JP3286806B2 - 真空弁の制御装置 - Google Patents
真空弁の制御装置Info
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- JP3286806B2 JP3286806B2 JP00822796A JP822796A JP3286806B2 JP 3286806 B2 JP3286806 B2 JP 3286806B2 JP 00822796 A JP00822796 A JP 00822796A JP 822796 A JP822796 A JP 822796A JP 3286806 B2 JP3286806 B2 JP 3286806B2
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Description
【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、真空式下水収集シ
ステムの流出管に介装された真空弁の開閉を制御する作
動する真空弁の制御装置に関する。
ステムの流出管に介装された真空弁の開閉を制御する作
動する真空弁の制御装置に関する。
【0002】
【従来の技術】従来より、真空式下水収集システムの流
出管に介装された真空弁の開閉動作を制御する真空弁の
制御装置として、特公平6−37787号公報に示すも
のが知られている。この制御装置は、図5および図6に
示すように、真空弁2の上流側の吸込管3の入口を汚水
マス1内に臨ませ、真空弁2の下流側の流出管5の出口
を、真空ポンプによってなる吸引手段6を備えた下水収
集場7に開口し、汚水マス1内に水位検知管8を設置し
て、汚水マス1内の水位変動に伴う水位検知管8内の圧
力変化によって水位を検出し、汚水マス4内の水位が上
限HWLまで上昇した場合の水位検知管8内の高い圧力
をダイアフラム4を介して真空弁の制御装置9に導くこ
とで該制御装置9を作動させ、真空弁2の上部バネ室2
Aに流出管5側の負圧(真空圧)を負荷させて真空弁2
を弁開させる。これにより、汚水マス1内の汚水に作用
している大気圧と下水収集場7側との差圧により、汚水
マス1中の汚水、つまり、自然流下管11から汚水マス
1に流下してきた家庭排水などの汚水は、吸込管3→開
弁している真空弁2下部の汚水流通室2C→流出管5の
経路で下水収集場7側に吸引排出される。
出管に介装された真空弁の開閉動作を制御する真空弁の
制御装置として、特公平6−37787号公報に示すも
のが知られている。この制御装置は、図5および図6に
示すように、真空弁2の上流側の吸込管3の入口を汚水
マス1内に臨ませ、真空弁2の下流側の流出管5の出口
を、真空ポンプによってなる吸引手段6を備えた下水収
集場7に開口し、汚水マス1内に水位検知管8を設置し
て、汚水マス1内の水位変動に伴う水位検知管8内の圧
力変化によって水位を検出し、汚水マス4内の水位が上
限HWLまで上昇した場合の水位検知管8内の高い圧力
をダイアフラム4を介して真空弁の制御装置9に導くこ
とで該制御装置9を作動させ、真空弁2の上部バネ室2
Aに流出管5側の負圧(真空圧)を負荷させて真空弁2
を弁開させる。これにより、汚水マス1内の汚水に作用
している大気圧と下水収集場7側との差圧により、汚水
マス1中の汚水、つまり、自然流下管11から汚水マス
1に流下してきた家庭排水などの汚水は、吸込管3→開
弁している真空弁2下部の汚水流通室2C→流出管5の
経路で下水収集場7側に吸引排出される。
【0003】一方、汚水マス1内の水位が下限LWLま
で低下した場合の水位検知管8内の圧力降下をダイアフ
ラム4を介して真空弁の制御装置9に導くことで制御装
置9を作動させ、給気管10から導入される大気圧を真
空弁2の上部バネ室2Aに負荷して真空弁2を弁閉させ
る。
で低下した場合の水位検知管8内の圧力降下をダイアフ
ラム4を介して真空弁の制御装置9に導くことで制御装
置9を作動させ、給気管10から導入される大気圧を真
空弁2の上部バネ室2Aに負荷して真空弁2を弁閉させ
る。
【0004】従来の真空弁の制御装置9は第1センサ室
12、第2センサ室13、第1コントローラ室14、第
2コントローラ室15および第3コントローラ室16を
備えている。
12、第2センサ室13、第1コントローラ室14、第
2コントローラ室15および第3コントローラ室16を
備えている。
【0005】第1センサ室12にはセンサポート17が
設けられ、このセンサポート17は、センサチューブ1
7Aおよびダイアフラム4を介して水位検知管8に連通
している。第1センサ室12と第2センサ室13は弾性
材料によってなるセンサダイアフラム18によって区画
されており、第2センサ室13と第1コントローラ室1
4の隔壁にポート19が形成され、このポート19を介
して第2センサ室13と第1コントローラ室14が互い
に連通している。また、ポート19は図示していないス
プリングの付勢により閉じ方向に傾くシーソ弁20によ
り、図5のように閉じられた待機状態、つまり、真空弁
2の弁閉状態になっている。このシーソ弁20は、第2
センサ室13内に設けられ、そのレバ−部はセンサダイ
アフラム18に対応している。
設けられ、このセンサポート17は、センサチューブ1
7Aおよびダイアフラム4を介して水位検知管8に連通
している。第1センサ室12と第2センサ室13は弾性
材料によってなるセンサダイアフラム18によって区画
されており、第2センサ室13と第1コントローラ室1
4の隔壁にポート19が形成され、このポート19を介
して第2センサ室13と第1コントローラ室14が互い
に連通している。また、ポート19は図示していないス
プリングの付勢により閉じ方向に傾くシーソ弁20によ
り、図5のように閉じられた待機状態、つまり、真空弁
2の弁閉状態になっている。このシーソ弁20は、第2
センサ室13内に設けられ、そのレバ−部はセンサダイ
アフラム18に対応している。
【0006】第2センサ室13は、金属フイルタ21お
よびオリフィス22を介装した大気圧通路23を介して
大気圧ポート24に連通している。大気圧ポート24に
は給気管10から大気が導入される。この給気管10
は、T型継手25の上流側に位置して大気中に開口する
1次給気管10Aと、T型継手25の下流側に位置して
大気圧ポート24に接続される2次給気管10Bおよび
T型継手25の下流側に位置して真空弁2の上部バネ室
2Aと下部の汚水流通室2Cの間の中間室2Bに接続さ
れる2次給気管10Cとを備え、中間室2Bが常に大気
圧になるようにしている。前記真空弁2の弁閉状態で
は、シーソ弁20によりポート19は閉じられているの
で、真空弁2の弁閉状態において第2センサ室13の大
気圧が維持される。
よびオリフィス22を介装した大気圧通路23を介して
大気圧ポート24に連通している。大気圧ポート24に
は給気管10から大気が導入される。この給気管10
は、T型継手25の上流側に位置して大気中に開口する
1次給気管10Aと、T型継手25の下流側に位置して
大気圧ポート24に接続される2次給気管10Bおよび
T型継手25の下流側に位置して真空弁2の上部バネ室
2Aと下部の汚水流通室2Cの間の中間室2Bに接続さ
れる2次給気管10Cとを備え、中間室2Bが常に大気
圧になるようにしている。前記真空弁2の弁閉状態で
は、シーソ弁20によりポート19は閉じられているの
で、真空弁2の弁閉状態において第2センサ室13の大
気圧が維持される。
【0007】第1コントローラ室14と第2コントロー
ラ室15は、弾性材料によってなるダイアフラム28に
よって区画されており、第2コントローラ室15と第3
コントローラ室16はチューブ31によって互いに連通
している。
ラ室15は、弾性材料によってなるダイアフラム28に
よって区画されており、第2コントローラ室15と第3
コントローラ室16はチューブ31によって互いに連通
している。
【0008】前記大気圧ポート24は、第3コントロー
ラ室16に隣接する室32を介して真空弁2への大気圧
・真空圧供給ポート33に連通しており、大気圧・真空
圧供給ポート33と真空弁2の上部バネ室2Aは通気管
34を介して互いに連通している。また、第3コントロ
ーラ室16と室32との隔壁を貫通して、弁シート35
が取付けられている。
ラ室16に隣接する室32を介して真空弁2への大気圧
・真空圧供給ポート33に連通しており、大気圧・真空
圧供給ポート33と真空弁2の上部バネ室2Aは通気管
34を介して互いに連通している。また、第3コントロ
ーラ室16と室32との隔壁を貫通して、弁シート35
が取付けられている。
【0009】軸受29と弁シート35には三方弁36の
弁棒36Aが貫通しており、弁棒36Aの基端部がダイ
アフラム28に固着されている。三方弁36のバルブヘ
ッド36Bは大気圧ポート24の弁シート24Aと前記
弁シート35に対応し、ダイアフラム28と弁棒36A
に外嵌されて第2コントローラ室15内に位置している
スラスト板37との間に圧縮スプリング38が介装さ
れ、ダイアフラム28を図5の待機位置に維持し、大気
圧・真空圧供給ポート33と第3コントローラ室16を
遮断するとともに大気圧ポート24と連通し、真空弁2
の上部バネ室2Aを大気圧にして、真空弁2を閉状態に
している。
弁棒36Aが貫通しており、弁棒36Aの基端部がダイ
アフラム28に固着されている。三方弁36のバルブヘ
ッド36Bは大気圧ポート24の弁シート24Aと前記
弁シート35に対応し、ダイアフラム28と弁棒36A
に外嵌されて第2コントローラ室15内に位置している
スラスト板37との間に圧縮スプリング38が介装さ
れ、ダイアフラム28を図5の待機位置に維持し、大気
圧・真空圧供給ポート33と第3コントローラ室16を
遮断するとともに大気圧ポート24と連通し、真空弁2
の上部バネ室2Aを大気圧にして、真空弁2を閉状態に
している。
【0010】第1コントローラ室14はチューブ27、
31を介して第3コントローラ室16に通じている。チ
ューブ27とチューブ31の間には、可変ニードルバル
ブ30が設けられ、この可変ニードルバルブ30の開度
調整によって、第1コントローラ室14における流体の
流速が変化し、第2センサ室13のポート19が閉じた
後に第1コントローラ室14の圧力が第3コントローラ
室16と同じになるまでの時間調整を行う役目を果たし
ている。
31を介して第3コントローラ室16に通じている。チ
ューブ27とチューブ31の間には、可変ニードルバル
ブ30が設けられ、この可変ニードルバルブ30の開度
調整によって、第1コントローラ室14における流体の
流速が変化し、第2センサ室13のポート19が閉じた
後に第1コントローラ室14の圧力が第3コントローラ
室16と同じになるまでの時間調整を行う役目を果たし
ている。
【0011】第3コントローラ室16には真空ポート3
9が形成され、この真空ポート39は真空ライン40を
介して流出管5における真空弁2の直下流位置に連通し
ており、真空ライン40には、流出管5方向への流れを
許容する逆止弁41が介設されている。
9が形成され、この真空ポート39は真空ライン40を
介して流出管5における真空弁2の直下流位置に連通し
ており、真空ライン40には、流出管5方向への流れを
許容する逆止弁41が介設されている。
【0012】このように構成された真空弁の制御装置9
の作動を説明する。汚水マス4内の水位が上限HWLま
で上昇した場合の水位検知管8内の高い圧力は、ダイア
フラム4およびセンサチューブ17Aを介して図5の真
空弁の制御装置9のセンサポート17に導かれ、第1セ
ンサ室12内の圧力が高くなる。これにより、センサダ
イアフラム18は膨出してシーソ弁20のレバー部を押
圧し、図示していないスプリングの付勢に抗してシーソ
弁20を図6のように弁開させ、ポート19を開放す
る。これにより、第2センサ室13と第1コントローラ
室14は連通し、大気圧ポート24、オリフィス22を
介装した大気圧通路23、第2センサ室13を介して第
1コントローラ室14に進入した大気圧および第1コン
トローラ室14と第2コントローラ室15の差圧によ
り、ダイアフラム28および三方弁36を前進させる。
の作動を説明する。汚水マス4内の水位が上限HWLま
で上昇した場合の水位検知管8内の高い圧力は、ダイア
フラム4およびセンサチューブ17Aを介して図5の真
空弁の制御装置9のセンサポート17に導かれ、第1セ
ンサ室12内の圧力が高くなる。これにより、センサダ
イアフラム18は膨出してシーソ弁20のレバー部を押
圧し、図示していないスプリングの付勢に抗してシーソ
弁20を図6のように弁開させ、ポート19を開放す
る。これにより、第2センサ室13と第1コントローラ
室14は連通し、大気圧ポート24、オリフィス22を
介装した大気圧通路23、第2センサ室13を介して第
1コントローラ室14に進入した大気圧および第1コン
トローラ室14と第2コントローラ室15の差圧によ
り、ダイアフラム28および三方弁36を前進させる。
【0013】ダイアフラム28および三方弁36が前進
することで、バルブヘッド36Bが弁シート35を開放
し、弁シート24Aを閉じる。これにより、真空弁2下
流側の真空圧は、真空ライン40、真空ポート39、第
3コントローラ室16、室32、大気圧・真空圧供給ポ
ート33および通気管34の経路で真空弁2の上部バネ
室2Aに負荷され、真空弁2を弁開させる。その結果、
汚水マス1内の汚水は、吸込管3→開弁している真空弁
2下部の汚水流通室2C→流出管5の経路で下水収集場
7側に吸引排出される。
することで、バルブヘッド36Bが弁シート35を開放
し、弁シート24Aを閉じる。これにより、真空弁2下
流側の真空圧は、真空ライン40、真空ポート39、第
3コントローラ室16、室32、大気圧・真空圧供給ポ
ート33および通気管34の経路で真空弁2の上部バネ
室2Aに負荷され、真空弁2を弁開させる。その結果、
汚水マス1内の汚水は、吸込管3→開弁している真空弁
2下部の汚水流通室2C→流出管5の経路で下水収集場
7側に吸引排出される。
【0014】汚水マス1内の水位が下限LWLまで低下
した場合の水位検知管8内の圧力降下は、ダイアフラム
4およびセンサチューブ17Aを介して図6の真空弁の
制御装置9のセンサポート17に導かれセンサダイアフ
ラム18に影響する。これにより、センサダイアフラム
18はシーソ弁20のレバー部から離れる。この場合、
シーソ弁20は図示していないスプリングの付勢により
ポート19の閉塞を維持して、第2センサ室13の大気
圧が第1コントローラ室14に導入されるのを防止して
いる。第1コントローラ室14と第2コントローラ室1
5の圧力が均一化されるのと同時に、圧縮スプリング3
8の作用によって、ダイアフラム28および三方弁36
は後退する。三方弁36の後退によって、大気圧ポート
24の弁シート24Aは再び開放され、大気圧ポート2
4と室32は連通する。これにより、大気圧・真空圧供
給ポート33を介して真空弁2の上部バネ室2Aに再び
大気圧が導入され真空弁2を弁閉させる。第1コントロ
ーラ室14と第2コントローラ室15の圧力の均一化に
より、三方弁36のバルブヘッド36Bは弁シート35
を閉じて、第3コントローラ室16を閉塞し、真空圧が
室32に導かれるのを防止する。ここで、第1コントロ
ーラ室14と第2コントローラ室15の真空圧は第3コ
ントローラ室16の真空圧と均一になる。
した場合の水位検知管8内の圧力降下は、ダイアフラム
4およびセンサチューブ17Aを介して図6の真空弁の
制御装置9のセンサポート17に導かれセンサダイアフ
ラム18に影響する。これにより、センサダイアフラム
18はシーソ弁20のレバー部から離れる。この場合、
シーソ弁20は図示していないスプリングの付勢により
ポート19の閉塞を維持して、第2センサ室13の大気
圧が第1コントローラ室14に導入されるのを防止して
いる。第1コントローラ室14と第2コントローラ室1
5の圧力が均一化されるのと同時に、圧縮スプリング3
8の作用によって、ダイアフラム28および三方弁36
は後退する。三方弁36の後退によって、大気圧ポート
24の弁シート24Aは再び開放され、大気圧ポート2
4と室32は連通する。これにより、大気圧・真空圧供
給ポート33を介して真空弁2の上部バネ室2Aに再び
大気圧が導入され真空弁2を弁閉させる。第1コントロ
ーラ室14と第2コントローラ室15の圧力の均一化に
より、三方弁36のバルブヘッド36Bは弁シート35
を閉じて、第3コントローラ室16を閉塞し、真空圧が
室32に導かれるのを防止する。ここで、第1コントロ
ーラ室14と第2コントローラ室15の真空圧は第3コ
ントローラ室16の真空圧と均一になる。
【0015】ところが、前記従来の真空弁の制御装置で
は、真空弁2を弁閉させようとして、圧縮スプリング3
8の作用によってダイアフラム28および三方弁36を
後退させた直後に、真空弁2のの上部バネ室2Aの真空
および室32の真空が大気圧通路23を介して第2セン
サ室13に伝わり、図5の状態に戻っているセンサダイ
アフラム18を図6のように膨出させるように作用す
る。これにより、汚水マス4内の水位が下限LWLであ
るのにもかかわらず、あたかも上限HWLまで上昇して
るかのように真空弁2を弁開させる。つまり、一旦、閉
じ方向に移動するか、あるいは一旦閉じた真空弁2を再
び弁開させるダブルサイクリング現象と称される誤動作
を生じる虞れを有している。したがって、このような誤
動作の発生を回避するために、大気圧通路23にオリフ
ィス22を介装し、このオリフィス22の絞り作用によ
って真空弁2の弁閉の影響が伝わり難いように工夫され
ている。しかし、流出管5の真空圧が高い場合(概ね−
6mAqを超える)オリフィス22の絞り作用では不十
分となり前述の誤動作を生じる欠点がある。つまり、真
空圧がセンサダイアフラム18のバネ定数によって決ま
る所定の値を超えると、オリフィス22の絞り作用では
不十分となり、ダブルサイクリング現象と称される誤動
作を生じることになる。
は、真空弁2を弁閉させようとして、圧縮スプリング3
8の作用によってダイアフラム28および三方弁36を
後退させた直後に、真空弁2のの上部バネ室2Aの真空
および室32の真空が大気圧通路23を介して第2セン
サ室13に伝わり、図5の状態に戻っているセンサダイ
アフラム18を図6のように膨出させるように作用す
る。これにより、汚水マス4内の水位が下限LWLであ
るのにもかかわらず、あたかも上限HWLまで上昇して
るかのように真空弁2を弁開させる。つまり、一旦、閉
じ方向に移動するか、あるいは一旦閉じた真空弁2を再
び弁開させるダブルサイクリング現象と称される誤動作
を生じる虞れを有している。したがって、このような誤
動作の発生を回避するために、大気圧通路23にオリフ
ィス22を介装し、このオリフィス22の絞り作用によ
って真空弁2の弁閉の影響が伝わり難いように工夫され
ている。しかし、流出管5の真空圧が高い場合(概ね−
6mAqを超える)オリフィス22の絞り作用では不十
分となり前述の誤動作を生じる欠点がある。つまり、真
空圧がセンサダイアフラム18のバネ定数によって決ま
る所定の値を超えると、オリフィス22の絞り作用では
不十分となり、ダブルサイクリング現象と称される誤動
作を生じることになる。
【0016】また、オリフィス22の孔径は、前記誤動
作の発生を抑える目的で1mm前後のきわめて小径に設
定されているので、大気中に含まれている固体粒子や大
気中水蒸気の結露によって生じた水滴などによって塞が
れやすく、小径のオリフィス22が塞がれると、真空弁
2の弁閉が大幅に遅れるといった誤動作の原因になり、
このような誤動作が生じることで、真空ポンプによって
なる吸引手段6に不必要な負荷(空運転)をかけること
になるなどの欠点もある。
作の発生を抑える目的で1mm前後のきわめて小径に設
定されているので、大気中に含まれている固体粒子や大
気中水蒸気の結露によって生じた水滴などによって塞が
れやすく、小径のオリフィス22が塞がれると、真空弁
2の弁閉が大幅に遅れるといった誤動作の原因になり、
このような誤動作が生じることで、真空ポンプによって
なる吸引手段6に不必要な負荷(空運転)をかけること
になるなどの欠点もある。
【0017】すなわち、従来の真空弁の制御装置は、真
空弁2上流側の汚水マス1と圧力的に連通し、かつ汚水
マス1内の所定の圧力に応答してシーソ弁20を開閉さ
せるセンサダイアフラム18を備えた制御圧切替機構部
Aと、三方弁36を取付けたダイアフラム28によって
区画される第1コントローラ室14と第2コントローラ
室15と、三方弁36を真空弁2の弁閉位置に位置決め
するスプリング38と、真空ポート39と、三方弁36
の作動により大気圧ポート24に連通して該大気圧ポー
ト24から導入される大気圧を真空弁2の上部バネ室2
Aに負荷して真空弁2を弁閉させ、かつ真空ポート39
に連通して前記負圧部の負圧を真空弁2の上部バネ室2
Aに負荷して真空弁2を弁開させる大気圧・真空圧供給
ポート33とを備えた三方向切替機構部Bが一体に構成
され、三方向切替機構部Bの圧力変化が制御圧切替機構
部Aに影響をおよぼすことになるので、ダブルサイクリ
ング現象と称される誤動作を生じるとともに、オリフィ
スが大気中に含まれている固体粒子や大気中水蒸気の結
露によって生じた水滴などによって塞がれやすく、オリ
フィスが塞がれると、真空弁の弁閉を大幅に遅らせる誤
動作の原因になり、真空ポンプによってなる吸引手段に
不必要な負荷をかける欠点を有していた。
空弁2上流側の汚水マス1と圧力的に連通し、かつ汚水
マス1内の所定の圧力に応答してシーソ弁20を開閉さ
せるセンサダイアフラム18を備えた制御圧切替機構部
Aと、三方弁36を取付けたダイアフラム28によって
区画される第1コントローラ室14と第2コントローラ
室15と、三方弁36を真空弁2の弁閉位置に位置決め
するスプリング38と、真空ポート39と、三方弁36
の作動により大気圧ポート24に連通して該大気圧ポー
ト24から導入される大気圧を真空弁2の上部バネ室2
Aに負荷して真空弁2を弁閉させ、かつ真空ポート39
に連通して前記負圧部の負圧を真空弁2の上部バネ室2
Aに負荷して真空弁2を弁開させる大気圧・真空圧供給
ポート33とを備えた三方向切替機構部Bが一体に構成
され、三方向切替機構部Bの圧力変化が制御圧切替機構
部Aに影響をおよぼすことになるので、ダブルサイクリ
ング現象と称される誤動作を生じるとともに、オリフィ
スが大気中に含まれている固体粒子や大気中水蒸気の結
露によって生じた水滴などによって塞がれやすく、オリ
フィスが塞がれると、真空弁の弁閉を大幅に遅らせる誤
動作の原因になり、真空ポンプによってなる吸引手段に
不必要な負荷をかける欠点を有していた。
【0018】
【発明が解決しようとする課題】従来の真空弁の制御装
置は、制御圧切替機構部と、三方向切替機構部が一体に
構成され、三方向切替機構部の圧力変化が制御圧切替機
構部に影響をおよぼすことになるので、ダブルサイクリ
ング現象と称される誤動作を生じるとともに、オリフィ
スが大気中に含まれている固体粒子や大気中水蒸気の結
露によって生じた水滴などによって塞がれやすく、オリ
フィスが塞がれると、真空弁の弁閉を大幅に遅らせる誤
動作の原因になり、真空ポンプによってなる吸引手段に
不必要な負荷をかける欠点を有していた。そこで、請求
項1記載の発明は、ダブルサイクリング現象と称される
真空弁の誤動作を無くすとともに、オリフィスの使用を
省略することで、オリフィスの詰まりが起因する誤動作
を無くして、吸引手段に不必要な負荷がかかるのを回避
すことのできる真空弁の制御装置を提供することを目的
としたものである。請求項2記載の発明は、汚水マス内
の圧力に関係なく手動により制御弁を作動させて真空弁
を弁開もしくは弁閉させ得るようにしたものである。
置は、制御圧切替機構部と、三方向切替機構部が一体に
構成され、三方向切替機構部の圧力変化が制御圧切替機
構部に影響をおよぼすことになるので、ダブルサイクリ
ング現象と称される誤動作を生じるとともに、オリフィ
スが大気中に含まれている固体粒子や大気中水蒸気の結
露によって生じた水滴などによって塞がれやすく、オリ
フィスが塞がれると、真空弁の弁閉を大幅に遅らせる誤
動作の原因になり、真空ポンプによってなる吸引手段に
不必要な負荷をかける欠点を有していた。そこで、請求
項1記載の発明は、ダブルサイクリング現象と称される
真空弁の誤動作を無くすとともに、オリフィスの使用を
省略することで、オリフィスの詰まりが起因する誤動作
を無くして、吸引手段に不必要な負荷がかかるのを回避
すことのできる真空弁の制御装置を提供することを目的
としたものである。請求項2記載の発明は、汚水マス内
の圧力に関係なく手動により制御弁を作動させて真空弁
を弁開もしくは弁閉させ得るようにしたものである。
【0019】
【課題を解決するための手段】前記目的を達成するた
め、請求項1記載の発明は、真空弁上流側の汚水マス内
の水位と対応して内圧が変化する水位検知管と圧力的に
連通し、かつ該水位検知管内の所定の圧力に応答して制
御弁を開閉させる圧力センサを備えた制御圧切替機構部
と、真空弁の弁開位置と弁閉位置とを切替える三方弁
と、この三方弁を取付けたダイアフラムによって区画さ
れるとともに、大気圧ポートを介して大気と圧力的に連
通する第1コントローラ室および第2コントローラ室
と、三方弁を真空弁の弁閉位置に位置決めする付勢手段
と、真空弁を介装した流出管における真空弁より下流側
の負圧部に連通する真空ポートと、三方弁の作動により
大気圧ポートに連通して該大気圧ポートから導入される
大気圧を真空弁の作動室に負荷して真空弁を弁閉させ、
かつ真空ポートに連通して前記負圧部の負圧を真空弁の
作動室に負荷して真空弁を弁開させる大気圧・真空圧供
給ポートとを備えた三方向切替機構部とを具備する真空
弁の制御装置において、前記三方向切替機構部を真空弁
に固定し、前記制御圧切換機構部を真空弁以外の位置に
設置して、三方向切替機構部と制御圧切換機構部を分離
させるとともに、前記制御弁を前記負圧部と第1コント
ローラ室とを連通させる負圧通路に介設して、該制御弁
の弁開時に負圧部の負圧を第1コントローラ室に負荷し
て前記付勢手段の付勢に抗して三方弁を真空弁の弁開位
置に位置決めするように構成したことを特徴としたもの
である。また、請求項2記載の発明は、前記制御弁が電
気式作動弁によって構成されているとともに、この制御
弁を開閉させる手動スイッチが設けられていることを特
徴としたものである。請求項1記載の発明によれば、三
方向切替機構部の圧力変化が制御圧切替機構部に影響す
ることはない。また、オリフイスの使用を省略できる。
請求項2記載の発明によれば、メンテナンス等に際し
て、汚水マス内の圧力に関係なく手動により制御弁を作
動させて真空弁を弁開もしくは弁閉させることができ
る。
め、請求項1記載の発明は、真空弁上流側の汚水マス内
の水位と対応して内圧が変化する水位検知管と圧力的に
連通し、かつ該水位検知管内の所定の圧力に応答して制
御弁を開閉させる圧力センサを備えた制御圧切替機構部
と、真空弁の弁開位置と弁閉位置とを切替える三方弁
と、この三方弁を取付けたダイアフラムによって区画さ
れるとともに、大気圧ポートを介して大気と圧力的に連
通する第1コントローラ室および第2コントローラ室
と、三方弁を真空弁の弁閉位置に位置決めする付勢手段
と、真空弁を介装した流出管における真空弁より下流側
の負圧部に連通する真空ポートと、三方弁の作動により
大気圧ポートに連通して該大気圧ポートから導入される
大気圧を真空弁の作動室に負荷して真空弁を弁閉させ、
かつ真空ポートに連通して前記負圧部の負圧を真空弁の
作動室に負荷して真空弁を弁開させる大気圧・真空圧供
給ポートとを備えた三方向切替機構部とを具備する真空
弁の制御装置において、前記三方向切替機構部を真空弁
に固定し、前記制御圧切換機構部を真空弁以外の位置に
設置して、三方向切替機構部と制御圧切換機構部を分離
させるとともに、前記制御弁を前記負圧部と第1コント
ローラ室とを連通させる負圧通路に介設して、該制御弁
の弁開時に負圧部の負圧を第1コントローラ室に負荷し
て前記付勢手段の付勢に抗して三方弁を真空弁の弁開位
置に位置決めするように構成したことを特徴としたもの
である。また、請求項2記載の発明は、前記制御弁が電
気式作動弁によって構成されているとともに、この制御
弁を開閉させる手動スイッチが設けられていることを特
徴としたものである。請求項1記載の発明によれば、三
方向切替機構部の圧力変化が制御圧切替機構部に影響す
ることはない。また、オリフイスの使用を省略できる。
請求項2記載の発明によれば、メンテナンス等に際し
て、汚水マス内の圧力に関係なく手動により制御弁を作
動させて真空弁を弁開もしくは弁閉させることができ
る。
【0020】
【発明の実施の形態】以下、本発明の一実施の形態を図
面に基づいて説明する。図1は真空弁の弁閉状態を示す
構成図、図2は図1に対応する要部の拡大構成図、図3
は真空弁の弁開状態を示す構成図、図4は図3に対応す
る要部の拡大構成図である。なお、前記図5および図6
の従来例と同一もしくは相当部分には同一符号を付して
詳しい説明は省略する。図1ないし図4において、制御
圧切替機構部Aは、真空弁2上流側の汚水マス1と圧力
的に連通し、かつ汚水マス1内の所定の圧力に応答して
制御弁20を開閉させる圧力スイッチ18を備えてお
り、三方向切替機構部Bは、三方弁36を取付けたダイ
アフラム28によって区画される第1コントローラ室1
4と第2コントローラ室15と、三方弁36を真空弁2
の弁閉位置に位置決めするスプリング38と、真空ポー
ト39と、三方弁36の作動により大気圧ポート24に
連通して該大気圧ポート24から導入される大気圧を真
空弁2の上部バネ室2Aに負荷して真空弁2を弁閉さ
せ、かつ真空ポート39に連通して真空弁2より下流側
の負圧部の負圧を真空弁2の上部バネ室2Aに負荷して
真空弁2を弁開させる大気圧・真空圧供給ポート33と
を備えている。そして、三方向切替機構部Bを真空弁2
の頂部、つまり、真空弁2の上部バネ室2Aの上端部に
固定し、制御圧切換機構部Aを真空弁2から離れた位置
に設置して、三方向切替機構部Bと制御圧切換機構部A
を分離してある。
面に基づいて説明する。図1は真空弁の弁閉状態を示す
構成図、図2は図1に対応する要部の拡大構成図、図3
は真空弁の弁開状態を示す構成図、図4は図3に対応す
る要部の拡大構成図である。なお、前記図5および図6
の従来例と同一もしくは相当部分には同一符号を付して
詳しい説明は省略する。図1ないし図4において、制御
圧切替機構部Aは、真空弁2上流側の汚水マス1と圧力
的に連通し、かつ汚水マス1内の所定の圧力に応答して
制御弁20を開閉させる圧力スイッチ18を備えてお
り、三方向切替機構部Bは、三方弁36を取付けたダイ
アフラム28によって区画される第1コントローラ室1
4と第2コントローラ室15と、三方弁36を真空弁2
の弁閉位置に位置決めするスプリング38と、真空ポー
ト39と、三方弁36の作動により大気圧ポート24に
連通して該大気圧ポート24から導入される大気圧を真
空弁2の上部バネ室2Aに負荷して真空弁2を弁閉さ
せ、かつ真空ポート39に連通して真空弁2より下流側
の負圧部の負圧を真空弁2の上部バネ室2Aに負荷して
真空弁2を弁開させる大気圧・真空圧供給ポート33と
を備えている。そして、三方向切替機構部Bを真空弁2
の頂部、つまり、真空弁2の上部バネ室2Aの上端部に
固定し、制御圧切換機構部Aを真空弁2から離れた位置
に設置して、三方向切替機構部Bと制御圧切換機構部A
を分離してある。
【0021】制御圧切換機構部Aは防水制御箱50に収
納されており、制御弁20は電磁弁もしくは電動弁など
の電気式作動弁によって構成されているとともに、真空
弁2より下流側の負圧部と第1コントローラ室14とを
連通させる負圧通路51に介設されている。具体的に
は、負圧通路51の一端側が真空ライン40に合流し、
他端側が第1コントローラ室14に設けた真空ポート5
2に接続されている。また、制御弁20を手動操作によ
って開閉させる手動スイッチ53が設けられている。な
お、61はバッテリーで制御弁20の動作用電源として
働く。
納されており、制御弁20は電磁弁もしくは電動弁など
の電気式作動弁によって構成されているとともに、真空
弁2より下流側の負圧部と第1コントローラ室14とを
連通させる負圧通路51に介設されている。具体的に
は、負圧通路51の一端側が真空ライン40に合流し、
他端側が第1コントローラ室14に設けた真空ポート5
2に接続されている。また、制御弁20を手動操作によ
って開閉させる手動スイッチ53が設けられている。な
お、61はバッテリーで制御弁20の動作用電源として
働く。
【0022】三方向切替機構部Bの大気圧ポート24
は、ニードル弁54を介設した大気圧通路55を介して
第1コントローラ室14に連通し、大気圧通路56を介
して第2コントローラ室16に連通している。また、真
空ポート39は、真空通路57を介して室58に連通し
ている。この室58は第2コントローラ室16の下側に
隣接して設けられているとともに、真空弁2の上部バネ
室2Aに開放した大気圧・真空圧供給ポート33に連通
している。そして、室58の内部に三方弁36のバルブ
ヘッド36Bが上下方向の進退移動可能に臨んでいる。
さらに、真空通路57には、第1コントローラ室14に
連通する分岐通路57Aが設けられ、この分岐通路57
Aには手動プッシュボタン59の押圧によって弁開する
弁60が介設されている。
は、ニードル弁54を介設した大気圧通路55を介して
第1コントローラ室14に連通し、大気圧通路56を介
して第2コントローラ室16に連通している。また、真
空ポート39は、真空通路57を介して室58に連通し
ている。この室58は第2コントローラ室16の下側に
隣接して設けられているとともに、真空弁2の上部バネ
室2Aに開放した大気圧・真空圧供給ポート33に連通
している。そして、室58の内部に三方弁36のバルブ
ヘッド36Bが上下方向の進退移動可能に臨んでいる。
さらに、真空通路57には、第1コントローラ室14に
連通する分岐通路57Aが設けられ、この分岐通路57
Aには手動プッシュボタン59の押圧によって弁開する
弁60が介設されている。
【0023】このような構成であれば、図1において、
汚水マス4内の水位が上限HWLまで上昇した場合の水
位検知管8内の高い圧力は、ダイアフラム4およびセン
サチューブ17Aを介して図2の制御圧切換機構部Aに
おける圧力スイッチ18に導かれ、圧力スイッチ18を
ONさせる。これにより制御弁20が弁開し、第1コン
トローラ室14内の空気を排出し始める。第1コントロ
ーラ室14には、大気圧通路55を介して大気が導入さ
れているものの、大気圧通路55にニードル弁54が介
設されているので、ニードル弁54の開度を調整するこ
とで、第1コントローラ室14の負圧化を確保すること
ができる。
汚水マス4内の水位が上限HWLまで上昇した場合の水
位検知管8内の高い圧力は、ダイアフラム4およびセン
サチューブ17Aを介して図2の制御圧切換機構部Aに
おける圧力スイッチ18に導かれ、圧力スイッチ18を
ONさせる。これにより制御弁20が弁開し、第1コン
トローラ室14内の空気を排出し始める。第1コントロ
ーラ室14には、大気圧通路55を介して大気が導入さ
れているものの、大気圧通路55にニードル弁54が介
設されているので、ニードル弁54の開度を調整するこ
とで、第1コントローラ室14の負圧化を確保すること
ができる。
【0024】第1コントローラ室14が負圧化されるこ
とで、第1コントローラ室14と第2コントローラ室1
5に差圧が生じ、この差圧によつてダイアフラム28お
よび三方弁36はスプリング38の付勢に抗して上昇
し、図3および図4に示すように、バルブヘッド36B
が弁シート35を開放し、弁シート24Aを閉じる。こ
れにより、真空弁2下流側の真空圧は、真空ライン4
0、真空ポート39、室58、大気圧・真空圧供給ポー
ト33の経路で真空弁2の上部バネ室2Aに負荷され、
真空弁2を弁開させる。その結果、汚水マス1内の汚水
は、吸込管3→開弁している真空弁2下部の汚水流通室
2C→流出管5の経路で下水収集場7側に吸引排出され
る。
とで、第1コントローラ室14と第2コントローラ室1
5に差圧が生じ、この差圧によつてダイアフラム28お
よび三方弁36はスプリング38の付勢に抗して上昇
し、図3および図4に示すように、バルブヘッド36B
が弁シート35を開放し、弁シート24Aを閉じる。こ
れにより、真空弁2下流側の真空圧は、真空ライン4
0、真空ポート39、室58、大気圧・真空圧供給ポー
ト33の経路で真空弁2の上部バネ室2Aに負荷され、
真空弁2を弁開させる。その結果、汚水マス1内の汚水
は、吸込管3→開弁している真空弁2下部の汚水流通室
2C→流出管5の経路で下水収集場7側に吸引排出され
る。
【0025】図3において、汚水マス1内の水位が下限
LWLまで低下した場合の水位検知管8内の圧力降下
は、ダイアフラム4およびセンサチューブ17Aを介し
て図4の制御圧切換機構部Aにおける圧力スイッチ18
に導かれ、圧力スイッチ18をOFFさせる。これによ
り制御弁20が弁閉し、第1コントローラ室14内の圧
力が高くなり、第1コントローラ室14と第2コントロ
ーラ室15の圧力が平衡する。したがって、ダイアフラ
ム28および三方弁36はスプリング38の付勢により
下降し、図1に示すように、バルブヘッド36Bが弁シ
ート35を閉じ、弁シート24Aを開放する。その結
果、大気圧は、大気圧通路56、第2コントローラ室1
5、室58、大気圧・真空圧供給ポート33の経路で真
空弁2の上部バネ室2Aに負荷され、真空弁2を弁閉さ
せる。
LWLまで低下した場合の水位検知管8内の圧力降下
は、ダイアフラム4およびセンサチューブ17Aを介し
て図4の制御圧切換機構部Aにおける圧力スイッチ18
に導かれ、圧力スイッチ18をOFFさせる。これによ
り制御弁20が弁閉し、第1コントローラ室14内の圧
力が高くなり、第1コントローラ室14と第2コントロ
ーラ室15の圧力が平衡する。したがって、ダイアフラ
ム28および三方弁36はスプリング38の付勢により
下降し、図1に示すように、バルブヘッド36Bが弁シ
ート35を閉じ、弁シート24Aを開放する。その結
果、大気圧は、大気圧通路56、第2コントローラ室1
5、室58、大気圧・真空圧供給ポート33の経路で真
空弁2の上部バネ室2Aに負荷され、真空弁2を弁閉さ
せる。
【0026】このように、本発明は、制御圧切替機構部
Aと三方向切替機構部Bが分離して設置され、三方向切
替機構部Bの圧力変化が制御圧切替機構部Aに影響しな
いように構成されているいので、ダブルサイクリング現
象と称される誤動作を生じることはない。また、オリフ
ィス22の使用を省略できるので、従来の真空弁の制御
装置9のように、真空弁2の弁閉を大幅に遅らせる誤動
作は発生しない。このため、真空ポンプによってなる吸
引手段6に不必要な負荷(空運転)がかかることはな
い。
Aと三方向切替機構部Bが分離して設置され、三方向切
替機構部Bの圧力変化が制御圧切替機構部Aに影響しな
いように構成されているいので、ダブルサイクリング現
象と称される誤動作を生じることはない。また、オリフ
ィス22の使用を省略できるので、従来の真空弁の制御
装置9のように、真空弁2の弁閉を大幅に遅らせる誤動
作は発生しない。このため、真空ポンプによってなる吸
引手段6に不必要な負荷(空運転)がかかることはな
い。
【0027】また、電磁弁もしくは電動弁などの電気式
作動弁によって構成されている制御弁20は、手動スイ
ッチ53により開閉操作できるので、汚水マス1内の圧
力に関係なくメンテナンス等に際して手動スイッチ53
を押圧することにより、制御弁20を弁開させて真空弁
2を弁開させたり、あるいは制御弁20を弁閉させて真
空弁2を弁閉させることができる。
作動弁によって構成されている制御弁20は、手動スイ
ッチ53により開閉操作できるので、汚水マス1内の圧
力に関係なくメンテナンス等に際して手動スイッチ53
を押圧することにより、制御弁20を弁開させて真空弁
2を弁開させたり、あるいは制御弁20を弁閉させて真
空弁2を弁閉させることができる。
【0028】さらに、図1および図2に示す真空弁2の
弁閉状態において、手動プッシュボタン59を押圧し
て、弁60を開き、分岐通路57Aを介して第1コント
ローラ室14を負圧化することで、真空弁2を図3およ
び図4に示すように弁開させることもできる。しかも、
負圧通路51に介設される制御弁20として小型のもを
使用できるので、バッテリー61の消費電力を小さく抑
えて、バッテリー61の延命を図ることができる。
弁閉状態において、手動プッシュボタン59を押圧し
て、弁60を開き、分岐通路57Aを介して第1コント
ローラ室14を負圧化することで、真空弁2を図3およ
び図4に示すように弁開させることもできる。しかも、
負圧通路51に介設される制御弁20として小型のもを
使用できるので、バッテリー61の消費電力を小さく抑
えて、バッテリー61の延命を図ることができる。
【0029】
【発明の効果】以上説明したように、請求項1記載の発
明は、制御圧切替機構部と三方向切替機構部が分離して
設置され、三方向切替機構部の圧力変化が制御圧切替機
構部に影響しないように構成されているいので、ダブル
サイクリング現象と称される誤動作を生じることはな
い。また、オリフィスの使用を省略できるので、従来の
真空弁の制御装置のように、真空弁の弁閉を大幅に遅ら
せる誤動作は発生しない。このため、真空ポンプによっ
てなる吸引手段に不必要な負荷(空運転)がかかること
はない。また、請求項2記載の発明は、電磁弁もしくは
電動弁などの電気式作動弁によって構成されている制御
弁は、汚水マス内の圧力に関係なく手動スイッチにより
開閉操作できるので、メンテナンス等に際して手動スイ
ッチを押圧することにより、制御弁を弁開させて真空弁
を弁開させたり、あるいは制御弁を弁閉させて真空弁を
弁閉させることができる。
明は、制御圧切替機構部と三方向切替機構部が分離して
設置され、三方向切替機構部の圧力変化が制御圧切替機
構部に影響しないように構成されているいので、ダブル
サイクリング現象と称される誤動作を生じることはな
い。また、オリフィスの使用を省略できるので、従来の
真空弁の制御装置のように、真空弁の弁閉を大幅に遅ら
せる誤動作は発生しない。このため、真空ポンプによっ
てなる吸引手段に不必要な負荷(空運転)がかかること
はない。また、請求項2記載の発明は、電磁弁もしくは
電動弁などの電気式作動弁によって構成されている制御
弁は、汚水マス内の圧力に関係なく手動スイッチにより
開閉操作できるので、メンテナンス等に際して手動スイ
ッチを押圧することにより、制御弁を弁開させて真空弁
を弁開させたり、あるいは制御弁を弁閉させて真空弁を
弁閉させることができる。
【図1】請求項1記載の発明の一実施の形態における真
空弁の弁閉状態を示す構成図である。
空弁の弁閉状態を示す構成図である。
【図2】図1に対応する要部の拡大構成図である。
【図3】請求項1記載の発明の一実施の形態における真
空弁の弁開状態を示す構成図である。
空弁の弁開状態を示す構成図である。
【図4】図3に対応する要部の拡大構成図である。
【図5】従来例の真空弁の弁閉状態を示す構成図であ
る。
る。
【図6】従来例の真空弁の弁開状態を示す構成図であ
る。
る。
1 汚水マス 2 真空弁 2A 真空弁の上部バネ室(真空弁の作動室) 5 流出管 8 水位検知管 9 真空弁の制御装置 14 第1コントローラ室 15 第1コントローラ室 18 圧力スイッチ(圧力センサ) 20 制御弁(圧力センサバルブ) 24 大気圧ポート 28 ダイアフラム 33 大気圧・真空圧共用ポート 36 三方弁 38 スプリング(付勢手段) 39 真空ポート 51 負圧通路 A 制御圧切換機構部 B 三方向切替機構部
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (56)参考文献 特開 平7−26619(JP,A) 特開 平7−293735(JP,A) 特開 平7−310361(JP,A) 特開 平7−317943(JP,A) 特開 平9−25661(JP,A) 特公 平6−37787(JP,B2) (58)調査した分野(Int.Cl.7,DB名) F16K 31/12 F16K 51/02 E03F 5/22
Claims (2)
- 【請求項1】 真空弁上流側の汚水マス内の水位と対応
して内圧が変化する水位検知管と圧力的に連通し、かつ
該水位検知管内の所定の圧力に応答して制御弁を開閉さ
せる圧力センサを備えた制御圧切替機構部と、真空弁の
弁開位置と弁閉位置とを切替える三方弁と、この三方弁
を取付けたダイアフラムによって区画されるとともに、
大気圧ポートを介して大気と圧力的に連通する第1コン
トローラ室および第2コントローラ室と、三方弁を真空
弁の弁閉位置に位置決めする付勢手段と、真空弁を介装
した流出管における真空弁より下流側の負圧部に連通す
る真空ポートと、三方弁の作動により大気圧ポートに連
通して該大気圧ポートから導入される大気圧を真空弁の
作動室に負荷して真空弁を弁閉させ、かつ真空ポートに
連通して前記負圧部の負圧を真空弁の作動室に負荷して
真空弁を弁開させる大気圧・真空圧供給ポートとを備え
た三方向切替機構部とを具備する真空弁の制御装置にお
いて、前記三方向切替機構部を真空弁に固定し、前記制
御圧切換機構部を真空弁以外の位置に設置して、三方向
切替機構部と制御圧切換機構部を分離させるとともに、
前記制御弁を前記負圧部と第1コントローラ室とを連通
させる負圧通路に介設して、該制御弁の弁開時に負圧部
の負圧を第1コントローラ室に負荷して前記付勢手段の
付勢に抗して三方弁を真空弁の弁開位置に位置決めする
ように構成したことを特徴とする真空弁の制御装置。 - 【請求項2】 前記制御弁が電気式作動弁によって構成
されているとともに、この制御弁を開閉させる手動スイ
ッチが設けられていることを特徴とする請求項1記載の
真空弁の制御装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP00822796A JP3286806B2 (ja) | 1996-01-22 | 1996-01-22 | 真空弁の制御装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP00822796A JP3286806B2 (ja) | 1996-01-22 | 1996-01-22 | 真空弁の制御装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH09196230A JPH09196230A (ja) | 1997-07-29 |
JP3286806B2 true JP3286806B2 (ja) | 2002-05-27 |
Family
ID=11687286
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP00822796A Expired - Fee Related JP3286806B2 (ja) | 1996-01-22 | 1996-01-22 | 真空弁の制御装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP3286806B2 (ja) |
-
1996
- 1996-01-22 JP JP00822796A patent/JP3286806B2/ja not_active Expired - Fee Related
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPH09196230A (ja) | 1997-07-29 |
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