JP3289696B2 - マルチフィンガ型バイポーラトランジスタおよびアナログ信号増幅器 - Google Patents

マルチフィンガ型バイポーラトランジスタおよびアナログ信号増幅器

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JP3289696B2
JP3289696B2 JP05197899A JP5197899A JP3289696B2 JP 3289696 B2 JP3289696 B2 JP 3289696B2 JP 05197899 A JP05197899 A JP 05197899A JP 5197899 A JP5197899 A JP 5197899A JP 3289696 B2 JP3289696 B2 JP 3289696B2
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Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、高出力用等のマル
チフィンガ型バイポーラトランジスタおよびアナログ信
号増幅器に関する。
【0002】
【従来の技術】高出力用のバイポーラトランジスタとし
てマルチフィンガ型バイポーラトランジスタが用いられ
ている。このマルチフィンガ型バイポーラトランジスタ
は高出力動作の際にエミッタフィンガの中央に熱集中す
ることがあり、それを防止するために各エミッタフィン
ガに直列にバラスト抵抗を挿入してバイポーラトランジ
スタ全体にわたって均一な温度分布を得るようにしてい
る。
【0003】しかし、バイポーラトランジスタのフィン
ガに直列に抵抗を挿入するということは、RF信号が入
力された場合にバラスト抵抗の存在のために電力利得の
低下を招くという課題があり、これを解決する手段とし
て、バラスト抵抗を具備するマルチフィンガ型バイポー
ラトランジスタにおいて特開平8−222577号公報
に示されているような各バラスト抵抗に並列に接続され
たキャパシタを設ける手段がある。
【0004】従来の構造ではバラスト抵抗201とそれ
に並列に接続するキャパシタ202は、図2に示すよう
にバラスト抵抗201からみてフィンガの並ぶ方向に設
置することになる。その理由はバラスト抵抗201を形
成する抵抗体301を、図3に示すようにエミッタ配線
302とエミッタ電極303とに接続し、基板に対して
水平方向に形成するためである。
【0005】
【発明が解決しようとする課題】上記従来のマルチフィ
ンガ型バイポーラトランジスタの第一の問題点は、各エ
ミッタフィンガあるいはベースフィンガにバラスト抵
抗、及びそれにキャパシタを接続するため、高出力トラ
ンジスタ全体の占める面積が増大し、チップ面積の増加
を招くという課題がある。第二の問題点は、フィンガに
接続しているバラスト抵抗に、キャパシタを並列に接続
するため、図3に示すように、抵抗体301とキャパシ
タがエミッタフィンガ302に対してフィンガの並ぶ方
向に配置することになるため、フィンガ同士の間隔が広
くなり、それはある程度の距離を超えるとトランジスタ
の均一動作にとってはマイナスの要因に働くことにな
る。
【0006】本発明は、前述の課題に鑑みてなされたも
ので、バラスト抵抗及びそれに並列に接続されたキャパ
シタを具備するマルチフィンガ型バイポーラトランジス
タであって、占有面積を縮小し、レイアウトの自由度を
あげることができるマルチフィンガ型バイポーラトラン
ジスタおよびアナログ信号増幅器を提供することを目的
とする。
【0007】
【課題を解決するための手段】本発明は、前記課題を解
決するため、以下の構成を採用した。すなわち、請求項
1記載のマルチフィンガ型バイポーラトランジスタで
は、エミッタ配線と、複数のエミッタフィンガと、各エ
ミッタフィンガに直列に接続されたバラスト抵抗と、該
バラスト抵抗に並列に接続されたキャパシタとを具備す
るマルチフィンガ型バイポーラトランジスタであって、
前記バラスト抵抗が前記エミッタ配線と前記エミッタフ
ィンガとで抵抗体を挟んで形成され、前記キャパシタが
前記エミッタ配線と前記エミッタフィンガとで絶縁層を
挟んで形成され、前記バラスト抵抗と前記キャパシタと
前記エミッタフィンガとが直線上に形成されている技術
が採用される。
【0008】請求項2記載のマルチフィンガ型バイポー
ラトランジスタでは、ベース配線と、複数のベースフィ
ンガと、各ベースフィンガに直列に接続されたバラスト
抵抗と、該バラスト抵抗に並列に接続されたキャパシタ
とを具備するマルチフィンガ型バイポーラトランジスタ
であって、前記バラスト抵抗が前記ベース配線と前記ベ
ースフィンガとで抵抗体を挟んで形成され、前記キャパ
シタが前記ベース配線と前記ベースフィンガとで絶縁層
を挟んで形成され、前記バラスト抵抗と前記キャパシタ
と前記ベースフィンガとが直線上に形成されている技術
が採用される。
【0009】請求項3記載のマルチフィンガ型バイポー
ラトランジスタでは、 エミッタ配線と、複数のエミッ
タフィンガと、各エミッタフィンガに直列に接続された
エミッタバラスト抵抗と、該エミッタバラスト抵抗に並
列に接続されたエミッタ側キャパシタと、ベース配線
と、複数のベースフィンガと、各ベースフィンガに直列
に接続されたベースバラスト抵抗と、該ベースバラスト
抵抗に並列に接続されたベース側キャパシタとを具備す
るマルチフィンガ型バイポーラトランジスタにおいて、
前記エミッタバラスト抵抗が前記エミッタ配線と前記エ
ミッタフィンガとで抵抗体を挟んで形成され、前記エミ
ッタバラスト抵抗に並列に接続されたエミッタ側キャパ
シタが前記エミッタ配線と前記エミッタフィンガとで絶
縁層を挟んで形成され、前記ベースバラスト抵抗が前記
ベース配線と前記ベースフィンガとで抵抗体を挟んで形
成され、前記ベースバラスト抵抗に並列に接続されたベ
ース側キャパシタが前記ベース配線と前記ベースフィン
ガとで絶縁層を挟んで形成され、前記バラスト抵抗と前
記キャパシタと前記エミッタフィンガ又は前記ベースフ
ィンガとが直線上に形成されている技術が採用される。
【0010】請求項1から3に記載の各マルチフィンガ
型バイポーラトランジスタでは、抵抗体を電極であるフ
ィンガと配線との間に挟むことにより、バラスト抵抗を
基板に対して垂直方向に形成するため、バラスト抵抗の
占める面積を大幅に縮小することができる。また、バラ
スト抵抗・キャパシタ・エミッタフィンガあるいはベー
スフィンガを直線上に形成することができ、フィンガ同
士の間隔の自由度が増すことである。
【0011】請求項4記載のマルチフィンガ型バイポー
ラトランジスタでは、シリコンバイポーラトランジスタ
であることを特徴とする。
【0012】請求項5記載のマルチフィンガ型バイポー
ラトランジスタでは、ヘテロバイポーラトランジスタで
あることを特徴とする。
【0013】請求項6記載のマイクロ波帯またはミリ波
帯のアナログ信号増幅器では、請求項1から5のいずれ
かに記載のマルチフィンガ型バイポーラトランジスタを
具備することを特徴とする。
【0014】
【発明の実施の形態】以下、本発明に係るマルチフィン
ガ型バイポーラトランジスタの第1実施形態を、図1か
ら図3を参照しながら説明する。
【0015】本実施形態のマルチフィンガ型バイポーラ
トランジスタは、図1の(a)に示すように、エミッタ
配線Eと、エミッタ電極となる複数のエミッタフィンガ
101及び各エミッタフィンガ101に直列に接続され
たバラスト抵抗102と、該バラスト抵抗102に並列
に接続されたキャパシタ103を具備するものであっ
て、各バラスト抵抗102がエミッタ配線Eとエミッタ
フィンガ101で抵抗体105を挟んで形成され、各キ
ャパシタ103がエミッタ配線Eとエミッタフィンガ1
01で絶縁層として誘電体108を挟んで形成されるこ
とを特徴としている。
【0016】図1の(b)に示すように、抵抗体105
をエミッタフィンガ101とエミッタ配線Eで挟み、バ
ラスト抵抗102を基板に対して垂直方向に形成する。
また、そのとき同時に誘電体108をエミッタフィンガ
101とエミッタ配線Eで挟むことによりキャパシタ1
03を形成する。このように形成することにより、バラ
スト抵抗102とキャパシタ103を並列に形成するこ
とができる。なお、符号Cはコレクタ配線、Bはベース
配線を示している。
【0017】本実施形態では、バラスト抵抗102を上
記のように形成することにより、バラスト抵抗102と
キャパシタ103を自由にレイアウトする事が可能とな
り、バラスト抵抗102とキャパシタ103をエミッタ
フィンガ101の長さ方向に配置することができ、フィ
ンガ同士の間隔やレイアウトの自由度が増すことにな
る。
【0018】また、バラスト抵抗102を形成するとき
に基板に対して垂直方向に形成することは、バラスト抵
抗102を形成するときに比べ少ない面積で形成するこ
とができる。例えば、WSiNなどの抵抗体はシート抵
抗は200Ω程度であり、数Ωのバラスト抵抗体102
を形成するには、アスペクト比で1:50以上になり、
これをチップ上で形成すると面積的にかなり大きくなっ
てしまう。しかし、本実施形態により、バラスト抵抗1
02の占める面積を大幅に低減できる。これによりチッ
プ面積の縮小をはかることが可能となる。
【0019】次に、本発明に係るマルチフィンガ型バイ
ポーラトランジスタの第2実施形態を、図4から図6を
参照しながら説明する。
【0020】第2実施形態のマルチフィンガ型バイポー
ラトランジスタは、図4の(a)に示すように、ベース
配線Bと、ベース電極となる複数のベースフィンガ40
1及び各ベースフィンガ401に直列に接続されたバラ
スト抵抗402と、該バラスト抵抗402に並列に接続
されたキャパシタ403を具備するものであって、各バ
ラスト抵抗402がベース配線Bとベースフィンガ40
1で抵抗体405を挟んで形成され、前記各キャパシタ
403がベース配線Bとベースフィンガ401で絶縁層
として誘電体408を挟んで形成されることを特徴とし
ている。
【0021】通常バラスト抵抗は、図5に示すように、
エミッタ設置したトランジスタ部501ではエミッタ側
に入れたほうが、負帰還が大きくかかるので一般的に用
いられている。しかし、図6に示すように、ベース側に
バラスト抵抗602を入れて電流利得の劣化を防ぐ手段
もある。ベースにバラスト抵抗を入れた方が効率は大き
くとることができ、バイポーラトランジスタのように利
得の大きいデバイスに対しては安定動作に対して有効な
手段となる場合が存在する。しかし、この時ベースバラ
スト抵抗602の存在により、高周波信号は利得が低下
する。
【0022】そこで、第2実施形態では、ベースにバラ
スト抵抗を挿入する場合、利得をさらに向上するため
に、図7に示すようにバラスト抵抗402に対して並列
にキャパシタ403を挿入して、高周波信号のバイパス
を形成することにより利得の低下を防ぐことを目的とし
ている。
【0023】図4の(b)に示すように、抵抗体405
をベースフィンガ401とベース配線Bで挟み、バラス
ト抵抗402を基板に垂直方向に形成する。また、その
とき同時に誘電体408をベースフィンガ401とベー
ス配線Bで挟むことによりキャパシタ403を形成す
る。このように形成することにより、バラスト抵抗40
2とキャパシタ403を並列に形成することができる。
【0024】このように抵抗体405を形成することよ
り、第1実施形態と同様に、従来と比べ少ない面積でバ
ラスト抵抗を形成することができるという利点がある。
また、第1実施形態と同様に、バラスト抵抗402とキ
ャパシタ408とをフィンガの長さ方向に配置すること
ができ、フィンガ同士の間隔やレイアウトの自由度が増
すことになる。
【0025】次に、本発明に係るマルチフィンガ型バイ
ポーラトランジスタの第3実施形態を、図8から図10
を参照しながら説明する。
【0026】第3実施形態のマルチフィンガ型バイポー
ラトランジスタは、エミッタ配線Eと、複数のエミッタ
フィンガ801及び各エミッタフィンガ801に直列に
接続されたエミッタバラスト抵抗802と、該エミッタ
バラスト抵抗802に並列に接続されたエミッタ側キャ
パシタ803を具備したものであって、第1実施形態と
同様に、各エミッタバラスト抵抗802がエミッタ配線
Eとエミッタフィンガ801で抵抗体を挟んで形成さ
れ、各エミッタ側キャパシタ803がエミッタ配線Eと
エミッタフィンガ801で絶縁層を挟んで形成されてい
る。
【0027】さらに、第3実施形態のマルチフィンガ型
バイポーラトランジスタは、ベース配線Bと、複数のベ
ースフィンガ805及び各ベースフィンガ805に直列
に接続されたベースバラスト抵抗806と、該ベースバ
ラスト抵抗806に並列に接続されたベース側キャパシ
タ807を具備するものであって、第2実施形態と同様
に、各ベースバラスト抵抗806がベース配線Bとベー
スフィンガ805で抵抗体を挟んで形成され、各ベース
側キャパシタ807がベース配線Bとベースフィンガ8
05で絶縁層を挟んで形成されることを特徴としてい
る。
【0028】図9に示すように、ベースとエミッタの両
方にバラスト抵抗902、903を挿入することは、ト
ランジスタ部901の高出力動作に対する発振や熱暴走
を押さえるための設計の選択肢が増えるが、同時にベー
ス、エミッタの両方にバラスト抵抗を挿入するため、利
得の低下を招くことになる。そこで、図10に示す本実
施形態の回路図のように、ベースとエミッタに接続した
ベースバラスト抵抗806とエミッタバラスト抵抗80
2に対し並列にベース側キャパシタ807とエミッタ側
キャパシタ803を接続する。
【0029】本実施形態では、各バラスト抵抗に対して
並列にキャパシタがバイパスコンデンサの役割を担うた
め、電力利得の低下を防止することができる。また、こ
のとき、第1実施形態および第2実施形態と同様に、抵
抗体を基板と垂直方向に形成するので、バラスト抵抗の
占める面積は小さく押さえることができ、抵抗体を基板
に対して水平方向に用いる場合に比べ、チップ面積の縮
小をはかることができる。
【0030】本発明は、次のような実施形態をも含むも
のである。 (1)上記各実施形態において、バイポーラトランジス
タとして、シリコンバイポーラトランジスタを用いても
よい。シリコンバイポーラトランジスタを用いること
は、デバイスの低コスト化に対して有利である。またシ
リコンは熱伝導率が大きく、熱設計が容易なので、バラ
スト抵抗と併せて用いることによって、さらに大きな電
力増幅動作に対しても安定に動作させるよう設計するこ
とが可能という利点がある。
【0031】(2)上記各実施形態において、バイポー
ラトランジスタとして、ヘテロバイポーラトランジスタ
を用いてもよい。ここで挙げているヘテロバイポーラト
ランジスタとして、ガリウム砒素やインジウム燐やシリ
コンゲルマニウムなどを用いた化合物バイポーラトラン
ジスタがあげられる。ヘテロバイポーラトランジスタを
用いることにより、高効率な増幅器を形成することがで
きる。
【0032】(3)上記各実施形態では、マルチフィン
ガ型バイポーラトランジスタをマイクロ波帯またはミリ
波帯のアナログ信号増幅器として用いる。移動体通信、
衛星通信の分野などにおいて、高出力、高利得、高効
率、低コストな増幅器が求められているので、高出力で
も安定した動作で、なおかつ高利得、高効率を実現し、
チップ面積を縮小して低コスト化を図る本発明のマルチ
フィンガ型バイポーラトランジスタをアナログ信号増幅
器に具備することは、有効な手段の一つになると考えら
れる。
【0033】
【発明の効果】本発明によれば、以下の効果を奏する。
(1) 請求項1記載のマルチフィンガ型バイポーラト
ランジスタによれば、バラスト抵抗がエミッタ配線とエ
ミッタフィンガとで抵抗体を挟んで形成され、キャパシ
タがエミッタ配線とエミッタフィンガとで絶縁層を挟ん
で形成され、前記バラスト抵抗と前記キャパシタと前記
エミッタフィンガとが直線上に形成されているので、エ
ミッタバラスト抵抗を基板に対して垂直方向に形成する
ため、エミッタバラスト抵抗の占める面積を大幅に縮小
することができる。また、バラスト抵抗・キャパシタ・
エミッタフィンガを直線上に形成するので、フィンガ同
士の間隔の自由度を増すことができる。したがって、バ
ラスト抵抗及びキャパシタを並列接続したマルチフィン
ガ型バイポーラトランジスタの占有面積を縮小すること
ができる。
【0034】(2) 請求項2記載のマルチフィンガ型
バイポーラトランジスタによれば、バラスト抵抗がベー
ス配線とベースフィンガとで抵抗体を挟んで形成され、
キャパシタがベース配線とベースフィンガとで絶縁層を
挟んで形成され、前記バラスト抵抗と前記キャパシタと
前記ベースフィンガとが直線上に形成されているので、
ベースバラスト抵抗を基板に対して垂直方向に形成する
ため、ベースバラスト抵抗の占める面積を大幅に縮小す
ることができる。また、バラスト抵抗・キャパシタ・ベ
ースフィンガを直線上に形成するので、フィンガ同士の
間隔の自由度を増すことができる。したがって、バラス
ト抵抗及びキャパシタを並列接続したマルチフィンガ型
バイポーラトランジスタの占有面積を縮小することがで
きる。
【0035】(3)請求項3記載のマルチフィンガ型バ
イポーラトランジスタによれば、エミッタバラスト抵抗
がエミッタ配線とエミッタフィンガとで抵抗体を挟んで
形成され、エミッタバラスト抵抗に並列に接続されたエ
ミッタ側キャパシタがエミッタ配線とエミッタフィンガ
とで絶縁層を挟んで形成され、ベースバラスト抵抗がベ
ース配線とベースフィンガとで抵抗体を挟んで形成さ
れ、ベースバラスト抵抗に並列に接続されたベース側キ
ャパシタがベース配線とベースフィンガとで絶縁層を挟
んで形成されるので、エミッタバラスト抵抗およびベー
スバラスト抵抗を基板に対して垂直方向に形成するた
め、エミッタバラスト抵抗およびベースバラスト抵抗の
占める面積を大幅に縮小することができる。また、バラ
スト抵抗・キャパシタ・エミッタフィンガまたはベース
フィンガを直線上に形成するので、フィンガ同士の間隔
の自由度を増すことができる。したがって、バラスト抵
抗及びキャパシタを並列接続したマルチフィンガ型バイ
ポーラトランジスタの占有面積をより縮小することがで
きる。
【0036】(4)請求項4記載のマルチフィンガ型バ
イポーラトランジスタによれば、シリコンバイポーラト
ランジスタであるので、デバイスの低コスト化および大
電力増幅動作の安定化等を容易に図ることができる。
【0037】(5)請求項5記載のマルチフィンガ型バ
イポーラトランジスタによれば、ヘテロバイポーラトラ
ンジスタであるので、高効率な増幅器を形成することが
できる。
【0038】(6)請求項6記載のマイクロ波帯または
ミリ波帯のアナログ信号増幅器によれば、請求項1から
5のいずれかに記載のマルチフィンガ型バイポーラトラ
ンジスタを具備するので、移動体通信、衛星通信の分野
などにおいて、高出力でも安定した動作で、なおかつ高
利得、高効率を実現し、チップ面積を縮小して低コスト
化を図ることができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明に係るマルチフィンガ型バイポーラトラ
ンジスタの第1実施形態を示す平面図およびエミッタ部
分の断面図である。
【図2】本発明に係るマルチフィンガ型バイポーラトラ
ンジスタの従来例を示す平面図である。
【図3】本発明に係るマルチフィンガ型バイポーラトラ
ンジスタの従来例におけるバラスト抵抗の構造を示す断
面図である。
【図4】本発明に係るマルチフィンガ型バイポーラトラ
ンジスタの第2実施形態を示す平面図およびベース部分
の断面図である。
【図5】本発明に係るマルチフィンガ型バイポーラトラ
ンジスタの従来例におけるエミッタ側にバラスト抵抗を
挿入した場合の回路図である。
【図6】本発明に係るマルチフィンガ型バイポーラトラ
ンジスタの従来例におけるベース側にバラスト抵抗を挿
入した場合の回路図である。
【図7】本発明に係るマルチフィンガ型バイポーラトラ
ンジスタの第2実施形態を示す回路図である。
【図8】本発明に係るマルチフィンガ型バイポーラトラ
ンジスタの第3実施形態を示す平面図である。
【図9】本発明に係るマルチフィンガ型バイポーラトラ
ンジスタの従来例におけるエミッタ側およびベース側に
バラスト抵抗を挿入した場合の回路図である。
【図10】本発明に係るマルチフィンガ型バイポーラト
ランジスタの第3実施形態を示す回路図である。
【符号の説明】
101, 801 エミッタフィンガ 102, 402 バラスト抵抗 103, 403 キャパシタ 105, 405 抵抗体 108, 408 誘電体(絶縁層) 401, 805 ベースフィンガ 501, 901 トランジスタ部 802 エミッタバラスト抵抗 803 エミッタ側キャパシタ 806 ベースバラスト抵抗 807 ベース側キャパシタ C コレクタ配線 B ベース配線 E エミッタ配線
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (58)調査した分野(Int.Cl.7,DB名) H01L 21/331 H01L 29/73 - 29/737 H01L 21/8222 H01L 27/06 H01L 27/04

Claims (6)

    (57)【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 エミッタ配線と、複数のエミッタフィン
    ガと、各エミッタフィンガに直列に接続されたバラスト
    抵抗と、該バラスト抵抗に並列に接続されたキャパシタ
    とを具備するマルチフィンガ型バイポーラトランジスタ
    であって、 前記バラスト抵抗が前記エミッタ配線と前記エミッタフ
    ィンガとで抵抗体を挟んで形成され、 前記キャパシタが前記エミッタ配線と前記エミッタフィ
    ンガとで絶縁層を挟んで形成され 前記バラスト抵抗と前記キャパシタと前記エミッタフィ
    ンガとが直線上に形成されている ことを特徴とするマル
    チフィンガ型バイポーラトランジスタ。
  2. 【請求項2】 ベース配線と、複数のベースフィンガ
    と、各ベースフィンガに直列に接続されたバラスト抵抗
    と、該バラスト抵抗に並列に接続されたキャパシタとを
    具備するマルチフィンガ型バイポーラトランジスタであ
    って、 前記バラスト抵抗が前記ベース配線と前記ベースフィン
    ガとで抵抗体を挟んで形成され、 前記キャパシタが前記ベース配線と前記ベースフィンガ
    とで絶縁層を挟んで形成され 前記バラスト抵抗と前記キャパシタと前記ベースフィン
    ガとが直線上に形成されている ことを特徴とするマルチ
    フィンガ型バイポーラトランジスタ。
  3. 【請求項3】 エミッタ配線と、複数のエミッタフィン
    ガと、各エミッタフィンガに直列に接続されたエミッタ
    バラスト抵抗と、該エミッタバラスト抵抗に並列に接続
    されたエミッタ側キャパシタと、ベース配線と、複数の
    ベースフィンガと、各ベースフィンガに直列に接続され
    たベースバラスト抵抗と、該ベースバラスト抵抗に並列
    に接続されたベース側キャパシタとを具備するマルチフ
    ィンガ型バイポーラトランジスタにおいて、 前記エミッタバラスト抵抗が前記エミッタ配線と前記エ
    ミッタフィンガとで抵抗体を挟んで形成され、 前記エミッタバラスト抵抗に並列に接続されたエミッタ
    側キャパシタが前記エミッタ配線と前記エミッタフィン
    ガとで絶縁層を挟んで形成され、 前記ベースバラスト抵抗が前記ベース配線と前記ベース
    フィンガとで抵抗体を挟んで形成され、 前記ベースバラスト抵抗に並列に接続されたベース側キ
    ャパシタが前記ベース配線と前記ベースフィンガとで絶
    縁層を挟んで形成され 前記バラスト抵抗と前記キャパシタと前記エミッタフィ
    ンガ又は前記ベースフィンガとが直線上に形成されてい
    ことを特徴とするマルチフィンガ型バイポーラトラン
    ジスタ。
  4. 【請求項4】 シリコンバイポーラトランジスタである
    ことを特徴とする請求項1から3のいずれかに記載のマ
    ルチフィンガ型バイポーラトランジスタ。
  5. 【請求項5】 ヘテロバイポーラトランジスタであるこ
    とを特徴とする請求項1から3のいずれかに記載のマル
    チフィンガ型バイポーラトランジスタ。
  6. 【請求項6】 請求項1から5のいずれかに記載のマル
    チフィンガ型バイポーラトランジスタを具備することを
    特徴とするマイクロ波帯またはミリ波帯のアナログ信号
    増幅器。
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