JP3277876B2 - 光送受信モジュ−ル - Google Patents

光送受信モジュ−ル

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  • Optical Couplings Of Light Guides (AREA)
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Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】この発明は光ファイバに2つ
以上の異なる波長の光信号を一方向或いは双方向に通
し、基地局と加入者との間で情報を伝送する光双方向通
信において、受光素子と発光素子を一体化した光送受信
モジュールに関する。
【0002】[光双方向通信の説明] 近年、光ファイ
バの伝送損失が低下し、半導体レ−ザ(以下LDと略
す)や半導体受光素子(以下PDと略す)の特性が向上
してきた。このため光を用いたさまざまな情報の伝送が
可能になってきた。光を用いる通信であるので、これら
技術を光通信と呼ぶ。伝送されるべき情報の形態として
は、電話、ファクシミリ、テレビ画像信号などがある。
特に、波長が1.3μm帯の光や、1.55μm帯の光
などの長波長の光を用いた通信の試みが盛んに行われて
いる。
【0003】最近は、1本の光ファイバを用いて信号を
双方向に送り、同時に信号を送受信できるシステムが検
討されている。信号を双方向に送るので双方向通信と呼
ぶ。この方式の利点は、ファイバが1本で済むというこ
とである。図1はこのような双方向通信の内、異なる波
長の光を用いる波長多重双方向通信の原理図である。一
つの局と、複数の加入者が光ファイバによって結合され
ている。ここでは加入者は一つだけ図示している。実際
には数多くの分岐点があり、局からの光ファイバは、途
中で多数の光ファイバに分岐して加入者の装置に至って
いる。
【0004】局側は、電話やTVの信号をデジタル或い
はアナログ信号として増幅し、この信号によって半導体
レ−ザLD1を駆動する。この信号は波長λ1 の信号と
なって、光ファイバ1に入る。これが分波器2によって
中間の光ファイバ3に導かれる。さらに加入者側の分波
器4によって光ファイバ5に入り、受光素子PD2によ
って受信される。受光素子によって光電変換され、電気
信号P3となる。電気信号P3は加入者側の装置によっ
て増幅され信号処理されて、電話の音声或いはテレビ画
像として再生される。このように基地局から加入者側に
向かう信号を下り信号といい、この方向の情報の流れを
下り系という。
【0005】一方加入者側は、電話やファクシミリの信
号を半導体レ−ザLD2によって波長λ2 の光信号に変
換する。λ2 の光は、光ファイバ6に入射し、分波器4
によって中間の光ファイバ3に導かれ、局側の分波器2
を通って、受光素子PD1にはいる。局側の装置は、λ
2 の光信号をPD1によって光電変換し、電気信号とす
る。この電気信号は、交換機や信号処理回路に送り込ま
れて適当な処理を受ける。このように局側へ信号を送る
方向を上り系という。その信号を上り信号という。
【0006】以上の説明では、λ1 は下り系、λ2 は上
り系のみに使われている。しかし実際には、同じ波長の
光を下りと上りに使う事がある。時には、2種類の波長
の光の何れをも上りと下りの両方に伝搬させる事もあ
る。このような場合、波長の違う二つの光の分離が極め
て重要な問題になってくる。
【0007】[光の分波器の説明]このように、2つの
波長の光を用い、1本の光ファイバによって、双方向通
信を行うためには、局側、加入者側のどちらもに光の波
長を識別し光路を分離する機能が必要になる。図1に於
ける分波器2、4がその機能を果たす。分波器は、波長
λ1 、λ2 の光を、結合して1本の光ファイバに導入し
たり、二つの波長の光から、一方の光のみを選んで一本
の光ファイバに取り出したりする作用がある。波長多重
双方向通信を行うには分波器が極めて重要な役割を果た
す。
【0008】現在提案されている分波器にはいくつかの
種類がある。図2〜図3によって説明する。図2の例で
は、分波器は光ファイバまたは光導波路によって作られ
る。二つの光路8、9が一部分10で近接しており、こ
こで光エネルギーの交換がなされる。近接部10の間隔
Dや距離Lによって、様々の態様の結合を実現できる。
ここでは光路8にλ1 に光を入射すると、光路11にλ
1 の光が出てくるようになっている。光路12にλ2
光を入れると光路9にλ2 の光が出てくる。これが導波
路型の分波器である。
【0009】図3に示すのは多層膜ミラーを使うもので
ある。二等辺三角形柱状のガラスブロック13、14の
斜辺面に誘電体多層膜を形成している。誘電体の屈折率
と厚みを適当に組み合わせて、λ1 の光は全て透過し、
λ2 の光は全て反射するようにしている。これは45゜
の角度で入射した光を反射させ或いは透過させる機能を
有する。この分波器も図1の分波器2、4として利用で
きる。このような分波器は、分波・合波器とも呼ばれ
る。WDMということもある。光ファイバやガラスブロ
ックによるものは既に市販されている。
【0010】
【従来の技術】加入者側の光送受信モジュールについて
図16によって説明する。図16において、局から加入
者に向けて敷設された光ファイバ16の終端が光コネク
タ17によって、屋内の光ファイバ18に接続される。
加入者の屋内にあるONUモジュールには、光ファイバ
WDM21(分波器)が設けられる。光ファイバ18と
光ファイバ19がWDM21の内部で波長選択的に結合
されている。光ファイバ18には光コネクタ22によっ
てLDモジュール25を繋ぐ。光ファイバ19には光コ
ネクタ23を介してPDモジュール27を接続する。
【0011】LD25、光ファイバ24は上り系をな
す。1.3μm帯光が加入者側の信号を局へと伝送す
る。光ファイバ26、PDモジュール27は下り系であ
る。局からの1.5μm帯信号を受けて、PDモジュー
ルによって光電変換する。送信装置であるLD25は電
話やファクシミリの信号を増幅し、変調する回路や、電
気信号を光信号に変換する半導体レ−ザなどを含む。受
信装置であるPDモジュール27は、局から送られたT
V信号、電話などの光信号を光電変換するフォトダイオ
ードと増幅回路、復調回路などを含む。
【0012】波長分波器(WDMモジュール)21は、
1.5μm帯光と、1.3μm帯光を分離する作用があ
る。この例では、1.3μm帯光を上り系の信号とし、
1.5μm帯光を下り系の信号として使っている。本発
明は、二つの異なる波長の光信号を用いて双方向通信を
する場合における光送受信モジュールの改良に関する。
光送受信モジュールというのは発光素子、受光素子、こ
れらの周辺電気回路などを含めたものである。これらの
要素についての従来技術を説明する。
【0013】[従来例に係る半導体発光素子(LDモジ
ュール)の説明]図4によって従来例に係る半導体発光
素子(LDモジュール)28を説明する。半導体レ−ザ
チップ(LD)29と、モニタ用のフォトダイオードチ
ップ30を含むモジュールである。LDチップ29はヘ
ッダ32の隆起部(ポール)31の前側面に固定され
る。LDチップの表面に平行の光を発生するからであ
る。ヘッダ32の底面にはLDの背面発光が入射する位
置に、PDチップ30が固定される。ヘッダ32の下面
には適数のリードピン33がある。ヘッダ32の素子取
り付け面は、キャップ34によって覆われる。
【0014】キャップ34の中央部には窓35が開口し
ている半導体レ−ザ(LD)の光はチップから上下方向
に出る。窓35の直上にはレンズ37がある。これはレ
ンズホルダ−36によって支持される。レンズホルダ−
36のさらに上には、ハウジング38があって、これの
上頂部にはフェルール39が固定される。フェルール3
9は光ファイバ40の先端を保持する。フェルールと光
ファイバの端部は斜めに研磨されている。反射戻り光が
LD29に入るのを防ぐためである。
【0015】半導体レ−ザ(LD)29の光を、光ファ
イバ40の他端において監視しながら、ホルダ−36を
ヘッダ32に対して位置決めし、さらにハウジング38
をレンズホルダ−36に対して位置決めする。半導体レ
−ザ29、フォトダイオード30の各電極はワイヤによ
ってリードピン33のいずれかに接続される。
【0016】半導体レ−ザから出た光はレンズによって
絞られ、光ファイバの端部に入射する。半導体レ−ザは
信号によって変調されているから、この光は信号を伝送
する事になる。半導体レ−ザの出力は反対側にあるモニ
タ用フォトダイオード30によってモニタされる。1.
3μm〜1.5μm帯の発振波長は半導体層の材料によ
って決まる。
【0017】[従来例にかかる半導体受光素子モジュー
ルの説明]図5によっって従来例にかかるPDモジュー
ルを説明する。受光素子チップ41がヘッダ42の上面
にダイボンドされる。ヘッダ42の下面にはリードピン
43が設けられる。ヘッダ42の上面はキャップ44に
よって覆われる。キャップ44の中央には光を通すため
の開口部45がある。キャップの外側にはさらに円筒形
のホルダ−46が固定される。これはレンズ47を保持
するためのものである。
【0018】レンズホルダ−46のさらに上には、円錐
形のハウジング48が固定される。光ファイバ50の先
端をフェルール49によって固定する。フェルール49
はハウジングによって保持される。フェルール、光ファ
イバの先端は斜め研磨してある。
【0019】受光素子の場合も、光ファイバに光を通
し、PDチップ41の出力を監視しながら、ホルダ−4
6の位置と、ハウジング48の位置、フェルールの位置
を決める。受光素子の半導体層によって、受光可能な波
長範囲が決まる。可視光の場合はSiのPDを用いる事
ができる。近赤外光を用いる送受信モジュールを対象に
する場合は、SiのPDは不適当である。近赤外光を感
受するためにInPを基板とする化合物半導体の受光素
子を用いる必要がある(受光層はInGaAsまたはI
nGaAsP)。
【0020】
【発明が解決しようとする課題】光双方向通信の加入者
の最も多くは一般の家庭である。だから今ある電話の数
だけは市場があるはずである。しかし普通のメタル線に
よる電話と同じくらいに安価にしないと一般家庭は購入
しにくい。モジュールを低価格にする必要がある。とこ
ろが図3の従来の個別のモジュール(LDモジュール、
PDモジュール、WDMモジュール)の組み合わせで
は、個別モジュール価格の合算価格に成り高価になって
しまう。このようなモジュールの高価であることが光加
入者系の進展を妨げている。一般消費者が購入しようと
する気になるような安価な機器を用意しなければならな
い。
【0021】そこで少しでも部品点数を減らす、よりコ
ンパクトにする、より低コストにするという試みが幾つ
か提案され公表されている。図6、図7、図8に新しく
提案されているモジュールの幾つかを示す。いずれも新
規な利点がある。が本発明者から見ればなお不十分であ
ってそれぞれに欠点がある。
【0022】[A.横反射WDM型(図6)]小楠正
大、富岡多寿子、大島茂、「レセプタクル形双方向波長
多重光モジュ−ル」,1996年電子情報通信学会エレ
トロニクスソサイエティ大会,C−208,p208
(1996)はミラ−形WDM素子を提案している。図
6にミラー型のWDMを使ったモジュールを示す。矩形
のハウジング80の中央に、WDMフィルタ81を対角
線方向に45度傾けてセットしている。ハウジング80
の2側面にLD83とPD85を設置している。WDM
81とLD83の間にはレンズ82を設置している。W
DM81とPD85の間にはレンズ84を設けている。
LD83とWDM81の中心を結ぶ直線上に光ファイバ
86、レンズ87を設けている。LDからの送信光λ1
はWDMを透過して光ファイバに入射する。光ファイバ
からの他者からの信号光λ2 はWDMで横方向に反射さ
れてPD85に入る。波長によって透過、反射の性能が
違うので2つの異なる波長が分離される。しかしこれは
図3のものと大差ない。LD、PDの形態、集光レンズ
などの配置、WDMを使う等、従来のものの延長上にあ
る。コスト低減も不十分である。大した改良ではない。
もっと部品点数を減少させる必要がある。
【0023】[B.Y分岐導波路型]N.Uchida, H.Yama
da, Y.Hibino, Y.Suzuki, T.Kurosaki, N.Ishihara, M.
Nakamura, T.Hashimoto, Y.Akahori, Y.Inoue, K.Moriw
aki, K.Kato,Y.Tohmori, M.Wada, and T.Sugie,"LOW-CO
ST AND HIGH-PERFORMANCE HYBRID WDM MODULE INTEGRAT
ED ON A PLC PLATFORM FOR FIBER-TO-THE-HOME", 22nd
European Conferenceon Optical Communication- ECOC'
96,OSLO, TuC.3.1, P2.107(1996) は分岐導波路型のW
DM素子を提案している。図7は、WDMを埋め込んだ
石英系の光導波路を利用した送受信モジュールである。
基板88の上に分岐する石英導波路89、90、91、
92、93を形成したものである。Y型分岐する導波路
90、91は統一された導波路89となり、さらもう一
方のY分岐導波路92、93につながっている。Y分岐
の分岐点にWDMフィルタ102が設置してある。Y分
岐89の先端の分岐導波路90の先にPD99を設け
る。分岐導波路91の先端にLD98を設ける。基板面
には電極パターン96、97が形成される。その上にP
D99、LD98を半田付けしている。LD98の端面
100から1.3μmが出て行き、WDMフィルタ10
2を透過して導波路93から自由空間光95として出射
される。基地局からの1.3μm信号は導波路93から
WDM102を通過して導波路90に行きPD99の端
面101に入る。これは端面入射型のPDである。WD
Mフィルタは1.55μmを反射し1.3μmを透過す
るものである。
【0024】これはレンズがなく構造が少し単純化され
る。信号光は行き帰りも1.3μmであって、WDMフ
ィルタが単に光(1.55μm)を外に戻すために使用
されている。従って今この発明で考えている用途(2波
長λ1 、λ2 利用)には使用できない。この方式は光導
波路面内で光の進行方向を変えるものである。当然分岐
による1/2の損失以外に導波路による損失がある。ま
た微細な光導波路を基板上に形成しなければならず製作
が極めて難しい。
【0025】[C.上方反射型(図8)]宇野智昭、西
川透、光田昌弘、東門元二、松井康「表面実装型のLD
/PD集積化モジュ−ル」1997年電子情報通信学会
エレクトロニクスソサエティ大会,C−3−89,p1
98(1997)、及び東門元二、宇野智昭、竹中直
樹、西川透、浅野弘明、松井康「ファイバ埋込光回路を
用いたPDモジュ−ルの受光特性」1997年電子情報
通信学会総合大会,C−3−59,p244は、上方に
光を反射するWDM素子を提案している。図8は受信光
を上方に反射するようにした光送受信モジュールであ
る。Si基板105の上に縦長のV溝108が穿たれこ
の上に光ファイバ104が固定される。基板105の終
端部に段差106があってLD107が固定される。L
D107の1.3μm光が光ファイバに入り送信され
る。基板105と光ファイバを共通に45度の角度で切
断した切り込み110がありここにWDMフィルタ11
1が挿入固定される。その斜め上部に受光面が下向きに
なるようにPD109が取り付けてある。
【0026】光ファイバ104を伝搬して来た1.55
μm光はWDMフィルタ111によって斜め上方に反射
される。これがPD109によって受光される。WDM
は図6や図7のものと同じように1.3μmを通し1.
55μmを反射するようになっている。斜め上のPDに
1.55μmを反射するためWDMは斜め上向きに傾い
て取り付けられている。レンズはなく光導波路もなく構
造は単純である。しかしこれはLDがファイバの後ろに
くっついたピッグテイルタイプとなる。結局図3のもの
と余り変わらない。
【0027】いずれにしても近年提案されている光送受
信モジュールは材料費、組立費などが嵩み、大型であっ
て構造がなお単純ではない。いずれも現状の技術の単な
る延長にすぎない。未だ欠陥多く実用に供するには至ら
ない。現状モジュールの単なる寄せ集め、単なる結合で
なく、より少ない部品点数で、より小型の光送受信モジ
ュールを提供することが本発明の第1の目的である。材
料費も組立費も安価にできる光送受信モジュールを提供
することが本発明の第2の目的である。より具体的に言
えば、図6のものよりもコンパクトで、図7のものより
も作り易く、図8よりも低価格で歩留りの良い光送受信
モジュールを提供するものである。
【0028】
【課題を解決するための手段】本発明の光送受信モジュ
ールは 中間部に設けられた光を導く光ガイドと光ガイ
ドの一部に穿たれた第1縦穴と一方の端部に設けられ光
ファイバ先端を固定するV溝と反対側の端部にLDを取
り付ける段部と底面にメタライズ層を有する第1基板
と、第1基板の光ガイド部の途中に傾斜して設けられ一
部の光を下方に反射し一部の光を反射するフィルタと、
光ガイドの端部に対向するよう第1基板の段部に設けら
れるLDと、上面にメタライズ層を有し第1縦穴に対応
する位置に設けた第2縦穴を有し前記第1基板の裏面の
メタライズ層に上面メタライズ層が接合された第2基板
と、第2基板の縦穴の直下において第2基板底面に取り
付けられるPDと、第2基板底面に固定されPDの光電
流を増幅する増幅器とよりなり、第1基板と第2基板の
境目のメタライズ層はグランド電位となり、第1基板の
前方のV溝に光ファイバの先端が固定され、光ファイバ
から出た光はその一部がフィルタによって下方に反射さ
れてPDに入射し、LDからの光は一部がフィルタを透
過して光ファイバに入るようにしている。
【0029】
【発明の実施の形態】従来例として紹介した物はいずれ
も光の一部を側方に曲げたり上方に曲げたりしている。
これら従来例に比較して本発明は全く発想を異にする。
光を側方や上方に反射するのでなくて、本発明は光を下
方へ反射する。これが一つの特徴である。本発明は、光
送受信モジュールを、送信部と受信部を上下に分離し、
別々のモジュールを作っておき検査して良品を選び結合
して送受信モジュールとする。別々に製作できるので歩
留まりが上昇する。上下に送信部と受信部を分離するの
で、光を下方に反射する必要がある。そのためにフィル
タを下向きに傾けて取り付けるのである。
【0030】フィルタと言っても2種類の場合がある。
ひとつは、単一の波長の光λ1 だけを用いる場合であ
る。その場合は送信光がλ1 、受信光がλ1 である。送
信のタイミングと受信のタイミングが異なるようにす
る。これはピンポン伝送と呼ばれる。この場合はフィル
タは、送信光、受信光ともに一部反射し、一部透過す
る。
【0031】もう一つのフィルタは、波長選択性のある
フィルタである。λ1 、λ2 の2種類の光を用い、λ1
とλ2 を、送信、受信に振り分けて利用する場合、これ
らを完全に分離する必要がある。そのためのフィルタは
WDMフィルタという。この発明では、受信光はWDM
フィルタで下方に反射され、送信光はWDMフィルタを
透過するようになっている。
【0032】さらに本発明のもう一つの特徴は、基板上
に光ガイドを設けその中間点にWDMフィルタを挿入し
た点にある。単純な直線状光ガイドである。またWDM
によって波長の異なる光を分離する。ある波長λ1 は直
進し、他の波長λ2 は下方に反射される。反射された下
方にPDを設けてこれを受信する。
【0033】本発明は、光ガイドを作るが、これは直線
状で製作容易である。光ガイドを作るが、図7のような
表面導波路(PLC)によるWDMカプラや、フィルタ
の形成を行わない。いわゆるPLCなるものは平面導波
路による光回路(Planar Lightwave
Circuit)を意味する。図7の導波路タイプの主
要部はこのPLCでできている。その製作の難しさは先
述の通りである。本発明は光導波路を使わない。本発明
は単純な直線の光ガイドを用いる。もちろんシングルモ
ードの光ガイドであるが直線であって曲線部や分岐はな
い。だから本発明のモジュールの光ガイドは高歩留まり
で安価に製作できる。
【0034】図10に本発明で用いる光ガイドの断面図
を示す。ガイドの延長方向をx軸に取るとこれはyz断
面図である。Si基板(Siベンチ)51の上にSiO
2 のバッファ層52がありその上にSiO2 層がある。
SiO2 層51の中央部にGe添加高屈折率SiO2
54がある。これを囲む部分のSiO2 は低屈折率のク
ラッド層53である。コアの部分54はGeのために僅
かに屈折率が高くて光を導く作用がある。この光ガイド
は直線であって曲がりや分岐は存在しない。
【0035】光ガイドの製作方法を説明する。Si基板
51(例えば15mm×20mm×1mm)の上に、低
屈折率のSiO2 バッファ層52を火炎堆積法或いはス
パッタリング法によって形成する。さらにその上に厚み
例えば50μmのGe含有の高屈折率のSiO2 層を全
面に形成する。ついでストライプパターンを持つマスク
を用いフォトリソグラフィによってGe含有SiO2
を、中央部を一部残して両側を除去する。これによって
高屈折率部54がバッファ層52の上に残る。これは断
面が例えば8μm×8μmである。ついで火炎堆積法あ
るいはスパッタリング法によって低屈折率のクラッド層
53を形成する。クラッド層によって高屈折率部54が
囲まれる。高屈折率部54はクラッド層53より屈折率
が約0.3%高い。これがコアにあたり光を導く光ガイ
ド54となる。以後この直線状の高屈折率部54を光ガ
イド54と呼ぶ。
【0036】本発明のモジュールは上部構造物と下部構
造物からなり両者を張り合わせたものである。図9に上
部構造物を、図11に下部構造物を示す。図10の光ガ
イドは上部構造物に設けられる。
【0037】図9によって上部構造物を説明する。図9
(a)は上部構造物の平面図、(b)は中央縦断面図で
ある。平坦なSiの第1基板51の表面上に長手方向
(x軸方向)に上述の直線状光ガイド54がGeをドー
プすることによって形成されている。x方向の一方の端
面には段55があり、この中央にV溝67がx方向に切
ってある。V溝の底辺は光ガイド54に合致するように
形成してある。シングルモードファイバ56の先をV溝
67に入れて位置決めする。その位置で光ファイバ端面
を段の端面に接着する。シングルモードファイバ56
は、中心のコア57とこれを包囲するクラッド58から
なる。コア径は10μm程度である。V溝67、段差5
5を適当な形状寸法にして光ガイド54とコア57がx
方向に合致するようにしてある。第1基板51の裏面全
体にはメタライズ面64が形成される。これは例えば金
層である。これはグランド面にもなる層である。
【0038】第1基板51の光ファイバが取り付けられ
ている側と反対側には段差59がある。段差59の上面
に電極パターン60、61が形成される。一方の電極パ
ターン60の上にLDチップ62がボンドされている。
電極パターンには例えばAuGeのような半田を使って
LDを取り付けることができる。LDチップ62の上面
の電極はワイヤ63によって他方の電極パターン61に
接続される。LDチップ62は例えばInGaAsP系
の1.3μm発光レ−ザとする。チップの寸法は例えば
300μm×300μm×100μmである。
【0039】光ガイド54の中間点には斜め下方向きの
斜め溝65が穿たれる。斜め溝65はyz面に対して−
x方向に45度傾斜した方向に穿たれている。斜め溝6
5にはWDMフィルタ66が斜めに挿入固定される。斜
め溝65とは別にその下方に第1縦穴68が穿たれる。
WDMは誘電体多層膜であって30μm程度の厚みをも
ち、1.3μmは通し、1.55μmは反射する。
【0040】後方のLD62から出た送信光S(例えば
1.3μm)は、光ガイド54の先端に入り、WDMフ
ィルタ66を通り、−x方向に光ガイド54を通り抜け
て光ファイバ56のコア57に入射する。光ファイバを
伝搬してきた受信光R(例えば1.55μm)は光ガイ
ド54に入り+x方向に進み、WDMフィルタ66によ
って反射されて縦穴68を通り下方へ進む。後に述べる
ように、ここには受光素子が設けられこれによって受光
される。つまり受信光はWDMによって側方でもなく上
方でもなく下方に曲げられる。
【0041】図11によって下部構造物を説明する。平
坦な矩形状絶縁体の第2基板70の上には一様にメタラ
イズ層71が形成される。これは接合面ともなりグラン
ド面ともなる。金などによるメタライズである。第2基
板70は例えばセラミックとする。中央部には先述の縦
穴68に対応する位置に第2縦穴72が穿たれている。
第2基板70の下面にはメタライズ電極パターン74、
79が形成される。電極パターン74は第2縦穴72の
周りにある。ここに裏面入射型のPD73が裏面を上に
して半田付けされる。このPD73は例えば550μm
角×100μm厚の寸法をもつ。裏面入射型PDという
のはn型基板側から光が入射しバッファ層を通りp領域
近くの受光層に至るようにした受光素子である。
【0042】受光素子は受光層と窓層の材料によって受
光波長範囲が決まる。例えば1.55μmや1.3μm
帯を受光するにはInGaAsを受光層とするPDを用
いる。1.3μmだけを受光するという場合はInGa
AsPを受光層とするPDを用いることができる。何れ
も基板はInP結晶である。図12によって裏面入射P
Dの一例を述べる。n−InP基板141の上に、n−
InPバッファ層142、n−InGaAs受光層14
3、n−InP窓層144をエピタキシャル成長させた
エピタキシャルウェファを用いる。これにマスクを用い
て上面にZnを拡散してp型領域145、146、14
7を作る。中央のp型領域145が受光部となる。側方
のp型領域146、147は、この部分に光が入って電
子正孔対ができても電極に流れ込まず光電流にならない
ようにして信号遅れをなくすためのものである。
【0043】Zn拡散のために、pn接合150、15
1、152が生ずる。中央のpn接合が検出に寄与す
る。端のpn接合151、152は前記の余分なキャリ
ヤの走行を防ぐものである。中央のp型領域145の上
には60μm直径のp電極149が形成される。表面か
ら入射しないのでp電極はリング状でない。開口がな
い。小さい(60μm)円状になっている。p型領域1
45自体も狭い。そのためpn接合の静電容量が小さく
なる。
【0044】n−InP基板141の裏面にリング状の
n電極153が形成される。これの面積は大きいが差し
支えない。中央の開口は200μmΦであるが、ここに
光が入る。開口部は反射防止膜154によって被覆され
る。
【0045】裏面入射型であるからn型基板側から入射
する。裏面のn電極がリング状である。リング状n電極
がパターン74に半田付けされる。一般に裏面入射型の
PDはp電極をリング状でなく小さい円板状にできる。
この実施例でも表面近くのp型領域75の上には円板状
(リング状でない)p電極76がある。ワイヤはこのp
電極にボンドできるのでp電極を小さくする事ができ
る。p電極が小さいのでpn接合も狭くし受光面積を狭
くできる。ためにpn接合の静電容量が小さくできる。
たとえば受光径を50μm〜100μm程度にすること
も可能である。その場合接合の静電容量は0.2pF〜
0.8pFである。静電容量が小さいのでこのPDは高
速応答することができる。本発明にとって裏面入射型P
Dの採用は必須である。これによって高速の光通信が可
能になる。
【0046】基板70の裏面の側方には増幅器(アン
プ)チップ77が固定される。PD73のp電極とアン
プ77の入力がワイヤ78によって接続される。PD7
3の光電流がすぐ近くのアンプ77によって増幅され
る。アンプ77の他の電極はメタライズパターン79に
接続される。PDの受信信号は非常に微弱でありノイズ
を受け易いのでノイズが入る前に増幅するように増幅器
77をすぐ近傍に設けている。増幅されると出力回路の
インピーダンスが低くなりノイズに強くなるからこれを
外部に取り出すようにする。この方式はPIN−AMP
と呼ばれる。AMP77としては、増幅回路としてのS
i−ICや、GaAs−ICを用いることができる。チ
ップサイズは例えば1mm角〜2mm角である。
【0047】第2基板70の第2縦穴72は、光ファイ
バの光がWDMによって反射される位置に穿孔してあ
る。縦穴72の周りの底面にはPDチップと同じ寸法の
メタライズ部分を設けておく。これはPDを取り付ける
ためであるがPD取り付けの位置合わせの目印にもな
る。PDチップの寸法は先述のように例えば550μm
角の大きさがあるが受光面積は50μm径〜100μm
径の小さなものである。だから第1縦穴68、第2縦穴
72は例えば200μm径程度にすることができる。受
光素子の受光径は50μm〜100μmとかなり広いの
で位置合わせは簡単である。
【0048】図9に示す上部構造物は送信部ということ
ができる。送信部のみを作製し検査して良品を選んでお
く。下部構造物は受信部である。受信部も独立に製作し
て検査し良品を選ぶ。独立に作製して良品を選ぶので初
めから合体したものを作る場合よりも留まりが高い。初
めから全体を作るとどの部品が悪くても全体が不合格に
なり全ての部品と作業が無駄になる。本発明は別個に作
ったものを結合するのでそのような無駄を避けることが
できる。
【0049】検査を合格した良品の送信部、受信部を図
13のように合体させる。そのため上部構造物(送信
部)のSiベンチ(第1基板)51と、下部構造物(受
信部)のセラミックベンチ(第2基板)70にマークを
付ける。たとえばそれぞれの基板の4隅にスルーホール
を穿孔しておきこれらをマークとすることができる。第
2基板70の上面のメタライズ層71に第1基板51の
下面のメタライズ層64を重ね、これらのマークが合致
するように基板51、70の相対位置を調整する。この
とき光ファイバに光を入射させPD73の出力を観察し
ながら高感度が得られる位置に決めると良い。最適位置
が決まるとその位置で基板51、70が合体される。
【0050】基板の張り合わせは熱圧着によって行うこ
とができる。熱圧着は素子(PD、LD、アンプ)をも
加熱してしまう。もっと低温で合体させたいという場合
は、熱圧着に加えて超音波を掛けるとよい。超音波によ
ってメタライズ面だけ局所加熱されるのでより低温で接
合できる。
【0051】張り合わされた状態を図14に示す。上部
構造物と下部構造物の間にあるメタライズ層64、71
が合体しこれがグランド面となる。比較的大きい電流が
流れるLD62はノイズの発生源となる可能性があり、
インピーダンスの高いPDやアンプはノイズの影響を受
け易いものである。しかしこの構造であると、LDと、
PD、AMPの間は広いグランド面があるのでノイズが
遮断される。グランド面によってLDと、PD+AMP
を電気的に離隔しているのである。グランド面64、7
1が送信側と受信側のクロストークを防いでいる。
【0052】このように張り合わされたモジュールをさ
らにケースに納める。図15はケースに実装した状態を
示す。ケースは金属、セラミックなどの容器である。そ
の場合は内部空間があるので不活性ガスを充填してハー
メチックシールする。図15はセラミックケースの場合
を示す。金属ケースの場合はリードピンの取りだし部分
を絶縁する必要がある。或いは低コスト化のために、樹
脂モールド、あるいはプラスチックパッケージなどを用
いることもできる。
【0053】図15において、ケース119は有底矩形
状の下ケース120と、天井板を有する矩形状の上ケー
ス121とよりなる。上ケース121の前面には横穴1
22が穿たれる。下ケース120は前面に第1段部12
3を、後面に第2段部124を有する。下ケース120
の第2段部124には縦穴127が複数個穿たれる。リ
ードピン128を通すための穴である。第2段部124
の上面には、図11(b)のパターン74、79に対応
するパターン(図示しない)が形成されている。
【0054】合体させた本発明のモジュールの第2基板
(セラミックベンチ)71を下ケース120の段部12
3、124に載せて固定する。PD73やAMP77は
下ケース120の内部空間に位置する。段部59の上に
はこの例ではLD62の他にモニタPD129も取り付
けられている。これはLD62の出力を検出し監視する
ためのものである。図13〜図14の例ではモニタPD
がないが、この例ではPD129を追加している。レ−
ザ出力をモニタするためにPDを余分に入れるのは良く
知られた事である。受信部の増幅器77やPD73の電
極は図11(b)に現れる底面の電極パターン74、7
9によって段部124上のパターン(図示しない)に接
続されさらにリードピン128に接続される。
【0055】光ファイバの先端を上ケース121の横穴
122に入れSiベンチ(第1基板)51の前方のV溝
に固定する。光ファイバとケースの結合は半田づけ、樹
脂接着などによる。光ファイバの表面の一部をメタライ
ズしておきケースの穴で半田付けする。あるいは透湿性
の低い樹脂で接着固定できる。
【0056】上ケース121の端面125、126を、
下ケース120の段部123、124の上に接合する。
密封されたケースには不活性ガスを封入してある。リー
ドピン128は受信部(PD73と増幅器77)と送信
部(LD62、PD129)に電源電圧を与えたり受信
信号を取り出したり、送信信号を与えたりするための端
子である。送信信号によってレ−ザ62が駆動されλ1
(例えば1.3μm)の送信光がでる。これが光ガイド
54に入る。WDM66を単に透過して光ガイド54か
ら光ファイバ56のコア57に入る。これが基地局へと
伝搬する。
【0057】局から送られてきたλ2 の受信光(例えば
1.55μm)は光ファイバコア57から光ガイド54
に入り、WDM66で反射される。これが縦穴68、7
2を通り裏面入射型PD73に入る。PD73は受信光
を光電流に変える。光電流はすぐに増幅器77によって
増幅される。これがリードピン128のどれかによって
外部に取り出される。この例ではリードピンをケース後
半部に一列に並べているが、そうでなくて、前半部と後
半部にリードピンを分離しても良い。このようなリード
ピン分布は、電気回路との組み合わせによって適宜決定
することができる。
【0058】
【実施例】以下のようなパラメータを持つ本発明の光送
受信モジュールを製作した。そしてその特性を評価し
た。 送信部の半導体レ−ザLDは、発光波長が1.3μm
のMQW−LD(量子井戸型レ−ザ)である。チップサ
イズは300μm(幅)×300μm(長さ)×100
μm(厚み)である。閾値電流Itは7mAである。ピ
ーク電流50mAで155Mbps信号で駆動し平均フ
ァイバ出力1mW(0dBm)を得た。モニタ用PDは
厚さ3μmのInGaAs受光層を有する導波路型のp
in−PDである。LDチップと同じサイズである(3
00μm×300μm×100μm)。
【0059】受信部は、1.55μm光の受信装置で
ある。WDMフィルタは45゜入射の光に対し、1.3
μmを透過させ、1.55μmを反射する。だから受信
部には1.55μmのみが到達する。受信部のPDはI
nGaAsの受光層を有する裏面入射型PDである。だ
から1.3μmも1.55μmも感受できるが1.55
μmしかここへ来ないので1.55μmを検出する。P
Dの寸法は550μm(幅)×550μm(長さ)×1
00μm(厚み)である。受光径は60μmである。静
電容量は2Vのバイアスに対して0.3pFであった。
極めて小さい静電容量である。
【0060】増幅器(AMP)はGaAs−ICであ
る。フィードバック抵抗が1kΩのトランスインピーダ
ンス回路を用いた。 以上の素子を用いて、受信感度を測定した。155M
bpsの信号速度で、誤り率を10-9以下として、受信
感度は−40dBmであった。極めて高感度である事が
分かる。
【0061】
【発明の効果】本発明は次のような優れた効果を奏する
事ができる。 送信部(LD)と受信部(PD)を全く別々に製作
し、それぞれ別個に検査、バーンインをすることができ
る。それぞれの品質確認が確実にできる。LD、PDを
一度に一体化する方式ではどの部品が悪くても全ての部
品と全ての作業が無駄になってしまう。 WDMフィルタを用いているのでコンパクトにな
る。WDMフィルタはガラス基板上に誘電体(光学的)
多層膜を積層したもの、あるいは高分子薄膜上に光学的
(誘電体)多層膜を積層したものなどを用いる事ができ
る。 光を下側に曲げ、ピンホールを通しているので、L
Dからの散乱光がPDに入りにくい。つまり受信光送信
光のクロストークが殆ど生じない。 送信側と、受信側との間に、広いグランド(アー
ス)が設けてあるので大電流(例えば50〜100m
A)を流す送信側と、1μA以下の微小電流をも扱うP
IN−AMP側が電気的にアイソレーションされる。電
気的なクロストークも殆ど生じない。 PDは裏面入射型になるので静電容量を下げる事が
できる。
【図面の簡単な説明】
【図1】波長多重双方向光通信の概略構成図。
【図2】Y分岐を有する光導波路を利用したWDMの概
略構成図。
【図3】誘電体多層膜を利用したWDMの概略構成図。
【図4】従来例にかかるLDモジュールの断面図。
【図5】従来例にかかるPDモジュールの断面図。
【図6】ミラー型WDMフィルタによって送信光と受信
光を分離する従来例にかかる光送受信モジュールの断面
図。
【図7】二つのY分岐を有する光導波路とWDMフィル
タによって不要な光を反射する従来例にかかる光送受信
モジュールの斜視図。
【図8】固定された光ファイバの途中に斜め向きにWD
Mフィルタを設け1.55μmを反射してPDに導くよ
うにした従来例に係る光送受信モジュールの断面図。
【図9】上部構造物と下部構造物よりなる本発明の光送
受信モジュールの上部構造物の図。(a)は平面図、
(b)は中央断面図である
【図10】本発明の上部構造物の一部をなす光ガイドの
縦断面図。
【図11】上部構造物と下部構造物よりなる本発明の光
送受信モジュールの下部構造物の図。(a)は中央縦断
面図、(b)は底面図である。
【図12】裏面入射型PDの一例を示す断面図。
【図13】本発明の上部構造物と下部構造物を張り合わ
せて一体とする事を示すための両者の断面図。
【図14】上部構造物と下部構造物を張り合わせた状態
の光送受信モジュールの断面図。
【図15】上部構造物と下部構造物を張り合わせたもの
をケースに収容した状態を示す本発明の光送受信モジュ
ールの完成品の断面図。
【図16】従来例にかかる双方向光通信システムの加入
者側の光送受信モジュールの概略構成図。
【符号の説明】
1 光ファイバ 2 分波器 3 光ファイバ 4 分波器 5 光ファイバ 6 光ファイバ 7 光ファイバ 8 光ファイバ 9 光ファイバ 10 接近結合部 11 光ファイバ 12 光ファイバ 13 ガラスブロック 14 ガラスブロック 15 WDM誘電体ミラー 16 シングルモードファイバ 17 光コネクタ 18 光ファイバ 19 光ファイバ 20 接近結合部 21 WDMモジュール 22 光コネクタ 23 光コネクタ 24 光ファイバ 25 LDモジュール 26 光ファイバ 27 PDモジュール 28 発光素子モジュール 29 LDチップ 30 PDチップ 31 ポール 32 ヘッダ 33 ピン 34 キャップ 35 窓 36 レンズホルダ− 37 集光レンズ 38 ハウジング 39 フェルール 40 光ファイバ 41 PDチップ 42 ヘッダ 43 ピン 44 キャップ 45 窓 46 レンズホルダ− 47 集光レンズ 48 ハウジング 49 フェルール 50 光ファイバ 51 Siベンチ(Si基板) 52 SiO2 バッファ層 53 SiO2 クラッド層 54 光ガイド 55 段 56 シングルモードファイバ 57 コア 58 クラッド 59 段 60 電極パターン 61 電極パターン 62 LD63 ワイヤ 64 メタライズ層 65 斜穴 66 WDMフィルタ 67 V溝 68 第1縦穴 69 ファイバ端面 70 基板 71 メタライズ層 72 第2縦穴 73 PD 74 底面電極 75 p型領域 76 p電極 77 アンプ 78 ワイヤ 79 電極 80 ハウジング 81 WDMフィルタ 82 レンズ 83 LD 84 レンズ 85 PD 86 光ファイバ 87 レンズ 88 基板 89 光導波路 90 光導波路 91 光導波路 92 光導波路 93 光導波路 94 自由空間光 95 自由空間光 96 電極パターン 97 電極パターン 98 LD 99 PD 100 発光点 101 受光点 102 WDMフィルタ 104 光ファイバ 105 Si基板 106 段差 107 LDチップ 108 V溝 109 PD 110 斜め切り欠き 111 WDMフィルタ 112 送信光 113 受信光 114 反射光 119 ケース 120 下ケース 121 上ケース 122 横穴 123 前段部 124 後段部 125 端面 126 端面 127 縦穴 128 リードピン
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (56)参考文献 特開 昭63−271207(JP,A) 特開 昭62−186207(JP,A) 特開 平7−234345(JP,A) 特開 平4−204403(JP,A) 特開 昭63−223716(JP,A) 特開 平1−310302(JP,A) 特開 平9−251119(JP,A) 実開 昭64−22055(JP,U) (58)調査した分野(Int.Cl.7,DB名) G02B 6/42 G02B 6/12 H01L 31/0232

Claims (10)

    (57)【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 中間部に設けられた光を導く光ガイドと
    光ガイドの一部に穿たれた第1縦穴と一方の端部に設け
    られ光ファイバ先端を固定するV溝と反対側の端部にL
    Dを取り付ける段部と底面にメタライズ層を有する第1
    基板と、第1基板の光ガイド部の途中に傾斜して設けら
    れ一部の光を下方に反射し一部の光を反射するフィルタ
    と、光ガイドの端部に対向するよう第1基板の段部に設
    けられるLDと、上面にメタライズ層を有し第1縦穴に
    対応する位置に設けた第2縦穴を有し前記第1基板の裏
    面のメタライズ層に上面メタライズ層が接合された第2
    基板と、第2基板の縦穴の直下において第2基板底面に
    取り付けられるPDとよりなり、第1基板と第2基板の
    境目のメタライズ層はグランド電位となり、第1基板の
    前方のV溝に光ファイバの先端が固定され、光ファイバ
    から出た光はその一部がフィルタによって下方に反射さ
    れてPDに入射し、LDからの光は一部がフィルタを透
    過して光ファイバに入るようにしたことを特徴とする光
    送受信モジュール。
  2. 【請求項2】 光ガイドが直線状の光導波路であって、
    その中間位置に斜めに設けられるフィルタは、1波長の
    光を所定の比に反射、透過するフィルタであって、光フ
    ァイバからの光の一部がフィルタによって反射されてP
    Dに受光され、LDからの同一波長の光の一部がフィル
    タを透過して光ファイバに入るようにしたことを特徴と
    する請求項1に記載の光送受信モジュール。
  3. 【請求項3】 光ガイドが直線状の光導波路であって、
    その中間位置に斜めに設けられるフィルタは、ある波長
    λ1 をほぼ100%反射し、レ−ザから放射された別異
    の波長λ2 を略100%透過する波長選択性あるフィル
    タである事を特徴とする請求項1に記載の光送受信モジ
    ュール。
  4. 【請求項4】 光ガイドが石英系の光導波路によって形
    成されていることを特徴とする請求項1〜3のいずれか
    に記載の光送受信モジュール。
  5. 【請求項5】 フィルタが透光性の高分子薄膜上に光学
    的多層膜を形成してなることを特徴とする請求項1〜4
    のいずれかに記載の光送受信モジュール。
  6. 【請求項6】 フィルタが透光性のガラス基板上に光学
    的多層膜を形成してなることを特徴とする請求項1〜4
    のいずれかに記載の光送受信モジュール。
  7. 【請求項7】 フォトダイオードがSiよりなり、発光
    素子として半導体レ−ザがGaAlAs系よりなること
    を特徴とする請求項1〜6のいずれかに記載の光送受信
    モジュ−ル。
  8. 【請求項8】 フォトダイオードがInGaAs若し
    くはInGaAsPの受光層をもち、半導体レ−ザがI
    nGaAsP系よりなることを特徴とする請求項1〜6
    のいずれかに記載の光送受信モジュール。
  9. 【請求項9】 フォトダイオードが裏面入射型のフォト
    ダイオードである事を特徴とする請求項1〜8のいずれ
    かに記載の光送受信モジュール。
  10. 【請求項10】 フォトダイオードの近傍に増幅器を配
    置した事を特徴とする請求項1〜9のいずれかに記載の
    光送受信モジュール。
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