JP3272070B2 - Ｎ，ｎ′−二酢酸−ｎ′−シアノメチル、それの塩類、およびそれらの製造 - Google Patents
Ｎ，ｎ′−二酢酸−ｎ′−シアノメチル、それの塩類、およびそれらの製造Info
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- C07C255/01—Carboxylic acid nitriles having cyano groups bound to acyclic carbon atoms
- C07C255/24—Carboxylic acid nitriles having cyano groups bound to acyclic carbon atoms containing cyano groups and singly-bound nitrogen atoms, not being further bound to other hetero atoms, bound to the same saturated acyclic carbon skeleton
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Description
【０００１】
【発明の背景】エチレンジアミン三酢酸(ＥＤ３Ａ)また
はそれの塩類(例えばＥＤ３ＡＮａ3)はキレート化学分
野における用途を有しており、そして強いキレート化用
重合体、油溶性キレート剤、表面活性剤などの製造にお
ける出発物質として使用することができる。エチレンジ
アミン三酢酸の合成用の従来方法はそれのＮ−ベンジル
誘導体を介して行われており、それを次にアルカリ性溶
液中で加水分解してＥＤ３ＡＮａ3とし、それの２−オ
キソ−１,４−ピペラジン二酢酸(３ＫＰ)誘導体への環
化を避けている。クロロ酢酸とエチレンジアミンとのア
ルカリ性縮合並びにジアミンとホルムアルデヒドおよび
シアン化ナトリウムとのカルボキシメチル化の両者によ
り試みられている合成は、希望する生成物を与えるため
の複雑な抽出技術（例えば沸騰しているジメチルホルム
アミド中での３ＫＰのほとんど唯一の溶解性、カナディ
アン・ジャーナル・オブ・ケミストリー、１９７０、４
８(１)、１６３−１７５）を必要とする複雑な混合物を
生じ、そしてそうしても比較的劣悪な収率でしか得られ
ない。さらに、従来方法は大量の例えばエチレンジアミ
ン四酢酸(ＥＤ４Ａ)の如き副生物も生じる。副生物が特
に邪魔な場合には、比較的純粋な溶液を得るためには複
雑な遮蔽技術が必要であった。
はそれの塩類(例えばＥＤ３ＡＮａ3)はキレート化学分
野における用途を有しており、そして強いキレート化用
重合体、油溶性キレート剤、表面活性剤などの製造にお
ける出発物質として使用することができる。エチレンジ
アミン三酢酸の合成用の従来方法はそれのＮ−ベンジル
誘導体を介して行われており、それを次にアルカリ性溶
液中で加水分解してＥＤ３ＡＮａ3とし、それの２−オ
キソ−１,４−ピペラジン二酢酸(３ＫＰ)誘導体への環
化を避けている。クロロ酢酸とエチレンジアミンとのア
ルカリ性縮合並びにジアミンとホルムアルデヒドおよび
シアン化ナトリウムとのカルボキシメチル化の両者によ
り試みられている合成は、希望する生成物を与えるため
の複雑な抽出技術（例えば沸騰しているジメチルホルム
アミド中での３ＫＰのほとんど唯一の溶解性、カナディ
アン・ジャーナル・オブ・ケミストリー、１９７０、４
８(１)、１６３−１７５）を必要とする複雑な混合物を
生じ、そしてそうしても比較的劣悪な収率でしか得られ
ない。さらに、従来方法は大量の例えばエチレンジアミ
ン四酢酸(ＥＤ４Ａ)の如き副生物も生じる。副生物が特
に邪魔な場合には、比較的純粋な溶液を得るためには複
雑な遮蔽技術が必要であった。
【０００２】エチレンジアミン−Ｎ,Ｎ,Ｎ′−三酢酸の
一合成例が、ケミカル・アブストラクツ(Chemical Abst
racts)７８、７１巻、４５１頁、１８３６９ｃ、１９６
９中に示されている。そこでは、エチレンジアミンをＣ
ｌＨ2ＣＣＯ2Ｈと１：３モル比で塩基性溶液中で１０℃
において２４時間反応させて混合物を生成し、それをＣ
ｏ(III)を用いて錯体生成させることによりそこからエ
チレンジアミン−Ｎ,Ｎ,Ｎ′−三酢酸を分離できると開
示されている。生じたコバルト錯体はイオン交換により
単離することができる。
一合成例が、ケミカル・アブストラクツ(Chemical Abst
racts)７８、７１巻、４５１頁、１８３６９ｃ、１９６
９中に示されている。そこでは、エチレンジアミンをＣ
ｌＨ2ＣＣＯ2Ｈと１：３モル比で塩基性溶液中で１０℃
において２４時間反応させて混合物を生成し、それをＣ
ｏ(III)を用いて錯体生成させることによりそこからエ
チレンジアミン−Ｎ,Ｎ,Ｎ′−三酢酸を分離できると開
示されている。生じたコバルト錯体はイオン交換により
単離することができる。
【０００３】本発明はエチレンジアミン三酢酸またはそ
れの塩類の高い転化率および優れた収率における合成で
中間生成物として有用な新規な組成の物体に関するもの
である。
れの塩類の高い転化率および優れた収率における合成で
中間生成物として有用な新規な組成の物体に関するもの
である。
【０００４】
【発明の要旨】先行技術の問題点は、エチレンジアミン
三酢酸の合成において中間生成物として有用な新規な組
成の物質を提供する本発明により克服された。特に、
Ｎ，Ｎ′−エチレンジアミン二酢酸（ＥＤ２ＡＨ２）の
塩をホルムアルデヒドと反応させて安定な５員環中間生
成物を製造することによりモノニトリル−二酸が製造さ
れる。この環式物質を越えてのシアン化物の付加によ
り、エチレンジアミンＮ，Ｎ′−二酢酸−Ｎ′−シアノ
メチルまたはそれの塩類（モノニトリル−二酸）が生成
する。このニトリルは水溶液中で瞬間的に環化して３Ｋ
Ｐまたはそれの塩類を生成し、それは過剰量の塩基の存
在下でＥＤ３Ａを優れた収率および純度で生成する。
三酢酸の合成において中間生成物として有用な新規な組
成の物質を提供する本発明により克服された。特に、
Ｎ，Ｎ′−エチレンジアミン二酢酸（ＥＤ２ＡＨ２）の
塩をホルムアルデヒドと反応させて安定な５員環中間生
成物を製造することによりモノニトリル−二酸が製造さ
れる。この環式物質を越えてのシアン化物の付加によ
り、エチレンジアミンＮ，Ｎ′−二酢酸−Ｎ′−シアノ
メチルまたはそれの塩類（モノニトリル−二酸）が生成
する。このニトリルは水溶液中で瞬間的に環化して３Ｋ
Ｐまたはそれの塩類を生成し、それは過剰量の塩基の存
在下でＥＤ３Ａを優れた収率および純度で生成する。
【０００５】本発明において出発物質として有用な適当
なエチレンジアミン二酢酸の塩類には、アルカリおよび
アルカリ土類金属塩類、特にナトリウムおよびカリウム
塩類、が包含される。説明目的用にはナトリウム塩を用
いているが、本発明の精神および範囲から逸脱しない限
り他の塩類も使用できることを理解すべきである。モノ
ニトリル−二酸の合成用に適している反応方式は５員環
構造を生成するためのホルムアルデヒドと酢酸Ｎ,Ｎ′
−エチレンジアミン二ナトリウムとのアルカリ性縮合で
あり、そしてそれを以下に示す：
なエチレンジアミン二酢酸の塩類には、アルカリおよび
アルカリ土類金属塩類、特にナトリウムおよびカリウム
塩類、が包含される。説明目的用にはナトリウム塩を用
いているが、本発明の精神および範囲から逸脱しない限
り他の塩類も使用できることを理解すべきである。モノ
ニトリル−二酸の合成用に適している反応方式は５員環
構造を生成するためのホルムアルデヒドと酢酸Ｎ,Ｎ′
−エチレンジアミン二ナトリウムとのアルカリ性縮合で
あり、そしてそれを以下に示す：
【０００６】
【化３】
【０００７】［式中、Ｘ＝塩基カチオンであり、ａ＝０
−１であり、ｂ＝１−２であり、ここでａ＋ｂ＝２であ
る］ 上記の反応は別の塩基の存在下で実施することもでき
る。適当な塩基類には、アルカリおよびアルカリ土類金
属水酸化物類、好適には水酸化ナトリウムおよびカリウ
ム、が包含される。化合物（Ｉ）はＥＤＤＡＮａ(1.0→
2.0)とホルムアルデヒドとの架橋反応生成物であり、本
発明者はそれがＥＤ３Ａ合成における安定な中間生成物
であることを見いだした。化合物（Ｉ）は０°−１１０
℃の間で容易に製造される。反応は急速に進行しそして
約７.０より高いｐＨにおいて容易に生成させる。使用
温度は好適には約０−６５℃、最も好適には１５−６５
℃、であるが、６５℃より高い温度を使用することもで
きる。ホルムアルデヒドは化学量論的量で使用すること
ができるが、わずかなモル過剰量、好適には０.５−２.
０％、を使用することが好ましい。好適には、ホルムア
ルデヒドの濃度は水溶液中では５５％以下である。パラ
ホルムアルデヒドを使用することもできる。反応方式の
第二段階を以下に示す：
−１であり、ｂ＝１−２であり、ここでａ＋ｂ＝２であ
る］ 上記の反応は別の塩基の存在下で実施することもでき
る。適当な塩基類には、アルカリおよびアルカリ土類金
属水酸化物類、好適には水酸化ナトリウムおよびカリウ
ム、が包含される。化合物（Ｉ）はＥＤＤＡＮａ(1.0→
2.0)とホルムアルデヒドとの架橋反応生成物であり、本
発明者はそれがＥＤ３Ａ合成における安定な中間生成物
であることを見いだした。化合物（Ｉ）は０°−１１０
℃の間で容易に製造される。反応は急速に進行しそして
約７.０より高いｐＨにおいて容易に生成させる。使用
温度は好適には約０−６５℃、最も好適には１５−６５
℃、であるが、６５℃より高い温度を使用することもで
きる。ホルムアルデヒドは化学量論的量で使用すること
ができるが、わずかなモル過剰量、好適には０.５−２.
０％、を使用することが好ましい。好適には、ホルムア
ルデヒドの濃度は水溶液中では５５％以下である。パラ
ホルムアルデヒドを使用することもできる。反応方式の
第二段階を以下に示す：
【０００８】
【化４】
【０００９】化合物（II）は０°−１１０℃の間の温度
において容易に製造される。反応は溶液の沸点以下の温
度において行うべきである。反応速度を速めるために
は、好適には反応は約０℃−約６５℃の温度において、
最も好適には約１５°−６５℃において、実施される。
適当なシアン化物源には、気体状のシアン化水素、シア
ン化水素の水溶液、またはアルカリ金属シアン化物、例
えばシアン化ナトリウムもしくはシアン化カリウム、な
どが包含される。シアン化物は化学量論的量で使用する
ことができるが、わずかなモル過剰量、好適には０.５
−２.０％、を使用することもできる。
において容易に製造される。反応は溶液の沸点以下の温
度において行うべきである。反応速度を速めるために
は、好適には反応は約０℃−約６５℃の温度において、
最も好適には約１５°−６５℃において、実施される。
適当なシアン化物源には、気体状のシアン化水素、シア
ン化水素の水溶液、またはアルカリ金属シアン化物、例
えばシアン化ナトリウムもしくはシアン化カリウム、な
どが包含される。シアン化物は化学量論的量で使用する
ことができるが、わずかなモル過剰量、好適には０.５
−２.０％、を使用することもできる。
【００１０】化合物（II）はＥＤ３Ａの製造用の中間生
成物として有用である。特に、化合物（II）を加水分解
してモノアミド−二酸化合物（III）（部分的に加水分
解されたモノニトリル二酸）とすることができ、それが
瞬間的に環化して３ＫＰとなる。化合物（IV）は例えば
アルカリ金属またはアルカリ土類金属水酸化物類の如き
塩基の存在下で容易に生成する。好適には、塩基はＮａ
ＯＨである。＜３.０Ｍの塩基：１ＭのＥＤ２ＡＨ2、好
適には＜２.０Ｍの塩基：１ＭのＥＤ２ＡＨ2、のモル比
が使用される。それより高い濃度の塩基（すなわち＞
３.０Ｍの塩基：１ＭのＥＤ２ＡＨ2）は、特に＞６５℃
の温度においては、二酸モノニトリルの幾らかの不均化
を起こしそして幾らかのＥＤ４Ａ（エチレンジアミン四
酢酸）が生成する。特に、同時に起きる３ＫＰの加水分
解およびモノニトリル−二酸の不均化に起因するかもし
れない高温反応が実施されそして高いＥＤ４Ａの濃度
（＞２.０Ｍの塩基：１ＭのＥＤ２ＡＨ2）が使用される
時には、ＥＤ４Ａの濃度は使用される苛性の過剰量と正
比例するということが見いだされている。塩基対ＥＤ２
Ａのモル比が＜２.０である時には、比較的高い温度を
使用することができる。また、段階IIIでは、アンモニ
アが同一分子上でアミド基とイミノ基の間で除去され
る。しかしながら、比較的低い温度（＜６５℃）におい
ては、比較的大量（＞２.０Ｍ）の塩基を使用すること
ができそして式（II）の加水分解が進行して環化なしで
直接ＥＤ３Ａとすることができる。
成物として有用である。特に、化合物（II）を加水分解
してモノアミド−二酸化合物（III）（部分的に加水分
解されたモノニトリル二酸）とすることができ、それが
瞬間的に環化して３ＫＰとなる。化合物（IV）は例えば
アルカリ金属またはアルカリ土類金属水酸化物類の如き
塩基の存在下で容易に生成する。好適には、塩基はＮａ
ＯＨである。＜３.０Ｍの塩基：１ＭのＥＤ２ＡＨ2、好
適には＜２.０Ｍの塩基：１ＭのＥＤ２ＡＨ2、のモル比
が使用される。それより高い濃度の塩基（すなわち＞
３.０Ｍの塩基：１ＭのＥＤ２ＡＨ2）は、特に＞６５℃
の温度においては、二酸モノニトリルの幾らかの不均化
を起こしそして幾らかのＥＤ４Ａ（エチレンジアミン四
酢酸）が生成する。特に、同時に起きる３ＫＰの加水分
解およびモノニトリル−二酸の不均化に起因するかもし
れない高温反応が実施されそして高いＥＤ４Ａの濃度
（＞２.０Ｍの塩基：１ＭのＥＤ２ＡＨ2）が使用される
時には、ＥＤ４Ａの濃度は使用される苛性の過剰量と正
比例するということが見いだされている。塩基対ＥＤ２
Ａのモル比が＜２.０である時には、比較的高い温度を
使用することができる。また、段階IIIでは、アンモニ
アが同一分子上でアミド基とイミノ基の間で除去され
る。しかしながら、比較的低い温度（＜６５℃）におい
ては、比較的大量（＞２.０Ｍ）の塩基を使用すること
ができそして式（II）の加水分解が進行して環化なしで
直接ＥＤ３Ａとすることができる。
【００１１】
【化５】
【００１２】次に少なくとも１当量の苛性、好適には１
モル過剰量の苛性、の添加により３ＫＰＮａ2を加水分
解させる。この量は水溶液中で４０％ＥＤ３ＡＮａ3溶
液より約５重量％過剰量の（遊離）苛性である。溶液を
大気圧下で沸騰させて希望する濃度にする。好適には、
温度を化合物（IV）の生成温度から沸点まで約３０分間
−約６時間の期間にわたり上昇させることにより反応が
実施される。
モル過剰量の苛性、の添加により３ＫＰＮａ2を加水分
解させる。この量は水溶液中で４０％ＥＤ３ＡＮａ3溶
液より約５重量％過剰量の（遊離）苛性である。溶液を
大気圧下で沸騰させて希望する濃度にする。好適には、
温度を化合物（IV）の生成温度から沸点まで約３０分間
−約６時間の期間にわたり上昇させることにより反応が
実施される。
【００１３】
【化６】
【００１４】生じた溶液は典型的には約３５−４０％の
ＥＤ３ＡＮａ3を与え、約２％の３ＫＰＮａ2が閉環構造
として残っている。これはＥＤ３ＡＮａ3への約９４％
の転化率に相当しており、物質の残りの６％が３ＫＰＮ
ａ2として存在している。この物質をｐＨ＜６.０となる
まで酸性化してＥＤ３ＡＨ3を製造することはできず、
その理由は３ＫＰＨ2への環化が実際に起きるであろう
からである。
ＥＤ３ＡＮａ3を与え、約２％の３ＫＰＮａ2が閉環構造
として残っている。これはＥＤ３ＡＮａ3への約９４％
の転化率に相当しており、物質の残りの６％が３ＫＰＮ
ａ2として存在している。この物質をｐＨ＜６.０となる
まで酸性化してＥＤ３ＡＨ3を製造することはできず、
その理由は３ＫＰＨ2への環化が実際に起きるであろう
からである。
【００１５】前記の合成方式は９０％以上のＥＤ３ＡＮ
ａ3への転化率を生じ、残りの割合は３ＫＰＮａ2であ
り、事実上１００％の合計物質均衡を与える。反応は広
いｐＨ範囲において可能である。
ａ3への転化率を生じ、残りの割合は３ＫＰＮａ2であ
り、事実上１００％の合計物質均衡を与える。反応は広
いｐＨ範囲において可能である。
【００１６】ＥＤ２ＡＨ2を得るための下記の工程は実
験目的用だけのものである。はるかに簡単なＥＤ２ＡＨ
2の製造方式が可能である。当技術で既知のいずれの方
式もＥＤ２ＡＨ2およびそれの塩類の製造用に使用する
ことができ、そして本発明は特定の方式に限定されるも
のではない。
験目的用だけのものである。はるかに簡単なＥＤ２ＡＨ
2の製造方式が可能である。当技術で既知のいずれの方
式もＥＤ２ＡＨ2およびそれの塩類の製造用に使用する
ことができ、そして本発明は特定の方式に限定されるも
のではない。
【００１７】下記の実施例では、溶液の温度を＜１０℃
に保ちながらＥＤＤＡＮａ2を硝酸を用いて５.５０のｐ
Ｈまで酸性化することにより得られたＥＤＤＡＨ2（９
８.２０％）から全てのバッチが合成された。生じたス
ラリーをブフナー漏斗を用いて水アスピレーターにより
供される真空下で濾過した。フィルターケーキを約７リ
ットルの氷冷Ｈ2Ｏで洗浄した。乾燥を促進させるため
に、ケーキを次に約１リットルのＭｅＯＨで洗浄した。
結晶を次に深さが１インチのステンレス鋼トレーの上に
置き、ストークス真空乾燥器モデル３３８Ｆ中で４０℃
において４ｍｍＨｇ真空下で１２時間にわたり乾燥し
た。約２ｋｇの白色の結晶性粉末が回収された。この粉
末の分析は、それが９８.２％のＥＤ２ＡＨ2であること
を示していた。
に保ちながらＥＤＤＡＮａ2を硝酸を用いて５.５０のｐ
Ｈまで酸性化することにより得られたＥＤＤＡＨ2（９
８.２０％）から全てのバッチが合成された。生じたス
ラリーをブフナー漏斗を用いて水アスピレーターにより
供される真空下で濾過した。フィルターケーキを約７リ
ットルの氷冷Ｈ2Ｏで洗浄した。乾燥を促進させるため
に、ケーキを次に約１リットルのＭｅＯＨで洗浄した。
結晶を次に深さが１インチのステンレス鋼トレーの上に
置き、ストークス真空乾燥器モデル３３８Ｆ中で４０℃
において４ｍｍＨｇ真空下で１２時間にわたり乾燥し
た。約２ｋｇの白色の結晶性粉末が回収された。この粉
末の分析は、それが９８.２％のＥＤ２ＡＨ2であること
を示していた。
【００１８】全てのバッチは０.５リットル規模で合成
された。８８ｇのＥＤ２ＡＨ2を５００ｍｌ円錐フラス
コに充填し、そして１８０ｍｌのＨ2Ｏで希釈した。ナ
トリウム塩を必要な比で得るために、５０％の苛性を使
用した。この溶液を３０分間撹拌し、そして次に１リッ
トルの５首丸底フラスコに充填した。次に円錐フラスコ
を２０ｍｌのＨ2Ｏで洗浄し、そして洗浄液を丸底フラ
スコに移した。丸底フラスコには磁気撹拌棒、コンデン
サー（エチレングリコール／Ｈ2Ｏ＠０℃）、０−２５
０℃の水銀温度計、および温度を希望する水準に保つた
めのラブ比例調節器に信号を供するＪ−型熱電対が備え
られていた。パワースタット可変性自動変換器を介して
ラブ調節器により調節されているガラス−コル加熱マン
トルを使用してフラスコの内容物を加熱した。３７％の
ＣＨ2Ｏおよび１００％のＨＣＮをそれぞれ約１ｇ／分
および０.５０ｇ／分で０.５の設定のＥＭＩマイクロ計
量ポンプにより１／８″テフロン管を介してフラスコに
ポンプで送った。テフロン計量弁および上記と同じ冷却
剤を有するコンデンサーが備えられている１２５ｍｌの
添加漏斗をポンプで送られる反応物用の受器として使用
した。表１は、モノアミド−二酸が加水分解された後の
それの瞬間的な環化までに行われた実験に関する結果を
示している。モノニトリル−二酸は単離されなかった
が、それはＨＰＬＣにより３ＫＰへの先駆体であると同
定された。３ＫＰはＨＰＬＣによりさらに容易に定量化
され、そしてそれは表１に定量的に示されている化合物
でる。表２は本発明の化合物を用いて９種の条件で製造
されたＥＤ３Ａに関する結果を示している。
された。８８ｇのＥＤ２ＡＨ2を５００ｍｌ円錐フラス
コに充填し、そして１８０ｍｌのＨ2Ｏで希釈した。ナ
トリウム塩を必要な比で得るために、５０％の苛性を使
用した。この溶液を３０分間撹拌し、そして次に１リッ
トルの５首丸底フラスコに充填した。次に円錐フラスコ
を２０ｍｌのＨ2Ｏで洗浄し、そして洗浄液を丸底フラ
スコに移した。丸底フラスコには磁気撹拌棒、コンデン
サー（エチレングリコール／Ｈ2Ｏ＠０℃）、０−２５
０℃の水銀温度計、および温度を希望する水準に保つた
めのラブ比例調節器に信号を供するＪ−型熱電対が備え
られていた。パワースタット可変性自動変換器を介して
ラブ調節器により調節されているガラス−コル加熱マン
トルを使用してフラスコの内容物を加熱した。３７％の
ＣＨ2Ｏおよび１００％のＨＣＮをそれぞれ約１ｇ／分
および０.５０ｇ／分で０.５の設定のＥＭＩマイクロ計
量ポンプにより１／８″テフロン管を介してフラスコに
ポンプで送った。テフロン計量弁および上記と同じ冷却
剤を有するコンデンサーが備えられている１２５ｍｌの
添加漏斗をポンプで送られる反応物用の受器として使用
した。表１は、モノアミド−二酸が加水分解された後の
それの瞬間的な環化までに行われた実験に関する結果を
示している。モノニトリル−二酸は単離されなかった
が、それはＨＰＬＣにより３ＫＰへの先駆体であると同
定された。３ＫＰはＨＰＬＣによりさらに容易に定量化
され、そしてそれは表１に定量的に示されている化合物
でる。表２は本発明の化合物を用いて９種の条件で製造
されたＥＤ３Ａに関する結果を示している。
【００１９】
【表１】
【００２０】
【表２】
【００２１】
【表３】
【００２２】
【表４】
【００２３】
【表５】
【００２４】
【表６】
【００２５】データは、両方の物質が均衡がとれており
そして生成物への転化率が優れていることを示してい
る。ＥＤ３Ａは銅（II）塩滴定により測定され、そして
３ＫＰは高圧液体クロマトグラフィー（ＨＰＬＣ）によ
り測定された。表１中の最後の項は反応の段階３（３Ｋ
Ｐの生成）に関する物質均衡を示している。表２中の第
９項は再環化を基にした生成物の％転化率を示してい
る。再環化は、反応物質の試料をＨＣｌを用いて２.０
のｐＨまで酸性化することにより、行われた。これらの
試料を次に炉の中で４０℃で一夜放置し、そして次にベ
ンチ上で室温で２時間放置し、その後に分析した。この
技術を使用して全ての生成物が確実に３ＫＰＨ2へ再環
化されたという滴定結果を実証した。物質均衡は滴定さ
れたものほど良好ではないが、これはＨＰＬＣ誤差およ
び希釈誤差などによるかもしれない。
そして生成物への転化率が優れていることを示してい
る。ＥＤ３Ａは銅（II）塩滴定により測定され、そして
３ＫＰは高圧液体クロマトグラフィー（ＨＰＬＣ）によ
り測定された。表１中の最後の項は反応の段階３（３Ｋ
Ｐの生成）に関する物質均衡を示している。表２中の第
９項は再環化を基にした生成物の％転化率を示してい
る。再環化は、反応物質の試料をＨＣｌを用いて２.０
のｐＨまで酸性化することにより、行われた。これらの
試料を次に炉の中で４０℃で一夜放置し、そして次にベ
ンチ上で室温で２時間放置し、その後に分析した。この
技術を使用して全ての生成物が確実に３ＫＰＨ2へ再環
化されたという滴定結果を実証した。物質均衡は滴定さ
れたものほど良好ではないが、これはＨＰＬＣ誤差およ
び希釈誤差などによるかもしれない。
フロントページの続き (58)調査した分野(Int.Cl.7，ＤＢ名) C07C 255/24 C07C 253/08 ＣＡ（ＳＴＮ) ＣＡＯＬＤ（ＳＴＮ) ＲＥＧＩＳＴＲＹ（ＳＴＮ)
Claims (9)
- 【請求項１】 下記式： 【化１】 ［式中、 ＸおよびＹはそれぞれ水素またはアルカリ金属もしくは
アルカリ土類金属を表す］ により表される化合物。 - 【請求項２】 下記式： 【化２】 ［式中、 ＸおよびＹはそれぞれ水素またはアルカリ金属もしくは
アルカリ土類金属を表す］ により表される化合物の製造方法において、 ａ.ホルムアルデヒドをエチレンジアミン二酢酸のアル
カリ金属またはアルカリ土類金属塩と反応させ、そして ｂ.段階ａの生成物をシアン化物源と反応させることを
含んでなる方法。 - 【請求項３】 ホルムアルデヒドおよびエチレンジアミ
ンアルカリ金属二酢酸塩の反応を０°〜６５℃の温度に
おいて実施する、請求項２に記載の方法。 - 【請求項４】 ホルムアルデヒドおよびエチレンジアミ
ンアルカリ金属二酢酸塩の反応を１５°〜６５℃の温度
において実施する、請求項２に記載の方法。 - 【請求項５】 段階ｂの反応を０°〜６５℃の温度にお
いて実施する、請求項２に記載の方法。 - 【請求項６】 段階ｂの反応を１５°〜６５℃の温度に
おいて実施する、請求項２に記載の方法。 - 【請求項７】 該ホルムアルデヒドをわずかなモル過剰
量で使用する、請求項２に記載の方法。 - 【請求項８】 該シアン化物源をわずかなモル過剰量で
使用する、請求項２に記載の方法。 - 【請求項９】 該シアン化物源がシアン化水素およびア
ルカリ金属シアン化物からなる群から選択される、請求
項２に記載の方法。
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