JP3246551B2 - 電子線描画描画用パターンデータ作成方法、電子線描画用パターンデータ作成装置および電子線描画装置 - Google Patents
電子線描画描画用パターンデータ作成方法、電子線描画用パターンデータ作成装置および電子線描画装置Info
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Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、半導体集積回路等
の回路設計パターンデータをもとに電子線描画装置のた
めの描画データを作成する技術に関するものである。
の回路設計パターンデータをもとに電子線描画装置のた
めの描画データを作成する技術に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】半導体集積回路の大規模化・微細化に伴
い、電子線描画装置を利用してマスクまたはウェハにマ
スクパターンを描画する技術の採用が進んでいる。
い、電子線描画装置を利用してマスクまたはウェハにマ
スクパターンを描画する技術の採用が進んでいる。
【０００３】従来の電子線描画装置は、例えば図１５に
示すような構造を有している。電子銃１から出射された
電子線（電子ビーム）２は第１アパーチャ３を経由し、
成形偏向器５により所定の方向に偏向され、第２アパー
チャ７に照射される。第２アパーチャ７には矩形状の窓
部が設けられており、この窓部を透過した電子線のみが
ウエハ１２に照射される。したがって電子線２は、この
窓部と照射された電子線の重なり部の形状に成形される
（図１５左側に図示）。
示すような構造を有している。電子銃１から出射された
電子線（電子ビーム）２は第１アパーチャ３を経由し、
成形偏向器５により所定の方向に偏向され、第２アパー
チャ７に照射される。第２アパーチャ７には矩形状の窓
部が設けられており、この窓部を透過した電子線のみが
ウエハ１２に照射される。したがって電子線２は、この
窓部と照射された電子線の重なり部の形状に成形される
（図１５左側に図示）。
【０００４】成形された電子線２は、その後、縮小レン
ズ８により縮小され、次いで、位置偏向器９によりステ
ージ１３に載置されたウエハ１２上の特定位置に向けて
偏向される。このとき、位置偏向器９による偏向度を適
宜調整することにより、所望のパターンがウエハ１２上
に描画される。
ズ８により縮小され、次いで、位置偏向器９によりステ
ージ１３に載置されたウエハ１２上の特定位置に向けて
偏向される。このとき、位置偏向器９による偏向度を適
宜調整することにより、所望のパターンがウエハ１２上
に描画される。
【０００５】上記した電子線描画において、成形偏向器
５の偏向度は成形偏向器制御装置６により、位置偏向器
９の偏向度は位置偏向器制御装置１０により、それぞれ
描画用パターンデータに基づいて制御される。描画の精
度は主として成形偏向器５および位置偏向器９による偏
向度の制御に依存することから、描画用パターンデータ
の寸法精度を向上させることが重要となる。
５の偏向度は成形偏向器制御装置６により、位置偏向器
９の偏向度は位置偏向器制御装置１０により、それぞれ
描画用パターンデータに基づいて制御される。描画の精
度は主として成形偏向器５および位置偏向器９による偏
向度の制御に依存することから、描画用パターンデータ
の寸法精度を向上させることが重要となる。
【０００６】描画パターンデータは、通常、ＣＡＤ上で
複数の層のパターンデータを合成して合成パターンデー
タを得た後、これを電子線描画可能な形式にデータ変換
することにより得られる。この変換において、図形の重
なりによる多重露光を防ぐ重なり除去、入力パターンの
拡大・縮小を行なう寸法補正、描画時に発生する電子線
の散乱による近接効果補正、電子線描画可能な基本図形
への分解などが行なわれる。
複数の層のパターンデータを合成して合成パターンデー
タを得た後、これを電子線描画可能な形式にデータ変換
することにより得られる。この変換において、図形の重
なりによる多重露光を防ぐ重なり除去、入力パターンの
拡大・縮小を行なう寸法補正、描画時に発生する電子線
の散乱による近接効果補正、電子線描画可能な基本図形
への分解などが行なわれる。
【０００７】以下、図９〜１１を参照して従来の描画パ
ターンデータ作成プロセスについて説明する。この例で
は２つのパターンデータを合成したパターンデータから
描画パターンデータを作成している。まず、第一層のパ
ターンデータと第二層のパターンデータを合成して合成
パターンデータを得る。この作業は通常ＣＡＤ上で行わ
れる。このとき、合成パターンデータは本来図１０のよ
うな図形となるはずであるが、実際に合成すると図９の
ような接合ずれの生じた図形となる。このような接合ず
れが生じる主な理由は、各パターンデータが異なるグリ
ッド上で作成されることによるものである。異なるグリ
ッド上で作成されたデータについて層間演算処理やシュ
リンク処理を行う際、丸め誤差が生じること等により接
合ずれが発生するのである。
ターンデータ作成プロセスについて説明する。この例で
は２つのパターンデータを合成したパターンデータから
描画パターンデータを作成している。まず、第一層のパ
ターンデータと第二層のパターンデータを合成して合成
パターンデータを得る。この作業は通常ＣＡＤ上で行わ
れる。このとき、合成パターンデータは本来図１０のよ
うな図形となるはずであるが、実際に合成すると図９の
ような接合ずれの生じた図形となる。このような接合ず
れが生じる主な理由は、各パターンデータが異なるグリ
ッド上で作成されることによるものである。異なるグリ
ッド上で作成されたデータについて層間演算処理やシュ
リンク処理を行う際、丸め誤差が生じること等により接
合ずれが発生するのである。
【０００８】次いで得られた合成パターンデータを図１
１のごとく凹凸を各々が含まない矩形領域に分割する。
図１５の装置ではアパーチャの窓部の大きさと形状が決
まっていることから、一度に電子線描画できる照射領域
の形状および大きさに一定の制限が加わる。このため電
子線描画用パターンを所定の大きさの矩形形状または三
角形の形状に分割した上で、成形偏向器制御装置６や位
置偏向器制御装置１０に送る必要が生じるのである。分
割処理により得られた各矩形領域は、それぞれ描画パタ
ーンデータとして電子線描画装置に取り込まれ、成形偏
向器による偏向度および位置偏向器による偏向度を制御
する。以上のようにして、複数のパターンデータが合成
された合成パターンデータを用いて電子線が偏向され、
パターン描画が行われる。
１のごとく凹凸を各々が含まない矩形領域に分割する。
図１５の装置ではアパーチャの窓部の大きさと形状が決
まっていることから、一度に電子線描画できる照射領域
の形状および大きさに一定の制限が加わる。このため電
子線描画用パターンを所定の大きさの矩形形状または三
角形の形状に分割した上で、成形偏向器制御装置６や位
置偏向器制御装置１０に送る必要が生じるのである。分
割処理により得られた各矩形領域は、それぞれ描画パタ
ーンデータとして電子線描画装置に取り込まれ、成形偏
向器による偏向度および位置偏向器による偏向度を制御
する。以上のようにして、複数のパターンデータが合成
された合成パターンデータを用いて電子線が偏向され、
パターン描画が行われる。
【０００９】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら上記従来
技術は、合成パターンデータに接合ずれが発生するた
め、描画可能な矩形領域へ分解する際に多くの矩形領域
が発生する。このため本来必要とする以上のデータが生
成し、これら矩形領域毎に１度ずつ描画が行われること
から電子線描画のスループットが低下し、また描画の寸
法精度の低下をもたらすといった課題を有していた。し
かしながら接合ずれの発生に伴う問題については従来、
ほとんど認識されておらず、上記のような課題を解決す
るための検討はなされていなかった。
技術は、合成パターンデータに接合ずれが発生するた
め、描画可能な矩形領域へ分解する際に多くの矩形領域
が発生する。このため本来必要とする以上のデータが生
成し、これら矩形領域毎に１度ずつ描画が行われること
から電子線描画のスループットが低下し、また描画の寸
法精度の低下をもたらすといった課題を有していた。し
かしながら接合ずれの発生に伴う問題については従来、
ほとんど認識されておらず、上記のような課題を解決す
るための検討はなされていなかった。
【００１０】本発明は上記課題を解決するためになされ
たものであり、合成パターンデータに生じる接合ずれを
解消し、電子線描画のスループットを向上させるととも
に描画の寸法精度を向上させることを目的とする。
たものであり、合成パターンデータに生じる接合ずれを
解消し、電子線描画のスループットを向上させるととも
に描画の寸法精度を向上させることを目的とする。
【００１１】
【課題を解決するための手段】上記課題を解決する本発
明によれば、複数のパターンデータを合成処理した後、
得られた合成パターンデータを電子線描画の可能な図形
に分割処理する電子線描画用パターンデータ作成方法に
おいて、前記合成処理の後、合成パターンデータに生じ
た各パターンデータ間の接合ずれを補正するバインド処
理を行い、得られたバインドパターンデータについて前
記分割処理を行うことを特徴とする電子線描画用パター
ンデータ作成方法が提供される。
明によれば、複数のパターンデータを合成処理した後、
得られた合成パターンデータを電子線描画の可能な図形
に分割処理する電子線描画用パターンデータ作成方法に
おいて、前記合成処理の後、合成パターンデータに生じ
た各パターンデータ間の接合ずれを補正するバインド処
理を行い、得られたバインドパターンデータについて前
記分割処理を行うことを特徴とする電子線描画用パター
ンデータ作成方法が提供される。
【００１２】本発明は合成パターンデータに生じた接合
ずれを補正することを特徴としている。合成パターンデ
ータに生じる接合ずれについてはこれまで特に着目され
ることはなかったが、本発明者は、かかる接合ずれによ
るデータ分割数の増大が予想外に大きく、電子線描画の
スループットや描画の寸法精度に対し、大きな影響を及
ぼすことを見いだし、本発明の完成に至ったものであ
る。本発明によれば、接合ずれの補正を行っているた
め、分割処理時に不要な領域が発生せず、描画スループ
ットを向上させるとともに、描画寸法精度向上を向上さ
せることができる。
ずれを補正することを特徴としている。合成パターンデ
ータに生じる接合ずれについてはこれまで特に着目され
ることはなかったが、本発明者は、かかる接合ずれによ
るデータ分割数の増大が予想外に大きく、電子線描画の
スループットや描画の寸法精度に対し、大きな影響を及
ぼすことを見いだし、本発明の完成に至ったものであ
る。本発明によれば、接合ずれの補正を行っているた
め、分割処理時に不要な領域が発生せず、描画スループ
ットを向上させるとともに、描画寸法精度向上を向上さ
せることができる。
【００１３】また本発明によれば、複数のパターンデー
タからなる合成パターンデータに基づいて作成された電
子線描画パターンデータを用い、該電子線描画パターン
データにより電子線を偏向させて被処理体に照射し、前
記被処理体にパターンを描画する電子線描画装置におい
て、前記合成パターンデータに生じた前記複数のパター
ンデータ間の接合ずれを補正する機能を有するバインド
処理部を備え、前記バインド処理部で接合ずれの補正さ
れたデータを前記電子線描画パターンデータとすること
を特徴とする電子線描画装置が提供される。
タからなる合成パターンデータに基づいて作成された電
子線描画パターンデータを用い、該電子線描画パターン
データにより電子線を偏向させて被処理体に照射し、前
記被処理体にパターンを描画する電子線描画装置におい
て、前記合成パターンデータに生じた前記複数のパター
ンデータ間の接合ずれを補正する機能を有するバインド
処理部を備え、前記バインド処理部で接合ずれの補正さ
れたデータを前記電子線描画パターンデータとすること
を特徴とする電子線描画装置が提供される。
【００１４】また本発明によれば、電子線を出射する電
子銃と、二以上のアパチャおよび一以上の成形偏向器を
含み前記電子銃から出射された電子線を成形する電子線
成形部と、前記電子線成形部で成形された電子線を被処
理体の任意位置に向けて偏向する位置偏向器とを備え、
前記成形偏向器による偏向度および前記位置偏向器によ
る偏向度を、複数のパターンデータからなる合成パター
ンデータに基づいて作成された電子線描画パターンデー
タを用いて制御する電子線描画装置において、前記合成
パターンデータに生じた前記複数のパターンデータ間の
接合ずれを補正する機能を有するバインド処理部を備
え、前記バインド処理部で接合ずれの補正されたデータ
を前記電子線描画パターンデータとすることを特徴とす
る電子線描画装置が提供される。
子銃と、二以上のアパチャおよび一以上の成形偏向器を
含み前記電子銃から出射された電子線を成形する電子線
成形部と、前記電子線成形部で成形された電子線を被処
理体の任意位置に向けて偏向する位置偏向器とを備え、
前記成形偏向器による偏向度および前記位置偏向器によ
る偏向度を、複数のパターンデータからなる合成パター
ンデータに基づいて作成された電子線描画パターンデー
タを用いて制御する電子線描画装置において、前記合成
パターンデータに生じた前記複数のパターンデータ間の
接合ずれを補正する機能を有するバインド処理部を備
え、前記バインド処理部で接合ずれの補正されたデータ
を前記電子線描画パターンデータとすることを特徴とす
る電子線描画装置が提供される。
【００１５】これらの電子線描画装置は、接合ずれを補
正するバインド処理部を設けたことを特徴としている。
本発明の電子線描画装置と従来の電子線描画装置につい
て、描画用データ処理部を比較すると図１３のようにな
る。従来の電子線描画装置では図１３（ｂ）のように、
分割処理により得られたパターンデータ（たとえば図１
１（ｃ）の各パターンデータ）は、それぞれ成形偏向器
６、位置偏向器１０に直接送られ、これにより電子線の
制御が行われていた。これに対し本発明の電子線描画装
置では従来の装置には設けられていなかったバインド処
理部１４により、接合ずれの補正が行われる（図１３
（ａ）、（ｂ））。このため分割処理時に不要な領域が
発生せず、描画スループットを向上させるとともに描画
寸法精度向上を向上させることができる。なお、本発明
の電子線描画装置における電子線描画パターンデータは
接合ずれの補正されたパターンデータをいうが、接合ず
れ補正後に適宜、電子線描画可能な形状・大きさに分割
される。分割処理は図１３（ａ）のようにバインド処理
部で行われても良いし、図１３（ｃ）のように別途、分
割処理部１８を設けても良い。
正するバインド処理部を設けたことを特徴としている。
本発明の電子線描画装置と従来の電子線描画装置につい
て、描画用データ処理部を比較すると図１３のようにな
る。従来の電子線描画装置では図１３（ｂ）のように、
分割処理により得られたパターンデータ（たとえば図１
１（ｃ）の各パターンデータ）は、それぞれ成形偏向器
６、位置偏向器１０に直接送られ、これにより電子線の
制御が行われていた。これに対し本発明の電子線描画装
置では従来の装置には設けられていなかったバインド処
理部１４により、接合ずれの補正が行われる（図１３
（ａ）、（ｂ））。このため分割処理時に不要な領域が
発生せず、描画スループットを向上させるとともに描画
寸法精度向上を向上させることができる。なお、本発明
の電子線描画装置における電子線描画パターンデータは
接合ずれの補正されたパターンデータをいうが、接合ず
れ補正後に適宜、電子線描画可能な形状・大きさに分割
される。分割処理は図１３（ａ）のようにバインド処理
部で行われても良いし、図１３（ｃ）のように別途、分
割処理部１８を設けても良い。
【００１６】また本発明によれば、複数のパターンデー
タが合成されてなる合成パターンデータを電子線描画可
能なパターンデータに変換する電子線描画用パターンデ
ータ作成装置であって、前記合成パターンデータに生じ
た各パターンデータ間の接合ずれを補正する機能を有す
るバインド処理部を備えたことを特徴とする電子線描画
用パターンデータ作成装置が提供される。
タが合成されてなる合成パターンデータを電子線描画可
能なパターンデータに変換する電子線描画用パターンデ
ータ作成装置であって、前記合成パターンデータに生じ
た各パターンデータ間の接合ずれを補正する機能を有す
るバインド処理部を備えたことを特徴とする電子線描画
用パターンデータ作成装置が提供される。
【００１７】この電子線描画用パターンデータ作成装置
は、接合ずれを補正するバインド処理部を設けたことを
特徴としている。この電子線描画用パターンデータ作成
装置を用いれば、接合ずれが補正されるため分割処理時
に不要な領域が発生せず、描画スループットを向上させ
るとともに、描画寸法精度向上を向上させることができ
る。なお、分割処理はバインド処理部で行われても良い
し、別途設けられた分割処理部で行われても良い。
は、接合ずれを補正するバインド処理部を設けたことを
特徴としている。この電子線描画用パターンデータ作成
装置を用いれば、接合ずれが補正されるため分割処理時
に不要な領域が発生せず、描画スループットを向上させ
るとともに、描画寸法精度向上を向上させることができ
る。なお、分割処理はバインド処理部で行われても良い
し、別途設けられた分割処理部で行われても良い。
【００１８】
【発明の実施の形態】本発明の電子線描画用パターンデ
ータ作成方法は、バインド処理により合成パターンデー
タに生じた各パターンデータ間の接合ずれを補正する。
バインド処理は種々の方法により行うことが可能であ
り、たとえば図１、図１６に示す方法が挙げられる。
ータ作成方法は、バインド処理により合成パターンデー
タに生じた各パターンデータ間の接合ずれを補正する。
バインド処理は種々の方法により行うことが可能であ
り、たとえば図１、図１６に示す方法が挙げられる。
【００１９】まず図１６に示す方法について説明する。
この方法は、下記ステップ（ａ）〜（ｃ）によりバイン
ド処理を行っている。 （ａ）合成パターンデータを凹凸を含まないようにｎ個
の領域Ｓ1〜Ｓn（ｎは２以上の自然数）に分割するステ
ップ （ｂ）領域Ｓ1〜Ｓnの一部または全部の形状を修正して
接合ずれを補正するステップ （ｃ）領域Ｓ1〜Ｓnを再接合してバインドパターンデー
タを得るステップ この方法によれば、接合ずれを正確かつ迅速に補正する
ことができる。
この方法は、下記ステップ（ａ）〜（ｃ）によりバイン
ド処理を行っている。 （ａ）合成パターンデータを凹凸を含まないようにｎ個
の領域Ｓ1〜Ｓn（ｎは２以上の自然数）に分割するステ
ップ （ｂ）領域Ｓ1〜Ｓnの一部または全部の形状を修正して
接合ずれを補正するステップ （ｃ）領域Ｓ1〜Ｓnを再接合してバインドパターンデー
タを得るステップ この方法によれば、接合ずれを正確かつ迅速に補正する
ことができる。
【００２０】ステップ（ａ）では、合成パターンデータ
をｎ個に分割しているが、この分割は、接合ずれを補正
するための仮の分割であり、電子線描画可能な図形に分
割する分割処理とは異なるものである。分割された各領
域は、接合ずれによる凹凸等を含まないことが好まし
い。たとえば図３（ｂ）のように、接合ずれによる凹凸
に沿うように各領域へ分割することが好ましい。これに
より各領域を拡大または縮小するといった簡便な操作に
より接合ずれを補正できる。
をｎ個に分割しているが、この分割は、接合ずれを補正
するための仮の分割であり、電子線描画可能な図形に分
割する分割処理とは異なるものである。分割された各領
域は、接合ずれによる凹凸等を含まないことが好まし
い。たとえば図３（ｂ）のように、接合ずれによる凹凸
に沿うように各領域へ分割することが好ましい。これに
より各領域を拡大または縮小するといった簡便な操作に
より接合ずれを補正できる。
【００２１】このように仮分割された各領域Ｓ1〜Ｓ
nは、ステップ（ｂ）において、その一部または全部の
形状が修正され接合ずれが補正される。ステップ（ｂ）
においては、接合ずれと真の凹凸部を区別し、接合ずれ
のみを補正するため、拡大または縮小を行うか否かの可
否判断を適宜行うことが好ましい。次いでステップ
（ｃ）で領域Ｓ1〜Ｓnが再接合されバインドパターンデ
ータとなる。
nは、ステップ（ｂ）において、その一部または全部の
形状が修正され接合ずれが補正される。ステップ（ｂ）
においては、接合ずれと真の凹凸部を区別し、接合ずれ
のみを補正するため、拡大または縮小を行うか否かの可
否判断を適宜行うことが好ましい。次いでステップ
（ｃ）で領域Ｓ1〜Ｓnが再接合されバインドパターンデ
ータとなる。
【００２２】バインド処理はたとえば下記ステップ
（ａ）〜（ｃ）により行ってもよい。 （ａ）合成パターンデータをＸＹ座標に配置し、Ｘ軸お
よび／またはＹ軸と平行方向の分割線を導入することに
より合成パターンデータを凹凸を各々が含まないｎ個の
矩形領域Ｓ1〜Ｓn（ｎは２以上の自然数）に分割するス
テップ （ｂ）矩形領域Ｓ1〜Ｓnの一部または全部を分割線と平
行方向に拡大または縮小し、接合ずれを補正するステッ
プ （ｃ）矩形領域Ｓ1〜Ｓnを再接合してバインドパターン
データを得るステップ 図１の方法は、上記方法の一形態を示すものであり、図
１６の方法を具体化するものである。図１の方法ではバ
インド処理を、下記ステップ（ａ）〜（ｃ）により行っ
ている。 （ａ）合成パターンデータをＸＹ座標に配置し、Ｘ軸と
平行方向の分割線を導入することにより合成パターンデ
ータをｎ個の矩形領域Ｓ1〜Ｓn（ｎは２以上の自然数）
に分割するステップ （ｂ）矩形領域Ｓ1〜Ｓnの一部または全部をＸ軸と平行
方向に拡大または縮小し、接合ずれを補正するステップ （ｃ）矩形領域Ｓ1〜Ｓnを再接合してバインドパターン
データを得るステップ この方法ではステップ（ａ）の分割により矩形の領域が
生成される。各矩形領域は接合ずれによる凹凸を含まな
いように分割される。したがって、各矩形領域を拡大ま
たは縮小するといった簡便な操作により接合ずれを補正
できる。なお、合成パターンデータのＸＹ座標への配置
は、たとえば図４のように行われ、Ｘ軸と平行な分割線
により矩形領域に分割されるように配置される。このよ
うに仮分割された各領域Ｓ1〜Ｓnは、ステップ（ｂ）に
おいて、その一部または全部の形状が修正され接合ずれ
が補正される。ステップ（ｂ）においては、接合ずれと
真の凹凸部を区別し、接合ずれのみを補正するため、拡
大または縮小を行うか否かの可否判断を適宜行うことが
好ましい。次いでステップ（ｃ）で領域Ｓ1〜Ｓnが再接
合されバインドパターンデータとなる。
（ａ）〜（ｃ）により行ってもよい。 （ａ）合成パターンデータをＸＹ座標に配置し、Ｘ軸お
よび／またはＹ軸と平行方向の分割線を導入することに
より合成パターンデータを凹凸を各々が含まないｎ個の
矩形領域Ｓ1〜Ｓn（ｎは２以上の自然数）に分割するス
テップ （ｂ）矩形領域Ｓ1〜Ｓnの一部または全部を分割線と平
行方向に拡大または縮小し、接合ずれを補正するステッ
プ （ｃ）矩形領域Ｓ1〜Ｓnを再接合してバインドパターン
データを得るステップ 図１の方法は、上記方法の一形態を示すものであり、図
１６の方法を具体化するものである。図１の方法ではバ
インド処理を、下記ステップ（ａ）〜（ｃ）により行っ
ている。 （ａ）合成パターンデータをＸＹ座標に配置し、Ｘ軸と
平行方向の分割線を導入することにより合成パターンデ
ータをｎ個の矩形領域Ｓ1〜Ｓn（ｎは２以上の自然数）
に分割するステップ （ｂ）矩形領域Ｓ1〜Ｓnの一部または全部をＸ軸と平行
方向に拡大または縮小し、接合ずれを補正するステップ （ｃ）矩形領域Ｓ1〜Ｓnを再接合してバインドパターン
データを得るステップ この方法ではステップ（ａ）の分割により矩形の領域が
生成される。各矩形領域は接合ずれによる凹凸を含まな
いように分割される。したがって、各矩形領域を拡大ま
たは縮小するといった簡便な操作により接合ずれを補正
できる。なお、合成パターンデータのＸＹ座標への配置
は、たとえば図４のように行われ、Ｘ軸と平行な分割線
により矩形領域に分割されるように配置される。このよ
うに仮分割された各領域Ｓ1〜Ｓnは、ステップ（ｂ）に
おいて、その一部または全部の形状が修正され接合ずれ
が補正される。ステップ（ｂ）においては、接合ずれと
真の凹凸部を区別し、接合ずれのみを補正するため、拡
大または縮小を行うか否かの可否判断を適宜行うことが
好ましい。次いでステップ（ｃ）で領域Ｓ1〜Ｓnが再接
合されバインドパターンデータとなる。
【００２３】以上述べた図１の方法では、合成パターン
データのＸ軸方向の接合ずれが補正されるのであるが。
合成パターンデータの形状によってはＹ軸方向の接合ず
れを補正することも必要となる。このような場合は、バ
インド処理を下記ステップ（ａ）〜（ｆ）により行うこ
とが好ましい。 （ａ）合成パターンデータをＸＹ座標に配置し、Ｘ軸と
平行方向の分割線を導入することにより合成パターンデ
ータをｎ個の矩形領域Ｓ1〜Ｓn（ｎは２以上の自然数）
に分割するステップ （ｂ）矩形領域Ｓ1〜Ｓnの一部または全部をＸ軸と平行
方向に拡大または縮小し、接合ずれを補正するステップ （ｃ）矩形領域Ｓ1〜Ｓnを再接合して仮パターンデータ
を得るステップ （ｄ）仮パターンデータに対し、Ｙ軸と平行方向の分割
線を導入することにより仮パターンデータをｍ個（ｍは
２以上の自然数）の矩形領域Ｔ1〜Ｔmに分割するステッ
プ （ｅ）領域Ｔ1〜Ｔmの一部または全部をＹ軸と平行方向
に拡大または縮小し、接合ずれを補正するステップ （ｆ）領域Ｔ1〜Ｔmを再接合してバインドパターンデー
タを得るステップ このようなバインド処理を行うことにより、Ｘ軸方向と
Ｙ軸方向の接合ずれが効率的に補正される。
データのＸ軸方向の接合ずれが補正されるのであるが。
合成パターンデータの形状によってはＹ軸方向の接合ず
れを補正することも必要となる。このような場合は、バ
インド処理を下記ステップ（ａ）〜（ｆ）により行うこ
とが好ましい。 （ａ）合成パターンデータをＸＹ座標に配置し、Ｘ軸と
平行方向の分割線を導入することにより合成パターンデ
ータをｎ個の矩形領域Ｓ1〜Ｓn（ｎは２以上の自然数）
に分割するステップ （ｂ）矩形領域Ｓ1〜Ｓnの一部または全部をＸ軸と平行
方向に拡大または縮小し、接合ずれを補正するステップ （ｃ）矩形領域Ｓ1〜Ｓnを再接合して仮パターンデータ
を得るステップ （ｄ）仮パターンデータに対し、Ｙ軸と平行方向の分割
線を導入することにより仮パターンデータをｍ個（ｍは
２以上の自然数）の矩形領域Ｔ1〜Ｔmに分割するステッ
プ （ｅ）領域Ｔ1〜Ｔmの一部または全部をＹ軸と平行方向
に拡大または縮小し、接合ずれを補正するステップ （ｆ）領域Ｔ1〜Ｔmを再接合してバインドパターンデー
タを得るステップ このようなバインド処理を行うことにより、Ｘ軸方向と
Ｙ軸方向の接合ずれが効率的に補正される。
【００２４】上記の方法において、ステップ（ｂ）やス
テップ（ｅ）は以下に示すような種々の形態で行うこと
ができる。
テップ（ｅ）は以下に示すような種々の形態で行うこと
ができる。
【００２５】たとえば、ステップ（ｂ）やステップ
（ｅ）において、矩形領域Ｓ1〜Ｓnの一部または全部を
拡大または縮小する際、矩形領域Ｓk（１≦ｋ≦ｎ）の
一頂点と、これに隣接する矩形領域Ｓk+1の頂点であっ
て一頂点と最も近くに隣接する頂点との頂点間距離を、
所定の基準値と比較し、頂点間距離が基準値よりも小さ
い場合にのみ矩形領域Ｓk+1を拡大または縮小するとい
う方法をとることができる。頂点間距離とは、隣接する
矩形領域が接する辺を含む直線上において最も近くに隣
接する頂点間の間の距離をいい、たとえば図４における
頂点Ｄ1と頂点Ａ2との距離をいう。
（ｅ）において、矩形領域Ｓ1〜Ｓnの一部または全部を
拡大または縮小する際、矩形領域Ｓk（１≦ｋ≦ｎ）の
一頂点と、これに隣接する矩形領域Ｓk+1の頂点であっ
て一頂点と最も近くに隣接する頂点との頂点間距離を、
所定の基準値と比較し、頂点間距離が基準値よりも小さ
い場合にのみ矩形領域Ｓk+1を拡大または縮小するとい
う方法をとることができる。頂点間距離とは、隣接する
矩形領域が接する辺を含む直線上において最も近くに隣
接する頂点間の間の距離をいい、たとえば図４における
頂点Ｄ1と頂点Ａ2との距離をいう。
【００２６】またステップ（ｂ）やステップ（ｅ）にお
いて、矩形領域Ｓ1〜Ｓnの一部または全部を拡大または
縮小する際、矩形領域Ｓk（１≦ｋ≦ｎ）の一頂点と予
め設定した基準線との距離を求め、該距離が所定の基準
値よりも小さい場合にのみ矩形領域Ｓkを拡大または縮
小するという方法をとることもできる。
いて、矩形領域Ｓ1〜Ｓnの一部または全部を拡大または
縮小する際、矩形領域Ｓk（１≦ｋ≦ｎ）の一頂点と予
め設定した基準線との距離を求め、該距離が所定の基準
値よりも小さい場合にのみ矩形領域Ｓkを拡大または縮
小するという方法をとることもできる。
【００２７】このような方法を採用すれば、位置修正の
可否判断を的確に行い、接合ずれと真の凹凸部を正確に
区別して接合ずれのみを補正することが可能となる。ま
た、頂点をＸ軸方向に平行移動するのみで各領域の形状
修正を行うことができ、接合ずれを正確かつ容易に補正
できる。
可否判断を的確に行い、接合ずれと真の凹凸部を正確に
区別して接合ずれのみを補正することが可能となる。ま
た、頂点をＸ軸方向に平行移動するのみで各領域の形状
修正を行うことができ、接合ずれを正確かつ容易に補正
できる。
【００２８】以上のように、位置修正の可否判断すなわ
ち矩形領域形状の修正の可否判断は、頂点間距離や基準
線との距離を参照することにより行うことができる。以
下、その具体的方法についてさらに説明する。
ち矩形領域形状の修正の可否判断は、頂点間距離や基準
線との距離を参照することにより行うことができる。以
下、その具体的方法についてさらに説明する。
【００２９】頂点間距離を参照する方法は、たとえば次
のようにして行うことができる。すなわち、まず基準値
ｄを設定した後、下記サブステップ（ｂ１）〜（ｂ２）
をｋ＝１からｋ＝ｎまで順次行い、次いで下記サブステ
ップ（ｂ３）〜（ｂ４）をｋ＝１からｋ＝ｎまで順次行
うステップとすることができる。 （ｂ１）矩形領域Ｓk（１≦ｋ≦ｎ）の頂点の座標をＡk
（Ｘ1，Ｙ1）、Ｂk（Ｘ2，Ｙ1）、Ｃk（Ｘ2，Ｙ2）、Ｄ
k（Ｘ1，Ｙ2）、矩形領域Ｓk+1の頂点の座標をＡ
k+1（Ｘ3，Ｙ2）、Ｂk+1（Ｘ4，Ｙ2）、Ｃk+1（Ｘ4，Ｙ
3）、Ｄk+1（Ｘ3，Ｙ3）に割り付けるサブステップ （ｂ２）頂点Ｄkと頂点Ａk+1とを比較し、｜Ｘ3−Ｘ1｜
＞ｄであれば頂点Ａk+1および頂点Ｄk+1の位置を修正し
ないものと判断し、｜Ｘ3−Ｘ1｜≦ｄであればＸ座標が
Ｘ1となる位置まで頂点Ａk+1および頂点Ｄk+1をＸ軸と
平行な方向に移動するサブステップ （ｂ３）矩形領域Ｓk（１≦ｋ≦ｎ）の頂点の座標をＡk
（Ｘ1，Ｙ1）、Ｂk（Ｘ2，Ｙ1）、Ｃk（Ｘ2，Ｙ2）、Ｄ
k（Ｘ1，Ｙ2）、矩形領域Ｓk+1の頂点の座標をＡ
k+1（Ｘ3，Ｙ2）、Ｂk+1（Ｘ4，Ｙ2）、Ｃk+1（Ｘ4，Ｙ
3）、Ｄk+1（Ｘ3，Ｙ3）に割り付けるサブステップ （ｂ４）頂点Ｃkと頂点Ｂk+1とを比較し、｜Ｘ4−Ｘ2｜
＞ｄであれば頂点Ｂk+1および頂点Ｃk+1の位置を修正し
ないものと判断し、｜Ｘ4−Ｘ2｜≦ｄであればＸ座標が
Ｘ2となる位置まで頂点Ｂk+1および頂点Ｃk+1をＸ軸と
平行な方向に移動するサブステップ 上記サブステップ（ｂ１）〜（ｂ２）のプロセスを、図
１８に示す。このプロセスは、隣接領域を比較し、一方
の領域を基準として他方の領域の頂点の位置を修正する
ものである。一方の領域の頂点と、この頂点を含む辺の
延長線上にある他方の領域の頂点との距離を基準値ｄと
比較し、位置修正の可否判断を行っている。このため接
合ずれと真の凹凸部を正確に区別し、接合ずれのみを補
正することが可能となる。また、頂点をＸ軸方向に平行
移動するのみで各領域の形状修正を行うことができ、接
合ずれを正確かつ容易に補正できる。
のようにして行うことができる。すなわち、まず基準値
ｄを設定した後、下記サブステップ（ｂ１）〜（ｂ２）
をｋ＝１からｋ＝ｎまで順次行い、次いで下記サブステ
ップ（ｂ３）〜（ｂ４）をｋ＝１からｋ＝ｎまで順次行
うステップとすることができる。 （ｂ１）矩形領域Ｓk（１≦ｋ≦ｎ）の頂点の座標をＡk
（Ｘ1，Ｙ1）、Ｂk（Ｘ2，Ｙ1）、Ｃk（Ｘ2，Ｙ2）、Ｄ
k（Ｘ1，Ｙ2）、矩形領域Ｓk+1の頂点の座標をＡ
k+1（Ｘ3，Ｙ2）、Ｂk+1（Ｘ4，Ｙ2）、Ｃk+1（Ｘ4，Ｙ
3）、Ｄk+1（Ｘ3，Ｙ3）に割り付けるサブステップ （ｂ２）頂点Ｄkと頂点Ａk+1とを比較し、｜Ｘ3−Ｘ1｜
＞ｄであれば頂点Ａk+1および頂点Ｄk+1の位置を修正し
ないものと判断し、｜Ｘ3−Ｘ1｜≦ｄであればＸ座標が
Ｘ1となる位置まで頂点Ａk+1および頂点Ｄk+1をＸ軸と
平行な方向に移動するサブステップ （ｂ３）矩形領域Ｓk（１≦ｋ≦ｎ）の頂点の座標をＡk
（Ｘ1，Ｙ1）、Ｂk（Ｘ2，Ｙ1）、Ｃk（Ｘ2，Ｙ2）、Ｄ
k（Ｘ1，Ｙ2）、矩形領域Ｓk+1の頂点の座標をＡ
k+1（Ｘ3，Ｙ2）、Ｂk+1（Ｘ4，Ｙ2）、Ｃk+1（Ｘ4，Ｙ
3）、Ｄk+1（Ｘ3，Ｙ3）に割り付けるサブステップ （ｂ４）頂点Ｃkと頂点Ｂk+1とを比較し、｜Ｘ4−Ｘ2｜
＞ｄであれば頂点Ｂk+1および頂点Ｃk+1の位置を修正し
ないものと判断し、｜Ｘ4−Ｘ2｜≦ｄであればＸ座標が
Ｘ2となる位置まで頂点Ｂk+1および頂点Ｃk+1をＸ軸と
平行な方向に移動するサブステップ 上記サブステップ（ｂ１）〜（ｂ２）のプロセスを、図
１８に示す。このプロセスは、隣接領域を比較し、一方
の領域を基準として他方の領域の頂点の位置を修正する
ものである。一方の領域の頂点と、この頂点を含む辺の
延長線上にある他方の領域の頂点との距離を基準値ｄと
比較し、位置修正の可否判断を行っている。このため接
合ずれと真の凹凸部を正確に区別し、接合ずれのみを補
正することが可能となる。また、頂点をＸ軸方向に平行
移動するのみで各領域の形状修正を行うことができ、接
合ずれを正確かつ容易に補正できる。
【００３０】ここで、サブステップ（ｂ２）〜（ｂ３）
の順序を変え、以下のようなステップとすることもでき
る。すなわち、基準値ｄを設定した後、下記サブステッ
プ（ｂ１）〜（ｂ３）をｋ＝１からｋ＝ｎまで順次行う
ステップとすることができる。 （ｂ１）矩形領域Ｓk（１≦ｋ≦ｎ）の頂点の座標をＡk
（Ｘ1，Ｙ1）、Ｂk（Ｘ2，Ｙ1）、Ｃk（Ｘ2，Ｙ2）、Ｄ
k（Ｘ1，Ｙ2）、矩形領域Ｓk+1の頂点の座標をＡ
k+1（Ｘ3，Ｙ2）、Ｂk+1（Ｘ4，Ｙ2）、Ｃk+1（Ｘ4，Ｙ
3）、Ｄk+1（Ｘ3，Ｙ3）に割り付けるサブステップ （ｂ２）頂点Ｄkと頂点Ａk+1とを比較し、｜Ｘ3−Ｘ1｜
＞ｄであれば頂点Ａk+1および頂点Ｄk+1の位置を修正し
ないものと判断し、｜Ｘ3−Ｘ1｜≦ｄであればＸ座標が
Ｘ1となる位置まで頂点Ａk+1および頂点Ｄk+1をＸ軸と
平行な方向に移動するサブステップ （ｂ３）頂点Ｃkと頂点Ｂk+1とを比較し、｜Ｘ4−Ｘ2｜
＞ｄであれば頂点Ｂk+1および頂点Ｃk+1の位置を修正し
ないものと判断し、｜Ｘ4−Ｘ2｜≦ｄであればＸ座標が
Ｘ2となる位置まで頂点Ｂk+1および頂点Ｃk+1をＸ軸と
平行な方向に移動するサブステップ これらにより位置修正の可否判断を正確に行うととも
に、各矩形領域の形状の修正を正確かつ容易に行うこと
ができる。
の順序を変え、以下のようなステップとすることもでき
る。すなわち、基準値ｄを設定した後、下記サブステッ
プ（ｂ１）〜（ｂ３）をｋ＝１からｋ＝ｎまで順次行う
ステップとすることができる。 （ｂ１）矩形領域Ｓk（１≦ｋ≦ｎ）の頂点の座標をＡk
（Ｘ1，Ｙ1）、Ｂk（Ｘ2，Ｙ1）、Ｃk（Ｘ2，Ｙ2）、Ｄ
k（Ｘ1，Ｙ2）、矩形領域Ｓk+1の頂点の座標をＡ
k+1（Ｘ3，Ｙ2）、Ｂk+1（Ｘ4，Ｙ2）、Ｃk+1（Ｘ4，Ｙ
3）、Ｄk+1（Ｘ3，Ｙ3）に割り付けるサブステップ （ｂ２）頂点Ｄkと頂点Ａk+1とを比較し、｜Ｘ3−Ｘ1｜
＞ｄであれば頂点Ａk+1および頂点Ｄk+1の位置を修正し
ないものと判断し、｜Ｘ3−Ｘ1｜≦ｄであればＸ座標が
Ｘ1となる位置まで頂点Ａk+1および頂点Ｄk+1をＸ軸と
平行な方向に移動するサブステップ （ｂ３）頂点Ｃkと頂点Ｂk+1とを比較し、｜Ｘ4−Ｘ2｜
＞ｄであれば頂点Ｂk+1および頂点Ｃk+1の位置を修正し
ないものと判断し、｜Ｘ4−Ｘ2｜≦ｄであればＸ座標が
Ｘ2となる位置まで頂点Ｂk+1および頂点Ｃk+1をＸ軸と
平行な方向に移動するサブステップ これらにより位置修正の可否判断を正確に行うととも
に、各矩形領域の形状の修正を正確かつ容易に行うこと
ができる。
【００３１】また上記ステップ（ｂ）を、図１７のよう
に基準線を設け、これを基準として分割された各領域を
位置修正する方法とすることもできる。たとえば、第一
の基準線Ｘ＝ａ1と第一の基準値ｄ1および第二の基準線
Ｘ＝ａ2と第二の基準値ｄ2を設定した後、下記サブステ
ップ（ｂ１）〜（ｂ３）をｋ＝１からｋ＝ｎまで順次行
うステップとすることができる。 （ｂ１）矩形領域Ｓk（１≦ｋ≦ｎ）の頂点の座標をＡk
（Ｘ1，Ｙ1）、Ｂk（Ｘ2，Ｙ1）、Ｃk（Ｘ2，Ｙ2）、お
よびＤk（Ｘ1，Ｙ2）に割り付けるサブステップ （ｂ２）矩形領域Ｓkと第一の基準線とを比較し、｜Ｘ1
−ａ1｜＞ｄ1であれば頂点Ａkおよび頂点Ｄkの位置を修
正しないものと判断し、｜Ｘ1−ａ1｜≦ｄ1であればＸ
座標がａ1となる位置まで頂点Ａkおよび頂点ＤkをＸ軸
と平行な方向に移動するサブステップ （ｂ３）矩形領域Ｓkと第二の基準線とを比較し、｜Ｘ2
−ａ2｜＞ｄ2であれば頂点Ｂkおよび頂点Ｃkの位置を修
正しないものと判断し、｜Ｘ2−ａ2｜≦ｄ2であればＸ
座標がａ2となる位置まで頂点Ｂkおよび頂点ＣkをＸ軸
方向と平行な方向に移動するサブステップ この方法によっても位置修正の可否判断を正確に行うこ
とができる。以上述べたステップ（ｂ）の形態は、合成
パターンデータの形状等に応じて適宜選択することが好
ましい。
に基準線を設け、これを基準として分割された各領域を
位置修正する方法とすることもできる。たとえば、第一
の基準線Ｘ＝ａ1と第一の基準値ｄ1および第二の基準線
Ｘ＝ａ2と第二の基準値ｄ2を設定した後、下記サブステ
ップ（ｂ１）〜（ｂ３）をｋ＝１からｋ＝ｎまで順次行
うステップとすることができる。 （ｂ１）矩形領域Ｓk（１≦ｋ≦ｎ）の頂点の座標をＡk
（Ｘ1，Ｙ1）、Ｂk（Ｘ2，Ｙ1）、Ｃk（Ｘ2，Ｙ2）、お
よびＤk（Ｘ1，Ｙ2）に割り付けるサブステップ （ｂ２）矩形領域Ｓkと第一の基準線とを比較し、｜Ｘ1
−ａ1｜＞ｄ1であれば頂点Ａkおよび頂点Ｄkの位置を修
正しないものと判断し、｜Ｘ1−ａ1｜≦ｄ1であればＸ
座標がａ1となる位置まで頂点Ａkおよび頂点ＤkをＸ軸
と平行な方向に移動するサブステップ （ｂ３）矩形領域Ｓkと第二の基準線とを比較し、｜Ｘ2
−ａ2｜＞ｄ2であれば頂点Ｂkおよび頂点Ｃkの位置を修
正しないものと判断し、｜Ｘ2−ａ2｜≦ｄ2であればＸ
座標がａ2となる位置まで頂点Ｂkおよび頂点ＣkをＸ軸
方向と平行な方向に移動するサブステップ この方法によっても位置修正の可否判断を正確に行うこ
とができる。以上述べたステップ（ｂ）の形態は、合成
パターンデータの形状等に応じて適宜選択することが好
ましい。
【００３２】さらに上記ステップ（ｅ）は上述したステ
ップ（ｂ）と同様、種々の形態により実行することがで
きる。たとえば（ｅ）のステップは、基準値ｆを設定し
た後、下記サブステップ（ｅ１）〜（ｅ２）をｋ＝１か
らｋ＝ｍまで順次行い、次いで下記サブステップ（ｅ
３）〜（ｅ４）をｋ＝１からｋ＝ｎまで順次行うステッ
プとすることができる。 （ｅ１）矩形領域Ｔk（１≦ｋ≦ｍ）の頂点の座標をＥk
（Ｘ1，Ｙ1）、Ｆk（Ｘ2，Ｙ1）、Ｇk（Ｘ2，Ｙ2）、Ｈ
k（Ｘ1，Ｙ2）、矩形領域Ｔk+1の頂点の座標をＥ
k+1（Ｘ3，Ｙ2）、Ｆk+1（Ｘ4，Ｙ2）、Ｇk+1（Ｘ4，Ｙ
3）、Ｈk+1（Ｘ3，Ｙ3）に割り付けるサブステップ （ｅ２）頂点Ｈkと頂点Ｅk+1とを比較し、｜Ｘ3−Ｘ1｜
＞ｆであれば頂点Ｅk+1および頂点Ｈk+1の位置を修正し
ないものと判断し、｜Ｘ3−Ｘ1｜≦ｆであればＸ座標が
Ｘ1となる位置まで頂点Ｅk+1および頂点Ｈk+1をＸ軸と
平行な方向に移動するサブステップ （ｅ３）矩形領域Ｔk（１≦ｋ≦ｍ）の頂点の座標をＥk
（Ｘ1，Ｙ1）、Ｆk（Ｘ2，Ｙ1）、Ｇk（Ｘ2，Ｙ2）、Ｈ
k（Ｘ1，Ｙ2）、矩形領域Ｔk+1の頂点の座標をＥ
k+1（Ｘ3，Ｙ2）、Ｆk+1（Ｘ4，Ｙ2）、Ｇk+1（Ｘ4，Ｙ
3）、Ｈk+1（Ｘ3，Ｙ3）に割り付けるサブステップ （ｅ４）頂点Ｇkと頂点Ｆk+1とを比較し、｜Ｘ4−Ｘ2｜
＞ｆであれば頂点Ｆk+1および頂点Ｇk+1の位置を修正し
ないものと判断し、｜Ｘ4−Ｘ2｜≦ｆであればＸ座標が
Ｘ2となる位置まで頂点Ｆk+1および頂点Ｇk+1をＸ軸と
平行な方向に移動するサブステップ また（ｅ）のステップは、基準値ｆを設定した後、下記
サブステップ（ｅ１）〜（ｅ３）をｋ＝１からｋ＝ｍま
で順次行うステップであることを特徴とすることができ
る。 （ｅ１）矩形領域Ｔk（１≦ｋ≦ｍ）の頂点の座標をＥk
（Ｘ1，Ｙ1）、Ｆk（Ｘ2，Ｙ1）、Ｇk（Ｘ2，Ｙ2）、Ｈ
k（Ｘ1，Ｙ2）、矩形領域Ｔk+1の頂点の座標をＥ
k+1（Ｘ3，Ｙ2）、Ｆk+1（Ｘ4，Ｙ2）、Ｇk+1（Ｘ4，Ｙ
3）、Ｈk+1（Ｘ3，Ｙ3）に割り付けるサブステップ （ｅ２）頂点Ｈkと頂点Ｅk+1とを比較し、｜Ｘ3−Ｘ1｜
＞ｆであれば頂点Ｅk+1および頂点Ｈk+1の位置を修正し
ないものと判断し、｜Ｘ3−Ｘ1｜≦ｆであればＸ座標が
Ｘ1となる位置まで頂点Ｅk+1および頂点Ｈk+1をＸ軸と
平行な方向に移動するサブステップ （ｅ３）頂点Ｇkと頂点Ｆk+1とを比較し、｜Ｘ4−Ｘ2｜
＞ｆであれば頂点Ｆk+1および頂点Ｇk+1の位置を修正し
ないものと判断し、｜Ｘ4−Ｘ2｜≦ｆであればＸ座標が
Ｘ2となる位置まで頂点Ｆk+1および頂点Ｇk+1をＸ軸と
平行な方向に移動するサブステップ また（ｅ）のステップは、第一の基準線Ｘ＝ａ3と第一
の基準値ｄ3および第二の基準線Ｘ＝ａ4と第二の基準値
ｄ4を設定した後、下記サブステップ（ｅ１）〜（ｅ
３）をｋ＝１からｋ＝ｍまで順次行うステップとするこ
とができる。 （ｅ１）矩形領域Ｔk（１≦ｋ≦ｍ）の頂点の座標をＥk
（Ｘ1，Ｙ1）、Ｆk（Ｘ2，Ｙ1）、Ｇk（Ｘ2，Ｙ2）、Ｈ
k（Ｘ1，Ｙ2）に割り付けるサブステップ （ｅ２）矩形領域Ｔkと第一の基準線とを比較し、｜Ｘ1
−ａ3｜＞ｄ3であれば頂点Ｅkおよび頂点Ｈkの位置を修
正しないものと判断し、｜Ｘ1−ａ3｜≦ｄ3であればＸ
座標がＸ1となる位置まで頂点Ｅkおよび頂点ＨkをＸ軸
と平行な方向に移動するサブステップ （ｅ３）矩形領域Ｔkと第二の基準線とを比較し、｜Ｘ2
−ａ4｜＞ｄ4であれば頂点Ｆkおよび頂点Ｇkの位置を修
正しないものと判断し、｜Ｘ2−ａ4｜≦ｄ4であればＸ
座標がＸ2となる位置まで頂点Ｆkおよび頂点ＧkをＸ軸
と平行な方向に移動するサブステップ これらにより位置修正の可否判断を正確に行うととも
に、各矩形領域の形状の修正を正確かつ容易に行うこと
ができる。
ップ（ｂ）と同様、種々の形態により実行することがで
きる。たとえば（ｅ）のステップは、基準値ｆを設定し
た後、下記サブステップ（ｅ１）〜（ｅ２）をｋ＝１か
らｋ＝ｍまで順次行い、次いで下記サブステップ（ｅ
３）〜（ｅ４）をｋ＝１からｋ＝ｎまで順次行うステッ
プとすることができる。 （ｅ１）矩形領域Ｔk（１≦ｋ≦ｍ）の頂点の座標をＥk
（Ｘ1，Ｙ1）、Ｆk（Ｘ2，Ｙ1）、Ｇk（Ｘ2，Ｙ2）、Ｈ
k（Ｘ1，Ｙ2）、矩形領域Ｔk+1の頂点の座標をＥ
k+1（Ｘ3，Ｙ2）、Ｆk+1（Ｘ4，Ｙ2）、Ｇk+1（Ｘ4，Ｙ
3）、Ｈk+1（Ｘ3，Ｙ3）に割り付けるサブステップ （ｅ２）頂点Ｈkと頂点Ｅk+1とを比較し、｜Ｘ3−Ｘ1｜
＞ｆであれば頂点Ｅk+1および頂点Ｈk+1の位置を修正し
ないものと判断し、｜Ｘ3−Ｘ1｜≦ｆであればＸ座標が
Ｘ1となる位置まで頂点Ｅk+1および頂点Ｈk+1をＸ軸と
平行な方向に移動するサブステップ （ｅ３）矩形領域Ｔk（１≦ｋ≦ｍ）の頂点の座標をＥk
（Ｘ1，Ｙ1）、Ｆk（Ｘ2，Ｙ1）、Ｇk（Ｘ2，Ｙ2）、Ｈ
k（Ｘ1，Ｙ2）、矩形領域Ｔk+1の頂点の座標をＥ
k+1（Ｘ3，Ｙ2）、Ｆk+1（Ｘ4，Ｙ2）、Ｇk+1（Ｘ4，Ｙ
3）、Ｈk+1（Ｘ3，Ｙ3）に割り付けるサブステップ （ｅ４）頂点Ｇkと頂点Ｆk+1とを比較し、｜Ｘ4−Ｘ2｜
＞ｆであれば頂点Ｆk+1および頂点Ｇk+1の位置を修正し
ないものと判断し、｜Ｘ4−Ｘ2｜≦ｆであればＸ座標が
Ｘ2となる位置まで頂点Ｆk+1および頂点Ｇk+1をＸ軸と
平行な方向に移動するサブステップ また（ｅ）のステップは、基準値ｆを設定した後、下記
サブステップ（ｅ１）〜（ｅ３）をｋ＝１からｋ＝ｍま
で順次行うステップであることを特徴とすることができ
る。 （ｅ１）矩形領域Ｔk（１≦ｋ≦ｍ）の頂点の座標をＥk
（Ｘ1，Ｙ1）、Ｆk（Ｘ2，Ｙ1）、Ｇk（Ｘ2，Ｙ2）、Ｈ
k（Ｘ1，Ｙ2）、矩形領域Ｔk+1の頂点の座標をＥ
k+1（Ｘ3，Ｙ2）、Ｆk+1（Ｘ4，Ｙ2）、Ｇk+1（Ｘ4，Ｙ
3）、Ｈk+1（Ｘ3，Ｙ3）に割り付けるサブステップ （ｅ２）頂点Ｈkと頂点Ｅk+1とを比較し、｜Ｘ3−Ｘ1｜
＞ｆであれば頂点Ｅk+1および頂点Ｈk+1の位置を修正し
ないものと判断し、｜Ｘ3−Ｘ1｜≦ｆであればＸ座標が
Ｘ1となる位置まで頂点Ｅk+1および頂点Ｈk+1をＸ軸と
平行な方向に移動するサブステップ （ｅ３）頂点Ｇkと頂点Ｆk+1とを比較し、｜Ｘ4−Ｘ2｜
＞ｆであれば頂点Ｆk+1および頂点Ｇk+1の位置を修正し
ないものと判断し、｜Ｘ4−Ｘ2｜≦ｆであればＸ座標が
Ｘ2となる位置まで頂点Ｆk+1および頂点Ｇk+1をＸ軸と
平行な方向に移動するサブステップ また（ｅ）のステップは、第一の基準線Ｘ＝ａ3と第一
の基準値ｄ3および第二の基準線Ｘ＝ａ4と第二の基準値
ｄ4を設定した後、下記サブステップ（ｅ１）〜（ｅ
３）をｋ＝１からｋ＝ｍまで順次行うステップとするこ
とができる。 （ｅ１）矩形領域Ｔk（１≦ｋ≦ｍ）の頂点の座標をＥk
（Ｘ1，Ｙ1）、Ｆk（Ｘ2，Ｙ1）、Ｇk（Ｘ2，Ｙ2）、Ｈ
k（Ｘ1，Ｙ2）に割り付けるサブステップ （ｅ２）矩形領域Ｔkと第一の基準線とを比較し、｜Ｘ1
−ａ3｜＞ｄ3であれば頂点Ｅkおよび頂点Ｈkの位置を修
正しないものと判断し、｜Ｘ1−ａ3｜≦ｄ3であればＸ
座標がＸ1となる位置まで頂点Ｅkおよび頂点ＨkをＸ軸
と平行な方向に移動するサブステップ （ｅ３）矩形領域Ｔkと第二の基準線とを比較し、｜Ｘ2
−ａ4｜＞ｄ4であれば頂点Ｆkおよび頂点Ｇkの位置を修
正しないものと判断し、｜Ｘ2−ａ4｜≦ｄ4であればＸ
座標がＸ2となる位置まで頂点Ｆkおよび頂点ＧkをＸ軸
と平行な方向に移動するサブステップ これらにより位置修正の可否判断を正確に行うととも
に、各矩形領域の形状の修正を正確かつ容易に行うこと
ができる。
【００３３】本発明の電子線描画装置および電子線描画
用パターンデータ作成装置は、バインド処理部を有す
る。バインド処理部は合成パターンデータに生じた各パ
ターンデータ間の接合ずれを補正する機能を有するもの
であればどのようなものでもよいが、上述した本発明の
電子線描画用パターンデータ作成方法を実施することの
できる装置であることが好ましく、以下のような構成を
有するものが好ましい。
用パターンデータ作成装置は、バインド処理部を有す
る。バインド処理部は合成パターンデータに生じた各パ
ターンデータ間の接合ずれを補正する機能を有するもの
であればどのようなものでもよいが、上述した本発明の
電子線描画用パターンデータ作成方法を実施することの
できる装置であることが好ましく、以下のような構成を
有するものが好ましい。
【００３４】たとえば、バインド処理部が、合成パター
ンデータをｎ個の領域Ｓ1〜Ｓn（ｎは２以上の自然数）
に分割する手段と、領域Ｓ1〜Ｓnの一部または全部の形
状を修正して接合ずれを補正する手段と、領域Ｓ1〜Ｓn
を再接合する手段とを有するものであることが好まし
い。このような構成のバインド処理部を備えていれば、
接合ずれの補正を正確かつ迅速に行うことができる。な
お、バインド処理部は、領域Ｓ1〜Ｓnの形状の修正の可
否判断を行う手段を有することが好ましい。これにより
接合ずれと真の凹凸部を区別し、接合ずれのみを補正す
ることが可能となる。
ンデータをｎ個の領域Ｓ1〜Ｓn（ｎは２以上の自然数）
に分割する手段と、領域Ｓ1〜Ｓnの一部または全部の形
状を修正して接合ずれを補正する手段と、領域Ｓ1〜Ｓn
を再接合する手段とを有するものであることが好まし
い。このような構成のバインド処理部を備えていれば、
接合ずれの補正を正確かつ迅速に行うことができる。な
お、バインド処理部は、領域Ｓ1〜Ｓnの形状の修正の可
否判断を行う手段を有することが好ましい。これにより
接合ずれと真の凹凸部を区別し、接合ずれのみを補正す
ることが可能となる。
【００３５】ここで、上記領域Ｓ1〜Ｓnが矩形領域であ
って、上述の接合ずれを補正する手段は、領域Ｓ1〜Ｓn
を辺方向に拡大または縮小させてその形状を修正するも
のであることが好ましい。このような構成とすれば、矩
形領域の頂点を直交する２方向に移動するだけで領域Ｓ
1〜Ｓnの形状を修正でき、接合ずれの補正を正確かつ容
易に行うことができる。
って、上述の接合ずれを補正する手段は、領域Ｓ1〜Ｓn
を辺方向に拡大または縮小させてその形状を修正するも
のであることが好ましい。このような構成とすれば、矩
形領域の頂点を直交する２方向に移動するだけで領域Ｓ
1〜Ｓnの形状を修正でき、接合ずれの補正を正確かつ容
易に行うことができる。
【００３６】
【実施例】実施例１ 本実施例では、図１２に示すような可変成形型の電子線
露光装置を用いて電子線描画を行った。電子銃１から出
射された電子線２は第１アパーチャ３を経由し、成形偏
向器５により所定の方向に偏向され、第２アパーチャ７
に照射される。第２アパーチャ７には矩形状の窓部が設
けられており、電子線２は、この窓部と照射された電子
線の重なり部の形状に成形される。
露光装置を用いて電子線描画を行った。電子銃１から出
射された電子線２は第１アパーチャ３を経由し、成形偏
向器５により所定の方向に偏向され、第２アパーチャ７
に照射される。第２アパーチャ７には矩形状の窓部が設
けられており、電子線２は、この窓部と照射された電子
線の重なり部の形状に成形される。
【００３７】成形された電子線２は、その後、縮小レン
ズ８により縮小され、次いで、位置偏向器９によりステ
ージ１３に載置されたウエハ１２上の特定位置に向けて
偏向される。このとき、位置偏向器９による偏向度を適
宜調整することにより、所望のパターンがウエハ１２上
に描画される。
ズ８により縮小され、次いで、位置偏向器９によりステ
ージ１３に載置されたウエハ１２上の特定位置に向けて
偏向される。このとき、位置偏向器９による偏向度を適
宜調整することにより、所望のパターンがウエハ１２上
に描画される。
【００３８】成形偏向器５の偏向度は成形偏向器制御装
置６により、位置偏向器９の偏向度は位置偏向器制御装
置１０により、それぞれ描画用パターンデータに基づい
て制御される。描画の精度は主として成形偏向器５およ
び位置偏向器９による偏向度の制御に依存することから
描画用パターンデータの寸法精度を向上させることが重
要となるが、成形偏向器５と位置偏向器９とに送られる
制御情報の元となるこの描画用パターンデータを本実施
例では電子線描画装置に内蔵されたバインド処理部１４
で作成した。
置６により、位置偏向器９の偏向度は位置偏向器制御装
置１０により、それぞれ描画用パターンデータに基づい
て制御される。描画の精度は主として成形偏向器５およ
び位置偏向器９による偏向度の制御に依存することから
描画用パターンデータの寸法精度を向上させることが重
要となるが、成形偏向器５と位置偏向器９とに送られる
制御情報の元となるこの描画用パターンデータを本実施
例では電子線描画装置に内蔵されたバインド処理部１４
で作成した。
【００３９】描画用パターンデータの作成プロセスにつ
いて、図２〜５を参照して説明する。図２は、第１層の
パターンの一部と、第２層のパターンの一部を層合成す
るプロセスを示す図である。これらのパターンはそれぞ
れ異なるグリッド上で形成された図形であり、両者を層
合成すると、丸め誤差の発生等により図示したような接
合ずれが生じる。本実施例ではこの接合ずれを以下のよ
うにして補正した。
いて、図２〜５を参照して説明する。図２は、第１層の
パターンの一部と、第２層のパターンの一部を層合成す
るプロセスを示す図である。これらのパターンはそれぞ
れ異なるグリッド上で形成された図形であり、両者を層
合成すると、丸め誤差の発生等により図示したような接
合ずれが生じる。本実施例ではこの接合ずれを以下のよ
うにして補正した。
【００４０】図３は接合ずれを補正するバインド処理お
よび分割処理の概要を示す図である。まず第１層と第２
層のパターンを合成することにより得られた合成パター
ン（図３（ａ））を凹凸を含まないＳ1〜Ｓ4の矩形領域
に分割した。次いで矩形領域Ｓ1を基準として、矩形領
域Ｓ2、Ｓ4を右方向に縮小させて矩形領域Ｓ1〜Ｓ4の左
側の辺の位置合わせを行った（図３（ｃ））。次いで同
様にして、矩形領域Ｓ 3を右方向に縮小させて矩形領域
Ｓ1〜Ｓ4の右側の辺の位置合わせを行った（図３
（ｄ））。以上のようにして接合ずれを補正した後、矩
形領域Ｓ1〜Ｓ4を再接合し、つづいて電子線描画可能な
図形に分割処理した（図３（ｅ））。
よび分割処理の概要を示す図である。まず第１層と第２
層のパターンを合成することにより得られた合成パター
ン（図３（ａ））を凹凸を含まないＳ1〜Ｓ4の矩形領域
に分割した。次いで矩形領域Ｓ1を基準として、矩形領
域Ｓ2、Ｓ4を右方向に縮小させて矩形領域Ｓ1〜Ｓ4の左
側の辺の位置合わせを行った（図３（ｃ））。次いで同
様にして、矩形領域Ｓ 3を右方向に縮小させて矩形領域
Ｓ1〜Ｓ4の右側の辺の位置合わせを行った（図３
（ｄ））。以上のようにして接合ずれを補正した後、矩
形領域Ｓ1〜Ｓ4を再接合し、つづいて電子線描画可能な
図形に分割処理した（図３（ｅ））。
【００４１】次に、図３（ｃ）、（ｄ）のステップにつ
いて図４を参照してさらに詳細に説明する。まず図４
（ａ）のように合成パターンをＸＹ座標に配置し、矩形
領域Ｓ 1〜Ｓkの形状を修正する際の基準値ｄを設定し
た。つづいて図４（ｂ）のように、矩形領域Ｓ1の座標
をＡ1（Ｘ1，Ｙ1）、Ｂ1（Ｘ2，Ｙ1）、Ｃ1（Ｘ2，
Ｙ2）、Ｄ1（Ｘ1，Ｙ2）とし、Ｓ2の頂点の座標をＡ
2（Ｘ3，Ｙ2）、Ｂ2（Ｘ4，Ｙ2）、Ｃ2（Ｘ4，Ｙ3）、
Ｄ2（Ｘ3，Ｙ3）とした。
いて図４を参照してさらに詳細に説明する。まず図４
（ａ）のように合成パターンをＸＹ座標に配置し、矩形
領域Ｓ 1〜Ｓkの形状を修正する際の基準値ｄを設定し
た。つづいて図４（ｂ）のように、矩形領域Ｓ1の座標
をＡ1（Ｘ1，Ｙ1）、Ｂ1（Ｘ2，Ｙ1）、Ｃ1（Ｘ2，
Ｙ2）、Ｄ1（Ｘ1，Ｙ2）とし、Ｓ2の頂点の座標をＡ
2（Ｘ3，Ｙ2）、Ｂ2（Ｘ4，Ｙ2）、Ｃ2（Ｘ4，Ｙ3）、
Ｄ2（Ｘ3，Ｙ3）とした。
【００４２】上記のような設定を行った後、矩形領域Ｓ
1の頂点Ｄ1（Ｘ1，Ｙ2）と矩形領域Ｓ2の頂点Ａ
2（Ｘ3，Ｙ2）とを比較し、以下のようにして矩形領域
Ｓ2の形状変更の可否判断を行った。すなわち、｜Ｘ3−
Ｘ1｜＞ｄであれば頂点Ａ2および頂点Ｄ2の位置を修正
しないものと判断し、｜ｘ1−Ｘ1｜≦ｄであればＸ座標
がＸ1となる位置まで頂点Ａ2および頂点Ｄ2をＸ軸方向
に対して平行な方向に移動する。このような可否判断を
行うことにより、接合ずれと真の凹凸部を区別し、接合
ずれのみを補正することができる。この例では、｜Ｘ3
−Ｘ1｜≦ｄであったため、矩形領域Ｓ2の頂点Ａ2およ
び頂点Ｄ2をＸ軸と平行方向にＸ座標がＸ1となるまで移
動させている。これにより矩形領域Ｓ1の頂点Ａ1および
頂点Ｄ1と矩形領域Ｓ2の頂点Ａ2および頂点Ｄ2が一直線
上の位置に配置され、位置合わせがなされる。
1の頂点Ｄ1（Ｘ1，Ｙ2）と矩形領域Ｓ2の頂点Ａ
2（Ｘ3，Ｙ2）とを比較し、以下のようにして矩形領域
Ｓ2の形状変更の可否判断を行った。すなわち、｜Ｘ3−
Ｘ1｜＞ｄであれば頂点Ａ2および頂点Ｄ2の位置を修正
しないものと判断し、｜ｘ1−Ｘ1｜≦ｄであればＸ座標
がＸ1となる位置まで頂点Ａ2および頂点Ｄ2をＸ軸方向
に対して平行な方向に移動する。このような可否判断を
行うことにより、接合ずれと真の凹凸部を区別し、接合
ずれのみを補正することができる。この例では、｜Ｘ3
−Ｘ1｜≦ｄであったため、矩形領域Ｓ2の頂点Ａ2およ
び頂点Ｄ2をＸ軸と平行方向にＸ座標がＸ1となるまで移
動させている。これにより矩形領域Ｓ1の頂点Ａ1および
頂点Ｄ1と矩形領域Ｓ2の頂点Ａ2および頂点Ｄ2が一直線
上の位置に配置され、位置合わせがなされる。
【００４３】同様の手順により、補正処理された矩形領
域Ｓ2と矩形領域Ｓ3とを比較して形状変更の可否判断を
行う。ここでは矩形領域Ｓ2と矩形領域Ｓ3の左側の辺が
一直線上にあるため（不図示）矩形領域Ｓ3の形状変更
は行われない。
域Ｓ2と矩形領域Ｓ3とを比較して形状変更の可否判断を
行う。ここでは矩形領域Ｓ2と矩形領域Ｓ3の左側の辺が
一直線上にあるため（不図示）矩形領域Ｓ3の形状変更
は行われない。
【００４４】上記ステップを順次実行し、矩形領域Ｓ1
〜Ｓ4の左側の辺についての位置合わせを行った。つづ
いて同様のステップを矩形領域Ｓ1〜Ｓ4の右側の辺につ
いて行った（図５）。以上の方法により図３（ｃ）、
（ｄ）のステップを行い、接合ずれを補正した。接合ず
れを補正した後、図３（ｅ）のように分割処理を行っ
た。
〜Ｓ4の左側の辺についての位置合わせを行った。つづ
いて同様のステップを矩形領域Ｓ1〜Ｓ4の右側の辺につ
いて行った（図５）。以上の方法により図３（ｃ）、
（ｄ）のステップを行い、接合ずれを補正した。接合ず
れを補正した後、図３（ｅ）のように分割処理を行っ
た。
【００４５】以上述べた描画用パターンデータ作成プロ
セスはバインド処理部１４で行われた。その結果得られ
た図３（ｅ）に示すデータを用い、成形偏向器５および
位置偏向器９に出力し、これらの偏向度を制御した。
セスはバインド処理部１４で行われた。その結果得られ
た図３（ｅ）に示すデータを用い、成形偏向器５および
位置偏向器９に出力し、これらの偏向度を制御した。
【００４６】本実施例によれば上述のように接合ずれを
効果的に解消することができ、電子線描画のスループッ
トを向上させるとともに描画の寸法精度を向上させるこ
とができた。
効果的に解消することができ、電子線描画のスループッ
トを向上させるとともに描画の寸法精度を向上させるこ
とができた。
【００４７】実施例２ 図３（ｃ）、（ｄ）の接合ずれを補正するプロセスを変
更したこと以外は実施例１と同様にして描画用パターン
データを作成した。本実施例では、図１７のように基準
線を設けて矩形領域Ｓ1〜Ｓ4を適宜移動させることによ
り接合ずれを補正した。以下、図１７を参照して詳細に
説明する。
更したこと以外は実施例１と同様にして描画用パターン
データを作成した。本実施例では、図１７のように基準
線を設けて矩形領域Ｓ1〜Ｓ4を適宜移動させることによ
り接合ずれを補正した。以下、図１７を参照して詳細に
説明する。
【００４８】まず合成パターンデータをＸＹ座標に配置
し、第一の基準線Ｘ＝ａ1と第一の基準値をｄ1および第
二の基準線Ｘ＝ａ2と第二の基準値をｄ2を設定した。つ
づいて図１７（ｂ）のように、矩形領域Ｓ1の座標をＡ1
（Ｘ1，Ｙ1）、Ｂ1（Ｘ2，Ｙ1）、Ｃ1（Ｘ2，Ｙ2）、Ｄ
1（Ｘ1，Ｙ2）とし、Ｓ2の頂点の座標をＡ2（Ｘ3，
Ｙ2）、Ｂ2（Ｘ4，Ｙ2）、Ｃ2（Ｘ4，Ｙ3）、Ｄ
2（Ｘ3，Ｙ3）とした。
し、第一の基準線Ｘ＝ａ1と第一の基準値をｄ1および第
二の基準線Ｘ＝ａ2と第二の基準値をｄ2を設定した。つ
づいて図１７（ｂ）のように、矩形領域Ｓ1の座標をＡ1
（Ｘ1，Ｙ1）、Ｂ1（Ｘ2，Ｙ1）、Ｃ1（Ｘ2，Ｙ2）、Ｄ
1（Ｘ1，Ｙ2）とし、Ｓ2の頂点の座標をＡ2（Ｘ3，
Ｙ2）、Ｂ2（Ｘ4，Ｙ2）、Ｃ2（Ｘ4，Ｙ3）、Ｄ
2（Ｘ3，Ｙ3）とした。
【００４９】上記のような設定を行った後、矩形領域Ｓ
1と第一の基準線Ｘ＝ａ1とを比較し、以下のようにして
矩形領域Ｓ1の形状変更の可否判断を行った。すなわ
ち、｜Ｘ1−ａ1｜＞ｄ1であれば頂点Ａ1および頂点Ｄ1
の位置を修正しないものと判断し、｜Ｘ1−ａ1｜≦ｄ1
であれば頂点Ａ1および頂点Ｄ1の位置をＸ座標がａ1と
なる位置までＸ軸方向と平行な方向に移動することとし
た。この例では、｜Ｘ1−ａ1｜≦ｄであったため、矩形
領域Ｓ1の頂点Ａ1および頂点Ｄ1をＸ軸と平行方向にＸ
座標がａ1となるまで移動させている。
1と第一の基準線Ｘ＝ａ1とを比較し、以下のようにして
矩形領域Ｓ1の形状変更の可否判断を行った。すなわ
ち、｜Ｘ1−ａ1｜＞ｄ1であれば頂点Ａ1および頂点Ｄ1
の位置を修正しないものと判断し、｜Ｘ1−ａ1｜≦ｄ1
であれば頂点Ａ1および頂点Ｄ1の位置をＸ座標がａ1と
なる位置までＸ軸方向と平行な方向に移動することとし
た。この例では、｜Ｘ1−ａ1｜≦ｄであったため、矩形
領域Ｓ1の頂点Ａ1および頂点Ｄ1をＸ軸と平行方向にＸ
座標がａ1となるまで移動させている。
【００５０】上記ステップを順次実行し、矩形領域Ｓ1
〜Ｓ4の左側の辺についての位置合わせを行った（図１
７（ｂ））。つづいて同様のステップを矩形領域Ｓ1〜
Ｓ4の右側の辺について行った（図１７（ｃ））。以上
の方法により接合ずれを補正した。
〜Ｓ4の左側の辺についての位置合わせを行った（図１
７（ｂ））。つづいて同様のステップを矩形領域Ｓ1〜
Ｓ4の右側の辺について行った（図１７（ｃ））。以上
の方法により接合ずれを補正した。
【００５１】本実施例によれば上述のように接合ずれを
効果的に解消することができ、電子線描画のスループッ
トを向上させるとともに描画の寸法精度を向上させるこ
とができた。
効果的に解消することができ、電子線描画のスループッ
トを向上させるとともに描画の寸法精度を向上させるこ
とができた。
【００５２】実施例３ 実施例１、２はＸ軸方向の接合ずれを補正する例であっ
たが、本実施例ではＸ軸方向の接合ずれとＹ軸方向の接
合ずれの両方を補正した。以下、本実施例の描画用パタ
ーンデータ作成プロセスについて、図６〜８を参照して
説明する。図６（ａ）は、第１層のパターンの一部と、
第２層のパターンの一部を層合成するプロセスを示す図
である。接合ずれが生じなければ本来、図６（ｂ）のよ
うな矩形状の図形に合成されるのであるが、これらのパ
ターンはそれぞれ異なるグリッド上で形成されているた
め接合ずれが生じ、図６（ａ）のような凹凸を含む形状
となる。このため従来の方法を用いた場合、図６（ｃ）
のように３つの領域に分割され、次いでそれぞれについ
て電子線描画可能な大きさに分割されて描画用データと
されていた。したがって図６（ｂ）のような本来のパタ
ーンを分割処理する場合に比べ多くの分割領域が生成
し、スループット低下および描画精度低下をもたらす原
因となっていた。そこで本実施例では上記接合ずれを以
下のようにして解消した。
たが、本実施例ではＸ軸方向の接合ずれとＹ軸方向の接
合ずれの両方を補正した。以下、本実施例の描画用パタ
ーンデータ作成プロセスについて、図６〜８を参照して
説明する。図６（ａ）は、第１層のパターンの一部と、
第２層のパターンの一部を層合成するプロセスを示す図
である。接合ずれが生じなければ本来、図６（ｂ）のよ
うな矩形状の図形に合成されるのであるが、これらのパ
ターンはそれぞれ異なるグリッド上で形成されているた
め接合ずれが生じ、図６（ａ）のような凹凸を含む形状
となる。このため従来の方法を用いた場合、図６（ｃ）
のように３つの領域に分割され、次いでそれぞれについ
て電子線描画可能な大きさに分割されて描画用データと
されていた。したがって図６（ｂ）のような本来のパタ
ーンを分割処理する場合に比べ多くの分割領域が生成
し、スループット低下および描画精度低下をもたらす原
因となっていた。そこで本実施例では上記接合ずれを以
下のようにして解消した。
【００５３】まず第１層と第２層のパターンを合成する
ことにより得られた合成パターンに対し、Ｘ軸と平行方
向の分割線を導入することによりＳ1〜Ｓ3の矩形領域に
分割した（図７（ａ））。次いで矩形領域Ｓ1を基準と
して、矩形領域Ｓ2をＸ軸と平行に右方向に拡大させて
矩形領域Ｓ1、Ｓ2の右側の辺の位置合わせを行った（図
７（ｂ））。しかしこの処理では矩形領域Ｓ3の位置合
わせは行われない。そこで、上記処理により得られたパ
ターンに対し、Ｙ軸と平行方向の分割線を導入すること
によりＴ1〜Ｔ2の矩形領域に分割した（図８（ａ））。
次いで矩形領域Ｔ 1を基準として、矩形領域Ｔ2をＹ軸と
平行に上方向に拡大させ、矩形領域Ｔ1、Ｔ2の上側の辺
の位置合わせを行った（図８（ｂ））。
ことにより得られた合成パターンに対し、Ｘ軸と平行方
向の分割線を導入することによりＳ1〜Ｓ3の矩形領域に
分割した（図７（ａ））。次いで矩形領域Ｓ1を基準と
して、矩形領域Ｓ2をＸ軸と平行に右方向に拡大させて
矩形領域Ｓ1、Ｓ2の右側の辺の位置合わせを行った（図
７（ｂ））。しかしこの処理では矩形領域Ｓ3の位置合
わせは行われない。そこで、上記処理により得られたパ
ターンに対し、Ｙ軸と平行方向の分割線を導入すること
によりＴ1〜Ｔ2の矩形領域に分割した（図８（ａ））。
次いで矩形領域Ｔ 1を基準として、矩形領域Ｔ2をＹ軸と
平行に上方向に拡大させ、矩形領域Ｔ1、Ｔ2の上側の辺
の位置合わせを行った（図８（ｂ））。
【００５４】以上のバインド処理により接合ずれがすべ
て解消された。その後、この図形を電子線描画が可能な
大きさに分割処理し、描画用データとした。
て解消された。その後、この図形を電子線描画が可能な
大きさに分割処理し、描画用データとした。
【００５５】本実施例によれば、バインドパターンデー
タとして図８（ｂ）のような接合ずれのない図形が得ら
れた。この図形は、図６（ｂ）に示す本来のデータパタ
ーンと同様の形状となっており、接合ずれが効果的に解
消されていることがわかる。
タとして図８（ｂ）のような接合ずれのない図形が得ら
れた。この図形は、図６（ｂ）に示す本来のデータパタ
ーンと同様の形状となっており、接合ずれが効果的に解
消されていることがわかる。
【００５６】実施例４ 実施例１〜３で用いた電子線描画装置は、バインド処理
を行うバインド処理部１４を内蔵していたが（図１
２）、この部分を独立の装置として電子線描画装置の外
部に設けても良い。図１４はこのような構成の電子線描
画システムであり、電子線描画装置３０の外部に電子線
描画用パターンデータ作成装置３１が備えられている。
各層のパターンデータ１７はＣＡＤシステム３２に入力
され、いったんパターンデータメモリ１６に格納された
後、層合成される。これにより得られた合成パターンデ
ータ１５が電子線描画用パターンデータ作成装置３１の
バインド処理部１４に入力される。ここで接合ずれの補
正がなされバインドパターンデータとされた後、分割処
理部１８にて電子線描画可能なデータに分割される。こ
のようにして得られたデータが電子線描画装置３０に出
力され、成形偏向器５および位置偏向器９による偏向度
を制御するのに用いられる。
を行うバインド処理部１４を内蔵していたが（図１
２）、この部分を独立の装置として電子線描画装置の外
部に設けても良い。図１４はこのような構成の電子線描
画システムであり、電子線描画装置３０の外部に電子線
描画用パターンデータ作成装置３１が備えられている。
各層のパターンデータ１７はＣＡＤシステム３２に入力
され、いったんパターンデータメモリ１６に格納された
後、層合成される。これにより得られた合成パターンデ
ータ１５が電子線描画用パターンデータ作成装置３１の
バインド処理部１４に入力される。ここで接合ずれの補
正がなされバインドパターンデータとされた後、分割処
理部１８にて電子線描画可能なデータに分割される。こ
のようにして得られたデータが電子線描画装置３０に出
力され、成形偏向器５および位置偏向器９による偏向度
を制御するのに用いられる。
【００５７】本システムを用いれば、合成パターンデー
タに生じる接合ずれを効果的に解消し、電子線描画のス
ループットを向上させるとともに描画の寸法精度を向上
させることができる。
タに生じる接合ずれを効果的に解消し、電子線描画のス
ループットを向上させるとともに描画の寸法精度を向上
させることができる。
【００５８】
【発明の効果】以上説明したように本発明によれば、合
成パターンデータに生じる接合ずれを補正しているた
め、電子線描画可能な図形に分割処理する際に不要な領
域が発生しない。このため電子線描画のスループットを
向上させることができ、また描画の寸法精度を向上させ
ることができる。
成パターンデータに生じる接合ずれを補正しているた
め、電子線描画可能な図形に分割処理する際に不要な領
域が発生しない。このため電子線描画のスループットを
向上させることができ、また描画の寸法精度を向上させ
ることができる。
【図１】本発明の電子線描画描画用パターンデータ作成
方法におけるバインド処理手順を説明するための図であ
る。
方法におけるバインド処理手順を説明するための図であ
る。
【図２】本発明の電子線描画描画用パターンデータ作成
方法を説明するための図である。
方法を説明するための図である。
【図３】本発明の電子線描画描画用パターンデータ作成
方法の概要手順を示す図である。
方法の概要手順を示す図である。
【図４】本発明の電子線描画描画用パターンデータ作成
方法における接合ずれ補正手順を説明するための図であ
る。
方法における接合ずれ補正手順を説明するための図であ
る。
【図５】本発明の電子線描画描画用パターンデータ作成
方法における接合ずれ補正手順を説明するための図であ
る。
方法における接合ずれ補正手順を説明するための図であ
る。
【図６】本発明の電子線描画描画用パターンデータ作成
方法を説明するための図である。
方法を説明するための図である。
【図７】本発明の電子線描画描画用パターンデータ作成
方法における接合ずれ補正手順を説明するための図であ
る。
方法における接合ずれ補正手順を説明するための図であ
る。
【図８】本発明の電子線描画描画用パターンデータ作成
方法における接合ずれ補正手順を説明するための図であ
る。
方法における接合ずれ補正手順を説明するための図であ
る。
【図９】従来の電子線描画描画用パターンデータ作成方
法を示す図である。
法を示す図である。
【図１０】接合ずれが生じないものと仮定した場合の合
成パターンデータを示す図である。
成パターンデータを示す図である。
【図１１】従来の電子線描画描画用パターンデータ作成
方法を示す図である。
方法を示す図である。
【図１２】本発明の電子線描画装置の概略構造を示す図
である。
である。
【図１３】本発明の電子線描画装置および従来の電子線
描画装置における描画データ作成部を示す図である。
描画装置における描画データ作成部を示す図である。
【図１４】本発明の電子線描画システムを示す図であ
る。
る。
【図１５】従来の電子線描画装置の概略構造を示す図で
ある。
ある。
【図１６】本発明の電子線描画描画用パターンデータ作
成方法におけるバインド処理手順を説明するための図で
ある。
成方法におけるバインド処理手順を説明するための図で
ある。
【図１７】本発明の電子線描画描画用パターンデータ作
成方法における接合ずれ補正手順を説明するための図で
ある。
成方法における接合ずれ補正手順を説明するための図で
ある。
【図１８】本発明の電子線描画描画用パターンデータ作
成方法におけるバインド処理手順を説明するための図で
ある。
成方法におけるバインド処理手順を説明するための図で
ある。
１ 電子銃 ２ 電子線 ３ 第１アパーチャ ４ 成形レンズ ５ 成形偏向器 ６ 成形偏向器制御装置 ７ 第２アパーチャ ８ 縮小レンズ ９ 位置偏向器 １０ 位置偏向器制御装置 １１ 対物レンズ １２ ウエハ １３ ステージ １４ バインド処理部 １５ 合成パターンデータ １６ パターンデータメモリ １７ パターンデータ １８ 分割処理部 ３０ 電子線描画装置 ３１ 電子線描画用パターンデータ作成装置 ３２ ＣＡＤシステム
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (58)調査した分野(Int.Cl.7，ＤＢ名) H01L 21/027 G03F 7/20
Claims (16)
- 【請求項１】 複数のパターンデータを合成処理した
後、得られた合成パターンデータを電子線描画の可能な
図形に分割処理する電子線描画用パターンデータ作成方
法において、前記合成処理の後、合成パターンデータに
生じた各パターンデータ間の接合ずれを補正するバイン
ド処理を行い、得られたバインドパターンデータについ
て前記分割処理を行うことを特徴とする電子線描画用パ
ターンデータ作成方法。 - 【請求項２】 前記バインド処理を下記ステップ（ａ）
〜（ｃ）により行うことを特徴とする請求項１に記載の
電子線描画用パターンデータ作成方法。 （ａ）前記合成パターンデータを凹凸を各々が含まない
ｎ個の領域Ｓ1〜Ｓn（ｎは２以上の自然数）に分割する
ステップ （ｂ）前記領域Ｓ1〜Ｓnの一部または全部の形状を修正
して前記接合ずれを補正するステップ （ｃ）前記領域Ｓ1〜Ｓnを再接合してバインドパターン
データを得るステップ - 【請求項３】 前記バインド処理を、下記ステップ
（ａ）〜（ｃ）により行うことを特徴とする請求項１に
記載の電子線描画用パターンデータ作成方法。 （ａ）前記合成パターンデータをＸＹ座標に配置し、Ｘ
軸および／またはＹ軸と平行方向の分割線を導入するこ
とにより前記合成パターンデータを凹凸を各々が含まな
いｎ個の矩形領域Ｓ1〜Ｓn（ｎは２以上の自然数）に分
割するステップ （ｂ）前記矩形領域Ｓ1〜Ｓnの一部または全部を前記分
割線と平行方向に拡大または縮小し、前記接合ずれを補
正するステップ （ｃ）前記矩形領域Ｓ1〜Ｓnを再接合してバインドパタ
ーンデータを得るステップ - 【請求項４】 前記バインド処理を、下記ステップ
（ａ）〜（ｃ）により行うことを特徴とする請求項１に
記載の電子線描画用パターンデータ作成方法。 （ａ）前記合成パターンデータをＸＹ座標に配置し、Ｘ
軸と平行方向の分割線を導入することにより前記合成パ
ターンデータをｎ個の矩形領域Ｓ1〜Ｓn（ｎは２以上の
自然数）に分割するステップ （ｂ）前記矩形領域Ｓ1〜Ｓnの一部または全部をＸ軸と
平行方向に拡大または縮小し、前記接合ずれを補正する
ステップ （ｃ）前記矩形領域Ｓ1〜Ｓnを再接合してバインドパタ
ーンデータを得るステップ - 【請求項５】 前記ステップ（ｃ）により得られたバイ
ンドパターンデータを仮データパターンとし、下記ステ
ップ（ｄ）〜（ｆ）をさらに実行することにより、前記
バインド処理を行うことを特徴とする請求項４に記載の
電子線描画用パターンデータ作成方法。 （ｄ）前記仮パターンデータに対し、Ｙ軸と平行方向の
分割線を導入することにより前記仮パターンデータをｍ
個（ｍは２以上の自然数）の矩形領域Ｔ1〜Ｔmに分割す
るステップ （ｅ）領域Ｔ1〜Ｔmの一部または全部をＹ軸と平行方向
に拡大または縮小し、前記接合ずれを補正するステップ （ｆ）領域Ｔ1〜Ｔmを再接合してバインドパターンデー
タを得るステップ - 【請求項６】 前記ステップ（ｅ）において、前記矩形
領域Ｔ1〜Ｔnの一部または全部を拡大または縮小する
際、矩形領域Ｔk（１≦ｋ≦ｎ）の一頂点と、これに隣
接する矩形領域Ｔk+1の頂点であって前記一頂点と最も
近くに隣接する頂点との頂点間距離を、所定の基準値と
比較し、前記頂点間距離が前記基準値よりも小さい場合
にのみ前記矩形領域Ｔk+1を拡大または縮小することを
特徴とする請求項５に記載の電子線描画用パターンデー
タ作成方法。 - 【請求項７】 前記ステップ（ｅ）において、前記矩形
領域Ｔ1〜Ｔnの一部または全部を拡大または縮小する
際、矩形領域Ｔk（１≦ｋ≦ｎ）の一頂点と予め設定し
た基準線との距離を求め、該距離が所定の基準値よりも
小さい場合にのみ前記矩形領域Ｔkを拡大または縮小す
ることを特徴とする請求項５に記載の電子線描画用パタ
ーンデータ作成方法。 - 【請求項８】 前記ステップ（ｂ）において、前記矩形
領域Ｓ1〜Ｓnの一部または全部を拡大または縮小する
際、矩形領域Ｓk（１≦ｋ≦ｎ）の一頂点と、これに隣
接する矩形領域Ｓk+1の頂点であって前記一頂点と最も
近くに隣接する頂点との頂点間距離を、所定の基準値と
比較し、前記頂点間距離が前記基準値よりも小さい場合
にのみ前記矩形領域Ｓk+1を拡大または縮小することを
特徴とする請求項４乃至７いずれかに記載の電子線描画
用パターンデータ作成方法。 - 【請求項９】 前記ステップ（ｂ）において、前記矩形
領域Ｓ1〜Ｓnの一部または全部を拡大または縮小する
際、矩形領域Ｓk（１≦ｋ≦ｎ）の一頂点と予め設定し
た基準線との距離を求め、該距離が所定の基準値よりも
小さい場合にのみ前記矩形領域Ｓkを拡大または縮小す
ることを特徴とする請求項４乃至７いずれかに記載の電
子線描画用パターンデータ作成方法。 - 【請求項１０】 複数のパターンデータからなる合成パ
ターンデータに基づいて作成された電子線描画パターン
データを用い、該電子線描画パターンデータにより電子
線を偏向させて被処理体に照射し、前記被処理体にパタ
ーンを描画する電子線描画装置において、前記合成パタ
ーンデータに生じた前記複数のパターンデータ間の接合
ずれを補正する機能を有するバインド処理部を備え、前
記バインド処理部で接合ずれの補正されたデータを前記
電子線描画パターンデータとすることを特徴とする電子
線描画装置。 - 【請求項１１】 電子線を出射する電子銃と、二以上の
アパチャおよび一以上の成形偏向器を含み前記電子銃か
ら出射された電子線を成形する電子線成形部と、前記電
子線成形部で成形された電子線を被処理体の任意位置に
向けて偏向する位置偏向器とを備え、前記成形偏向器に
よる偏向度および前記位置偏向器による偏向度を、複数
のパターンデータからなる合成パターンデータに基づい
て作成された電子線描画パターンデータを用いて制御す
る電子線描画装置において、前記合成パターンデータに
生じた前記複数のパターンデータ間の接合ずれを補正す
る機能を有するバインド処理部を備え、前記バインド処
理部で接合ずれの補正されたデータを前記電子線描画パ
ターンデータとすることを特徴とする電子線描画装置。 - 【請求項１２】 前記バインド処理部は、前記合成パタ
ーンデータをｎ個の領域Ｓ1〜Ｓn（ｎは２以上の自然
数）に分割する手段と、領域Ｓ1〜Ｓnの一部または全部
の形状を修正して前記接合ずれを補正する手段と、領域
Ｓ1〜Ｓnを再接合する手段とを有することを特徴とする
請求項１０または１１に記載の電子線描画装置。 - 【請求項１３】 前記領域Ｓ1〜Ｓnが矩形領域であっ
て、前記接合ずれを補正する手段により、前記領域Ｓ1
〜Ｓnを辺方向に拡大または縮小させて形状を修正する
ことを特徴とする請求項１２に記載の電子線描画装置。 - 【請求項１４】 複数のパターンデータが合成されてな
る合成パターンデータを電子線描画可能なパターンデー
タに変換する電子線描画用パターンデータ作成装置であ
って、前記合成パターンデータに生じた各パターンデー
タ間の接合ずれを補正する機能を有するバインド処理部
を備えたことを特徴とする電子線描画用パターンデータ
作成装置。 - 【請求項１５】 前記バインド処理部は、前記合成パタ
ーンデータをｎ個の領域Ｓ1〜Ｓn（ｎは２以上の自然
数）に分割する手段と、領域Ｓ1〜Ｓnの一部または全部
の形状を修正して前記接合ずれを補正する手段と、領域
Ｓ1〜Ｓnを再接合する手段とを有することを特徴とする
請求項１４に記載の電子線描画用パターンデータ作成装
置。 - 【請求項１６】 前記領域Ｓ1〜Ｓnが矩形領域であっ
て、前記接合ずれを補正する手段により、前記領域Ｓ1
〜Ｓnを辺方向に拡大または縮小させて形状を修正する
ことを特徴とする請求項１５に記載の電子線描画用パタ
ーンデータ作成装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP6054599A JP3246551B2 (ja) | 1999-03-08 | 1999-03-08 | 電子線描画描画用パターンデータ作成方法、電子線描画用パターンデータ作成装置および電子線描画装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP6054599A JP3246551B2 (ja) | 1999-03-08 | 1999-03-08 | 電子線描画描画用パターンデータ作成方法、電子線描画用パターンデータ作成装置および電子線描画装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2000260688A JP2000260688A (ja) | 2000-09-22 |
| JP3246551B2 true JP3246551B2 (ja) | 2002-01-15 |
Family
ID=13145380
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP6054599A Expired - Fee Related JP3246551B2 (ja) | 1999-03-08 | 1999-03-08 | 電子線描画描画用パターンデータ作成方法、電子線描画用パターンデータ作成装置および電子線描画装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3246551B2 (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6436597B2 (en) | 1998-01-07 | 2002-08-20 | Canon Kabushiki Kaisha | Electrophotographic photosensitve member, process for producing electrophotographic photosensitive member, and process cartridge and electrophotographic apparatus which have the electrophotographic photosensitive member |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US8539395B2 (en) * | 2010-03-05 | 2013-09-17 | Micronic Laser Systems Ab | Method and apparatus for merging multiple geometrical pixel images and generating a single modulator pixel image |
-
1999
- 1999-03-08 JP JP6054599A patent/JP3246551B2/ja not_active Expired - Fee Related
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| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6436597B2 (en) | 1998-01-07 | 2002-08-20 | Canon Kabushiki Kaisha | Electrophotographic photosensitve member, process for producing electrophotographic photosensitive member, and process cartridge and electrophotographic apparatus which have the electrophotographic photosensitive member |
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| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP2000260688A (ja) | 2000-09-22 |
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