３０℃ １．４８３７ ３０℃ 強熱残分 ２４．４％ （９００℃２時間） 実施例２ アルミニウムトリイソプロポキシド１０２部にアセト酢
酸エチル６５部と２‐エチル‐ヘキサン‐１，３‐ジオ
ール７４部を加えて８５℃に３０分加熱還流する。反応
後これにテトラブチルチタネート２量体２５６部と２‐
エチルヘキサン‐１，３‐ジオール３６０部を加えて８
５℃で１５分攪拌しさらにジブチルアシドホスフェート
とブチルジアシドホスフェート当量混合物７４部を加え
て攪拌しながら１１５℃で３０分加熱して反応を終わら
せる。
ル比）混合物 試験結果 粘度 １４Ｐ ３０℃ 屈折率３０℃ １．４８３７ ３０℃ 強熱残分 ２４．４％ （９００℃２時間） 実施例２ アルミニウムトリイソプロポキシド１０２部にアセト酢
酸エチル６５部と２‐エチル‐ヘキサン‐１，３‐ジオ
ール７４部を加えて８５℃に３０分加熱還流する。反応
後これにテトラブチルチタネート２量体２５６部と２‐
エチルヘキサン‐１，３‐ジオール３６０部を加えて８
５℃で１５分攪拌しさらにジブチルアシドホスフェート
とブチルジアシドホスフェート当量混合物７４部を加え
て攪拌しながら１１５℃で３０分加熱して反応を終わら
せる。
【００３２】装置を減圧蒸留装置に切り替えて反応で生
成したイソプロパノールとｎ‐ブタノールを５０ｍｍＨ
ｇ９０℃で処理し生成アルコールを除去して［１］式で
示される淡黄色粘ちょう液体５８６部を得た。
成したイソプロパノールとｎ‐ブタノールを５０ｍｍＨ
ｇ９０℃で処理し生成アルコールを除去して［１］式で
示される淡黄色粘ちょう液体５８６部を得た。
【００３３】図２に示す赤外線分析結果は実施例１の化
合物である事を認めた。
合物である事を認めた。
【００３４】試験結果 粘度 １５Ｐ ３０℃ 屈折率３０℃ １．４８３８ ３０℃ 強熱残分 ２４．３％ 実施例３ アルミニウムアセチルアセトネート、ジイソプロポキシ
ド１２４部にトリデカノール１００部を加え８０℃で１
５分攪拌下に加熱して反応させる。これにブチルチタネ
ート７量体８０５部と２‐エチルヘキサン‐１，３‐ジ
オール１０２４部を加えて９０℃で１５分間加熱攪拌し
て反応しこれにジブチルアシドホスフェートとブチルア
シドジホスフェート当量混合物７４部に水９ｇエタノー
ル２０部を加えて均一に混合しさらに攪拌しながら１５
分反応した。
ド１２４部にトリデカノール１００部を加え８０℃で１
５分攪拌下に加熱して反応させる。これにブチルチタネ
ート７量体８０５部と２‐エチルヘキサン‐１，３‐ジ
オール１０２４部を加えて９０℃で１５分間加熱攪拌し
て反応しこれにジブチルアシドホスフェートとブチルア
シドジホスフェート当量混合物７４部に水９ｇエタノー
ル２０部を加えて均一に混合しさらに攪拌しながら１５
分反応した。
【００３５】この反応物にイットリウムオクタネート
（Ｙ＝８％溶液）６０部を加えて同温度でさらに２０分
攪拌反応させて減圧処理して反応で生成したアルコール
と溶剤として加えたアルコールを除去して目的のイット
リウム変成アルミノオキシチタン複合酸化物キレート組
成物１３２３部を得た。イットリウム変成をすると焼成
膜は未変成品の焼成膜に比べて硬度が高くなる特性があ
るので高硬度膜を得たい時に利用される。 実施例４ 実施例２で合成したアルミノオキシチタン複合酸化物組
成部８０部に２００メッシュのＺｒＯ２を加えてボール
ミルで２時間攪拌してコーティング液を得た。この液を
通常のスクリーン印刷機に掛けて硝子板に印刷したとき
メッシュの通過が滑らかでメッシュ痕の残存はなくまた
印刷パターンの形状保持性も良好で有った。
（Ｙ＝８％溶液）６０部を加えて同温度でさらに２０分
攪拌反応させて減圧処理して反応で生成したアルコール
と溶剤として加えたアルコールを除去して目的のイット
リウム変成アルミノオキシチタン複合酸化物キレート組
成物１３２３部を得た。イットリウム変成をすると焼成
膜は未変成品の焼成膜に比べて硬度が高くなる特性があ
るので高硬度膜を得たい時に利用される。 実施例４ 実施例２で合成したアルミノオキシチタン複合酸化物組
成部８０部に２００メッシュのＺｒＯ２を加えてボール
ミルで２時間攪拌してコーティング液を得た。この液を
通常のスクリーン印刷機に掛けて硝子板に印刷したとき
メッシュの通過が滑らかでメッシュ痕の残存はなくまた
印刷パターンの形状保持性も良好で有った。
【００３６】これを１００℃で４０分乾燥後６４０℃で
３０分加熱処理し冷却したところ白色の均一な焼成膜を
得た。膜厚は４０μであった。
３０分加熱処理し冷却したところ白色の均一な焼成膜を
得た。膜厚は４０μであった。
【００３７】密着性クロスカット １００／１００ 硬度 ６Ｈ で密着性も良好であり膜の耐アルカリ性も良好であっ
た。
た。
【図１】本発明の実施例１で得られた化合物の赤外線ス
ペクトル。
ペクトル。
【図２】本発明の実施例２で得られる化合物の赤外線ス
ペクトル。
ペクトル。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 渡 辺 明 久 千葉県市川市南八幡五丁目13番２号 松 本製薬工業株式会社内 (56)参考文献 特開 昭60−40171（ＪＰ，Ａ) 特開 平５−179027（ＪＰ，Ａ) 特公 昭51−46081（ＪＰ，Ｂ１) (58)調査した分野(Int.Cl.7，ＤＢ名) C09D 185/00 - 185/02 C09D 1/00 C08G 79/00 - 79/14
Claims (4)
- 【請求項１】金属に結合したＰを含むＡｌ−Ｏ−Ｔｉ結
合化合物がグリコール及びジケトン又はケトエステルの
リガンドを持った複合キレートであるアルミノオキシチ
タングリコキシドホスフェートキレートからなる焼成塗
膜形成剤。 - 【請求項２】ＡｌとＴｉの比率Ａｌ／Ｔｉは１に等しい
か１より小さく、ＰとＴｉの比率Ｐ／Ｔｉは１に等しい
か１より小さい請求項１記載の焼成塗膜形成剤。 - 【請求項３】金属に結合したＰが酸性リン酸エステルＯ
＝Ｐ（ＯＲ）ｎ（ＯＨ）3-n 又はＯ＝Ｐ（Ｒ）ｎ（Ｏ
Ｈ）3-n の酸性リン酸（ただし両式中、Ｒは炭素数１〜
８の炭化水素基、ｎ＝１又は２）から得られる請求項１
記載の焼成塗膜形成剤。 - 【請求項４】アルミニウムアルコキシドとチタンアルコ
キシドを縮合してＡｌ−Ｏ−Ｔｉ結合の化合物を形成
し、次いでグリコールとジケトン又はケトエステルを反
応させてキレート化し、更に酸性リン酸エステル又は酸
性リン酸を反応させて前記化合物の金属にリンＰを結合
せしめることを特徴とする、アルミノオキシチタングル
コキシドホスフェートキレートからなる焼成塗膜形成剤
の製造法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP31698293A JP3300141B2 (ja) | 1993-12-16 | 1993-12-16 | 焼成塗膜形成剤とその製造法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP31698293A JP3300141B2 (ja) | 1993-12-16 | 1993-12-16 | 焼成塗膜形成剤とその製造法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH07166135A JPH07166135A (ja) | 1995-06-27 |
| JP3300141B2 true JP3300141B2 (ja) | 2002-07-08 |
Family
ID=18083103
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP31698293A Expired - Fee Related JP3300141B2 (ja) | 1993-12-16 | 1993-12-16 | 焼成塗膜形成剤とその製造法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3300141B2 (ja) |
Families Citing this family (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| FR3014106B1 (fr) * | 2013-12-03 | 2017-03-10 | Bluestar Silicones France | Composition silicone durcissable en presence d'eau ou d'humidite de l'air |
| JP5588088B1 (ja) * | 2013-12-11 | 2014-09-10 | 賢次郎 牧野 | 線状のアルコキシチタン酸・リン酸重合体の製造方法 |
| JP5861129B2 (ja) * | 2014-07-24 | 2016-02-16 | 健一 牧野 | 線状のアルコキシチタン酸・リン酸重合体の製造方法 |
-
1993
- 1993-12-16 JP JP31698293A patent/JP3300141B2/ja not_active Expired - Fee Related
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| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH07166135A (ja) | 1995-06-27 |
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