JP3266729B2 - 冷間圧延クーラントの圧力制御方法 - Google Patents

冷間圧延クーラントの圧力制御方法

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JP3266729B2 JP03042194A JP3042194A JP3266729B2 JP 3266729 B2 JP3266729 B2 JP 3266729B2 JP 03042194 A JP03042194 A JP 03042194A JP 3042194 A JP3042194 A JP 3042194A JP 3266729 B2 JP3266729 B2 JP 3266729B2
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光延 稲葉
民雄 藤田
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Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、タンデム圧延機、レバ
ース圧延機等による金属板の冷間圧延機及び、調質圧延
機での圧延に際してのワークロール疵の発生防止に関す
る。
【0002】
【従来の技術】本願出願人は、先に、特願平4−270
537号出願において、多段ロールによる金属板の冷間
圧延に際して、圧延材からの剥離によってワークロール
に付着した金属片のような異物は、ワークロール表面疵
にはなり得ないとされていた従来の定説に代えて、ワー
クロールと接触回転する中間ロールあるいはバックアッ
プロールとの間に噛み込まれ、これによってワークロー
ル表面に疵が形成され、これが発達して圧延板に連続疵
が形成される現象を開示した。そして、同出願におい
て、この対策として、スタンドの出側で、15kg/c
2 以上の高圧クーラント流体をワークロール表面に圧
延中、常時噴射してワークロール表面への異物を除去す
ることを提案した。
【0003】ところが、高圧クーラントを圧延中、常時
使用することは、圧力源のエネルギーの多量消費につな
がるという問題がある。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】本発明の目的は、かか
る金属板の冷間圧延におけるワークロールに高圧流体を
噴射する疵発生防止において、疵発生防止の効果を何等
低減することなく、消費エネルギーを抑えることができ
る方策を確立することにある。
【0005】
【課題を解決するための手段】本発明は、連続冷間圧延
機による冷間圧延の際、疵入りが多い部位が通過する
時、通常のロール冷却用および潤滑用クーラント、また
は、ロール冷却と潤滑と同時に異物除去用の高圧クーラ
ント等の冷間圧延クーラントの圧力制御方法において、
前記連続冷間圧延機のワークロールの出側からの噴出圧
力を高めてワークロールと中間ロール、もしくはワーク
ロールとバックアップロールの間への異物侵入を防止す
ることを特徴とする。
【0006】また、本発明は、低速度域におけるクーラ
ントの供給量を少なくし、圧延速度の増大と共にクーラ
ントの供給量を多くすると共に、入側コイルの先端部と
後端部が通過する時にワークロール出側からのクーラン
トの圧力を高めてロールへの異物付着を防止することも
できる。
【0007】上記入側コイルの先端部と後端部が通過す
る時にワークロール出側からの異物除去用の高圧クーラ
ントの圧力は、150MPa以上に高めて噴射する。
【0008】
【作用】ロール疵の発生は、スラブのスカーフィング残
り、熱間圧延後の捲取時のコイラーでの機械接触疵、コ
イル搬送中の取扱疵、スレッチング時のコイル間の接触
疵等により、冷間圧延に持ち込まれる異物が原板コイル
の先端と後端に集中していることが判明し、この部分の
付着異物を集中的にクーラントを噴射除去することによ
って、ワークロール表面の清浄状態を維持することがで
きる。
【0009】そして、従来の圧延速度の変化に関係なく
一定圧力、一定量のクーラントを供給する方式に代わっ
て、低速度域におけるクーラントの供給量を少なくする
方式に適用することによって、消費エネルギーの低減効
果を上げることができる。
【0010】
【実施例】本発明をクーラントを循環使用するタイプの
タンデム圧延機において、冷却/潤滑用のクーラント供
給量を低速度域におけて少なくし、圧延速度の増大と共
にクーラントの供給量を多くする方式を保有し、且つ異
物除去用の高圧クーラントを別途に設置している圧延機
に適用した実施例について説明する。
【0011】実施例1 図1は、本発明を実施するためのクーラント圧力制御の
システムを示す。
【0012】同図において、回収クーラントは、リサー
キュレーションタンク1から、制御系3によって、その
加圧条件を制御されて、供給配管4を介してスプレーポ
ンプ5から各ロールスタンドのワークロール61 〜65
に噴射供給される。このクーラントの加圧条件を制御す
る制御系3は、高圧延速度に基づく圧延速度とクーラン
トの流量を入力し、クーラントの噴射圧力制御のために
パターン記録機構31に予め入力した制御パターンと比
較する比較機構32からの出力を、比較出力発生装置3
3からスプレーポンプ駆動モータ34に入力して、スプ
レーポンプ5から高圧クーラントを原料コイルの先端と
後端が通過するワークロールに噴射することによって、
ワークロール表面の清浄状態を維持する。
【0013】また、高圧クーラント系として供給配管4
より分岐した高圧クーラント系への制御系2によって、
その加圧条件を制御されて供給配管7を介して高圧スプ
レーポンプ8から、各ロールスタンドのワークロール6
1 〜65 出側に噴出供給される。
【0014】この高圧クーラントの加圧条件を制御する
制御系2は、圧延速度に基づくクーラント圧力を入力
し、高圧クーラントの噴出圧力制御のためにパターン記
録機構21に予め有力した制御パターンと比較機構22
からの出力を、比較出力発生装置23から高圧スプレー
ポンプ駆動モーター24に入力して、高圧スプレーポン
プ8から高圧クーラントを原料コイルの先端と後端が通
過するワークロール出側に噴出することによって、ワー
クロール表面の清浄状態を維持する。
【0015】本実施例では、冷却および潤滑用のクーラ
ントはワークロール入り出側共通のシステムで実施して
いるが、出側にのみ圧力を高めるシステムに分岐されて
いるものは出側分のクーラントにのみ本方法を適用して
も効果は同様に得られる。
【0016】また、実施例では循環使用するタイプのミ
ルで使用しているが、冷却系統に水を使用するダイレク
ト供給システムでの冷却水に適用しても同様の効果は得
られる。
【0017】図2は、図1におけるパターン記録機構3
1に入力した圧力制御パターンを示すもので、クーラン
トの噴射圧力が圧延速度と無関係に一定の圧力の下で噴
射される圧延条件に本発明を適用したものである。
【0018】同図において、図1に示すコイルCの先端
部Tとその後端部Bが各スタンドを通過している間の
み、通常のクーラント供給圧力4MPaから、10MP
aに昇圧した状態を示す。
【0019】また、図5は、高圧クーラント系の図1に
おけるパターン記録機構21に入力した圧力パターンの
実施例を示すもので、同図において、図1に示すコイル
Cの先端部Tとその後端部Bが各スタンドを通過してい
る間のみ、180MPaに昇圧したクーラント状態を示
す。
【0020】これによって、各スタンドのワークロール
への異物付着は防止され、清浄な状態を維持出来た。
【0021】実施例2 図1に示す制御システムにおける記録機構31に、予め
入力したクーラントの噴射圧力制御のためのパターンの
第2の実施例を示すもので、実施例1がクーラントの噴
射圧力は圧延速度と無関係に一定の圧力で噴射される圧
延条件に適用した例を示したのに対して、本実施例にお
いては、低速度域におけるクーラントの供給量を少なく
する方式に適用したものである。
【0022】この方式は図3に示している。同図(a)
に示すように、圧延油の摩擦係数は圧延速度の増大と共
に減少する。したがって、同図に点線で示すように、圧
延速度が変化する全工程にわたってクーラントを一定圧
力の下で定量供給することは、低速度域においては破線
で示すように、クーラントの過供給となり、動力上も無
駄となる。したがって、同図(b)に示すように、圧延
油の摩擦係数の大きい低圧延速度域においてはクーラン
トの供給量を少なくするために供給圧力を2MPa程度
まで、小さくし、圧延油の摩擦係数が小さくなる高圧延
速度域に至ってクーラントの供給量を多くするために、
10MPa程度に供給圧力を大きくするものである。
【0023】図4は、本発明を図3に示す方式に適用し
た制御パターンを示す。
【0024】同図において、図1に示すコイルCの先端
部Tとその後端部Bが各スタンドを通過している間の
み、180MPa程度に供給圧力を大きくして、ワーク
ロール表面への異物の付着を防止する。なお、高圧クー
ラント系は実施例1と同様の制御を実施した。
【0025】
【発明の効果】本発明によって以下の効果を奏する。
【0026】(1) 供給圧延材の異物の付着の多い部
分に対して集中的にスプレーポンプによるクーラントの
噴射供給圧力を噴射することによって、ワークロールへ
の異物付着を防止するものであるので、全圧延工程にわ
たって高圧流体を噴射する場合に比べ、噴射のための動
力エネルギーを各段に低減できる。
【0027】(2) しかも、連続圧延材がコイル状で
供給される場合には、異物の付着はコイル先端部と後端
部に集中しているので、その部分の圧延スタンド通過時
のみにクーラントを高圧にして噴射することによって略
完全にワークロールの清浄状態を維持することができ
る。
【図面の簡単な説明】
【図1】 本発明を実施するためのクーラント圧力制御
のシステムを示す。
【図2】 本発明における制御パターンの第2の実施例
を示す。
【図3】 圧延油の摩擦係数と圧延速度との関係と、そ
れに対応するクーラントの供給パターンを示す。
【図4】 本発明における制御パターンの第2の実施例
を示す。
【図5】 本発明における高圧クーラントの制御パター
ン。
【符号の説明】
1 リサーキュレーションタンク 2 高圧クーラ
ント系の圧力制御系 3 通常クーラントの圧力制御系 4 供給配管 5 スプレーポンプ 61 〜65
ークロール 7 高圧クーラント系供給配管 8 高圧クーラ
ントスプレーポンプ 21 高圧クーラント系のパターン記録機構 22 高圧クーラント系の比較機構 23 高圧クー
ラントの比較値出力装置 24 高圧クーラント系のスプレーポンプ 31 パ
ターン記録機構 32 比較機構 33 比較値
出力装置 34 スプレーポンプ駆動モータ
フロントページの続き (72)発明者 前田 健太郎 福岡県北九州市戸畑区飛幡町1番1号 新日本製鐵株式会社 八幡製鐵所内 (56)参考文献 特開 平6−339711(JP,A) 特開 平2−169109(JP,A) 特開 平6−106213(JP,A) 特開 昭58−19433(JP,A) 特開 昭58−125306(JP,A) 特開 平6−114418(JP,A) 特開 平5−337522(JP,A) 特開 昭58−103903(JP,A) 特開 昭61−147901(JP,A) 特開 平3−27803(JP,A) 特開 昭52−56052(JP,A) 特開 昭53−127354(JP,A) 実開 平3−31003(JP,U) (58)調査した分野(Int.Cl.7,DB名) B21B 27/10 B21B 28/04 B21B 1/22

Claims (3)

    (57)【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 連続冷間圧延機による冷間圧延の際、疵
    入りが多い部位が通過する時、通常のロール冷却用およ
    び潤滑用クーラント、または、ロール冷却と潤滑と同時
    に異物除去用の高圧クーラント等の冷間圧延クーラント
    の圧力制御方法において、前記連続冷間圧延機のワーク
    ロールの出側からの噴出圧力を高めてワークロールと中
    間ロール、もしくはワークロールとバックアップロール
    の間への異物侵入を防止する冷間圧延クーラントの圧力
    制御方法。
  2. 【請求項2】 連続冷間圧延機による冷間圧延の際、疵
    入りが多い部位が通過する時、通常のロール冷却用およ
    び潤滑用クーラント、または、ロール冷却と潤滑と同時
    に異物除去用の高圧クーラント等の冷間圧延クーラント
    の圧力制御方法において、低速度域におけるクーラント
    の供給量を少なくし、圧延速度の増大と共にクーラント
    の供給量を多くすると共に、入側コイルの先端部と後端
    部が通過する時にワークロール出側からのクーラントの
    圧力を高めてロールへの異物付着を防止する冷間圧延ク
    ーラント圧力制御方法。
  3. 【請求項3】 請求項1または請求項2の記載におい
    て、入側コイルの先端部と後端部が通過する時にワーク
    ロール出側からの異物除去用の高圧クーラントの圧力を
    150MPa以上に高めて噴射することによりロールへ
    の異物付着を防止する冷間圧延クーラント圧力制御方
    法。
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