JP3275338B2 - １，１，１，４，４，４−ヘキサフルオロブタンの製造方法 - Google Patents
１，１，１，４，４，４−ヘキサフルオロブタンの製造方法Info
- Publication number
- JP3275338B2 JP3275338B2 JP00380892A JP380892A JP3275338B2 JP 3275338 B2 JP3275338 B2 JP 3275338B2 JP 00380892 A JP00380892 A JP 00380892A JP 380892 A JP380892 A JP 380892A JP 3275338 B2 JP3275338 B2 JP 3275338B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- hexafluorobutene
- reaction
- hexafluorobutane
- dichloro
- producing
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Fee Related
Links
Classifications
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y02—TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
- Y02P—CLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES IN THE PRODUCTION OR PROCESSING OF GOODS
- Y02P20/00—Technologies relating to chemical industry
- Y02P20/50—Improvements relating to the production of bulk chemicals
- Y02P20/52—Improvements relating to the production of bulk chemicals using catalysts, e.g. selective catalysts
Landscapes
- Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
- Low-Molecular Organic Synthesis Reactions Using Catalysts (AREA)
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、冷媒、発泡剤または溶
剤として有用な化合物である１,１,１,４,４,４−ヘキ
サフルオロブタンの製造方法に関する。
剤として有用な化合物である１,１,１,４,４,４−ヘキ
サフルオロブタンの製造方法に関する。
【０００２】
【従来の技術及び課題】１,１,１,４,４,４−ヘキサフ
ルオロブタンを製造する方法としては、２−クロロ−
１,１,１,４,４,４−ヘキサフルオロブテン−２あるい
は１,１,１,４,４,４−ヘキサフルオロブチン−２を原
料として液相中で各種貴金属触媒を用いて水素添加を行
う方法が知られているが、この方法は副生成物の生成が
多く収率が低いため、工業的には適していない。また、
１,１,１,４,４,４−ヘキサフルオロブチン−２を原料
として、パラジウム触媒を用いて水素添加を行う方法も
知られているが(Ｙouji Ｈuaxue,２、１２５、１９８
４年)、この方法では、原料の入手が困難であり、工業
的な製造方法とはいいがたい。
ルオロブタンを製造する方法としては、２−クロロ−
１,１,１,４,４,４−ヘキサフルオロブテン−２あるい
は１,１,１,４,４,４−ヘキサフルオロブチン−２を原
料として液相中で各種貴金属触媒を用いて水素添加を行
う方法が知られているが、この方法は副生成物の生成が
多く収率が低いため、工業的には適していない。また、
１,１,１,４,４,４−ヘキサフルオロブチン−２を原料
として、パラジウム触媒を用いて水素添加を行う方法も
知られているが(Ｙouji Ｈuaxue,２、１２５、１９８
４年)、この方法では、原料の入手が困難であり、工業
的な製造方法とはいいがたい。
【０００３】
【課題を解決するための手段】本発明者らは、上記問題
を解決すべく、１,１,１,４,４,４−ヘキサフルオロブ
タンの製造方法について鋭意検討した結果、２,３−ジ
クロロ−１,１,１,４,４,４−ヘキサフルオロブテン−
２を原料として、白金、パラジウム、ロジウム、ルテニ
ウムなどを含む貴金属触媒の存在下、気相中で、塩基の
不存在下に、還元および水素転化反応を行えば、高収率
にて、目的物が得られることを見いだし、本発明を完成
するに至った。
を解決すべく、１,１,１,４,４,４−ヘキサフルオロブ
タンの製造方法について鋭意検討した結果、２,３−ジ
クロロ−１,１,１,４,４,４−ヘキサフルオロブテン−
２を原料として、白金、パラジウム、ロジウム、ルテニ
ウムなどを含む貴金属触媒の存在下、気相中で、塩基の
不存在下に、還元および水素転化反応を行えば、高収率
にて、目的物が得られることを見いだし、本発明を完成
するに至った。
【０００４】すなわち、本発明の要旨は、２,３−ジク
ロロ−１,１,１,４,４,４−ヘキサフルオロブテン−２
を、白金、パラジウム、ロジウムまたはルテニウムを含
む貴金属触媒の存在下、塩基の不存在下に、気相中で水
素と反応させ、還元および水素転化を行うことを特徴と
する１,１,１,４,４,４−ヘキサフルオロブタンの製造
方法に存する。
ロロ−１,１,１,４,４,４−ヘキサフルオロブテン−２
を、白金、パラジウム、ロジウムまたはルテニウムを含
む貴金属触媒の存在下、塩基の不存在下に、気相中で水
素と反応させ、還元および水素転化を行うことを特徴と
する１,１,１,４,４,４−ヘキサフルオロブタンの製造
方法に存する。
【０００５】貴金属触媒に担持する貴金属は、白金、パ
ラジウム、ロジウム、ルテニウムなどが好ましいが、特
に、パラジウムが好ましい。
ラジウム、ロジウム、ルテニウムなどが好ましいが、特
に、パラジウムが好ましい。
【０００６】貴金属触媒は、通常活性炭、アルミナ、シ
リカゲル、酸化チタン、ジルコニアその他の担体に担持
されたものが好ましい。また担体の粒径はほとんど反応
に影響を及ぼさないが、０．１〜１００mmが好適であ
る。担持濃度としては０．０５〜１０％と幅広いものが
使用可能であるが、通常０．５〜５％担持品が推奨され
る。
リカゲル、酸化チタン、ジルコニアその他の担体に担持
されたものが好ましい。また担体の粒径はほとんど反応
に影響を及ぼさないが、０．１〜１００mmが好適であ
る。担持濃度としては０．０５〜１０％と幅広いものが
使用可能であるが、通常０．５〜５％担持品が推奨され
る。
【０００７】水素の使用量は、２,３−ジクロロ−１,
１,１,４,４,４−ヘキサフルオロブテン−２に対して１
〜５０モル等量の使用が好適である。反応温度は、通常
５０〜４００℃、好ましくは７０〜３００℃であるが、
特に２００℃以上で高収率が期待できる。
１,１,４,４,４−ヘキサフルオロブテン−２に対して１
〜５０モル等量の使用が好適である。反応温度は、通常
５０〜４００℃、好ましくは７０〜３００℃であるが、
特に２００℃以上で高収率が期待できる。
【０００８】反応方式は、反応管に充填された貴金属触
媒上を原料である２,３−ジクロロ−１,１,１,４,４,４
−ヘキサフルオロブテン−２をガス状にて水素とともに
流通させるといった気相反応に限定される。気相反応の
方式としては、固定床型気相反応、流動層型気相反応な
どの方式をとることができる。
媒上を原料である２,３−ジクロロ−１,１,１,４,４,４
−ヘキサフルオロブテン−２をガス状にて水素とともに
流通させるといった気相反応に限定される。気相反応の
方式としては、固定床型気相反応、流動層型気相反応な
どの方式をとることができる。
【０００９】反応の圧力は特に限定されず、加圧下、減
圧下または常圧下で可能であるが、減圧下では装置が複
雑になるため、加圧下、常圧下で反応を行う方が好まし
い。接触時間は、通常０．１〜３００秒、特には１〜３
０秒である。
圧下または常圧下で可能であるが、減圧下では装置が複
雑になるため、加圧下、常圧下で反応を行う方が好まし
い。接触時間は、通常０．１〜３００秒、特には１〜３
０秒である。
【００１０】
【実施例】以下、実施例により本発明をさらに具体的に
説明する。実施例１ 内径２cm、長さ４０cmのＳＵＳ３１６製反応管に活性炭
に０．５％濃度で担持させた白金触媒２５．５ccを充填
し、窒素ガスを流しながら、電気炉にて加熱し、２００
℃に達した後、２,３−ジクロロ−１,１,１,４,４,４−
ヘキサフルオロブテン−２を予め気化させガス状で１
５．５cc／分、水素を７７cc／分の割合で導入した。反
応温度は２００℃を保つように外部熱源の温度調節を行
った。生成ガスを水洗し、塩化カルシウムで乾燥後、ガ
スクロマトグラフィにより分析を行った。結果を表１に
示す。
説明する。実施例１ 内径２cm、長さ４０cmのＳＵＳ３１６製反応管に活性炭
に０．５％濃度で担持させた白金触媒２５．５ccを充填
し、窒素ガスを流しながら、電気炉にて加熱し、２００
℃に達した後、２,３−ジクロロ−１,１,１,４,４,４−
ヘキサフルオロブテン−２を予め気化させガス状で１
５．５cc／分、水素を７７cc／分の割合で導入した。反
応温度は２００℃を保つように外部熱源の温度調節を行
った。生成ガスを水洗し、塩化カルシウムで乾燥後、ガ
スクロマトグラフィにより分析を行った。結果を表１に
示す。
【００１１】実施例２ 実施例１と同じ反応装置に、活性炭に０．５％濃度で担
持させたパラジウム触媒２５．５ccを充填し、窒素ガス
を流しながら、電気炉にて２００℃に加熱した後、２,
３−ジクロロ−１,１,１,４,４,４−ヘキサフルオロブ
テン−２を予め気化させガス状で１５cc／分、水素を７
７cc／分の割合で導入した。反応温度は２００℃を保つ
ように外部熱源の温度調節を行った。生成ガスを、水洗
し、塩化カルシウムで乾燥後、ガスクロマトグラフィに
より分析を行った。結果を表１に示す。
持させたパラジウム触媒２５．５ccを充填し、窒素ガス
を流しながら、電気炉にて２００℃に加熱した後、２,
３−ジクロロ−１,１,１,４,４,４−ヘキサフルオロブ
テン−２を予め気化させガス状で１５cc／分、水素を７
７cc／分の割合で導入した。反応温度は２００℃を保つ
ように外部熱源の温度調節を行った。生成ガスを、水洗
し、塩化カルシウムで乾燥後、ガスクロマトグラフィに
より分析を行った。結果を表１に示す。
【００１２】実施例３ 実施例１と同じ反応装置に、活性炭に０．５％濃度で担
持されたパラジウム触媒２５．５ccを充填し、窒素ガス
を流しながら、電気炉にて２５０℃に加熱した後、２,
３−ジクロロ−１,１,１,４,４,４−ヘキサフルオロブ
テン−２を予め気化させガス状で８cc／分、水素を４５
cc／分の割合で導入した。反応温度は２５０℃を保つよ
うに外部熱源の温度調節を行った。生成ガスを、水洗
し、塩化カルシウムで乾燥後、ガスクロマトグラフィに
より分析を行った。結果を表１に示す。
持されたパラジウム触媒２５．５ccを充填し、窒素ガス
を流しながら、電気炉にて２５０℃に加熱した後、２,
３−ジクロロ−１,１,１,４,４,４−ヘキサフルオロブ
テン−２を予め気化させガス状で８cc／分、水素を４５
cc／分の割合で導入した。反応温度は２５０℃を保つよ
うに外部熱源の温度調節を行った。生成ガスを、水洗
し、塩化カルシウムで乾燥後、ガスクロマトグラフィに
より分析を行った。結果を表１に示す。
【００１３】実施例４ 実施例１と同じ反応装置に、活性炭に１％濃度で担持さ
れた白金触媒２０ccを充填し、窒素ガスを流しながら、
電気炉にて加熱し２００℃に達した後、２,３−ジクロ
ロ−１,１,１,４,４,４−ヘキサフルオロブテン−２を
予め気化させガス状で、７cc／分、水素を５０cc／分の
割合で導入した。反応温度は２００℃を保つように外部
熱源の温度調節を行った。生成ガスを、水洗し、塩化カ
ルシウムで乾燥後、ガスクロマトグラフィにより分析を
行った。結果を表１に示す。
れた白金触媒２０ccを充填し、窒素ガスを流しながら、
電気炉にて加熱し２００℃に達した後、２,３−ジクロ
ロ−１,１,１,４,４,４−ヘキサフルオロブテン−２を
予め気化させガス状で、７cc／分、水素を５０cc／分の
割合で導入した。反応温度は２００℃を保つように外部
熱源の温度調節を行った。生成ガスを、水洗し、塩化カ
ルシウムで乾燥後、ガスクロマトグラフィにより分析を
行った。結果を表１に示す。
【００１４】
【表１】 実施例 転化率(％) 選択率(％) １ ９６ ８５ ２ ９９ ９８ ３ ９９ ９９ ４ ９９ ８８
フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 ＦＩ Ｃ０７Ｃ 17/00 Ｃ０７Ｃ 17/00 // Ｃ０７Ｂ 61/00 ３００ Ｃ０７Ｂ 61/00 ３００ (56)参考文献 特開 平５−155788（ＪＰ，Ａ) 特開 平３−163033（ＪＰ，Ａ) 特開 平２−67235（ＪＰ，Ａ) 特開 平１−146831（ＪＰ，Ａ) 「化学大辞典５（第５巻）」（昭和 35．４．15．共立出版株式会社発行）第 349〜350頁接触還元（接 (58)調査した分野(Int.Cl.7，ＤＢ名) C07C 19/08 C07C 17/00
Claims (1)
- 【請求項１】 ２,３−ジクロロ−１,１,１,４,４,４−
ヘキサフルオロブテン−２を、白金、パラジウム、ロジ
ウムまたはルテニウムを含む貴金属触媒の存在下、塩基
の不存在下に、気相中で水素と反応させ、還元および水
素添加を行うことを特徴とする１,１,１,４,４,４−ヘ
キサフルオロブタンの製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP00380892A JP3275338B2 (ja) | 1992-01-13 | 1992-01-13 | １，１，１，４，４，４−ヘキサフルオロブタンの製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP00380892A JP3275338B2 (ja) | 1992-01-13 | 1992-01-13 | １，１，１，４，４，４−ヘキサフルオロブタンの製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH05194286A JPH05194286A (ja) | 1993-08-03 |
| JP3275338B2 true JP3275338B2 (ja) | 2002-04-15 |
Family
ID=11567496
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP00380892A Expired - Fee Related JP3275338B2 (ja) | 1992-01-13 | 1992-01-13 | １，１，１，４，４，４−ヘキサフルオロブタンの製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3275338B2 (ja) |
Families Citing this family (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP3500617B2 (ja) * | 1993-08-27 | 2004-02-23 | ダイキン工業株式会社 | ヘキサフルオロシクロブタンの製造方法 |
| JP3729281B2 (ja) * | 1994-11-24 | 2005-12-21 | 独立行政法人産業技術総合研究所 | 弗素化アルケン誘導体および弗素化アルカン誘導体の製造方法 |
| US7795482B2 (en) | 2007-07-03 | 2010-09-14 | E. I. Du Pont De Nemours And Company | Method of hydrodechlorination to produce dihydrofluorinated olefins |
| US8399721B2 (en) | 2008-12-22 | 2013-03-19 | E I Du Pont De Nemours And Company | Method of hydrodechlorination to produce dihydrofluorinated olefins |
-
1992
- 1992-01-13 JP JP00380892A patent/JP3275338B2/ja not_active Expired - Fee Related
Non-Patent Citations (1)
| Title |
|---|
| 「化学大辞典５（第５巻）」（昭和３５．４．１５．共立出版株式会社発行）第３４９〜３５０頁接触還元（接 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH05194286A (ja) | 1993-08-03 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| EP0349115A1 (en) | Hydrodehalogenation of 1,1,1,2-tetrafluorochloroethane in the presence of supported Pd | |
| US4059675A (en) | Decomposition of halogenated organic compounds | |
| JPH0588690B2 (ja) | ||
| JPS63255253A (ja) | アミン類の製造方法 | |
| JP3275338B2 (ja) | １，１，１，４，４，４−ヘキサフルオロブタンの製造方法 | |
| JPH05507028A (ja) | フッ素と少なくとも１種の他のハロゲンとを含有するハロゲン置換炭化水素の水素化脱ハロゲンに使用するための貴金属触媒の活性化 | |
| US6291729B1 (en) | Halofluorocarbon hydrogenolysis | |
| JPH0393602A (ja) | 一酸化炭素の選択的除去方法 | |
| EP0594858A1 (en) | Process for producing 1,1-dichloro-2,2,2-trifluoroethane | |
| US5302765A (en) | Catalytic process for producing CF3 CHClF | |
| JP2519976B2 (ja) | 含酸素化合物の製造方法 | |
| EP0658531A1 (en) | Process for producing 1,1,1,2,3-pentafluoropropane | |
| JPH05155788A (ja) | １，１，１，４，４，４−ヘキサフルオロブタンの製造方法 | |
| EP0040414B1 (en) | Process for producing acetaldehyde | |
| JPH05140009A (ja) | １，１，１，２，２，３，４，５，５，５−デカフルオロペンタンの製造方法 | |
| WO1995013256A1 (fr) | Procede de production de 1,1,1,3,3-pentafluoropropane__________ | |
| US5872075A (en) | Catalyst for oxidation of hydrogen, method for selective oxidation of hydrogen, and method for dehydrogenation of hydrocarbon | |
| EP0687659A1 (en) | Process for producing 1,1,1,3,3-pentafluoropropane | |
| JPH0747551B2 (ja) | ペルハロゲン化エタン誘導体の選択的水素添加分解 | |
| US5602288A (en) | Catalytic process for producing CF3 CH2 F | |
| JPH0242815B2 (ja) | ||
| JPH0193549A (ja) | １，１，１，２−テトラフルオロエタンの製造方法 | |
| JPS6210984B2 (ja) | ||
| JPS6260376B2 (ja) | ||
| JP2512637B2 (ja) | アリルクロライドの製造方法 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |