JP3293276B2 - 電子線描画装置 - Google Patents
電子線描画装置Info
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- JP3293276B2 JP3293276B2 JP27515993A JP27515993A JP3293276B2 JP 3293276 B2 JP3293276 B2 JP 3293276B2 JP 27515993 A JP27515993 A JP 27515993A JP 27515993 A JP27515993 A JP 27515993A JP 3293276 B2 JP3293276 B2 JP 3293276B2
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Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、半導体集積回路の回路
パターンを描画する電子線描画装置に関し、特に、試料
台連続移動描画方式による電子線描画装置を構成する回
路の回路定数の調整に関する。
パターンを描画する電子線描画装置に関し、特に、試料
台連続移動描画方式による電子線描画装置を構成する回
路の回路定数の調整に関する。
【０００２】
【従来の技術】試料台連続移動方式の電子線描画装置の
構成を図１に示す。試料台連続移動方式の描画は、連続
的に移動する試料台１０５の位置をレーザ測長計１１１
が測長し、追従制御系１０８が、該測長位置を基に、試
料台位置の移動分を電子ビーム偏向にフィードバックす
ることによりなされる。ただし、該測長データがフィー
ドバックされて実際に電子ビームが偏向された時点での
試料台位置は、レーザ測長計が測長した時点での試料台
位置から、フィードバックループの処理時間の分だけず
れている。そのため、該フィードバックループ内には、
連続する試料台位置を線形外挿補間し、近い将来の試料
台位置の予測を行う試料台位置予測回路１０９を設けて
ある。本回路は、回路定数ｔをもっており、試料台速度
と該回路定数ｔの積に比例した分だけ、試料台位置を予
測補正している。回路定数ｔが適正値より大きいなら
ば、電子ビーム偏向は正しい目標値より試料台移動方向
の前方にずれ、回路定数ｔが適正値より小さいならば、
電子ビーム偏向は正しい目標値より試料台移動方向の後
方にずれる。
構成を図１に示す。試料台連続移動方式の描画は、連続
的に移動する試料台１０５の位置をレーザ測長計１１１
が測長し、追従制御系１０８が、該測長位置を基に、試
料台位置の移動分を電子ビーム偏向にフィードバックす
ることによりなされる。ただし、該測長データがフィー
ドバックされて実際に電子ビームが偏向された時点での
試料台位置は、レーザ測長計が測長した時点での試料台
位置から、フィードバックループの処理時間の分だけず
れている。そのため、該フィードバックループ内には、
連続する試料台位置を線形外挿補間し、近い将来の試料
台位置の予測を行う試料台位置予測回路１０９を設けて
ある。本回路は、回路定数ｔをもっており、試料台速度
と該回路定数ｔの積に比例した分だけ、試料台位置を予
測補正している。回路定数ｔが適正値より大きいなら
ば、電子ビーム偏向は正しい目標値より試料台移動方向
の前方にずれ、回路定数ｔが適正値より小さいならば、
電子ビーム偏向は正しい目標値より試料台移動方向の後
方にずれる。
【０００３】回路定数ｔの適正値からのずれをｄｔと
し、試料台の速度をｖとすると、電子ビーム偏向量（の
移動方向成分）の正しい目標値からのずれは、ｖ×ｄｔ
に比例する。この状態で試料台連続移動方式にて描画を
行うと、描画結果は正しい位置からｖ×ｄｔに比例した
量だけずれる。
し、試料台の速度をｖとすると、電子ビーム偏向量（の
移動方向成分）の正しい目標値からのずれは、ｖ×ｄｔ
に比例する。この状態で試料台連続移動方式にて描画を
行うと、描画結果は正しい位置からｖ×ｄｔに比例した
量だけずれる。
【０００４】従来は、回路定数ｔの調整（回路定数ｔを
適正値にすること、すなわちｄｔ＝０）は、回路定数ｔ
をパラメータとして、試料台静止方式および試料台連続
移動方式にて描画を行い、両者の描画位置が一致するよ
うなパラメータｔを見いだすことにより行っていた。
適正値にすること、すなわちｄｔ＝０）は、回路定数ｔ
をパラメータとして、試料台静止方式および試料台連続
移動方式にて描画を行い、両者の描画位置が一致するよ
うなパラメータｔを見いだすことにより行っていた。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】該調整には、調整用描
画パターンの準備，描画，現像および描画結果に対する
測定という手順が必要であり、調整に多くの作業および
時間を要するという問題があった。本発明の目的は、試
料台位置予測回路１０９の回路定数ｔの調整を、実際に
描画を行うことなく、短時間に行うことが可能な手段を
提供することである。
画パターンの準備，描画，現像および描画結果に対する
測定という手順が必要であり、調整に多くの作業および
時間を要するという問題があった。本発明の目的は、試
料台位置予測回路１０９の回路定数ｔの調整を、実際に
描画を行うことなく、短時間に行うことが可能な手段を
提供することである。
【０００６】
【課題を解決するための手段】試料台位置予測回路１０
９の回路定数ｔの調整を、試料台静止方式および連続移
動方式マーク検出の組み合わせ、または、試料台連続移
動方式のみのマーク検出により行う手段を設ける。
９の回路定数ｔの調整を、試料台静止方式および連続移
動方式マーク検出の組み合わせ、または、試料台連続移
動方式のみのマーク検出により行う手段を設ける。
【０００７】
【作用】試料台位置予測回路１０９の回路定数ｔの適正
値からのずれをｄｔとし、試料台の速度をｖとすると、
描画時と同様に、マーク検出時にも、電子ビーム偏向量
（の移動方向成分）は正しい目標値からｖ×ｄｔに比例
した量だけずれるため、試料台連続移動マーク検出値
は、試料台静止マーク検出値からｖ×ｄｔに比例した値
だけずれる。
値からのずれをｄｔとし、試料台の速度をｖとすると、
描画時と同様に、マーク検出時にも、電子ビーム偏向量
（の移動方向成分）は正しい目標値からｖ×ｄｔに比例
した量だけずれるため、試料台連続移動マーク検出値
は、試料台静止マーク検出値からｖ×ｄｔに比例した値
だけずれる。
【０００８】したがって、回路定数ｔの調整（回路定数
ｔを適正値にすること、すなわちｄｔ＝０）は、回路定
数ｔをパラメータとして、試料台静止方式および試料台
連続移動方式にてマーク検出を行い、両者のマーク検出
値が一致するようなパラメータｔを見いだすことにより
可能である。
ｔを適正値にすること、すなわちｄｔ＝０）は、回路定
数ｔをパラメータとして、試料台静止方式および試料台
連続移動方式にてマーク検出を行い、両者のマーク検出
値が一致するようなパラメータｔを見いだすことにより
可能である。
【０００９】
【実施例】本発明の実施例を、図２，図３を用いて説明
する。
する。
【００１０】図２に、回路定数ｔ調整フローを示す。ま
ず、試料台静止方式でマーク検出を行い、該検出値（の
移動方向成分）をＹｓとする（２０１）。次に、試料台
速度ｖをｖ０に設定する（２０２）。回路定数ｔをｔ０
に設定し（２０３）、試料台静止方式で検出したのと同
一のマークに対して、試料台連続移動方式マーク検出を
行い、該検出値（の移動方向成分）をＹｃ１とする(２
０５)。試料台静止マーク検出値と試料台連続移動マー
ク検出値の差をΔＹ１とすると、ΔＹ１＝Ｙｃ１−Ｙｓ
である（２０６）。次に、回路定数ｔをΔｔずつ増加さ
せながら(２１０)、同様な操作を規定回数だけ繰り返す
（２０７）。
ず、試料台静止方式でマーク検出を行い、該検出値（の
移動方向成分）をＹｓとする（２０１）。次に、試料台
速度ｖをｖ０に設定する（２０２）。回路定数ｔをｔ０
に設定し（２０３）、試料台静止方式で検出したのと同
一のマークに対して、試料台連続移動方式マーク検出を
行い、該検出値（の移動方向成分）をＹｃ１とする(２
０５)。試料台静止マーク検出値と試料台連続移動マー
ク検出値の差をΔＹ１とすると、ΔＹ１＝Ｙｃ１−Ｙｓ
である（２０６）。次に、回路定数ｔをΔｔずつ増加さ
せながら(２１０)、同様な操作を規定回数だけ繰り返す
（２０７）。
【００１１】回路定数ｔの適正値からのずれをｄｔと
し、試料台の速度をｖとすると、試料台静止マーク検出
値と試料台連続移動マーク検出値の差（＝ΔＹｎ）は、
ｖ×ｄｔに比例する。したがって、回路定数ｔを横軸に
とり、試料台静止マーク検出値と試料台連続移動マーク
検出値の差（＝ΔＹｎ）を縦軸にとって測定データをプ
ロットすれば、傾きがｖに比例した直線になる。回路定
数ｔが適正値であることは、ｄｔ＝０すなわちΔＹｎ＝
０ということである（２０８）。したがって、該直線が
横軸（ΔＹｎ＝０）と交差する点のｔ値が、回路定数ｔ
の適正値となる。図３に、ｖ０＝５０mm／sec ，ｔ０＝
３０μｓ，繰返し回数＝５とした場合の、測定データ例
を示す。この場合、回路定数ｔの適正値は、約３１.２
μｓ と求めることができる。
し、試料台の速度をｖとすると、試料台静止マーク検出
値と試料台連続移動マーク検出値の差（＝ΔＹｎ）は、
ｖ×ｄｔに比例する。したがって、回路定数ｔを横軸に
とり、試料台静止マーク検出値と試料台連続移動マーク
検出値の差（＝ΔＹｎ）を縦軸にとって測定データをプ
ロットすれば、傾きがｖに比例した直線になる。回路定
数ｔが適正値であることは、ｄｔ＝０すなわちΔＹｎ＝
０ということである（２０８）。したがって、該直線が
横軸（ΔＹｎ＝０）と交差する点のｔ値が、回路定数ｔ
の適正値となる。図３に、ｖ０＝５０mm／sec ，ｔ０＝
３０μｓ，繰返し回数＝５とした場合の、測定データ例
を示す。この場合、回路定数ｔの適正値は、約３１.２
μｓ と求めることができる。
【００１２】上記実施例では、試料台移動速度としてｖ
０の１種類のみを用いたが、それに限定されるものでは
なく、複数種類の速度に対して回路定数ｔの適正値を求
め、それらを加算平均するなどして、回路定数ｔの調整
精度を向上させることも可能である。
０の１種類のみを用いたが、それに限定されるものでは
なく、複数種類の速度に対して回路定数ｔの適正値を求
め、それらを加算平均するなどして、回路定数ｔの調整
精度を向上させることも可能である。
【００１３】上記実施例では、試料台静止マーク検出値
と試料台連続移動マーク検出値が一致するように回路定
数ｔを調整したが、それに限定されるものではなく、正
方向および負方向移動での試料台連続移動マーク検出値
が一致するように、回路定数ｔを調整することも可能で
ある。
と試料台連続移動マーク検出値が一致するように回路定
数ｔを調整したが、それに限定されるものではなく、正
方向および負方向移動での試料台連続移動マーク検出値
が一致するように、回路定数ｔを調整することも可能で
ある。
【００１４】また、制御計算機が、試料台位置予測回路
１０９に対して、回路定数ｔを設定する手段をもつ（１
１２）ことにより、制御計算機により、上記のような調
整フローにて、回路定数ｔを自動調整することが可能で
ある。
１０９に対して、回路定数ｔを設定する手段をもつ（１
１２）ことにより、制御計算機により、上記のような調
整フローにて、回路定数ｔを自動調整することが可能で
ある。
【００１５】また、回路定数ｔの調整に用いるマーク
を、試料台連続移動方向に複数個配置し、それらのマー
クを続けて検出することにより、回路定数ｔの調整精度
向上または調整時間の短縮を行うことが可能である。
を、試料台連続移動方向に複数個配置し、それらのマー
クを続けて検出することにより、回路定数ｔの調整精度
向上または調整時間の短縮を行うことが可能である。
【００１６】電子線描画装置の描画精度調整時には、追
従制御系１０８中のＤＡＣ（ＤＡコンバータ）のゲイン
およびオフセット調整等を繰り返し行うが、その際、試
料台位置予測回路１０９の回路定数ｔの調整も同時に行
う必要がある。したがって、該回路定数ｔの調整の短時
間化は、電子線描画装置の調整作業の効率を向上させ
る。
従制御系１０８中のＤＡＣ（ＤＡコンバータ）のゲイン
およびオフセット調整等を繰り返し行うが、その際、試
料台位置予測回路１０９の回路定数ｔの調整も同時に行
う必要がある。したがって、該回路定数ｔの調整の短時
間化は、電子線描画装置の調整作業の効率を向上させ
る。
【００１７】
【発明の効果】本発明により、試料台位置予測回路１０
９の回路定数ｔの調整を、容易にかつ短時間で行うこと
が可能となる。また、回路定数ｔの制御計算機による自
動調整も可能となる。
９の回路定数ｔの調整を、容易にかつ短時間で行うこと
が可能となる。また、回路定数ｔの制御計算機による自
動調整も可能となる。
【図１】電子線描画装置の構成図である。
【図２】回路定数ｔ調整フロー図である。
【図３】回路定数ｔ調整時の測定データ例を示す図であ
る。
る。
１０１…電子ビーム、１０２…偏向器、１０３…反射電
子検出器、１０４…試料、１０５…試料台、１０６…制
御計算機、１０７…偏向系、１０８…追従制御系、１０
９…試料台位置予測回路、１１０…マーク検出系、１１
１…レーザ測長計、１１２…回路定数ｔ。
子検出器、１０４…試料、１０５…試料台、１０６…制
御計算機、１０７…偏向系、１０８…追従制御系、１０
９…試料台位置予測回路、１１０…マーク検出系、１１
１…レーザ測長計、１１２…回路定数ｔ。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (56)参考文献 特開 昭62−265721（ＪＰ，Ａ) 特開 昭61−7626（ＪＰ，Ａ) 特開 平５−226232（ＪＰ，Ａ) 特開 平１−196824（ＪＰ，Ａ) (58)調査した分野(Int.Cl.7，ＤＢ名) H01L 21/027
Claims (5)
- 【請求項１】電子ビームを発生させる手段，電子ビーム
の偏向量を制御する手段，試料面または試料台に形成さ
れたマーク上を電子ビーム走査する手段，該走査による
反射電子信号からマーク位置を算出する手段，試料台の
位置を測長する手段，該測長値を基にして、試料台の位
置を電子ビームの偏向量にフィードバックし、電子ビー
ム偏向量を試料台の移動に追従させる手段，測長した時
点での試料台位置，試料台速度および回路定数ｔから、
測長された試料台位置を電子ビームの偏向量にフィード
バックした時点での試料台位置を予測し、あらためて該
予測位置に電子ビームを偏向する手段、を有する電子線
描画装置において、測長した試料台位置を電子ビームの
偏向量にフィードバックした時点での試料台位置を予測
するための該回路定数ｔの適正値を、試料台静止方式お
よび連続移動方式マーク検出の組み合わせ、または、試
料台連続移動方式のみのマーク検出により決定する手段
を備えたことを特徴とする電子線描画装置。 - 【請求項２】請求項１の電子線描画装置において、試料
台静止方式マーク検出を行い、また、試料台連続移動方
式マーク検出を、該回路定数ｔをパラメータとして一方
向移動で行い、試料台静止マーク検出値と試料台連続移
動マーク検出値が一致する回路定数ｔをもって回路定数
ｔの適正値とする手段を備えたことを特徴とする電子線
描画装置。 - 【請求項３】請求項１の電子線描画装置において、試料
台連続移動方式マーク検出を、該回路定数ｔをパラメー
タとして、正方向移動および負方向移動で行い、正およ
び負方向移動でのマーク検出値が一致する回路定数ｔを
もって回路定数ｔの適正値とする手段を備えたことを特
徴とする電子線描画装置。 - 【請求項４】請求項１の電子線描画装置において、試料
台位置を予測するための該回路に対して、回路定数ｔ
を、制御計算機が設定する手段を備えたことを特徴とす
る電子線描画装置。 - 【請求項５】請求項１の電子線描画装置において、試料
台連続移動方向に１個以上マークを配置することを特徴
とする電子線描画装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP27515993A JP3293276B2 (ja) | 1993-11-04 | 1993-11-04 | 電子線描画装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP27515993A JP3293276B2 (ja) | 1993-11-04 | 1993-11-04 | 電子線描画装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH07130625A JPH07130625A (ja) | 1995-05-19 |
| JP3293276B2 true JP3293276B2 (ja) | 2002-06-17 |
Family
ID=17551501
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP27515993A Expired - Fee Related JP3293276B2 (ja) | 1993-11-04 | 1993-11-04 | 電子線描画装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3293276B2 (ja) |
Families Citing this family (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6133075A (en) | 1997-04-25 | 2000-10-17 | Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. | Semiconductor device and method of fabricating the same |
| JP6006552B2 (ja) * | 2012-07-09 | 2016-10-12 | 株式会社Ｓｃｒｅｅｎホールディングス | 位置予測装置、位置予測方法、および、基板処理装置 |
-
1993
- 1993-11-04 JP JP27515993A patent/JP3293276B2/ja not_active Expired - Fee Related
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH07130625A (ja) | 1995-05-19 |
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