JP3290138B2 - ヒータレール用カバー - Google Patents
ヒータレール用カバーInfo
- Publication number
- JP3290138B2 JP3290138B2 JP17685498A JP17685498A JP3290138B2 JP 3290138 B2 JP3290138 B2 JP 3290138B2 JP 17685498 A JP17685498 A JP 17685498A JP 17685498 A JP17685498 A JP 17685498A JP 3290138 B2 JP3290138 B2 JP 3290138B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- gas
- tunnel
- opening
- pellet
- outside air
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Fee Related
Links
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】この発明は半導体ペレットを
リードフレーム等の基材にソルダを用いてボンディング
するに際して基材がそこを搬送され、加熱されるヒータ
レールの改良に関し、特にカバーに設けた穴から外気が
進入するのをなるべく少なくしてトンネル内の雰囲気を
非酸化性雰囲気として保てるカバーの構造に関する。
リードフレーム等の基材にソルダを用いてボンディング
するに際して基材がそこを搬送され、加熱されるヒータ
レールの改良に関し、特にカバーに設けた穴から外気が
進入するのをなるべく少なくしてトンネル内の雰囲気を
非酸化性雰囲気として保てるカバーの構造に関する。
【０００２】
【従来の技術】従来のヒータレールの例を説明する。図
４（Ａ）はその平面図、図４（Ｂ）は図４（Ａ）におけ
るＡ―Ａ線での断面を表した側面図である。ヒータレー
ル１は断面コの字状のヒートブロック２をその凹部開口
を上に向けて配置する。そして、ヒートブロック２には
ヒータ（図示せず）を埋め込み、その凹部３の底面には
ほぼ全面を覆う皿状のアダプタレール４がその凹面を下
側に向けて配置される。そしてヒートブロック２には凹
部底面に向け外面に設けたガス導入口５からガス流路が
設けられている。そこでアダプタレール４とヒートブロ
ック２の凹部底面とで出来た空間は導入されたガスを貯
めるタンク６となっている。ヒートブロック２の上面に
は凹部３を覆ってカバープレート７が取り付けられて凹
部３がトンネル３ａを形成している。
４（Ａ）はその平面図、図４（Ｂ）は図４（Ａ）におけ
るＡ―Ａ線での断面を表した側面図である。ヒータレー
ル１は断面コの字状のヒートブロック２をその凹部開口
を上に向けて配置する。そして、ヒートブロック２には
ヒータ（図示せず）を埋め込み、その凹部３の底面には
ほぼ全面を覆う皿状のアダプタレール４がその凹面を下
側に向けて配置される。そしてヒートブロック２には凹
部底面に向け外面に設けたガス導入口５からガス流路が
設けられている。そこでアダプタレール４とヒートブロ
ック２の凹部底面とで出来た空間は導入されたガスを貯
めるタンク６となっている。ヒートブロック２の上面に
は凹部３を覆ってカバープレート７が取り付けられて凹
部３がトンネル３ａを形成している。
【０００３】リードフレーム（図示せず）へ半導体ペレ
ット（図示せず）を組み付ける際にはリードフレーム
（図示せず）をアダプタレール４上を搬送しつつ加熱し
てソルダ（図示せず）や半導体ペレット（図示せず）と
供給して組み付ける。その際リードフレームやソルダの
酸化を防止するためにガス導入口５から窒素ガス等不活
性なガスを導入する。導入された不活性ガスはタンク６
を満たしアダプタレール４のあちこちに設けたガス噴出
口４ａからトンネル３ａ内に噴出し、そこを非酸化性雰
囲気としてトンネル３ａの入口、出口より排出される。
ット（図示せず）を組み付ける際にはリードフレーム
（図示せず）をアダプタレール４上を搬送しつつ加熱し
てソルダ（図示せず）や半導体ペレット（図示せず）と
供給して組み付ける。その際リードフレームやソルダの
酸化を防止するためにガス導入口５から窒素ガス等不活
性なガスを導入する。導入された不活性ガスはタンク６
を満たしアダプタレール４のあちこちに設けたガス噴出
口４ａからトンネル３ａ内に噴出し、そこを非酸化性雰
囲気としてトンネル３ａの入口、出口より排出される。
【０００４】そして出来るだけ少ない不活性ガスの流量
でもトンネル内を良好な雰囲気とするにはトンネル３ａ
の開口はなるべく小面積とする必要があるためカバープ
レート７の開口も必要最小限とされ、ソルダ供給用穴７
ａ、溶けたソルダを撹拌拡げるための穴７ｂ、半導体ペ
レットを供給するペレット供給穴７ｃを備える。リード
フレームの送り機構をトンネル３ａ内に備える場合はカ
バープレート７に設ける穴は上記のものだけでよいが、
トンネル３ａが大きくなって、カバープレート７からリ
ードフレームまでの距離が深くなり、半導体ペレットの
供給の高速化の障害となったり機構が複雑となるので外
からリードフレームを搬送することも行なわれる。その
場合は図４（Ａ）のように搬送爪用穴７ｄを備える。搬
送爪用の穴７ｄも出来るだけ小さいものとしそこを搬送
爪が半導体装置１個分毎のスクェアーモウションでリー
ドフレームを送ってゆく。これらの穴も含めて不活性ガ
スの排出される所では外気がトンネル３ａ内に逆流しな
いような流量が与えられなければならない。
でもトンネル内を良好な雰囲気とするにはトンネル３ａ
の開口はなるべく小面積とする必要があるためカバープ
レート７の開口も必要最小限とされ、ソルダ供給用穴７
ａ、溶けたソルダを撹拌拡げるための穴７ｂ、半導体ペ
レットを供給するペレット供給穴７ｃを備える。リード
フレームの送り機構をトンネル３ａ内に備える場合はカ
バープレート７に設ける穴は上記のものだけでよいが、
トンネル３ａが大きくなって、カバープレート７からリ
ードフレームまでの距離が深くなり、半導体ペレットの
供給の高速化の障害となったり機構が複雑となるので外
からリードフレームを搬送することも行なわれる。その
場合は図４（Ａ）のように搬送爪用穴７ｄを備える。搬
送爪用の穴７ｄも出来るだけ小さいものとしそこを搬送
爪が半導体装置１個分毎のスクェアーモウションでリー
ドフレームを送ってゆく。これらの穴も含めて不活性ガ
スの排出される所では外気がトンネル３ａ内に逆流しな
いような流量が与えられなければならない。
【０００５】ところが図５のように薄いカバープレート
７に単に例えばソルダ供給用穴７ａがあいている場合は
実線矢印のように不活性ガスを穴７ａから吹き出して外
気の流入を防いでいるが、穴７ａの端部においては渦流
れの作用か、対流作用かさだかではないが、破線矢印の
様に外気を取り込んでいると推定でき、トンネル３ａ内
の酸素濃度を充分に低く出来ないところがある。そこ
で、本出願人は先に特願平９―１８９５１９号により図
６に示すように穴７ａの端に衝立て部材２８を設けて破
線矢印のように逆流しようとする外気を排出される不活
性ガス（実線の矢印）により連れ出すようにする提案を
行なっている。衝立て部材２８は煙突状に開口を取り巻
くのが良いが、開口の目的からやむを得ず一部欠けてい
てもそれなりに効果はある。
７に単に例えばソルダ供給用穴７ａがあいている場合は
実線矢印のように不活性ガスを穴７ａから吹き出して外
気の流入を防いでいるが、穴７ａの端部においては渦流
れの作用か、対流作用かさだかではないが、破線矢印の
様に外気を取り込んでいると推定でき、トンネル３ａ内
の酸素濃度を充分に低く出来ないところがある。そこ
で、本出願人は先に特願平９―１８９５１９号により図
６に示すように穴７ａの端に衝立て部材２８を設けて破
線矢印のように逆流しようとする外気を排出される不活
性ガス（実線の矢印）により連れ出すようにする提案を
行なっている。衝立て部材２８は煙突状に開口を取り巻
くのが良いが、開口の目的からやむを得ず一部欠けてい
てもそれなりに効果はある。
【０００６】
【発明が解決しようとする課題】ところが、ペレット供
給穴７ｃの部分に特願平９―１８９５１９号による衝立
て部材を煙突状に開口を取り巻く様に設けると真空吸着
により半導体ペレットを保持して出入りするペレット搬
送機構の動作経路が長くなりチップボンダの高速化の妨
げになる。特にペレット供給穴７ｃにおいては高速にペ
レット搬送機構が出入りするので外気の連れ込みが起こ
り易く他の部分より高い煙突とする必要があり、ますま
す、高速動作の妨げになる。そこでこの発明は装置の高
速動作を阻害することなく外気の流入を少なくしたヒー
タレール用カバーを提供する。
給穴７ｃの部分に特願平９―１８９５１９号による衝立
て部材を煙突状に開口を取り巻く様に設けると真空吸着
により半導体ペレットを保持して出入りするペレット搬
送機構の動作経路が長くなりチップボンダの高速化の妨
げになる。特にペレット供給穴７ｃにおいては高速にペ
レット搬送機構が出入りするので外気の連れ込みが起こ
り易く他の部分より高い煙突とする必要があり、ますま
す、高速動作の妨げになる。そこでこの発明は装置の高
速動作を阻害することなく外気の流入を少なくしたヒー
タレール用カバーを提供する。
【０００７】
【課題を解決するための手段】上記の課題を解決するた
めに、この発明は、断面コの字状のヒートブロックの凹
部を覆ってトンネルを形成し、そのトンネル内を例えば
リードフレームのような基材が搬送されて加熱されるヒ
ータレール用カバーであって、そのヒータレール用カバ
ーは半導体ペレットを前記基材にボンディングするため
に例えばペレット搬送機構のような物が出入りして前記
基材にアクセスする開口を有するものにおいて、前記開
口の周囲の一方を除き開口端に開口面に垂直な衝立て部
材を設け、その衝立て部材の前記一方に対向する側から
衝立て部材の無い前記一方側に向けて前記開口を覆う非
酸化性ガスによるガスカーテンを設けたことを特徴とす
るヒータレール用カバーを提供する。上記構成によれば
開口の近傍外側はガスカーテンの非酸化性ガスで覆われ
ているのでトンネル内への外気の巻き込みが無くなる。
そして、開口に物が入るに際してガスカーテンの中を通
るので連れている外気が洗い落とされる。また、この構
成によれば衝立て部材を設けた部分からはそれにより外
気の巻き込みが抑えられると共に横向きのガスカーテン
によりさらに完全にトンネル内への外気の巻き込みを防
いでいる。そして、衝立て部材の設けられていない部分
では横向きのガスカーテンが外気の流入に対して逆向き
に流れているのでトンネル内への外気の回り込みを防
ぐ。そして、この衝立て部材を設けていない方向から開
口に出入りする物があってもその動きを阻害しない。ま
たそれに連れて入ろうとする外気がガスカーテンにより
洗い落とされる作用もある。衝立て部材の一方側の端は
開口端を超えて延びていてガスカーテンのガイドとして
機能させるのが好ましい。そうすればガスの分散を防止
してより完全なカーテンとなる。さらに衝立て部材を配
置しない側に開口面に垂直に吹き上げる非酸化性ガスに
よるガスカーテンを配置してそちら側からの外気の巻き
込みをより完全に防止すると共にそちら側から開口に出
入りする物がある場合にそれに連れられて入ろうとする
外気を洗浄除去するように出来る。
めに、この発明は、断面コの字状のヒートブロックの凹
部を覆ってトンネルを形成し、そのトンネル内を例えば
リードフレームのような基材が搬送されて加熱されるヒ
ータレール用カバーであって、そのヒータレール用カバ
ーは半導体ペレットを前記基材にボンディングするため
に例えばペレット搬送機構のような物が出入りして前記
基材にアクセスする開口を有するものにおいて、前記開
口の周囲の一方を除き開口端に開口面に垂直な衝立て部
材を設け、その衝立て部材の前記一方に対向する側から
衝立て部材の無い前記一方側に向けて前記開口を覆う非
酸化性ガスによるガスカーテンを設けたことを特徴とす
るヒータレール用カバーを提供する。上記構成によれば
開口の近傍外側はガスカーテンの非酸化性ガスで覆われ
ているのでトンネル内への外気の巻き込みが無くなる。
そして、開口に物が入るに際してガスカーテンの中を通
るので連れている外気が洗い落とされる。また、この構
成によれば衝立て部材を設けた部分からはそれにより外
気の巻き込みが抑えられると共に横向きのガスカーテン
によりさらに完全にトンネル内への外気の巻き込みを防
いでいる。そして、衝立て部材の設けられていない部分
では横向きのガスカーテンが外気の流入に対して逆向き
に流れているのでトンネル内への外気の回り込みを防
ぐ。そして、この衝立て部材を設けていない方向から開
口に出入りする物があってもその動きを阻害しない。ま
たそれに連れて入ろうとする外気がガスカーテンにより
洗い落とされる作用もある。衝立て部材の一方側の端は
開口端を超えて延びていてガスカーテンのガイドとして
機能させるのが好ましい。そうすればガスの分散を防止
してより完全なカーテンとなる。さらに衝立て部材を配
置しない側に開口面に垂直に吹き上げる非酸化性ガスに
よるガスカーテンを配置してそちら側からの外気の巻き
込みをより完全に防止すると共にそちら側から開口に出
入りする物がある場合にそれに連れられて入ろうとする
外気を洗浄除去するように出来る。
【０００８】
【発明の実施の形態】この発明の一実施例を図面を用い
て説明する。この実施例は図４に示す従来装置のペレッ
ト供給穴７ｃに相当するところに本発明を適用したもの
である。ヒートブロック２は図４に示す従来装置と変わ
らないので図示や説明を略す。図１はその斜視図であ
る。
て説明する。この実施例は図４に示す従来装置のペレッ
ト供給穴７ｃに相当するところに本発明を適用したもの
である。ヒートブロック２は図４に示す従来装置と変わ
らないので図示や説明を略す。図１はその斜視図であ
る。
【０００９】［実施例１］ この ヒータレール用カバー４０のカバープレート２７は
従来同様ソルダ供給用穴（図示せず）、溶けたソルダを
撹拌拡げるための穴（図示せず）、半導体ペレットを供
給するペレット供給穴２７ｃを備える。ペレット供給穴
２７ｃは矩形である。
従来同様ソルダ供給用穴（図示せず）、溶けたソルダを
撹拌拡げるための穴（図示せず）、半導体ペレットを供
給するペレット供給穴２７ｃを備える。ペレット供給穴
２７ｃは矩形である。
【００１０】そしてペレット供給穴２７ｃの端１辺に近
接してガス吹き出し口４１ａを配置するように設けられ
たフード４１を備える。ガス吹き出し口４１ａはそれが
作るガスカーテンがペレット供給穴２７ｃを覆うと共に
そこへ半導体ペレットを吸着保持して搬送するペレット
搬送機構（図示せず）の移動経路側に延びている。なお
図１において矢印４２は搬送される半導体ペレットの進
入経路を示し、半導体ペレット（図示せず）はなるべく
低くカバープレート２７に極近くペレット供給穴２７ｃ
上に到り、その後降下して待機しているリードフレーム
等の基材上に置かれる。そこで、ガス吹き出し口４１ａ
の幅Ｌはこの降下寸法をカバーする長さとする。そして
半導体ペレットの搬送方向に直角な方向に流れるガスカ
ーテンを張るものである。そしてフード４１にはガス導
入管４３が設けられていてそこから窒素ガスのような非
酸化性のガスが供給される。
接してガス吹き出し口４１ａを配置するように設けられ
たフード４１を備える。ガス吹き出し口４１ａはそれが
作るガスカーテンがペレット供給穴２７ｃを覆うと共に
そこへ半導体ペレットを吸着保持して搬送するペレット
搬送機構（図示せず）の移動経路側に延びている。なお
図１において矢印４２は搬送される半導体ペレットの進
入経路を示し、半導体ペレット（図示せず）はなるべく
低くカバープレート２７に極近くペレット供給穴２７ｃ
上に到り、その後降下して待機しているリードフレーム
等の基材上に置かれる。そこで、ガス吹き出し口４１ａ
の幅Ｌはこの降下寸法をカバーする長さとする。そして
半導体ペレットの搬送方向に直角な方向に流れるガスカ
ーテンを張るものである。そしてフード４１にはガス導
入管４３が設けられていてそこから窒素ガスのような非
酸化性のガスが供給される。
【００１１】このヒータレール用カバー４０は従来同様
に断面コの字状のヒートブロックの凹部開口を覆ってト
ンネルを形成する。そして、基材例えばリードフレーム
（図示せず）へ半導体ペレット（図示せず）を組み付け
る際にはリードフレーム（図示せず）をトンネル内を搬
送しつつ加熱してソルダ（図示せず）や半導体ペレット
（図示せず）を供給して組み付ける。その際リードフレ
ームやソルダの酸化を防止するために窒素ガス等不活性
なガスとかそれに水素を加えた還元性ガスとかの非酸化
性ガスがトンネル内に導入される。半導体ペレット（図
示せず）はカバープレート２７のペレット供給穴２７ｃ
を通して供給される。ペレット供給穴２７ｃからはトン
ネル内に供給された非酸化性ガスの一部が吹き出して外
気がトンネル内に入るのを防いでいる。
に断面コの字状のヒートブロックの凹部開口を覆ってト
ンネルを形成する。そして、基材例えばリードフレーム
（図示せず）へ半導体ペレット（図示せず）を組み付け
る際にはリードフレーム（図示せず）をトンネル内を搬
送しつつ加熱してソルダ（図示せず）や半導体ペレット
（図示せず）を供給して組み付ける。その際リードフレ
ームやソルダの酸化を防止するために窒素ガス等不活性
なガスとかそれに水素を加えた還元性ガスとかの非酸化
性ガスがトンネル内に導入される。半導体ペレット（図
示せず）はカバープレート２７のペレット供給穴２７ｃ
を通して供給される。ペレット供給穴２７ｃからはトン
ネル内に供給された非酸化性ガスの一部が吹き出して外
気がトンネル内に入るのを防いでいる。
【００１２】そして、トンネル内に導入する非酸化性ガ
スとは独立に圧力調整されてガス導入管４３から非酸化
性ガスが導入され、ガス吹き出し口４１ａから噴出して
ペレット供給穴２７ｃを覆うようにガスカーテンを構成
する。このガスカーテンによりペレット供給穴２７ｃの
上側近傍には外気が無くなるので外気のトンネル内への
巻き込みを防止する。
スとは独立に圧力調整されてガス導入管４３から非酸化
性ガスが導入され、ガス吹き出し口４１ａから噴出して
ペレット供給穴２７ｃを覆うようにガスカーテンを構成
する。このガスカーテンによりペレット供給穴２７ｃの
上側近傍には外気が無くなるので外気のトンネル内への
巻き込みを防止する。
【００１３】そして、ガスカーテンはペレット供給穴２
７ｃを超えてペレットの搬送経路に沿って延在するので
ペレット搬送機構（真空吸着ノズル）が半導体ペレット
を保持して高速にペレット供給穴２７ｃに出入りする際
にガスカーテンは連れている外気を洗浄除去する。そし
て、ガスカーテンはペレット搬送機構の動きを阻害する
ものではない。
７ｃを超えてペレットの搬送経路に沿って延在するので
ペレット搬送機構（真空吸着ノズル）が半導体ペレット
を保持して高速にペレット供給穴２７ｃに出入りする際
にガスカーテンは連れている外気を洗浄除去する。そし
て、ガスカーテンはペレット搬送機構の動きを阻害する
ものではない。
【００１４】［実施例２］ 次に、この発明の第２の実施例を図面を用いて説明す
る。この実施例もペレット供給穴２７ｃに本発明を適用
したものである。図２（Ａ）はその斜視図、図２（Ｂ）
は断面を表した側面図である。
る。この実施例もペレット供給穴２７ｃに本発明を適用
したものである。図２（Ａ）はその斜視図、図２（Ｂ）
は断面を表した側面図である。
【００１５】このヒータカバー２０においては矩形なペ
レット供給穴２７ｃの端３辺に整合して衝立て部材２５
ａ，２５ｂ，２５ｃを開口面に（カバープレートに）直
角に立てる。ペレット供給穴２７ｃの衝立て部材を立て
ない辺の両側の辺に立つ衝立て部材２５ａ，２５ｂの端
はペレット供給穴２７ｃを超えて延在させることが出来
る。そして衝立て部材を立てない辺に対向する辺の衝立
て部材２５ｃのペレット供給穴２７ｃに対して反対側は
気密に取り囲まれてガスタンク２１が形成されている。
そしてこの衝立て部材２５ｃには穴面に平行なスリット
２２が設けられガスタンク２１に貫通している。そして
ガスタンク２１にはガス導入管２３がつながっている。
レット供給穴２７ｃの端３辺に整合して衝立て部材２５
ａ，２５ｂ，２５ｃを開口面に（カバープレートに）直
角に立てる。ペレット供給穴２７ｃの衝立て部材を立て
ない辺の両側の辺に立つ衝立て部材２５ａ，２５ｂの端
はペレット供給穴２７ｃを超えて延在させることが出来
る。そして衝立て部材を立てない辺に対向する辺の衝立
て部材２５ｃのペレット供給穴２７ｃに対して反対側は
気密に取り囲まれてガスタンク２１が形成されている。
そしてこの衝立て部材２５ｃには穴面に平行なスリット
２２が設けられガスタンク２１に貫通している。そして
ガスタンク２１にはガス導入管２３がつながっている。
【００１６】このヒータレール用カバー２０は同様に断
面コの字状のヒートブロックの凹部開口を覆ってトンネ
ルを形成する。そして、リードフレーム（図示せず）へ
半導体ペレット（図示せず）を組み付ける際にはリード
フレームやソルダの酸化を防止するために窒素ガス等不
活性なガスとかそれに水素を加えた還元性ガスとかの非
酸化性ガスがトンネル内に導入される。半導体ペレット
（図示せず）はカバープレート２７のペレット供給穴２
７ｃを通して供給される。ペレット供給穴２７ｃからは
トンネル内に供給された非酸化性性ガスの一部が実線矢
印のように吹き出して外気がトンネル内に入るのを防い
でいる。
面コの字状のヒートブロックの凹部開口を覆ってトンネ
ルを形成する。そして、リードフレーム（図示せず）へ
半導体ペレット（図示せず）を組み付ける際にはリード
フレームやソルダの酸化を防止するために窒素ガス等不
活性なガスとかそれに水素を加えた還元性ガスとかの非
酸化性ガスがトンネル内に導入される。半導体ペレット
（図示せず）はカバープレート２７のペレット供給穴２
７ｃを通して供給される。ペレット供給穴２７ｃからは
トンネル内に供給された非酸化性性ガスの一部が実線矢
印のように吹き出して外気がトンネル内に入るのを防い
でいる。
【００１７】そして、トンネル内に導入する非酸化性ガ
スとは独立に圧力調整されてガス導入管２３から非酸化
性ガスが導入され、スリット２２から噴出してペレット
供給穴２７ｃを覆うようにガスカーテン（破線矢印）を
構成する。このガスカーテンによりペレット供給穴２７
ｃより噴出する非酸化性ガス（実線矢印）は抑えられ、
衝立て部材の無い側に押しやられてそちら側からの外気
のトンネル内への巻き込みを防止する。他の方向からの
外気のトンネル内への巻き込みは衝立て部材２５ａ，２
５ｂ，２５ｃにより防止される。そして衝立て部材２５
ａ，２５ｂの端がペレット供給穴２７ｃを超えて延在す
れば衝立て部材２５ａ，２５ｂはガスカーテンのガイド
となって横方向に拡散するのを防止しているのでさらに
効果を高める。
スとは独立に圧力調整されてガス導入管２３から非酸化
性ガスが導入され、スリット２２から噴出してペレット
供給穴２７ｃを覆うようにガスカーテン（破線矢印）を
構成する。このガスカーテンによりペレット供給穴２７
ｃより噴出する非酸化性ガス（実線矢印）は抑えられ、
衝立て部材の無い側に押しやられてそちら側からの外気
のトンネル内への巻き込みを防止する。他の方向からの
外気のトンネル内への巻き込みは衝立て部材２５ａ，２
５ｂ，２５ｃにより防止される。そして衝立て部材２５
ａ，２５ｂの端がペレット供給穴２７ｃを超えて延在す
れば衝立て部材２５ａ，２５ｂはガスカーテンのガイド
となって横方向に拡散するのを防止しているのでさらに
効果を高める。
【００１８】そして、ペレット搬送機構（真空吸着ノズ
ル）が半導体ペレットを保持して高速にペレット供給穴
２７ｃに出入りするのはこの衝立て部材を配置しない方
向としてその動きを最短とする。その際、ガスカーテン
は連れている外気を洗浄除去する作用もある。
ル）が半導体ペレットを保持して高速にペレット供給穴
２７ｃに出入りするのはこの衝立て部材を配置しない方
向としてその動きを最短とする。その際、ガスカーテン
は連れている外気を洗浄除去する作用もある。
【００１９】［実施例３］ 次にこの発明の第３の実施例を説明する。この実施例は
図２に示し上述した第２の実施例によるヒータレール用
カバー２０にさらに第２のガスカーテンを追加したもの
である。図３（Ａ）はその斜視図、図３（Ｂ）は図３
（Ａ）におけるＡ-Ａ線での断面を表した側面図であ
る。図２と同じ部分は同一符号を付して詳しい説明を略
す。
図２に示し上述した第２の実施例によるヒータレール用
カバー２０にさらに第２のガスカーテンを追加したもの
である。図３（Ａ）はその斜視図、図３（Ｂ）は図３
（Ａ）におけるＡ-Ａ線での断面を表した側面図であ
る。図２と同じ部分は同一符号を付して詳しい説明を略
す。
【００２０】このヒータレール用カバー３０のカバープ
レート２７のペレット供給穴２７ｃも矩形である。そし
てペレット供給穴２７ｃの端３辺に整合して衝立て部材
３５ａ，３５ｂ，２５ｃを開口面に（カバープレート
に）直角に立てる点も第２の実施例に類似する。そして
ペレット供給穴２７ｃの衝立て部材を立てない辺に対向
する辺の衝立て部材２５ｃのペレット供給穴２７ｃに対
して反対側は気密に取り囲まれガスタンク２１が形成さ
れ、この衝立て部材２５ｃは穴面に平行なスリット２２
を備えガスタンク２１に貫通し、ガスタンク２１にはガ
ス導入管２３がつながっている点も同様である。
レート２７のペレット供給穴２７ｃも矩形である。そし
てペレット供給穴２７ｃの端３辺に整合して衝立て部材
３５ａ，３５ｂ，２５ｃを開口面に（カバープレート
に）直角に立てる点も第２の実施例に類似する。そして
ペレット供給穴２７ｃの衝立て部材を立てない辺に対向
する辺の衝立て部材２５ｃのペレット供給穴２７ｃに対
して反対側は気密に取り囲まれガスタンク２１が形成さ
れ、この衝立て部材２５ｃは穴面に平行なスリット２２
を備えガスタンク２１に貫通し、ガスタンク２１にはガ
ス導入管２３がつながっている点も同様である。
【００２１】このヒータレール用カバー３０はフード３
１を備え、フード３１はカバープレート２７との間にガ
スタンク３２を形成する。そしてフード３１にはガス導
入管３３が設けられガスタンク３２につながっている。
フード３１はペレット供給穴２７ｃの衝立て部材を立て
ない端辺に一端が整合して配置され、なるべ薄く（背が
低く）設けられる。そして、衝立て部材３５ａ，ｂはペ
レット供給穴２７ｃの衝立て部材を立てない端辺を超え
てフード３１上に接して伸びている。そして、フード３
１にはそれら衝立て部材３５ａと３５ｂに挟まれた部分
に両者に渡るようにガス噴出穴３４が設けられ、そのガ
ス噴出穴３４には焼結金属でなるフィルタ３４ａが嵌め
込まれている。
１を備え、フード３１はカバープレート２７との間にガ
スタンク３２を形成する。そしてフード３１にはガス導
入管３３が設けられガスタンク３２につながっている。
フード３１はペレット供給穴２７ｃの衝立て部材を立て
ない端辺に一端が整合して配置され、なるべ薄く（背が
低く）設けられる。そして、衝立て部材３５ａ，ｂはペ
レット供給穴２７ｃの衝立て部材を立てない端辺を超え
てフード３１上に接して伸びている。そして、フード３
１にはそれら衝立て部材３５ａと３５ｂに挟まれた部分
に両者に渡るようにガス噴出穴３４が設けられ、そのガ
ス噴出穴３４には焼結金属でなるフィルタ３４ａが嵌め
込まれている。
【００２２】このヒータレール用カバー３０でもリード
フレームやソルダの酸化を防止するために窒素ガス等不
活性なガスとかそれに水素を加えた還元性ガスとかの非
酸化性ガスがトンネル内に導入される。そしてペレット
供給穴２７ｃからはトンネル内に供給された非酸化性ガ
スの一部が実線矢印のように吹き出して外気がトンネル
内に入るのを防いでいる。
フレームやソルダの酸化を防止するために窒素ガス等不
活性なガスとかそれに水素を加えた還元性ガスとかの非
酸化性ガスがトンネル内に導入される。そしてペレット
供給穴２７ｃからはトンネル内に供給された非酸化性ガ
スの一部が実線矢印のように吹き出して外気がトンネル
内に入るのを防いでいる。
【００２３】そして、トンネル内に導入する非酸化性ガ
スとは独立に圧力調整された非酸化性ガスがガス導入管
２３から導入され、スリット２２から噴出してペレット
供給穴２７ｃを覆うようにガスカーテン（破線矢印）を
構成する。このガスカーテンによりペレット供給穴２７
ｃより噴出する非酸化性ガス（実線矢印）は抑えられ、
衝立て部材の無い側に押しやられてそちら側からの外気
のトンネル内への巻き込みを防止する。他の方向からの
外気のトンネル内への巻き込みは衝立て部材３５ａ，３
５ｂ，２５ｃにより防止される。そして衝立て部材３５
ａ，３５ｂの端がペレット供給穴２７ｃを超えて延在す
るので衝立て部材３５ａ，３５ｂはガスカーテンのガイ
ドとなって横方向に拡散するのを防止しているのでさら
に効果を高める。
スとは独立に圧力調整された非酸化性ガスがガス導入管
２３から導入され、スリット２２から噴出してペレット
供給穴２７ｃを覆うようにガスカーテン（破線矢印）を
構成する。このガスカーテンによりペレット供給穴２７
ｃより噴出する非酸化性ガス（実線矢印）は抑えられ、
衝立て部材の無い側に押しやられてそちら側からの外気
のトンネル内への巻き込みを防止する。他の方向からの
外気のトンネル内への巻き込みは衝立て部材３５ａ，３
５ｂ，２５ｃにより防止される。そして衝立て部材３５
ａ，３５ｂの端がペレット供給穴２７ｃを超えて延在す
るので衝立て部材３５ａ，３５ｂはガスカーテンのガイ
ドとなって横方向に拡散するのを防止しているのでさら
に効果を高める。
【００２４】そして、トンネル内やガスタンク２１に導
入される非酸化性ガスと独立に圧力調整された非酸化性
ガスがガス導入管３３からガスタンク３２内に導入さ
れ、フィルタ３４ａより開口面（カバープレート２７の
面）に垂直に吹き上げるガスカーテン（一点鎖線矢印）
を形成する。それによって衝立て部材を配置していない
側からトンネル内に外気が巻き込まれるのをより効果的
に防止する。
入される非酸化性ガスと独立に圧力調整された非酸化性
ガスがガス導入管３３からガスタンク３２内に導入さ
れ、フィルタ３４ａより開口面（カバープレート２７の
面）に垂直に吹き上げるガスカーテン（一点鎖線矢印）
を形成する。それによって衝立て部材を配置していない
側からトンネル内に外気が巻き込まれるのをより効果的
に防止する。
【００２５】そして、ペレット搬送機構（真空吸着ノズ
ル）が半導体ペレットを保持して高速にペレット供給穴
２７ｃに出入りするのはこの衝立て部材を配置しない方
向とするが、フード３１をなるべく低くしてその動きを
なるべく短くする。その際、両ガスカーテンは連れてい
る外気を洗浄除去する作用がある。
ル）が半導体ペレットを保持して高速にペレット供給穴
２７ｃに出入りするのはこの衝立て部材を配置しない方
向とするが、フード３１をなるべく低くしてその動きを
なるべく短くする。その際、両ガスカーテンは連れてい
る外気を洗浄除去する作用がある。
【００２６】上記の説明のようにこの発明は、ペレット
供給穴のように、そこを高速に物が通過していく穴に適
用して効果を挙げるものであるが、ソルダ供給穴等その
他の穴にも適用出来るものである。
供給穴のように、そこを高速に物が通過していく穴に適
用して効果を挙げるものであるが、ソルダ供給穴等その
他の穴にも適用出来るものである。
【００２７】以上説明したように、この発明によれば、
開口の周囲の一方を除き開口端に開口面に垂直な衝立て
部材を設け、その衝立て部材の前記一方に対向する衝立
て部材の無い前記一方側に向けて前記開口を覆う非酸化
性ガスによるガスカーテンを設けたものであるから、衝
立て部材とガスカーテンとによって外気の巻き込みはな
く、また、衝立て部材の無い方向から物が出入りするよ
うにすれば衝立て部材の存在は邪魔にはならない。そう
して高速に物が入ってくる経路にもガスカーテンを設け
るので連れている外気がガスカーテンで洗浄除去されて
トンネル内に入る外気がより少なくなりトンネル内の非
酸化性雰囲気を確保できる。
開口の周囲の一方を除き開口端に開口面に垂直な衝立て
部材を設け、その衝立て部材の前記一方に対向する衝立
て部材の無い前記一方側に向けて前記開口を覆う非酸化
性ガスによるガスカーテンを設けたものであるから、衝
立て部材とガスカーテンとによって外気の巻き込みはな
く、また、衝立て部材の無い方向から物が出入りするよ
うにすれば衝立て部材の存在は邪魔にはならない。そう
して高速に物が入ってくる経路にもガスカーテンを設け
るので連れている外気がガスカーテンで洗浄除去されて
トンネル内に入る外気がより少なくなりトンネル内の非
酸化性雰囲気を確保できる。
【図１】 この発明の一実施例のヒータレール用カバー
の斜視図。
の斜視図。
【図２】 （Ａ）この発明の第２の実施例のヒータレー
ル用カバーの斜視図。（Ｂ）その断面を表す側面図。
ル用カバーの斜視図。（Ｂ）その断面を表す側面図。
【図３】 （Ａ）この発明の第３実施例のヒータレール
用カバーの斜視図。（Ｂ）その断面を表す側面図。
用カバーの斜視図。（Ｂ）その断面を表す側面図。
【図４】 （Ａ）従来のヒータレールの平面図。（Ｂ）
そのＡ―Ａ線での断面を表す側面図。
そのＡ―Ａ線での断面を表す側面図。
【図５】 従来のカバープレートの穴から外気が逆流す
る状態を説明する断面図。
る状態を説明する断面図。
【図６】 その対策に衝立て部材を配置した状態を示す
断面図。
断面図。
２０，３０，４０ ヒータレール用カバー ２２ スリット ２５ａ，２５ｂ，２５ｃ，３５ａ，３５ｂ 衝立て部材 ２７ｃ ペレット供給穴（開口） ３４ ガス噴出穴 ４１ ガス噴出口
フロントページの続き (58)調査した分野(Int.Cl.7，ＤＢ名) H01L 21/52,21/58 B23K 31/02 310 H05K 3/34 507
Claims (3)
- 【請求項１】断面コの字状のヒートブロックの凹部を覆
ってトンネルを形成し、そのトンネル内を基材が搬送さ
れて加熱されるヒータレール用カバーであって、そのヒ
ータレール用カバーは半導体ペレットを前記基材にボン
ディングするために前記基材にアクセスする開口を有す
るものにおいて、 前記開口の周囲の一方を除き開口端に開口面に垂直な衝
立て部材を設け、 その衝立て部材の前記一方に対向する側から衝立て部材
の無い前記一方側に向けて前記開口を覆う非酸化性ガス
によるガスカーテンを設けたことを特徴とするヒータレ
ール用カバー。 - 【請求項２】前記衝立て部材は前記一方側の端が開口端
を超えて延びていることを特徴とする請求項１に記載の
ヒータレール用カバー。 - 【請求項３】前記一方側に開口面に垂直に吹き上げる非
酸化性ガスによるガスカーテンを配置したことを特徴と
する請求項１または２に記載のヒータレール用カバー。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP17685498A JP3290138B2 (ja) | 1998-06-24 | 1998-06-24 | ヒータレール用カバー |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP17685498A JP3290138B2 (ja) | 1998-06-24 | 1998-06-24 | ヒータレール用カバー |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2000012569A JP2000012569A (ja) | 2000-01-14 |
| JP3290138B2 true JP3290138B2 (ja) | 2002-06-10 |
Family
ID=16020998
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP17685498A Expired - Fee Related JP3290138B2 (ja) | 1998-06-24 | 1998-06-24 | ヒータレール用カバー |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3290138B2 (ja) |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR101919668B1 (ko) * | 2016-11-29 | 2018-11-19 | 한국전력공사 | 배전지능화 시스템용 보안패치의 시험 평가 장치 및 그 방법 |
-
1998
- 1998-06-24 JP JP17685498A patent/JP3290138B2/ja not_active Expired - Fee Related
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP2000012569A (ja) | 2000-01-14 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JP4301456B2 (ja) | 密閉容器の蓋開閉システム | |
| JP4278676B2 (ja) | 密閉容器の蓋開閉システム | |
| JP3638415B2 (ja) | ガス雰囲気はんだ付け装置 | |
| JP2919075B2 (ja) | 回路基板のウエーブはんだ付け方法及び装置 | |
| KR101005488B1 (ko) | 워크 클램프 및 와이어 본딩 장치 | |
| JP3290138B2 (ja) | ヒータレール用カバー | |
| JP4666183B2 (ja) | 密閉容器の蓋開閉システムに用いられるパージ用パイプユニット | |
| JP3316515B2 (ja) | ヒータレール用カバー | |
| JP4343451B2 (ja) | ワイヤボンディング装置 | |
| JP3442096B2 (ja) | リフロー装置 | |
| JPH08309519A (ja) | 噴流式はんだ付け装置 | |
| JP2000071066A (ja) | 窒素パッケージ一体型半田槽 | |
| JPH09237964A (ja) | 窒素ガス封入式半田付け装置 | |
| JP2001119134A (ja) | はんだ付け装置 | |
| JP3176566B2 (ja) | ヒートレール用カバープレート | |
| JPH113900A (ja) | ヒートレール装置 | |
| JP3106744B2 (ja) | チッソリフロー装置 | |
| JP2553387B2 (ja) | ボンデイング装置 | |
| JP3770725B2 (ja) | リードフレーム搬送装置 | |
| JP3008061B2 (ja) | 低酸素雰囲気半田槽内の対流抑止装置及び方法 | |
| JP2001230538A (ja) | はんだ付け装置 | |
| JP2815777B2 (ja) | 噴流式半田付け装置 | |
| JPH069141U (ja) | キャップシール装置のワーク押え板構造 | |
| JP2002057449A (ja) | ガス供給装置およびハンダ付け装置 | |
| JP2006080132A (ja) | ボンディング装置及び方法、並びに電子素子 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| S533 | Written request for registration of change of name |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313533 |
|
| R350 | Written notification of registration of transfer |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20080322 Year of fee payment: 6 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20090322 Year of fee payment: 7 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20100322 Year of fee payment: 8 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20100322 Year of fee payment: 8 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20110322 Year of fee payment: 9 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20120322 Year of fee payment: 10 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130322 Year of fee payment: 11 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130322 Year of fee payment: 11 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20140322 Year of fee payment: 12 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |