JP3275338B2 - 1,1,1,4,4,4−ヘキサフルオロブタンの製造方法 - Google Patents
1,1,1,4,4,4−ヘキサフルオロブタンの製造方法Info
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- JP3275338B2 JP3275338B2 JP00380892A JP380892A JP3275338B2 JP 3275338 B2 JP3275338 B2 JP 3275338B2 JP 00380892 A JP00380892 A JP 00380892A JP 380892 A JP380892 A JP 380892A JP 3275338 B2 JP3275338 B2 JP 3275338B2
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- hexafluorobutane
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- Y02—TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
- Y02P—CLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES IN THE PRODUCTION OR PROCESSING OF GOODS
- Y02P20/00—Technologies relating to chemical industry
- Y02P20/50—Improvements relating to the production of bulk chemicals
- Y02P20/52—Improvements relating to the production of bulk chemicals using catalysts, e.g. selective catalysts
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- Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
- Low-Molecular Organic Synthesis Reactions Using Catalysts (AREA)
Description
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、冷媒、発泡剤または溶
剤として有用な化合物である1,1,1,4,4,4−ヘキ
サフルオロブタンの製造方法に関する。
剤として有用な化合物である1,1,1,4,4,4−ヘキ
サフルオロブタンの製造方法に関する。
【0002】
【従来の技術及び課題】1,1,1,4,4,4−ヘキサフ
ルオロブタンを製造する方法としては、2−クロロ−
1,1,1,4,4,4−ヘキサフルオロブテン−2あるい
は1,1,1,4,4,4−ヘキサフルオロブチン−2を原
料として液相中で各種貴金属触媒を用いて水素添加を行
う方法が知られているが、この方法は副生成物の生成が
多く収率が低いため、工業的には適していない。また、
1,1,1,4,4,4−ヘキサフルオロブチン−2を原料
として、パラジウム触媒を用いて水素添加を行う方法も
知られているが(Youji Huaxue,2、125、198
4年)、この方法では、原料の入手が困難であり、工業
的な製造方法とはいいがたい。
ルオロブタンを製造する方法としては、2−クロロ−
1,1,1,4,4,4−ヘキサフルオロブテン−2あるい
は1,1,1,4,4,4−ヘキサフルオロブチン−2を原
料として液相中で各種貴金属触媒を用いて水素添加を行
う方法が知られているが、この方法は副生成物の生成が
多く収率が低いため、工業的には適していない。また、
1,1,1,4,4,4−ヘキサフルオロブチン−2を原料
として、パラジウム触媒を用いて水素添加を行う方法も
知られているが(Youji Huaxue,2、125、198
4年)、この方法では、原料の入手が困難であり、工業
的な製造方法とはいいがたい。
【0003】
【課題を解決するための手段】本発明者らは、上記問題
を解決すべく、1,1,1,4,4,4−ヘキサフルオロブ
タンの製造方法について鋭意検討した結果、2,3−ジ
クロロ−1,1,1,4,4,4−ヘキサフルオロブテン−
2を原料として、白金、パラジウム、ロジウム、ルテニ
ウムなどを含む貴金属触媒の存在下、気相中で、塩基の
不存在下に、還元および水素転化反応を行えば、高収率
にて、目的物が得られることを見いだし、本発明を完成
するに至った。
を解決すべく、1,1,1,4,4,4−ヘキサフルオロブ
タンの製造方法について鋭意検討した結果、2,3−ジ
クロロ−1,1,1,4,4,4−ヘキサフルオロブテン−
2を原料として、白金、パラジウム、ロジウム、ルテニ
ウムなどを含む貴金属触媒の存在下、気相中で、塩基の
不存在下に、還元および水素転化反応を行えば、高収率
にて、目的物が得られることを見いだし、本発明を完成
するに至った。
【0004】すなわち、本発明の要旨は、2,3−ジク
ロロ−1,1,1,4,4,4−ヘキサフルオロブテン−2
を、白金、パラジウム、ロジウムまたはルテニウムを含
む貴金属触媒の存在下、塩基の不存在下に、気相中で水
素と反応させ、還元および水素転化を行うことを特徴と
する1,1,1,4,4,4−ヘキサフルオロブタンの製造
方法に存する。
ロロ−1,1,1,4,4,4−ヘキサフルオロブテン−2
を、白金、パラジウム、ロジウムまたはルテニウムを含
む貴金属触媒の存在下、塩基の不存在下に、気相中で水
素と反応させ、還元および水素転化を行うことを特徴と
する1,1,1,4,4,4−ヘキサフルオロブタンの製造
方法に存する。
【0005】貴金属触媒に担持する貴金属は、白金、パ
ラジウム、ロジウム、ルテニウムなどが好ましいが、特
に、パラジウムが好ましい。
ラジウム、ロジウム、ルテニウムなどが好ましいが、特
に、パラジウムが好ましい。
【0006】貴金属触媒は、通常活性炭、アルミナ、シ
リカゲル、酸化チタン、ジルコニアその他の担体に担持
されたものが好ましい。また担体の粒径はほとんど反応
に影響を及ぼさないが、0.1〜100mmが好適であ
る。担持濃度としては0.05〜10%と幅広いものが
使用可能であるが、通常0.5〜5%担持品が推奨され
る。
リカゲル、酸化チタン、ジルコニアその他の担体に担持
されたものが好ましい。また担体の粒径はほとんど反応
に影響を及ぼさないが、0.1〜100mmが好適であ
る。担持濃度としては0.05〜10%と幅広いものが
使用可能であるが、通常0.5〜5%担持品が推奨され
る。
【0007】水素の使用量は、2,3−ジクロロ−1,
1,1,4,4,4−ヘキサフルオロブテン−2に対して1
〜50モル等量の使用が好適である。反応温度は、通常
50〜400℃、好ましくは70〜300℃であるが、
特に200℃以上で高収率が期待できる。
1,1,4,4,4−ヘキサフルオロブテン−2に対して1
〜50モル等量の使用が好適である。反応温度は、通常
50〜400℃、好ましくは70〜300℃であるが、
特に200℃以上で高収率が期待できる。
【0008】反応方式は、反応管に充填された貴金属触
媒上を原料である2,3−ジクロロ−1,1,1,4,4,4
−ヘキサフルオロブテン−2をガス状にて水素とともに
流通させるといった気相反応に限定される。気相反応の
方式としては、固定床型気相反応、流動層型気相反応な
どの方式をとることができる。
媒上を原料である2,3−ジクロロ−1,1,1,4,4,4
−ヘキサフルオロブテン−2をガス状にて水素とともに
流通させるといった気相反応に限定される。気相反応の
方式としては、固定床型気相反応、流動層型気相反応な
どの方式をとることができる。
【0009】反応の圧力は特に限定されず、加圧下、減
圧下または常圧下で可能であるが、減圧下では装置が複
雑になるため、加圧下、常圧下で反応を行う方が好まし
い。接触時間は、通常0.1〜300秒、特には1〜3
0秒である。
圧下または常圧下で可能であるが、減圧下では装置が複
雑になるため、加圧下、常圧下で反応を行う方が好まし
い。接触時間は、通常0.1〜300秒、特には1〜3
0秒である。
【0010】
【実施例】以下、実施例により本発明をさらに具体的に
説明する。実施例1 内径2cm、長さ40cmのSUS316製反応管に活性炭
に0.5%濃度で担持させた白金触媒25.5ccを充填
し、窒素ガスを流しながら、電気炉にて加熱し、200
℃に達した後、2,3−ジクロロ−1,1,1,4,4,4−
ヘキサフルオロブテン−2を予め気化させガス状で1
5.5cc/分、水素を77cc/分の割合で導入した。反
応温度は200℃を保つように外部熱源の温度調節を行
った。生成ガスを水洗し、塩化カルシウムで乾燥後、ガ
スクロマトグラフィにより分析を行った。結果を表1に
示す。
説明する。実施例1 内径2cm、長さ40cmのSUS316製反応管に活性炭
に0.5%濃度で担持させた白金触媒25.5ccを充填
し、窒素ガスを流しながら、電気炉にて加熱し、200
℃に達した後、2,3−ジクロロ−1,1,1,4,4,4−
ヘキサフルオロブテン−2を予め気化させガス状で1
5.5cc/分、水素を77cc/分の割合で導入した。反
応温度は200℃を保つように外部熱源の温度調節を行
った。生成ガスを水洗し、塩化カルシウムで乾燥後、ガ
スクロマトグラフィにより分析を行った。結果を表1に
示す。
【0011】実施例2 実施例1と同じ反応装置に、活性炭に0.5%濃度で担
持させたパラジウム触媒25.5ccを充填し、窒素ガス
を流しながら、電気炉にて200℃に加熱した後、2,
3−ジクロロ−1,1,1,4,4,4−ヘキサフルオロブ
テン−2を予め気化させガス状で15cc/分、水素を7
7cc/分の割合で導入した。反応温度は200℃を保つ
ように外部熱源の温度調節を行った。生成ガスを、水洗
し、塩化カルシウムで乾燥後、ガスクロマトグラフィに
より分析を行った。結果を表1に示す。
持させたパラジウム触媒25.5ccを充填し、窒素ガス
を流しながら、電気炉にて200℃に加熱した後、2,
3−ジクロロ−1,1,1,4,4,4−ヘキサフルオロブ
テン−2を予め気化させガス状で15cc/分、水素を7
7cc/分の割合で導入した。反応温度は200℃を保つ
ように外部熱源の温度調節を行った。生成ガスを、水洗
し、塩化カルシウムで乾燥後、ガスクロマトグラフィに
より分析を行った。結果を表1に示す。
【0012】実施例3 実施例1と同じ反応装置に、活性炭に0.5%濃度で担
持されたパラジウム触媒25.5ccを充填し、窒素ガス
を流しながら、電気炉にて250℃に加熱した後、2,
3−ジクロロ−1,1,1,4,4,4−ヘキサフルオロブ
テン−2を予め気化させガス状で8cc/分、水素を45
cc/分の割合で導入した。反応温度は250℃を保つよ
うに外部熱源の温度調節を行った。生成ガスを、水洗
し、塩化カルシウムで乾燥後、ガスクロマトグラフィに
より分析を行った。結果を表1に示す。
持されたパラジウム触媒25.5ccを充填し、窒素ガス
を流しながら、電気炉にて250℃に加熱した後、2,
3−ジクロロ−1,1,1,4,4,4−ヘキサフルオロブ
テン−2を予め気化させガス状で8cc/分、水素を45
cc/分の割合で導入した。反応温度は250℃を保つよ
うに外部熱源の温度調節を行った。生成ガスを、水洗
し、塩化カルシウムで乾燥後、ガスクロマトグラフィに
より分析を行った。結果を表1に示す。
【0013】実施例4 実施例1と同じ反応装置に、活性炭に1%濃度で担持さ
れた白金触媒20ccを充填し、窒素ガスを流しながら、
電気炉にて加熱し200℃に達した後、2,3−ジクロ
ロ−1,1,1,4,4,4−ヘキサフルオロブテン−2を
予め気化させガス状で、7cc/分、水素を50cc/分の
割合で導入した。反応温度は200℃を保つように外部
熱源の温度調節を行った。生成ガスを、水洗し、塩化カ
ルシウムで乾燥後、ガスクロマトグラフィにより分析を
行った。結果を表1に示す。
れた白金触媒20ccを充填し、窒素ガスを流しながら、
電気炉にて加熱し200℃に達した後、2,3−ジクロ
ロ−1,1,1,4,4,4−ヘキサフルオロブテン−2を
予め気化させガス状で、7cc/分、水素を50cc/分の
割合で導入した。反応温度は200℃を保つように外部
熱源の温度調節を行った。生成ガスを、水洗し、塩化カ
ルシウムで乾燥後、ガスクロマトグラフィにより分析を
行った。結果を表1に示す。
【0014】
【表1】 実施例 転化率(%) 選択率(%) 1 96 85 2 99 98 3 99 99 4 99 88
フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 FI C07C 17/00 C07C 17/00 // C07B 61/00 300 C07B 61/00 300 (56)参考文献 特開 平5−155788(JP,A) 特開 平3−163033(JP,A) 特開 平2−67235(JP,A) 特開 平1−146831(JP,A) 「化学大辞典5(第5巻)」(昭和 35.4.15.共立出版株式会社発行)第 349〜350頁接触還元(接 (58)調査した分野(Int.Cl.7,DB名) C07C 19/08 C07C 17/00
Claims (1)
- 【請求項1】 2,3−ジクロロ−1,1,1,4,4,4−
ヘキサフルオロブテン−2を、白金、パラジウム、ロジ
ウムまたはルテニウムを含む貴金属触媒の存在下、塩基
の不存在下に、気相中で水素と反応させ、還元および水
素添加を行うことを特徴とする1,1,1,4,4,4−ヘ
キサフルオロブタンの製造方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP00380892A JP3275338B2 (ja) | 1992-01-13 | 1992-01-13 | 1,1,1,4,4,4−ヘキサフルオロブタンの製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP00380892A JP3275338B2 (ja) | 1992-01-13 | 1992-01-13 | 1,1,1,4,4,4−ヘキサフルオロブタンの製造方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH05194286A JPH05194286A (ja) | 1993-08-03 |
JP3275338B2 true JP3275338B2 (ja) | 2002-04-15 |
Family
ID=11567496
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP00380892A Expired - Fee Related JP3275338B2 (ja) | 1992-01-13 | 1992-01-13 | 1,1,1,4,4,4−ヘキサフルオロブタンの製造方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP3275338B2 (ja) |
Families Citing this family (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP3500617B2 (ja) * | 1993-08-27 | 2004-02-23 | ダイキン工業株式会社 | ヘキサフルオロシクロブタンの製造方法 |
JP3729281B2 (ja) * | 1994-11-24 | 2005-12-21 | 独立行政法人産業技術総合研究所 | 弗素化アルケン誘導体および弗素化アルカン誘導体の製造方法 |
US7795482B2 (en) | 2007-07-03 | 2010-09-14 | E. I. Du Pont De Nemours And Company | Method of hydrodechlorination to produce dihydrofluorinated olefins |
US8399721B2 (en) | 2008-12-22 | 2013-03-19 | E I Du Pont De Nemours And Company | Method of hydrodechlorination to produce dihydrofluorinated olefins |
-
1992
- 1992-01-13 JP JP00380892A patent/JP3275338B2/ja not_active Expired - Fee Related
Non-Patent Citations (1)
Title |
---|
「化学大辞典5(第5巻)」(昭和35.4.15.共立出版株式会社発行)第349〜350頁接触還元(接 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPH05194286A (ja) | 1993-08-03 |
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Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |