JP3245586B2 - 極点画素検出装置 - Google Patents
極点画素検出装置Info
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Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、ディジタル式複写
機やファクシミリなど画像中の画素を網点領域とそれ以
外の非網点領域に分離するための網点領域分離装置に適
用される極点画素検出装置に関する。
機やファクシミリなど画像中の画素を網点領域とそれ以
外の非網点領域に分離するための網点領域分離装置に適
用される極点画素検出装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】連続階調の写真／網点で表現された絵／
文字などの線画の混在する画像を例えばディジタル式複
写機で画像再生する場合、再生画像の画質向上を図るに
は、写真部にはディザ処理、網点部にはモアレ除去処
理、また線画部には鮮鋭化処理をそれぞれ施すことが望
ましい。
文字などの線画の混在する画像を例えばディジタル式複
写機で画像再生する場合、再生画像の画質向上を図るに
は、写真部にはディザ処理、網点部にはモアレ除去処
理、また線画部には鮮鋭化処理をそれぞれ施すことが望
ましい。
【０００３】さらに、ファクシミリなどで画像を伝送す
る場合などにおいても、画像データの圧縮率を向上する
には、写真部、網点部、線画部の各領域に適した画像圧
縮処理を施すことが望ましい。
る場合などにおいても、画像データの圧縮率を向上する
には、写真部、網点部、線画部の各領域に適した画像圧
縮処理を施すことが望ましい。
【０００４】このような画像処理を実現するには、その
前処理として、画像中の写真部、網点部、線画部をそれ
ぞれ正確に分離抽出する必要がある。一般に、写真部と
それ以外の非写真部（＝網点部＋線画部）を分離するに
は、画像中のエッジ画素の多少を判定することで比較的
簡単に実現できるが、網点部とそれ以外の非網点部（＝
写真部＋線画部）を正確に分離することは困難である。
前処理として、画像中の写真部、網点部、線画部をそれ
ぞれ正確に分離抽出する必要がある。一般に、写真部と
それ以外の非写真部（＝網点部＋線画部）を分離するに
は、画像中のエッジ画素の多少を判定することで比較的
簡単に実現できるが、網点部とそれ以外の非網点部（＝
写真部＋線画部）を正確に分離することは困難である。
【０００５】従来、前記網点部とそれ以外の非網点部と
を分離する１つの方法として、例えば、上野の方法（上
野：“網点写真のドットプリンタによる表現”沖電気研
究開発第１３２号 Vol.53 No.4 pp.71-76 ）がある。こ
の方法は、原画像をラスタスキャンしてディジタル多値
データとして取り出し、ラスタ上で前後に隣接する画素
間で明暗の濃度差を求め、この差分が次の（ａ）（ｂ）
（ｃ）の条件いずれかに該当するとき、注目画素を濃度
変化の山または谷の極点画素として検出する。
を分離する１つの方法として、例えば、上野の方法（上
野：“網点写真のドットプリンタによる表現”沖電気研
究開発第１３２号 Vol.53 No.4 pp.71-76 ）がある。こ
の方法は、原画像をラスタスキャンしてディジタル多値
データとして取り出し、ラスタ上で前後に隣接する画素
間で明暗の濃度差を求め、この差分が次の（ａ）（ｂ）
（ｃ）の条件いずれかに該当するとき、注目画素を濃度
変化の山または谷の極点画素として検出する。
【０００６】（ａ）差分の符号が変わったとき （ｂ）差分が零の前後で差分値の符号が変わったとき （ｃ）前の極点との間隔が予め定めたしきい値となった
とき そして、上記のようにして得られた極点画素情報に基づ
き、次の（ｄ）（ｅ）の条件いずれかを満たす画素を網
点領域として検出するものである。
とき そして、上記のようにして得られた極点画素情報に基づ
き、次の（ｄ）（ｅ）の条件いずれかを満たす画素を網
点領域として検出するものである。
【０００７】（ｄ）極点間の区間長Ｌ（ｉ）が予め定め
たしきい値ＴＨ１とＴＨ２に対して下式を満たすとき ＴＨ１＜Ｌ（ｉ）＜ＴＨ２ （ｅ）現区間長Ｌ（ｉ）とその前の区間長Ｌ（ｉ−１）
が、予め定めたしきい値ＴＨ３に対して下式を満たすと
き ｜Ｌ（ｉ）−Ｌ（ｉ−１）｜≦ＴＨ３
たしきい値ＴＨ１とＴＨ２に対して下式を満たすとき ＴＨ１＜Ｌ（ｉ）＜ＴＨ２ （ｅ）現区間長Ｌ（ｉ）とその前の区間長Ｌ（ｉ−１）
が、予め定めたしきい値ＴＨ３に対して下式を満たすと
き ｜Ｌ（ｉ）−Ｌ（ｉ−１）｜≦ＴＨ３
【０００８】
【発明が解決しようとする課題】前記した上野の方法
は、網点部には濃度レベルの山と谷となる極点が規則的
に現れることを前提として画像中の網点部を分離するも
のである。しかし、一般的には、写真部や線画部にも多
くの極点が存在するため、十分に高い分離率は望めない
という問題があった。
は、網点部には濃度レベルの山と谷となる極点が規則的
に現れることを前提として画像中の網点部を分離するも
のである。しかし、一般的には、写真部や線画部にも多
くの極点が存在するため、十分に高い分離率は望めない
という問題があった。
【０００９】さらに、ラスタスキャンライン上に並ぶ画
素間の１次元的な画像情報の比較によって網点の検出を
行っているため、特に、面積率の低いあるいは高い網点
部、原稿が回転するなどして水平方向からスクリーン角
が少しずれた網点部などにおいては極点間の距離が長く
なり、文字などの線画部との分離が困難であるという問
題があった。
素間の１次元的な画像情報の比較によって網点の検出を
行っているため、特に、面積率の低いあるいは高い網点
部、原稿が回転するなどして水平方向からスクリーン角
が少しずれた網点部などにおいては極点間の距離が長く
なり、文字などの線画部との分離が困難であるという問
題があった。
【００１０】本発明は、前記事情の下になされたもの
で、その目的とするところは、網点部の面積率の大小や
原稿の配置状態などに関係なく画像中の網点に対応する
極点画素を正確に検出することのできる極点画素検出装
置を提供することを課題とする。
で、その目的とするところは、網点部の面積率の大小や
原稿の配置状態などに関係なく画像中の網点に対応する
極点画素を正確に検出することのできる極点画素検出装
置を提供することを課題とする。
【００１１】
【課題を解決するための手段】請求項１の発明において
は、ディジタル多値データに変換された画像の所定の局
所領域内の中心画素と所定の周囲画素の濃度レベルを比
較して極点画素を検出する第１極点画素検出手段と、前
記中心画素を中心として前記所定の局所領域より広い局
所領域内の中心画素と所定の周囲画素の濃度レベルを比
較して極点画素を検出する第２極点画素検出手段と、前
記第１極点画素検出手段の検出結果と前記第２極点画素
検出手段の検出結果の論理和を極点画素として出力する
論理和手段と、を備える。
は、ディジタル多値データに変換された画像の所定の局
所領域内の中心画素と所定の周囲画素の濃度レベルを比
較して極点画素を検出する第１極点画素検出手段と、前
記中心画素を中心として前記所定の局所領域より広い局
所領域内の中心画素と所定の周囲画素の濃度レベルを比
較して極点画素を検出する第２極点画素検出手段と、前
記第１極点画素検出手段の検出結果と前記第２極点画素
検出手段の検出結果の論理和を極点画素として出力する
論理和手段と、を備える。
【００１２】請求項２の発明においては、前記第１極点
画素検出手段の前記所定の局所領域が前記中心画素を中
心とする３×３画素で構成される領域であり、前記第２
極点画素検出手段の前記広い局所領域が５×５画素で構
成される領域とする。
画素検出手段の前記所定の局所領域が前記中心画素を中
心とする３×３画素で構成される領域であり、前記第２
極点画素検出手段の前記広い局所領域が５×５画素で構
成される領域とする。
【００１３】請求項３の発明においては、前記第２極点
画素検出手段の前記広い局所領域を、前記中心画素を中
心として隣接する行および列の画素を１つおきにマスク
し、前記中心画素と前記マスクによってマスクされなか
った周囲画素との濃度レベルを比較して極点画素を検出
する。
画素検出手段の前記広い局所領域を、前記中心画素を中
心として隣接する行および列の画素を１つおきにマスク
し、前記中心画素と前記マスクによってマスクされなか
った周囲画素との濃度レベルを比較して極点画素を検出
する。
【００１４】請求項４の発明においては、極点検出条件
を、局所領域内においてその中心画素の濃度レベルが所
定の周囲画素の濃度レベルに比べて最大または最小であ
るときに当該中心画素を極点画素として検出する。
を、局所領域内においてその中心画素の濃度レベルが所
定の周囲画素の濃度レベルに比べて最大または最小であ
るときに当該中心画素を極点画素として検出する。
【００１５】請求項５の発明においては、極点検出条件
を、局所領域内においてその中心画素の濃度レベルと所
定の周囲画素の濃度レベルとの差が所定のしきい値より
大きいときまたは小さいときに当該中心画素を極点画素
として検出する。
を、局所領域内においてその中心画素の濃度レベルと所
定の周囲画素の濃度レベルとの差が所定のしきい値より
大きいときまたは小さいときに当該中心画素を極点画素
として検出する。
【００１６】請求項６の発明においては、極点検出条件
を、局所領域内においてその中心画素の濃度レベルが所
定の周囲画素の濃度レベルに比べて最大または最小であ
り、かつ当該中心画素の濃度レベルと当該中心画素を中
にして点対象位置にある他の２つの画素の濃度レベルの
平均値との差の絶対値が所定のしきい値（ＴＨ２）より
も大きいときに、当該中心画素を極点画素として検出す
る。
を、局所領域内においてその中心画素の濃度レベルが所
定の周囲画素の濃度レベルに比べて最大または最小であ
り、かつ当該中心画素の濃度レベルと当該中心画素を中
にして点対象位置にある他の２つの画素の濃度レベルの
平均値との差の絶対値が所定のしきい値（ＴＨ２）より
も大きいときに、当該中心画素を極点画素として検出す
る。
【００１７】請求項７の発明においては、中心画素と比
較する所定の周囲画素として、中心画素を通り上下左右
斜め方向に伸びる直線上に並んだ画素を用いる。請求項
８の発明においては、しきい値を中心画素の濃度レベル
または所定の周囲画素の濃度レベルに応じて変える。
較する所定の周囲画素として、中心画素を通り上下左右
斜め方向に伸びる直線上に並んだ画素を用いる。請求項
８の発明においては、しきい値を中心画素の濃度レベル
または所定の周囲画素の濃度レベルに応じて変える。
【００１８】請求項９の発明においては、中心画素の濃
度レベルが所定の周囲画素の濃度レベルに比べて高い山
の極点画素検出の場合のしきい値は中心画素の濃度レベ
ルが大なるとき大となるように変え、中心画素の濃度レ
ベルが所定の周囲画素の濃度レベルに比べて低い谷の極
点画素検出の場合のしきい値は中心画素の濃度レベルが
小なるとき小となるように変える。
度レベルが所定の周囲画素の濃度レベルに比べて高い山
の極点画素検出の場合のしきい値は中心画素の濃度レベ
ルが大なるとき大となるように変え、中心画素の濃度レ
ベルが所定の周囲画素の濃度レベルに比べて低い谷の極
点画素検出の場合のしきい値は中心画素の濃度レベルが
小なるとき小となるように変える。
【００１９】請求項１０の発明においては、所定の周囲
画素の濃度レベルの平均値を求め、該平均値に応じてし
きい値を変える。
画素の濃度レベルの平均値を求め、該平均値に応じてし
きい値を変える。
【００２０】
【発明の実施の形態】図１は本発明の極点検出装置が適
用された網点領域分離装置のブロック図を示す。図中、
１は入力画像信号部、２は本発明に係る極点画素検出
部、３は網点候補領域検出部、４は網点領域検出部であ
る。以下、これら各回路１〜４の具体的な構成例につい
て、各回路ごとに項を分けて説明する。なお、以下の例
において処理対象とする原画像は、写真部、網点部およ
び線画部の混在した画像である。画像中に含まれる網点
部は、例えば６５〜２００線程度、また線画部を構成す
る文字は７級以上である。
用された網点領域分離装置のブロック図を示す。図中、
１は入力画像信号部、２は本発明に係る極点画素検出
部、３は網点候補領域検出部、４は網点領域検出部であ
る。以下、これら各回路１〜４の具体的な構成例につい
て、各回路ごとに項を分けて説明する。なお、以下の例
において処理対象とする原画像は、写真部、網点部およ
び線画部の混在した画像である。画像中に含まれる網点
部は、例えば６５〜２００線程度、また線画部を構成す
る文字は７級以上である。
【００２１】〔Ｉ〕入力画像信号部１について 入力画像信号部１は、原画像を読み取ってディジタル多
値データに変換する回路である。入力画像信号部１とし
ては、例えばスキャナなどが用いられる。この入力画像
信号部１において、原画像を例えば４００dpi 、６４階
調程度のディジタル多値データに変換し、予め定めたス
キャンライン分のデータを内蔵のメモリに格納記憶す
る。
値データに変換する回路である。入力画像信号部１とし
ては、例えばスキャナなどが用いられる。この入力画像
信号部１において、原画像を例えば４００dpi 、６４階
調程度のディジタル多値データに変換し、予め定めたス
キャンライン分のデータを内蔵のメモリに格納記憶す
る。
【００２２】再生画像がモノクロであれば輝度信号を用
いて処理を実行すればよい。また、再生画像がカラーで
あれば、色分解後のＲＧＢ信号（または色補正後のＹＭ
Ｃ信号）を用い、ＲＧＢ各色毎に本発明の領域分離処理
を並列に実行し、各色についての分離結果の多数決論理
などによって最終的に網点領域であるか否かを判定すれ
ばよい。
いて処理を実行すればよい。また、再生画像がカラーで
あれば、色分解後のＲＧＢ信号（または色補正後のＹＭ
Ｃ信号）を用い、ＲＧＢ各色毎に本発明の領域分離処理
を並列に実行し、各色についての分離結果の多数決論理
などによって最終的に網点領域であるか否かを判定すれ
ばよい。
【００２３】この入力画像信号部１は、単に原画像をデ
ィジタル多値データに変換するだけでなく、次の極点画
素検出部２における極点画素検出の前処理として、変換
されたディジタル多値データを所定の重み計数で平滑化
してもよい。この平滑化処理により、 （ａ）画像中のディジタルノイズの除去 （ｂ）次の極点画素検出部２における極点画素の検出処
理において、小さいな画素サイズのマスク（例えば３×
３画素サイズ）を用いて大きな網点ドット（例えば６５
線級）の極点画素を検出可能とすることができる。
ィジタル多値データに変換するだけでなく、次の極点画
素検出部２における極点画素検出の前処理として、変換
されたディジタル多値データを所定の重み計数で平滑化
してもよい。この平滑化処理により、 （ａ）画像中のディジタルノイズの除去 （ｂ）次の極点画素検出部２における極点画素の検出処
理において、小さいな画素サイズのマスク（例えば３×
３画素サイズ）を用いて大きな網点ドット（例えば６５
線級）の極点画素を検出可能とすることができる。
【００２４】平滑化処理の例を図２に示す。図２（ａ）
は平滑化前の網点ドットの濃度レベル状態を示す。この
図では極点を構成する最大濃度レベルの画素が３画素に
亘っているため、例えば３×３画素サイズの小さなマス
クを用いて極点検出を行った場合、このマスク内では画
素間で濃度差を生じないため、極点画素の検出は不可能
である。しかし、平滑化処理すると、図２（Ｂ）に示す
ように中央の画素の濃度レベルが最大となり、その前後
の画素の濃度レベルが下がる。このため、３×３画素サ
イズの小さなマスクでも画素間で濃度差を生じ、中央の
画素を極点画素として検出することができるようにな
る。
は平滑化前の網点ドットの濃度レベル状態を示す。この
図では極点を構成する最大濃度レベルの画素が３画素に
亘っているため、例えば３×３画素サイズの小さなマス
クを用いて極点検出を行った場合、このマスク内では画
素間で濃度差を生じないため、極点画素の検出は不可能
である。しかし、平滑化処理すると、図２（Ｂ）に示す
ように中央の画素の濃度レベルが最大となり、その前後
の画素の濃度レベルが下がる。このため、３×３画素サ
イズの小さなマスクでも画素間で濃度差を生じ、中央の
画素を極点画素として検出することができるようにな
る。
【００２５】さらに、平滑化されていない元のディジタ
ル多値データと平滑化したディジタル多値データとを用
い、それぞれのデータに基づいて極点検出を行い、その
検出結果の論理和（ＯＲ）をとることにより、同じサイ
ズのマスクで、より広範な線数の網点を領域分離するこ
とが可能となる。すなわち、元のディジタル多値データ
から小さな網点ドット（例：１００線級以上）の極点画
素を検出し、また平滑化したディジタル多値データから
大きな網点ドット（例：６５〜１００線）の極点画素を
検出することができる。
ル多値データと平滑化したディジタル多値データとを用
い、それぞれのデータに基づいて極点検出を行い、その
検出結果の論理和（ＯＲ）をとることにより、同じサイ
ズのマスクで、より広範な線数の網点を領域分離するこ
とが可能となる。すなわち、元のディジタル多値データ
から小さな網点ドット（例：１００線級以上）の極点画
素を検出し、また平滑化したディジタル多値データから
大きな網点ドット（例：６５〜１００線）の極点画素を
検出することができる。
【００２６】〔II〕極点画素検出部２について 極点画素検出部２は、前記入力画像信号部１からディジ
タル多値データに変換されて送られてくる入力画像の所
定の局所領域内の濃度情報に基づいて当該局所領域内の
濃度の変化点である山および谷の極点画素を検出する回
路である。すなわち、所定の局所領域内の中心画素と所
定の周囲画素の濃度レベルを比較し、所定の極点検出条
件により極点画素を判定する。
タル多値データに変換されて送られてくる入力画像の所
定の局所領域内の濃度情報に基づいて当該局所領域内の
濃度の変化点である山および谷の極点画素を検出する回
路である。すなわち、所定の局所領域内の中心画素と所
定の周囲画素の濃度レベルを比較し、所定の極点検出条
件により極点画素を判定する。
【００２７】なお、説明を簡単とするため、ここでは濃
度の最大レベル位置を与える山の極点画素を検出する場
合を例に採って述べる。濃度の最小レベル位置を与える
谷の極点画素を検出するには、山の極点画素と正反対の
性質を有するから、以下に述べる検出条件中の＜ ＞内
の語句を採用すればよい。
度の最大レベル位置を与える山の極点画素を検出する場
合を例に採って述べる。濃度の最小レベル位置を与える
谷の極点画素を検出するには、山の極点画素と正反対の
性質を有するから、以下に述べる検出条件中の＜ ＞内
の語句を採用すればよい。
【００２８】さて、注目画素が山の極点画素である条件
は、当該注目画素の濃度レベルがその周囲の画素の濃度
レベルよりも大きいことである。したがって、極点検出
条件として、まず、次のを採用することができる。
は、当該注目画素の濃度レベルがその周囲の画素の濃度
レベルよりも大きいことである。したがって、極点検出
条件として、まず、次のを採用することができる。
【００２９】 所定の局所領域内において、中心画素
の濃度レベルが所定の周囲画素の濃度レベルに比べて最
大＜最小＞であるとき、中心画素を極点画素とする。こ
の極点検出条件の具体例を図３（Ａ）〜（Ｄ）に示
す。局所領域として、図３（Ａ）は３×３画素サイズの
矩形マスクを、図３（Ｂ）は十字形のマスクを、図３
（Ｃ）は井桁形のマスクを、図３（Ｄ）は５×５画素サ
イズの矩形マスクをそれぞれ採用したものである。各マ
スク中、ハッチングした画素が中心画素である。これら
のマスクにおいて、その中心画素の濃度レベルが当該マ
スク内の他のすべての画素のいずれよりも大きい時に、
中心画素を極点画素として検出すればよい。
の濃度レベルが所定の周囲画素の濃度レベルに比べて最
大＜最小＞であるとき、中心画素を極点画素とする。こ
の極点検出条件の具体例を図３（Ａ）〜（Ｄ）に示
す。局所領域として、図３（Ａ）は３×３画素サイズの
矩形マスクを、図３（Ｂ）は十字形のマスクを、図３
（Ｃ）は井桁形のマスクを、図３（Ｄ）は５×５画素サ
イズの矩形マスクをそれぞれ採用したものである。各マ
スク中、ハッチングした画素が中心画素である。これら
のマスクにおいて、その中心画素の濃度レベルが当該マ
スク内の他のすべての画素のいずれよりも大きい時に、
中心画素を極点画素として検出すればよい。
【００３０】さらに、他の極点検出条件として、次の
を採用することができる。 所定の局所領域内において、中心画素の濃度レベル
が所定の周囲画素の濃度レベルに比べて所定のしきい値
ＴＨ１よりも大きい＜小さい＞とき、中心画素を山の極
点画素とする。
を採用することができる。 所定の局所領域内において、中心画素の濃度レベル
が所定の周囲画素の濃度レベルに比べて所定のしきい値
ＴＨ１よりも大きい＜小さい＞とき、中心画素を山の極
点画素とする。
【００３１】この極点検出条件の具体例を図４（Ａ）
（Ｂ）に示す。図４（Ａ）は局所領域として３×３画素
サイズの矩形マスクを採用し、また図４（Ｂ）は５×５
画素サイズの矩形マスクを採用したものである。これら
の各マスクにおいて、中心画素Ｌｃがその周囲の所定の
画素Ｌ１〜Ｌ８に対して次の条件を満たすとき、中心画
素Ｌｃを極点画素として検出すればよい。
（Ｂ）に示す。図４（Ａ）は局所領域として３×３画素
サイズの矩形マスクを採用し、また図４（Ｂ）は５×５
画素サイズの矩形マスクを採用したものである。これら
の各マスクにおいて、中心画素Ｌｃがその周囲の所定の
画素Ｌ１〜Ｌ８に対して次の条件を満たすとき、中心画
素Ｌｃを極点画素として検出すればよい。
【００３２】 Ｌｃ−Ｌ１＞ＴＨ１ ＆ Ｌｃ−Ｌ２＞ＴＨ１ ＆ Ｌｃ−Ｌ３＞ＴＨ１ ＆ Ｌｃ−Ｌ４＞ＴＨ１ ＆ Ｌｃ−Ｌ５＞ＴＨ１ ＆ Ｌｃ−Ｌ６＞ＴＨ１ ＆ Ｌｃ−Ｌ７＞ＴＨ１ ＆ Ｌｃ−Ｌ８＞ＴＨ１
【００３３】さらに、他の極点検出条件として、次の
を採用することができる。 所定の局所領域内において、中心画素の濃度レベル
が所定の周囲画素の濃度レベルに比べて最大＜最小＞で
あり、かつ当該中心画素の濃度レベルと当該中心画素を
中にして点対象の位置にある他の２つの画素の濃度レベ
ルの平均値との差の絶対値が所定のしきい値ＴＨ２より
も大きいとき、中心画素を極点画素とする。
を採用することができる。 所定の局所領域内において、中心画素の濃度レベル
が所定の周囲画素の濃度レベルに比べて最大＜最小＞で
あり、かつ当該中心画素の濃度レベルと当該中心画素を
中にして点対象の位置にある他の２つの画素の濃度レベ
ルの平均値との差の絶対値が所定のしきい値ＴＨ２より
も大きいとき、中心画素を極点画素とする。
【００３４】この極点検出条件の具体例を図５に示
す。図５は局所領域として３×３画素サイズの矩形マス
クを採用したもので、このマスクにおいて、中心画素Ｌ
ｃがその周囲の所定の画素Ｌ１〜Ｌ８に対して次の条件
を満たすとき、中心画素Ｌｃを極点画素として検出すれ
ばよい。
す。図５は局所領域として３×３画素サイズの矩形マス
クを採用したもので、このマスクにおいて、中心画素Ｌ
ｃがその周囲の所定の画素Ｌ１〜Ｌ８に対して次の条件
を満たすとき、中心画素Ｌｃを極点画素として検出すれ
ばよい。
【００３５】 Ｌｃ＞Ｌ１ ＆ Ｌｃ＞Ｌ２ ＆ Ｌｃ＞Ｌ３ ＆ Ｌｃ＞Ｌ４ ＆ Ｌｃ＞Ｌ５ ＆ Ｌｃ＞Ｌ６ ＆ Ｌｃ＞Ｌ７ ＆ Ｌｃ＞Ｌ８ かつ ｜２×Ｌｃ−Ｌ１＋Ｌ８｜＞ＴＨ２ ＆ ｜２×Ｌｃ−Ｌ２＋Ｌ７｜＞ＴＨ２ ＆ ｜２×Ｌｃ−Ｌ３＋Ｌ６｜＞ＴＨ２ ＆ ｜２×Ｌｃ−Ｌ４＋Ｌ５｜＞ＴＨ２
【００３６】さらに、他の極点検出条件として、次の
を採用することができる。 所定の局所領域よりも小さく、かつ当該局所領域の
中心画素を含む小領域において中心画素の濃度レベルが
所定の周囲画素の濃度レベルよりも大きい＜小さい＞か
または等しく、かつ当該中心画素の濃度レベルが当該小
領域を除く局所領域内の所定の画素の濃度レベルよりも
所定のしきい値ＴＨ３以上に大きい＜小さい＞とき、当
該中心画素を山の極点画素として検出する。
を採用することができる。 所定の局所領域よりも小さく、かつ当該局所領域の
中心画素を含む小領域において中心画素の濃度レベルが
所定の周囲画素の濃度レベルよりも大きい＜小さい＞か
または等しく、かつ当該中心画素の濃度レベルが当該小
領域を除く局所領域内の所定の画素の濃度レベルよりも
所定のしきい値ＴＨ３以上に大きい＜小さい＞とき、当
該中心画素を山の極点画素として検出する。
【００３７】この極点検出条件の具体例を図６に示
す。図６の５×５画素サイズのマスクにおいて、中心画
素Ｌｃがその周囲の画素Ｌ１〜Ｌ１６に対して次の条件
を満たすとき、中心画素Ｌｃを極点画素として検出すれ
ばよい。
す。図６の５×５画素サイズのマスクにおいて、中心画
素Ｌｃがその周囲の画素Ｌ１〜Ｌ１６に対して次の条件
を満たすとき、中心画素Ｌｃを極点画素として検出すれ
ばよい。
【００３８】 Ｌｃ≧Ｌ１ ＆ Ｌｃ≧Ｌ２ ＆ Ｌｃ≧Ｌ３ ＆ Ｌｃ≧Ｌ４ ＆ Ｌｃ≧Ｌ５ ＆ Ｌｃ≧Ｌ６ ＆ Ｌｃ≧Ｌ７ ＆ Ｌｃ≧Ｌ８ かつ Ｌｃ−Ｌ９＞ＴＨ３ ＆ Ｌｃ−Ｌ10＞ＴＨ３ ＆ Ｌｃ−Ｌ11＞ＴＨ３ ＆ Ｌｃ−Ｌ12＞ＴＨ３ ＆ Ｌｃ−Ｌ13＞ＴＨ３ ＆ Ｌｃ−Ｌ14＞ＴＨ３ ＆ Ｌｃ−Ｌ15＞ＴＨ３ ＆ Ｌｃ−Ｌ16＞ＴＨ３
【００３９】ところで、前記各極点検出条件にお
けるしきい値ＴＨ１，ＴＨ２，ＴＨ３の値を中心画素ま
たはその周囲の画素の濃度レベルに応じて適応的（アダ
プティブ）に変えるようにすれば、文字などの線画部の
極点画素を誤って網点部の極点画素として検出すること
を防ぐことができ、網点部の極点画素のみをさらに確実
に検出することが可能となる。次に、このしきい値を適
応的（アダプティブ）に変えるための方法をに述べ
る。
けるしきい値ＴＨ１，ＴＨ２，ＴＨ３の値を中心画素ま
たはその周囲の画素の濃度レベルに応じて適応的（アダ
プティブ）に変えるようにすれば、文字などの線画部の
極点画素を誤って網点部の極点画素として検出すること
を防ぐことができ、網点部の極点画素のみをさらに確実
に検出することが可能となる。次に、このしきい値を適
応的（アダプティブ）に変えるための方法をに述べ
る。
【００４０】 しきい値を２つ用意し、入力画像信号
部１を構成するスキャナの特性などで山と谷の極点の出
方、例えば山と谷の極点付近の濃度勾配が異なるような
時は、山と谷で異なったしきい値を用いる。
部１を構成するスキャナの特性などで山と谷の極点の出
方、例えば山と谷の極点付近の濃度勾配が異なるような
時は、山と谷で異なったしきい値を用いる。
【００４１】 一般に網点部をディジタル化した場
合、網点部の山の極点付近では、極点の濃度レベルが大
きく＜小さく＞なればなるほどその近傍の画素との濃度
のレベル差が大きくなるという性質がある。したがっ
て、この性質を利用し、しきい値を山の高さに応じて変
えるようにすればよい。例えば、前記の極点検出条件
を例に採ると、しきい値ＴＨ１として２つの値Ａ，Ｂ
（Ａ＞Ｂ）を用意し、 もし Ｌｃ≧αならば → ＴＨ１＝Ａ もし Ｌｃ＜αならば → ＴＨ１＝Ｂ （α：切り換え判定値） のように、中心画素Ｌｃの濃度レベルに応じてしきい値
ＴＨ１を２段階に変えればよい。なお、前記判定式中の
Ｌｃに代えて、中心画素の周囲の画素の平均濃度レベ
ル、例えば図４（ａ）のマスク中の周囲画素Ｌ１〜Ｌ８
の平均濃度レベルを用いてしきい値ＴＨ１を切り換える
ようにすることもできる。
合、網点部の山の極点付近では、極点の濃度レベルが大
きく＜小さく＞なればなるほどその近傍の画素との濃度
のレベル差が大きくなるという性質がある。したがっ
て、この性質を利用し、しきい値を山の高さに応じて変
えるようにすればよい。例えば、前記の極点検出条件
を例に採ると、しきい値ＴＨ１として２つの値Ａ，Ｂ
（Ａ＞Ｂ）を用意し、 もし Ｌｃ≧αならば → ＴＨ１＝Ａ もし Ｌｃ＜αならば → ＴＨ１＝Ｂ （α：切り換え判定値） のように、中心画素Ｌｃの濃度レベルに応じてしきい値
ＴＨ１を２段階に変えればよい。なお、前記判定式中の
Ｌｃに代えて、中心画素の周囲の画素の平均濃度レベ
ル、例えば図４（ａ）のマスク中の周囲画素Ｌ１〜Ｌ８
の平均濃度レベルを用いてしきい値ＴＨ１を切り換える
ようにすることもできる。
【００４２】さらにまた、前記検出条件〜中のいず
れか２つ、またはそれ以上の複数の検出条件を用意し、
それぞれの検出条件によって極点画素を検出した後、最
終的にそれらの検出結果の論理和（ＯＲ）をとることに
より、極点画素を検出するようにしてもよい。例えば、
図４を例にとれば、図４（Ａ）の３×３の小さな画素サ
イズのマスクで小さな網点ドットの極点画素を検出し、
図４（Ｂ）の５×５の大きな画素サイズのマスクで大き
な網点ドットの極点画素を検出し、これらの検出結果の
論理和（ＯＲ）をとればよい。これにより、広範な線数
の網点に対して極点画素を正確に検出することが可能と
なる。
れか２つ、またはそれ以上の複数の検出条件を用意し、
それぞれの検出条件によって極点画素を検出した後、最
終的にそれらの検出結果の論理和（ＯＲ）をとることに
より、極点画素を検出するようにしてもよい。例えば、
図４を例にとれば、図４（Ａ）の３×３の小さな画素サ
イズのマスクで小さな網点ドットの極点画素を検出し、
図４（Ｂ）の５×５の大きな画素サイズのマスクで大き
な網点ドットの極点画素を検出し、これらの検出結果の
論理和（ＯＲ）をとればよい。これにより、広範な線数
の網点に対して極点画素を正確に検出することが可能と
なる。
【００４３】〔III 〕網点候補領域検出部３について 網点候補領域検出部３は、所定の小領域における前記山
および谷の極点画素の存在状態に基づいて当該小領域内
の所定の画素が網点候補領域であるかまたは非網点候補
領域であるかを判定する回路である。網点候補領域の検
出処理は、ブロック単位または画素単位で行うことがで
きる。
および谷の極点画素の存在状態に基づいて当該小領域内
の所定の画素が網点候補領域であるかまたは非網点候補
領域であるかを判定する回路である。網点候補領域の検
出処理は、ブロック単位または画素単位で行うことがで
きる。
【００４４】網点候補領域検出部３における網点候補領
域検出条件としては、まず次のを採用することができ
る。 極点画素検出部２で検出した山と谷の極点画素を所
定の大きさの小領域Ｓにてそれぞれ計数し、この山と谷
の極点画素の合計値を当該小領域の極点画素数Ｐとし、
この極点画素数Ｐが所定のしきい値以上であるときに、
・当該小領域Ｓ内のすべての画素を網点候補領域とする
（ブロック単位で処理の場合） あるいは ・当該小領域Ｓ内の中心画素を網点候補領域とする（画
素単位で処理の場合）。
域検出条件としては、まず次のを採用することができ
る。 極点画素検出部２で検出した山と谷の極点画素を所
定の大きさの小領域Ｓにてそれぞれ計数し、この山と谷
の極点画素の合計値を当該小領域の極点画素数Ｐとし、
この極点画素数Ｐが所定のしきい値以上であるときに、
・当該小領域Ｓ内のすべての画素を網点候補領域とする
（ブロック単位で処理の場合） あるいは ・当該小領域Ｓ内の中心画素を網点候補領域とする（画
素単位で処理の場合）。
【００４５】この検出条件の具体例を図７（Ａ）
（Ｂ）に示す。図７（Ａ）はブロック単位で処理する場
合の例、図７（Ｂ）は画素単位で処理する場合の例であ
る。前記条件を満たした場合、それぞれにおいてハッチ
ングした画素を網点候補領域として決定する。
（Ｂ）に示す。図７（Ａ）はブロック単位で処理する場
合の例、図７（Ｂ）は画素単位で処理する場合の例であ
る。前記条件を満たした場合、それぞれにおいてハッチ
ングした画素を網点候補領域として決定する。
【００４６】さらに、網点の面積率にできるだけ影響を
受けないようにするため、前記における極点画素数Ｐ
に代え、次のまたはにより得られる極点画素数Ｐを
採用することもできる。
受けないようにするため、前記における極点画素数Ｐ
に代え、次のまたはにより得られる極点画素数Ｐを
採用することもできる。
【００４７】 山と谷の極点画素をそれぞれ別に計数
し、２つの計数値の大きい側の値を当該小領域Ｓの極点
画素数Ｐとする。 山と谷の極点画素をそれぞれ別に計数し、２つの計
数値の和の値を当該小領域Ｓの極点画素数Ｐとする。
し、２つの計数値の大きい側の値を当該小領域Ｓの極点
画素数Ｐとする。 山と谷の極点画素をそれぞれ別に計数し、２つの計
数値の和の値を当該小領域Ｓの極点画素数Ｐとする。
【００４８】さらに、写真部や線画部の極点画素を網点
候補領域として誤って検出することを防止するため、網
点部の極点画素は均一かつ多数存在するという性質を利
用し、次のにより得られる極点画素数Ｐを採用するこ
ともできる。
候補領域として誤って検出することを防止するため、網
点部の極点画素は均一かつ多数存在するという性質を利
用し、次のにより得られる極点画素数Ｐを採用するこ
ともできる。
【００４９】 小領域Ｓを複数の領域Ｓｉに分割して
各領域Ｓｉごとに極点画素数を計数し、極点画素数が所
定の値以下となる領域Ｓｉの数が所定の値以上であると
きは当該小領域Ｓの極点画素数を零とし、所定の値より
小さいときは各領域Ｓｉの極点画素数の合計値を当該小
領域Ｓの極点画素数Ｐとする。
各領域Ｓｉごとに極点画素数を計数し、極点画素数が所
定の値以下となる領域Ｓｉの数が所定の値以上であると
きは当該小領域Ｓの極点画素数を零とし、所定の値より
小さいときは各領域Ｓｉの極点画素数の合計値を当該小
領域Ｓの極点画素数Ｐとする。
【００５０】この検出条件の具体例を図８に示す。図
８は、小領域Ｓを４つの領域Ｓ1 ，Ｓ2 ，Ｓ3 ，Ｓ4 に
分割し、各領域ごとにその極点画素数Ｐ1 ，Ｐ2 ，
Ｐ3 ，Ｐ 4 を計数し、どれか１つでも計数値が零であれ
ば小領域Ｓの極点画素数を零とし、そうでなければ各領
域の極点画素数Ｐ1 ，Ｐ2 ，Ｐ3 ，Ｐ4 の合計値を小領
域Ｓの極点画素数Ｐとする。
８は、小領域Ｓを４つの領域Ｓ1 ，Ｓ2 ，Ｓ3 ，Ｓ4 に
分割し、各領域ごとにその極点画素数Ｐ1 ，Ｐ2 ，
Ｐ3 ，Ｐ 4 を計数し、どれか１つでも計数値が零であれ
ば小領域Ｓの極点画素数を零とし、そうでなければ各領
域の極点画素数Ｐ1 ，Ｐ2 ，Ｐ3 ，Ｐ4 の合計値を小領
域Ｓの極点画素数Ｐとする。
【００５１】さらにまた、極点候補領域の検出条件とし
て次のを採用することができる。 小領域Ｓを複数の領域Ｓｉに分割して各領域Ｓｉご
とに極点画素数を計数し、極点画素数が所定の値以下と
なる領域Ｓｉの数が所定の値以下であるとき、・当該小
領域Ｓ内のすべての画素を網点候補領域として検出する
（ブロック単位で処理の場合） あるいは ・当該小領域Ｓ内の中心画素を網点候補領域として検出
する（画素単位で処理の場合）。
て次のを採用することができる。 小領域Ｓを複数の領域Ｓｉに分割して各領域Ｓｉご
とに極点画素数を計数し、極点画素数が所定の値以下と
なる領域Ｓｉの数が所定の値以下であるとき、・当該小
領域Ｓ内のすべての画素を網点候補領域として検出する
（ブロック単位で処理の場合） あるいは ・当該小領域Ｓ内の中心画素を網点候補領域として検出
する（画素単位で処理の場合）。
【００５２】この検出条件の具体例を図８により説明
すれば、小領域Ｂを４つの領域Ｓ1，Ｓ2 ，Ｓ3 ，Ｓ4
に分割し、この分割した各領域ごとに極点画素の有無を
判定し、すべての領域Ｓ1 ，Ｓ2 ，Ｓ3 ，Ｓ4 に極点画
素が存在するとき、小領域Ｓ内のすべての画素（ブロッ
ク単位で処理の場合）または中心画素（画素単位で処理
の場合）を網点候補領域とすればよい。
すれば、小領域Ｂを４つの領域Ｓ1，Ｓ2 ，Ｓ3 ，Ｓ4
に分割し、この分割した各領域ごとに極点画素の有無を
判定し、すべての領域Ｓ1 ，Ｓ2 ，Ｓ3 ，Ｓ4 に極点画
素が存在するとき、小領域Ｓ内のすべての画素（ブロッ
ク単位で処理の場合）または中心画素（画素単位で処理
の場合）を網点候補領域とすればよい。
【００５３】〔IV〕網点領域検出部４について 網点領域検出部４は、前記網点候補領域検出部３の検出
結果を利用して最終的に網点領域を検出する回路であ
る。網点領域の検出処理は、ブロック単位または画素単
位で行うことができる。すなわち、
結果を利用して最終的に網点領域を検出する回路であ
る。網点領域の検出処理は、ブロック単位または画素単
位で行うことができる。すなわち、
【００５４】 ブロック単位で処理する場合 注目の小領域とその周囲の小領域における網点候補領域
の分布状態を判定し、注目の小領域が網点領域であるか
否かを決定する。 画素単位で処理する場合 注目の画素とその周囲の画素における網点候補領域の分
布状態を判定し、注目の画素が網点領域であるか否かを
決定する。
の分布状態を判定し、注目の小領域が網点領域であるか
否かを決定する。 画素単位で処理する場合 注目の画素とその周囲の画素における網点候補領域の分
布状態を判定し、注目の画素が網点領域であるか否かを
決定する。
【００５５】そして、前記のブロック単位で処理する
場合、具体的には次のの網点領域検出条件を採用する
ことができる。 注目の小領域とその周囲の小領域のうちで、網点候
補領域と判定された小領域の数が所定の個数以上あると
き、当該領域内のすべての画素を網点領域とする。
場合、具体的には次のの網点領域検出条件を採用する
ことができる。 注目の小領域とその周囲の小領域のうちで、網点候
補領域と判定された小領域の数が所定の個数以上あると
き、当該領域内のすべての画素を網点領域とする。
【００５６】なお、ブロック単位で処理を行う場合、そ
れぞれの小領域の中心画素で各小領域を代表させての
処理を行い、その結果に従って注目の小領域が網点領域
であるか否かを決定するようにしてもよい。これによ
り、処理の簡素化と高速化を図ることができる。
れぞれの小領域の中心画素で各小領域を代表させての
処理を行い、その結果に従って注目の小領域が網点領域
であるか否かを決定するようにしてもよい。これによ
り、処理の簡素化と高速化を図ることができる。
【００５７】この検出条件の具体例を図９に示す。こ
の図９は、注目の小領域とその前後の小領域において、
×印を付した画素を各領域の代表画素として選定し、こ
の×印画素がそれぞれ網点候補領域であるか否かを判定
することにより網点領域を検出するようにしたものであ
る。そして、例えばこの３つの×印の画素のすべてが網
点候補領域であるとき、注目の小領域内のハッチングし
て示したすべての画素を網点領域として決定する。
の図９は、注目の小領域とその前後の小領域において、
×印を付した画素を各領域の代表画素として選定し、こ
の×印画素がそれぞれ網点候補領域であるか否かを判定
することにより網点領域を検出するようにしたものであ
る。そして、例えばこの３つの×印の画素のすべてが網
点候補領域であるとき、注目の小領域内のハッチングし
て示したすべての画素を網点領域として決定する。
【００５８】また、前記の画素単位で処理する場合、
具体的には次のまたはの網点領域検出条件を採用す
ることができる。 注目画素と周囲の画素のうちで網点候補領域の画素
が所定の個数以上あるとき、当該注目画素を網点領域と
する。
具体的には次のまたはの網点領域検出条件を採用す
ることができる。 注目画素と周囲の画素のうちで網点候補領域の画素
が所定の個数以上あるとき、当該注目画素を網点領域と
する。
【００５９】なお、周囲の画素としては、注目画素に連
続する画素、あるいは注目画素から所定の距離だけ離れ
た位置の画素など、任意の位置の画素を採用することが
できる。この検出条件の具体例を図１０および図１１
に示す。図１０は、×印を付して示す飛び飛びの位置の
画素を採用し、この×印画素のうちで網点領域の画素が
所定の個数以上あるとき、ハッチングした注目画素を網
点領域として決定するものである。図１１は、×印を付
して示す連続位置の画素を採用し、この連続する×印画
素のうちで網点候補領域の画素が所定の個数以上あると
き、ハッチングした注目画素を網点領域として決定する
ものである。
続する画素、あるいは注目画素から所定の距離だけ離れ
た位置の画素など、任意の位置の画素を採用することが
できる。この検出条件の具体例を図１０および図１１
に示す。図１０は、×印を付して示す飛び飛びの位置の
画素を採用し、この×印画素のうちで網点領域の画素が
所定の個数以上あるとき、ハッチングした注目画素を網
点領域として決定するものである。図１１は、×印を付
して示す連続位置の画素を採用し、この連続する×印画
素のうちで網点候補領域の画素が所定の個数以上あると
き、ハッチングした注目画素を網点領域として決定する
ものである。
【００６０】なお、前記図９〜図１１の各例とも、周囲
の小領域または周囲画素を主走査方向（横方向）にアク
セスした場合を示したが、副走査方向（縦方向）にアク
セスしてもよいのであって、アクセスの仕方はラインバ
ッファの量と分離精度に応じて決めればよい。
の小領域または周囲画素を主走査方向（横方向）にアク
セスした場合を示したが、副走査方向（縦方向）にアク
セスしてもよいのであって、アクセスの仕方はラインバ
ッファの量と分離精度に応じて決めればよい。
【００６１】以上、図１中の各回路１〜４の具体例につ
いて述べた。図１３は図１の網点領域分離装置の処理動
作のフローチャートである。以下に、このフローチャー
トを参照して図１装置の動作の概要を説明する。なお、
このフローチャートにおける極点画素検出部２、網点候
補領域検出部３および網点領域検出部４の処理条件は次
の（ａ）（ｂ）（ｃ）の通りである。
いて述べた。図１３は図１の網点領域分離装置の処理動
作のフローチャートである。以下に、このフローチャー
トを参照して図１装置の動作の概要を説明する。なお、
このフローチャートにおける極点画素検出部２、網点候
補領域検出部３および網点領域検出部４の処理条件は次
の（ａ）（ｂ）（ｃ）の通りである。
【００６２】（ａ）極点画素検出部２における極点画素
の検出は、Ｍ×Ｍのブロックで行う（例えば、図３
（Ａ）の３×３画素サイズのマスク）。 （ｂ）網点候補領域検出部３における網点候補領域の検
出は、Ｎ×Ｎのブロック（Ｎ＞Ｍ）を用いてブロック単
位で行う（例えば、図７（Ａ）の４×４画素サイズの小
領域Ｓ）。 （ｃ）網点領域検出部３における網点領域の検出は、前
記Ｎ×Ｎのブロックを図１３に示すように主走査方向に
Ｋ個並べ、ブロック単位で行う。
の検出は、Ｍ×Ｍのブロックで行う（例えば、図３
（Ａ）の３×３画素サイズのマスク）。 （ｂ）網点候補領域検出部３における網点候補領域の検
出は、Ｎ×Ｎのブロック（Ｎ＞Ｍ）を用いてブロック単
位で行う（例えば、図７（Ａ）の４×４画素サイズの小
領域Ｓ）。 （ｃ）網点領域検出部３における網点領域の検出は、前
記Ｎ×Ｎのブロックを図１３に示すように主走査方向に
Ｋ個並べ、ブロック単位で行う。
【００６３】処理が開始されると、入力画像信号部１は
原画像をラスタスキャンし、原画像をディジタル多値デ
ータに変換して内部のバッファに格納する。極点画素検
出部２は、入力画像信号部１から処理に必要なＮライン
分のディジタル多値データを読み込み（ステップ３
１）、Ｍ×Ｍ画素サイズのマスク、例えば図３（Ａ）の
３×３画素サイズのマスクを各画素に順次適用し、例え
ばマスク内の中心画素の濃度レベルが周囲画素の濃度レ
ベルに比べて最大または最小であるとき、その時の中心
画素を極点画素として順次検出していく（ステップ３
２）。
原画像をラスタスキャンし、原画像をディジタル多値デ
ータに変換して内部のバッファに格納する。極点画素検
出部２は、入力画像信号部１から処理に必要なＮライン
分のディジタル多値データを読み込み（ステップ３
１）、Ｍ×Ｍ画素サイズのマスク、例えば図３（Ａ）の
３×３画素サイズのマスクを各画素に順次適用し、例え
ばマスク内の中心画素の濃度レベルが周囲画素の濃度レ
ベルに比べて最大または最小であるとき、その時の中心
画素を極点画素として順次検出していく（ステップ３
２）。
【００６４】次いで、網点候補領域検出部３は、ステッ
プ３３において、前記のようにして検出されたＮライン
分の極点画素についてＮ×Ｎブロックごと、例えば図７
（Ａ）の４×４画素サイズの小領域Ｓ（以下「ブロック
Ｓ」という）ごとにその極点画素数Ｐを計数する。そし
て、ステップ３４において、例えば、得られた極点画素
数Ｐが所定のしきい値以上であるブロックＳを網点候補
領域として検出する。
プ３３において、前記のようにして検出されたＮライン
分の極点画素についてＮ×Ｎブロックごと、例えば図７
（Ａ）の４×４画素サイズの小領域Ｓ（以下「ブロック
Ｓ」という）ごとにその極点画素数Ｐを計数する。そし
て、ステップ３４において、例えば、得られた極点画素
数Ｐが所定のしきい値以上であるブロックＳを網点候補
領域として検出する。
【００６５】次いで、網点領域検出部４は、ステップ３
５において、図１３に示すように、主走査方向に前記ブ
ロックＳをＫ個並べ、このＫ個のブロック中で網点候補
領域のブロックの数Ｂを求める。そして、ステップＳ３
６において、このブロック数Ｂが所定の個数ＢTH以上で
あるか否かを判定し、所定の個数ＢTHよりも大きいとき
は注目ブロックを網点部と判定し（ステップ３７）、ま
た所定の個数ＢTHよりも小さいときは注目ブロックは非
網点部と判定する（ステップ３８）。
５において、図１３に示すように、主走査方向に前記ブ
ロックＳをＫ個並べ、このＫ個のブロック中で網点候補
領域のブロックの数Ｂを求める。そして、ステップＳ３
６において、このブロック数Ｂが所定の個数ＢTH以上で
あるか否かを判定し、所定の個数ＢTHよりも大きいとき
は注目ブロックを網点部と判定し（ステップ３７）、ま
た所定の個数ＢTHよりも小さいときは注目ブロックは非
網点部と判定する（ステップ３８）。
【００６６】上記の処理を繰り返し実行することにより
（ステップ３９，４０）、入力画像中のすべての画素が
網点部と非網点部に領域分離される。以上説明した本発
明の網点領域分離装置は、画像中の全画素を網点部とそ
れ以外の非網点部（＝写真部＋線画部）とに領域分離す
るものであるが、この本発明の網点領域分離装置と公知
の写真領域分離装置（例えば、特開昭６１−２２５９７
４号参照）とを組み合わせることにより、画像を写真
部、網点部、線画部の三つの領域に分離するためのいわ
ゆる三領域分離装置を容易に構成することができる。す
なわち、三領域分離装置を構成するには、本発明の網点
領域分離装置と公知の写真領域分離装置を用い、 （ａ） 網点領域分離装置 → 網点部 （ｂ） 写真領域分離装置 → 写真部 （ｃ） （ａ）（ｂ）の結果を利用し、非網点部で、か
つ非写真部となる領域→ 線画部 と判定するように構成すればよい。なお、前記（ａ）の
網点領域分離処理と（ｂ）の写真領域分離処理は並列ま
たは直列処理のいずれでも行い得る。
（ステップ３９，４０）、入力画像中のすべての画素が
網点部と非網点部に領域分離される。以上説明した本発
明の網点領域分離装置は、画像中の全画素を網点部とそ
れ以外の非網点部（＝写真部＋線画部）とに領域分離す
るものであるが、この本発明の網点領域分離装置と公知
の写真領域分離装置（例えば、特開昭６１−２２５９７
４号参照）とを組み合わせることにより、画像を写真
部、網点部、線画部の三つの領域に分離するためのいわ
ゆる三領域分離装置を容易に構成することができる。す
なわち、三領域分離装置を構成するには、本発明の網点
領域分離装置と公知の写真領域分離装置を用い、 （ａ） 網点領域分離装置 → 網点部 （ｂ） 写真領域分離装置 → 写真部 （ｃ） （ａ）（ｂ）の結果を利用し、非網点部で、か
つ非写真部となる領域→ 線画部 と判定するように構成すればよい。なお、前記（ａ）の
網点領域分離処理と（ｂ）の写真領域分離処理は並列ま
たは直列処理のいずれでも行い得る。
【００６７】図１４は前記三領域分離装置を利用して構
成した複写機の一例を示す。図中、１１は三領域分離装
置、１２は線画領域用のＭＴＦ補正回路、１３は線画領
域用の二値化処理回路、１４は網点領域用の平滑処理回
路、１５は網点領域用の階調性を重視したうずまき型の
ディザ処理回路、１６は写真領域用の階調性を重視した
うずまき型のディザ処理回路、１７は三領域分離装置１
１の判定出力に従って処理回路１３，１５，１６のいず
れかの処理信号を選択する画像信号選択回路である。
成した複写機の一例を示す。図中、１１は三領域分離装
置、１２は線画領域用のＭＴＦ補正回路、１３は線画領
域用の二値化処理回路、１４は網点領域用の平滑処理回
路、１５は網点領域用の階調性を重視したうずまき型の
ディザ処理回路、１６は写真領域用の階調性を重視した
うずまき型のディザ処理回路、１７は三領域分離装置１
１の判定出力に従って処理回路１３，１５，１６のいず
れかの処理信号を選択する画像信号選択回路である。
【００６８】入力画像信号は、三領域分離装置１１、Ｍ
ＴＦ補正回路１２、平滑処理回路１４およびディザ処理
回路１６に並列に入力する。三領域分離装置１１は、入
力画像の全画素について網点／写真／線画に領域分離
し、その判定出力を画像信号選択回路１７に送る。
ＴＦ補正回路１２、平滑処理回路１４およびディザ処理
回路１６に並列に入力する。三領域分離装置１１は、入
力画像の全画素について網点／写真／線画に領域分離
し、その判定出力を画像信号選択回路１７に送る。
【００６９】画像信号選択回路１７は、三領域分離装置
１１の判定出力が写真領域信号の場合にはディザ処理回
路１６の出力画像を選択し、網点領域信号の場合にはデ
ィザ処理回路１６の出力画像を選択し、線画領域信号の
場合には二値化処理回路１３の出力画像を選択して出力
する。この結果、入力画像中の写真部においてはうずま
き型のディザ処理回路１６によって擬似中間調処理され
た画像が、網点部においては平滑処理回路１４とうずま
き型のディザ処理回路１５によってモアレ除去された画
像が、また線画領域においてはＭＴＦ補正回路１２と二
値化処理回路１３によってエッジ強調された画像が出力
される。したがって、画像信号選択回路１７から出力さ
れる画像信号を用いて画像再生すれば、画像中の網点
部、写真部および線画部の各領域ごとに最良の方法で画
像処理した高品質の再生画像が得られる。
１１の判定出力が写真領域信号の場合にはディザ処理回
路１６の出力画像を選択し、網点領域信号の場合にはデ
ィザ処理回路１６の出力画像を選択し、線画領域信号の
場合には二値化処理回路１３の出力画像を選択して出力
する。この結果、入力画像中の写真部においてはうずま
き型のディザ処理回路１６によって擬似中間調処理され
た画像が、網点部においては平滑処理回路１４とうずま
き型のディザ処理回路１５によってモアレ除去された画
像が、また線画領域においてはＭＴＦ補正回路１２と二
値化処理回路１３によってエッジ強調された画像が出力
される。したがって、画像信号選択回路１７から出力さ
れる画像信号を用いて画像再生すれば、画像中の網点
部、写真部および線画部の各領域ごとに最良の方法で画
像処理した高品質の再生画像が得られる。
【００７０】
【発明の効果】中心画素を中心として所定の局所領域お
よび前記局所領域より広い所定の局所領域のそれぞれに
対して中心画素と所定の周囲画素の濃度レベルを比較し
て極点画素を検出し、検出結果の論理和を極点画素とし
て出力するようにしたので、網点部の面積率の大小や原
稿の配置状態に関係なく、極点画素を正確に検出するこ
とができる。
よび前記局所領域より広い所定の局所領域のそれぞれに
対して中心画素と所定の周囲画素の濃度レベルを比較し
て極点画素を検出し、検出結果の論理和を極点画素とし
て出力するようにしたので、網点部の面積率の大小や原
稿の配置状態に関係なく、極点画素を正確に検出するこ
とができる。
【図１】本発明の網点検出装置が適用された網点領域分
離装置のブロック図である。
離装置のブロック図である。
【図２】平滑化前後の網点ドットの様子を示す図であ
る。
る。
【図３】局所領域と極点画素の例を示す図である。
【図４】局所領域と極点画素の例を示す図である。
【図５】局所領域と極点画素の例を示す図である。
【図６】局所領域と極点画素の例を示す図である。
【図７】網点候補領域の検出の例を示す図である。
【図８】小領域の分割の例を示す図である。
【図９】網点領域の検出の例を示す図である。
【図１０】網点領域の検出の例を示す図である。
【図１１】網点領域の検出の例を示す図である。
【図１２】処理動作のフローチャートである。
【図１３】網点候補領域の計数方法の例を示す図であ
る。
る。
【図１４】本発明装置を利用して構成した複写機の例を
示す図である。
示す図である。
１ 入力画像信号部 ２ 極点画素検出部 ３ 網点候補領域検出部 ４ 網点領域検出部
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (58)調査した分野(Int.Cl.7，ＤＢ名) H04N 1/40 - 1/409 H04N 1/46 H04N 1/60
Claims (10)
- 【請求項１】 ディジタル多値データに変換された画像
の所定の局所領域内の中心画素と所定の周囲画素の濃度
レベルを比較して極点画素を検出する第１極点画素検出
手段と、 前記中心画素を中心として前記所定の局所領域より広い
局所領域内の中心画素と所定の周囲画素の濃度レベルを
比較して極点画素を検出する第２極点画素検出手段と、 前記第１極点画素検出手段の検出結果と前記第２極点画
素検出手段の検出結果の論理和を極点画素として出力す
る論理和手段と、を備えたことを特徴とする極点画素検
出装置。 - 【請求項２】 前記第１極点画素検出手段の前記所定の
局所領域が前記中心画素を中心とする３×３画素で構成
される領域であり、前記第２極点画素検出手段の前記広
い局所領域が５×５画素で構成される領域であることを
特徴とする請求項１記載の極点画素検出装置。 - 【請求項３】 前記第２極点画素検出手段の前記広い局
所領域を、前記中心画素を中心として隣接する行および
列の画素を１つおきにマスクし、前記中心画素と前記マ
スクによってマスクされなかった周囲画素との濃度レベ
ルを比較して極点画素を検出するようにしたことを特徴
とする請求項１または２記載の極点画素検出装置。 - 【請求項４】 極点検出条件を、局所領域内においてそ
の中心画素の濃度レベルが所定の周囲画素の濃度レベル
に比べて最大または最小であるときに当該中心画素を極
点画素として検出する、ようにしたことを特徴とする請
求項１，２または３記載の極点画素検出装置。 - 【請求項５】 極点検出条件を、局所領域内においてそ
の中心画素の濃度レベルと所定の周囲画素の濃度レベル
との差が所定のしきい値より大きいときまたは小さいと
きに当該中心画素を極点画素として検出する、 ようにしたことを特徴とする請求項１，２または３記載
の極点画素検出装置。 - 【請求項６】 極点検出条件を、局所領域内においてそ
の中心画素の濃度レベルが所定の周囲画素の濃度レベル
に比べて最大または最小であり、かつ当該中心画素の濃
度レベルと当該中心画素を中にして点対象位置にある他
の２つの画素の濃度レベルの平均値との差の絶対値が所
定のしきい値（ＴＨ２）よりも大きいときに、当該中心
画素を極点画素として検出する、ようにしたことを特徴
とする請求項１，２または３記載の極点画素検出装置。 - 【請求項７】 中心画素と比較する所定の周囲画素とし
て、中心画素を通り上下左右斜め方向に伸びる直線上に
並んだ画素を用いる、ことを特徴とする請求項１乃至６
のいずれかに記載の極点画素検出装置。 - 【請求項８】 しきい値を中心画素の濃度レベルまたは
所定の周囲画素の濃度レベルに応じて変える、 ようにしたことを特徴とする請求項５または６記載の極
点画素検出装置。 - 【請求項９】 中心画素の濃度レベルが所定の周囲画素
の濃度レベルに比べて高い山の極点画素検出の場合のし
きい値は中心画素の濃度レベルが大なるとき大となるよ
うに変え、中心画素の濃度レベルが所定の周囲画素の濃
度レベルに比べて低い谷の極点画素検出の場合のしきい
値は中心画素の濃度レベルが小なるとき小となるように
変える、ようにしたことを特徴とする請求項８記載の極
点画素検出装置。 - 【請求項１０】 所定の周囲画素の濃度レベルの平均値
を求め、該平均値に応じてしきい値を変える、ようにし
たことを特徴とする請求項８記載の極点画素検出装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2000215968A JP3245586B2 (ja) | 2000-01-01 | 2000-07-17 | 極点画素検出装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2000215968A JP3245586B2 (ja) | 2000-01-01 | 2000-07-17 | 極点画素検出装置 |
Related Parent Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP02075466A Division JP3142279B2 (ja) | 1990-03-27 | 1990-03-27 | 網点領域分離装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2001053968A JP2001053968A (ja) | 2001-02-23 |
| JP3245586B2 true JP3245586B2 (ja) | 2002-01-15 |
Family
ID=18711312
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2000215968A Expired - Lifetime JP3245586B2 (ja) | 2000-01-01 | 2000-07-17 | 極点画素検出装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3245586B2 (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6477284B1 (en) | 1999-06-14 | 2002-11-05 | Nec Corporation | Photo-electric combined substrate, optical waveguide and manufacturing process therefor |
Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2777379B2 (ja) | 1988-10-24 | 1998-07-16 | 株式会社リコー | 領域分離装置 |
-
2000
- 2000-07-17 JP JP2000215968A patent/JP3245586B2/ja not_active Expired - Lifetime
Patent Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2777379B2 (ja) | 1988-10-24 | 1998-07-16 | 株式会社リコー | 領域分離装置 |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6477284B1 (en) | 1999-06-14 | 2002-11-05 | Nec Corporation | Photo-electric combined substrate, optical waveguide and manufacturing process therefor |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP2001053968A (ja) | 2001-02-23 |
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