JP3254655B2 - レーザ加工方法 - Google Patents
レーザ加工方法Info
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- laser beam
- excimer laser
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- 239000002861 polymer material Substances 0.000 claims description 10
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Classifications
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B41—PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
- B41J—TYPEWRITERS; SELECTIVE PRINTING MECHANISMS, i.e. MECHANISMS PRINTING OTHERWISE THAN FROM A FORME; CORRECTION OF TYPOGRAPHICAL ERRORS
- B41J2/00—Typewriters or selective printing mechanisms characterised by the printing or marking process for which they are designed
- B41J2/005—Typewriters or selective printing mechanisms characterised by the printing or marking process for which they are designed characterised by bringing liquid or particles selectively into contact with a printing material
- B41J2/01—Ink jet
- B41J2/135—Nozzles
- B41J2/16—Production of nozzles
- B41J2/1621—Manufacturing processes
- B41J2/1632—Manufacturing processes machining
- B41J2/1634—Manufacturing processes machining laser machining
-
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- B41J2/162—Manufacturing of the nozzle plates
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- Particle Formation And Scattering Control In Inkjet Printers (AREA)
- Laser Beam Processing (AREA)
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、ポリマー材料のシート
にエキシマレーザビームを照射して加工を行うレーザ加
工方法に関するものである。
にエキシマレーザビームを照射して加工を行うレーザ加
工方法に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】従来、エキシマレーザビームを使って加
工することは、特開平４ー９２９１号公報に開示されて
おり、その公報には、ポリイミドやポリサルフォン等の
ポリマー材料からなるシートに、エキシマレーザビーム
を照射して加工することが記載されている。
工することは、特開平４ー９２９１号公報に開示されて
おり、その公報には、ポリイミドやポリサルフォン等の
ポリマー材料からなるシートに、エキシマレーザビーム
を照射して加工することが記載されている。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上記し
たポリマー材料のシートには、一般的に表面の滑りを良
くするために、滑剤としてＳｉＯ２が添加されていた。
エキシマレーザビームの波長域である紫外線領域では、
Ｓｉはエキシマレーザビームの反射率が高い（レーザ熱
加工研究会資料、平成２年、第２３回）。このため、加
工しようとする箇所にＳｉＯ２の粒子が存在すると図３
に示すように加工形状が悪くなる問題点があった。
たポリマー材料のシートには、一般的に表面の滑りを良
くするために、滑剤としてＳｉＯ２が添加されていた。
エキシマレーザビームの波長域である紫外線領域では、
Ｓｉはエキシマレーザビームの反射率が高い（レーザ熱
加工研究会資料、平成２年、第２３回）。このため、加
工しようとする箇所にＳｉＯ２の粒子が存在すると図３
に示すように加工形状が悪くなる問題点があった。
【０００４】本発明は、上述した問題点を解決するため
になされたものであり、ポリマー材料のシートに良好な
形状に加工できるレーザ加工方法を提示することを目的
としている。
になされたものであり、ポリマー材料のシートに良好な
形状に加工できるレーザ加工方法を提示することを目的
としている。
【０００５】
【課題を解決するための手段】この目的を達成するため
に本発明の請求項１では、ポリマー材料のシートにエキ
シマレーザビームを照射して加工を行うレーザ加工方法
において、エキシマレーザビームを吸収するポリマー材
料で形成され、且つ表面を滑り易くする滑剤を含まない
シートに、エキシマレーザビームを照射して加工を行う
ことを特徴とする。
に本発明の請求項１では、ポリマー材料のシートにエキ
シマレーザビームを照射して加工を行うレーザ加工方法
において、エキシマレーザビームを吸収するポリマー材
料で形成され、且つ表面を滑り易くする滑剤を含まない
シートに、エキシマレーザビームを照射して加工を行う
ことを特徴とする。
【０００６】請求項２では、前記滑剤は、シリコン酸化
物を含むことを特徴とする。
物を含むことを特徴とする。
【０００７】請求項３では、前記シートは、ノズルから
インクを噴射して画像を形成するインク噴射装置のノズ
ルプレートであることを特徴とする。
インクを噴射して画像を形成するインク噴射装置のノズ
ルプレートであることを特徴とする。
【０００８】
【作用】上記の構成を有する本発明のレーザ加工方法で
は、エキシマレーザビームを吸収するポリマー材料で形
成され、且つ表面を滑り易くする滑剤を含まないシート
に、エキシマレーザビームを照射することによって、シ
ートが良好な形状に加工される。
は、エキシマレーザビームを吸収するポリマー材料で形
成され、且つ表面を滑り易くする滑剤を含まないシート
に、エキシマレーザビームを照射することによって、シ
ートが良好な形状に加工される。
【０００９】
【実施例】以下、本発明を具体化した一実施例を図面を
参照して説明する。
参照して説明する。
【００１０】図１はレーザ加工装置の全体の構成を示す
構成図である。本実施例のレーザ加工装置では、発振器
１より出たエキシマレーザビーム２は、ミラー３ａ、３
ｂ、３ｃによって、加工テーブル８にいたる光路が形成
される。ミラー３ａとミラー３ｂの間の光路には、エキ
シマレーザビーム２を所望のサイズに拡大するビームエ
キスパンダー４が設けられ、そのレーザビーム入射側に
は余分なビームをカットするアパーチャ部材（図示せ
ず）が設けられている。ミラー３ｂとミラー３ｃとの間
の光路には、エキシマレーザビーム２を開けようとする
穴に対応した形状にするためのマスク５が設けられてお
り、また、マスク５の下流には、マスク５を通過したマ
スク像を結像光学系７に導くためのフィールドレンズ６
が設けられている。前記結像光学系７は、ミラー３ｃと
加工テーブル８との間に設けられ、加工テーブル８に置
かれた被加工物９にマスク５を透過したエキシマレーザ
ビーム２を所定の大きさに絞り込むためのものである。
構成図である。本実施例のレーザ加工装置では、発振器
１より出たエキシマレーザビーム２は、ミラー３ａ、３
ｂ、３ｃによって、加工テーブル８にいたる光路が形成
される。ミラー３ａとミラー３ｂの間の光路には、エキ
シマレーザビーム２を所望のサイズに拡大するビームエ
キスパンダー４が設けられ、そのレーザビーム入射側に
は余分なビームをカットするアパーチャ部材（図示せ
ず）が設けられている。ミラー３ｂとミラー３ｃとの間
の光路には、エキシマレーザビーム２を開けようとする
穴に対応した形状にするためのマスク５が設けられてお
り、また、マスク５の下流には、マスク５を通過したマ
スク像を結像光学系７に導くためのフィールドレンズ６
が設けられている。前記結像光学系７は、ミラー３ｃと
加工テーブル８との間に設けられ、加工テーブル８に置
かれた被加工物９にマスク５を透過したエキシマレーザ
ビーム２を所定の大きさに絞り込むためのものである。
【００１１】前記被加工物９は、表面を滑る易くするた
めの滑剤であるＳｉＯ２粒子を含まないポリミドのシー
トである。そのシートの厚さは１００μｍである。本実
施例では、被加工物９に、インクが噴射されるノズルを
１列の線上に６０個明けるものとする。ノズルの入射径
は８０μｍで出射径は４０μｍである。マスク５のパタ
ーン径は４００μｍで加工縮小率は５分の１である。本
実施例に用いたエキシマレーザビーム２は、波長が２４
８ｎｍであるＫｒＦエキシマレーザビームである。
めの滑剤であるＳｉＯ２粒子を含まないポリミドのシー
トである。そのシートの厚さは１００μｍである。本実
施例では、被加工物９に、インクが噴射されるノズルを
１列の線上に６０個明けるものとする。ノズルの入射径
は８０μｍで出射径は４０μｍである。マスク５のパタ
ーン径は４００μｍで加工縮小率は５分の１である。本
実施例に用いたエキシマレーザビーム２は、波長が２４
８ｎｍであるＫｒＦエキシマレーザビームである。
【００１２】図２に、ＳｉＯ２粒子を含まないポリミド
シートにエキシマレーザビームで加工したノズルの形状
を示す。図２から明らかなように、ノズルの形状は非常
にスムーズな円形状をなしている。従って、ノズルの寸
法精度が良く、インク滴の飛翔方向のばらつきを生じさ
せない。このノズルを使用したインク噴射装置では、印
字品質が良好である。
シートにエキシマレーザビームで加工したノズルの形状
を示す。図２から明らかなように、ノズルの形状は非常
にスムーズな円形状をなしている。従って、ノズルの寸
法精度が良く、インク滴の飛翔方向のばらつきを生じさ
せない。このノズルを使用したインク噴射装置では、印
字品質が良好である。
【００１３】尚、本発明は上述した実施例にのみ限定さ
れるものではなく、その主旨を逸脱しない範囲において
種々の変更を加えることができる。例えば、本実施例に
おいては、被加工物９にポリイミドを使用していたが、
ポリマー材料であるポリサルフォン、ポリエーテルサル
フォンなどの材料でもよい。また、被加工物９の厚さも
１００μｍに限らない。更に、ノズルの形状も円形に限
らず、楕円形や矩形であってもよい。
れるものではなく、その主旨を逸脱しない範囲において
種々の変更を加えることができる。例えば、本実施例に
おいては、被加工物９にポリイミドを使用していたが、
ポリマー材料であるポリサルフォン、ポリエーテルサル
フォンなどの材料でもよい。また、被加工物９の厚さも
１００μｍに限らない。更に、ノズルの形状も円形に限
らず、楕円形や矩形であってもよい。
【００１４】また、本実施例においては、エキシマレー
ザビーム２はＫｒＦエキシマレーザビームであったが、
ＡｒＦエキシマレーザビーム、ＸｅＣｌエキシマレーザ
ビーム等であってもよい。
ザビーム２はＫｒＦエキシマレーザビームであったが、
ＡｒＦエキシマレーザビーム、ＸｅＣｌエキシマレーザ
ビーム等であってもよい。
【００１５】
【発明の効果】以上説明したことから明かなように、本
発明のレーザ加工方法によれば、エキシマレーザビーム
を吸収するポリマー材料で形成され、且つ表面を滑り易
くする滑剤を含まないシートに、エキシマレーザビーム
を照射するので、エキシマレーザビームが反射すること
なくシートに良好に吸収されて、良好な形状に加工する
ことができる。
発明のレーザ加工方法によれば、エキシマレーザビーム
を吸収するポリマー材料で形成され、且つ表面を滑り易
くする滑剤を含まないシートに、エキシマレーザビーム
を照射するので、エキシマレーザビームが反射すること
なくシートに良好に吸収されて、良好な形状に加工する
ことができる。
【図１】本発明の一実施例のレーザ加工装置を示す概略
図である。
図である。
【図２】前記実施例で加工されたノズルの加工形状の写
真を示す図である。
真を示す図である。
【図３】従来例で加工されたノズルの加工形状の写真を
示す図である。
示す図である。
１ 発振器 ２ エキシマレーザビーム ９ 被加工物
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (58)調査した分野(Int.Cl.7，ＤＢ名) B23K 26/00 B41J 2/135
Claims (3)
- 【請求項１】 ポリマー材料のシートにエキシマレーザ
ビームを照射して加工を行うレーザ加工方法において、 エキシマレーザビームを吸収するポリマー材料で形成さ
れ、且つ表面を滑り易くする滑剤を含まないシートに、
エキシマレーザビームを照射して加工を行うことを特徴
とするレーザ加工方法。 - 【請求項２】 前記滑剤は、シリコン酸化物を含むこと
を特徴とする請求項１記載のレーザ加工方法。 - 【請求項３】 前記シートは、ノズルからインクを噴射
して画像を形成するインク噴射装置のノズルプレートで
あることを特徴とする請求項１記載のレーザ加工方法。
Priority Applications (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP24064094A JP3254655B2 (ja) | 1994-09-07 | 1994-09-07 | レーザ加工方法 |
| US08/507,669 US5736999A (en) | 1994-09-07 | 1995-07-25 | Laser processing method to form an ink jet nozzle plate |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP24064094A JP3254655B2 (ja) | 1994-09-07 | 1994-09-07 | レーザ加工方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0871776A JPH0871776A (ja) | 1996-03-19 |
| JP3254655B2 true JP3254655B2 (ja) | 2002-02-12 |
Family
ID=17062509
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP24064094A Expired - Lifetime JP3254655B2 (ja) | 1994-09-07 | 1994-09-07 | レーザ加工方法 |
Country Status (2)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US5736999A (ja) |
| JP (1) | JP3254655B2 (ja) |
Families Citing this family (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| DE19755738A1 (de) * | 1997-12-16 | 1999-07-15 | Adiam Medizintechnik Gmbh & Co | Verfahren zur trennenden und/oder abtragenden Bearbeitung von vorgefertigten Kunststoff-Folien |
| US6409308B1 (en) | 1999-11-19 | 2002-06-25 | Lexmark International, Inc. | Method of forming an inkjet printhead nozzle structure |
| GB0113639D0 (en) * | 2001-06-05 | 2001-07-25 | Xaar Technology Ltd | Nozzle plate for droplet deposition apparatus |
| JP4736814B2 (ja) * | 2006-01-16 | 2011-07-27 | 富士ゼロックス株式会社 | 液滴吐出ヘッド及び液滴吐出装置 |
Family Cites Families (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP0380667A4 (en) * | 1987-10-07 | 1991-04-24 | Terumo Kabushiki Kaisha | Ultraviolet-absorbing polymer material and photoetching process |
| US5208604A (en) * | 1988-10-31 | 1993-05-04 | Canon Kabushiki Kaisha | Ink jet head and manufacturing method thereof, and ink jet apparatus with ink jet head |
| JP2706350B2 (ja) * | 1990-04-27 | 1998-01-28 | キヤノン株式会社 | レーザによる孔明け加工機 |
-
1994
- 1994-09-07 JP JP24064094A patent/JP3254655B2/ja not_active Expired - Lifetime
-
1995
- 1995-07-25 US US08/507,669 patent/US5736999A/en not_active Expired - Lifetime
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| US5736999A (en) | 1998-04-07 |
| JPH0871776A (ja) | 1996-03-19 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
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