JP3228608B2 - 磁気抵抗センサ及びその製造方法 - Google Patents
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Description
装置に関する。さらに詳細にいえば、本発明は磁気記録
ディスク駆動装置の磁気抵抗ヘッドに関する。
う」ポール型磁気抵抗ヘッドとして知られているヘッド
方式に由来する傾斜電流型の磁気抵抗(MR)ヘッド
は、主として入力表面から接触体端部までの距離の変動
により(センサの出力はこの距離に比例する)、特に、
この接触体と磁気抵抗素子との間の狭い空間の変動によ
り、その読み出し感度関数は歪曲される。この問題点は
図1に示されている。図1において、磁気抵抗素子10
が左から右に配置され、および、接触体12は約45°
傾斜してセンサを横断する。それにより、センス領域が
生じ、そして、電流Iは主として、磁気抵抗素子の磁化
ベクトルMに対して約45°の角度で、このセンス領域
を横断して(接触体端部に垂直に)流れる。けれども、
斜線が付された三角形領域16では、磁気抵抗素子の磁
化ベクトルMに対して、センス領域の中央部よりもより
平行に、すなわち、より小さな角度を有して、電流が流
れる。この領域での磁化ベクトルの回転とセンス電流が
存在するために、検出はなお可能である。その結果、読
み出し感度は右へよりも左へさらに延長され、したがっ
て、読み出し感度関数は歪曲される。
幅が1マイクロメートル以下の1つのマイクロトラック
に記録された情報に対する、センサの感度とセンサ上の
位置との関係を表す関数である。図1に示された磁気抵
抗センサの読み出し感度関数は、図2の曲線18で示さ
れている。斜線が付された三角形領域16の中に電流ベ
クトルIと磁気抵抗素子の磁化ベクトルMとが存在する
ことにより、読み出し感度関数は非対称となり、それに
より、図の左側に延長された大きな裾部分20が存在す
る。
ような非対称磁気抵抗センサを用いる時、2つの問題点
が存在する。この応用では、磁気ディスク表面の上の非
常に細いトラックから、データとサーボ情報との両方を
読み出すことが要求される。第1の問題点は、読み出し
感度関数に過剰に長い裾が存在することにより生ずる、
雑音と漏話である。第2の問題点は、アナログ・サーボ
・データを読み出すためにこのセンサを用いることであ
る。読み出し感度関数が非対称であるために、左からの
サーボ・データに対する応答と右からのサーボ・データ
に対する応答とが同じではなく、したがって、この応用
を実際的なものにするためには、特別な補償が必要であ
る。
つの方法は、拡散またはイオン注入により、磁気抵抗素
子(パーマロイ)の性能を抑止し、それにより、好まし
くない領域16を不活性にすることである。一方、本発
明による解決法は、好ましくない領域の中の磁気抵抗素
子(パーマロイ)を、磁化に対する抵抗率の変化が事実
上ゼロである別の材料で置き換えることである。
れているような好ましくない「読み出し感度」領域を事
実上なくするように、磁気抵抗素子をパターンに作成す
る段階と、磁気抵抗素子の境界での内部反磁界を消去す
るように、磁気抵抗素子の境界の中の一定の境界に、硬
磁石層すなわち永久磁石層を用いて、このパターンに作
成された磁気抵抗素子を安定化する段階と、を有する。
ここで、磁気抵抗素子の境界に内部反磁界が存在する
と、それは磁気抵抗素子を多数個の磁区に分割する原因
となり、そして、この磁気抵抗素子が磁界センサとして
用いられる時、バルクハウゼン雑音を生ずる原因とな
る。境界での永久磁石層の全磁束(事実上、磁化の大き
さと層の厚さとの積に比例する)は、前記のように消去
された磁気抵抗素子の領域の全磁束とほぼ同じに保持さ
れる。このことは、磁気抵抗素子のセンス領域の中に好
ましくない縦バイアス磁界を誘起することを、永久磁石
層が防止する。このような縦バイアス磁界は、入力横磁
界に対する磁気抵抗素子の感度を小さくする作用をす
る。
じ方向を有している時、永久磁石層の磁化の大きさと厚
さとの積の値を、磁気抵抗素子の磁化の大きさと厚さと
の積の値にほぼ同じに保持することにより、このことが
達成される。磁化ベクトルの方向が異なる時、モーメン
トの不連続により得られる磁極密度は整合されなければ
ならない。
磁化ベクトルを適切なバイアス角度に保持するために、
パターンに作成された磁気抵抗素子の境界に、永久磁石
素子により誘起された永久磁界を用いることである。そ
れにより、センス電流に対する電流接触体は、磁気ヘッ
ドの空気に触れる表面に比較的垂直に整合することがで
きる。このことは、読み出しおよび書き込み構造体の相
対的整合に関して、ラッピングに対する許容度の問題点
を軽減する。
全体の一部分として、磁気抵抗センサの活性領域に磁束
を導くリップ形磁束案内装置を得ることである。このリ
ップは好ましいことに、永久磁石層により、その境界で
安定化される。
磁化ベクトルが電流ベクトルに事実上平行であるよう
に、永久磁石層の磁化ベクトルとセンサの電気接触体と
をパターンに作成することである。その場合には、この
リップにより、センサ出力の成分は事実上なく、活性領
域のための磁束案内装置として動作する。
を有する永久磁石層を隣接して用いる磁気抵抗素子の境
界制御安定化を得ることである。
に対し電気的連続性なしに永久磁石層を隣接して用いて
磁気抵抗素子の境界制御安定化を得ることである。
3は、電流が斜め方向に流れるように構成された磁気抵
抗センサである。このセンサでは、電流接触体12が磁
気抵抗素子の両側に大幅に傾斜して取り付けられ、一
方、素子の磁化ベクトルMはセンサの幅の方向に整合し
ている。図3では、磁気抵抗素子は事実上正方形の素子
10であり、そしてその中心は電流接触体12の間の中
央に配置される。磁気抵抗素子の端部は永久磁石層22
および24により安定化される。永久磁石層22および
24は正方形の磁気抵抗素子の端部に隣接しているが、
それらからは小さな間隙26により分離されている。セ
ンス電流接触体12がこれらの層の上に配置され、そし
て、センス電流接触体12の端部は磁化ベクトルMに対
して約45°の角度でもって磁気抵抗素子の両側に配置
される。これらの接触体の距離は、それぞれの接触体1
2が間隙26を横切る点28および28′が磁気抵抗素
子の水平方向の中心の近くに配置されるように、選定さ
れる。
2の間を流れる。センス電流Iは、事実上、これらの2
つの交点28および28′の間の中央領域のみを流れ、
そして間隙26により、好ましくない領域16には流れ
ない。したがって、左側の読み出し感度関数の長い裾部
分はなくなる。
から、読み出し感度関数は、図4に示されているよう
に、事実上、対称的になり、そして「鋭く立ち上が
る」。領域16からの出力はなくなり、そして、図2の
厄介な裾部分20がなくなる。
3の線5a−5a′および線5b−5b′に沿っての部
分横断面図である。これらの図面には、永久磁石層22
および24が、磁気抵抗層10および金属の電流接触体
12と、組み合わせて示されている。磁気抵抗層10の
中の永久磁石層22および24の間の磁気的境界条件を
制御する要請により、磁気抵抗層10は、典型的には、
永久磁石層22と事実上同じ厚さを有するであろう。こ
の磁気的境界条件は、下記で考察される。従来の磁気抵
抗層の厚さは300オングストロームの程度であった。
図面に示されているように、好ましい永久磁石層22お
よび24の厚さは、また300オングストロームの程度
である。当業者にはよく知られているように、金属の電
流接触体12は、永久磁石層と磁気抵抗層のいずれより
も大幅に厚く作成することができる。図面では、電流接
触体12は、1000オングストローム程度という好ま
しい厚さを有している。
抗層との間に小さな間隙を有しているが、もし磁石層の
抵抗率が磁気抵抗層の抵抗率よりも大幅に大きいように
選定されるならば、この間隙は必要ではない。このよう
な構造体の場合、このセンサは、米国特許第5,07
9,035号に開示されているような方法により、作成
することができる。この特許の内容は、本発明の中に完
全に取り込まれている。また、米国特許第5,018,
037号を参照されたい。層の間に間隙を作成する好ま
しい1つの方法は、図7a〜図7dに関連して説明され
る。
Ni82Fe18(パーマロイ)で作成されることが好まし
い。永久磁石層は、次の合金(または、それと同等な合
金)Co78Pt22、Co78Cr8 Pt14、または、Co
80Sm20のいずれかで作成されることが好ましい。接触
体層は、Mo−Au−Moの3層で構成されることが好
ましいが、他の多くの導電体金属を用いることもでき
る。
一磁区の磁気抵抗素子は、端部に正味の外部磁界を生
じ、そのために、この素子は不安定になることがある。
この場合、これらの端部領域は多数個の磁区に「分裂」
し、それにより、1つの磁区の正味の内部磁界が隣接す
る磁区の正味の内部磁界を相殺し、したがって、この素
子全体は外部磁界を生じないということが起こり得る。
ために、種々の技術を用いることができる。その1つの
技術は、合金結晶の磁気双極子を好ましい方向に整合し
て保持するために、外部磁界を加える方法である。この
方法は、従来は、「縦バイアス」法として知られてい
た。単一磁区の問題および従来から知られている種々の
解決法に関する考察については、米国特許第4,96
7,298号を参照されたい。
するのに必要な外部磁界の正確な大きさは、十分には調
べられていなかった。例えば、前記米国特許第5,01
8,037号のコラム2、II.3−4を参照されたい。
抵抗素子の境界において、飽和した磁気抵抗素子層の磁
束と同じ磁束を生ずるのに十分な大きさであると思われ
る。この大きさの磁束を越えてしまうと、磁気抵抗素子
を単一磁区状態に保持する役割を果たしはするれども、
磁気抵抗素子の(横)入力磁束に対する感度を減少させ
るように作用するであろう。
の(図中の)接触体の長さが等しいために、磁束整合の
条件は下記の式で表される。
「PM」は「永久磁石」の略称、「t」はそれぞれの層
の厚さを表す。本発明に用いられる典型的な永久磁石材
料のMr は磁気抵抗素子材料のMr にほぼ等しいので、
永久磁石層の厚さは磁気抵抗素子層の厚さにほぼ等しい
であろう。典型的には正方形のループを有するパーマロ
イの場合、Mr は飽和値Ms に近く、したがって、単一
磁区状態が保証される。
と、磁気抵抗素子層の中の反磁界が制御されるだけでな
く、磁気抵抗素子の中央活性領域の中に、センサの特性
に妨害を与える「過剰な」縦磁界がほとんどなくなる、
または全くなくなるであろう。
は、電流は好ましくない領域の中を流れることがあるこ
とを説明した。この電流は、読み出し感度関数には影響
しないであろう。その理由は、この好ましくない領域の
材料は磁気抵抗の応答を示さないからである。けれど
も、この領域の中を流れる電流はいずれも、センス領域
の中を流れる電流を減少させることになり、したがっ
て、このことは効率の観点からは好ましくない。
の特徴が、図6(a)および(b)に示されている。こ
れらの図面において、少量の電気絶縁体材料23、25
が、永久磁石層22、24と磁気抵抗素子10との間に
配置される。この「スペーサ」50は、Al2 O3 のよ
うな酸化物で作成されることが好ましい。
と電流を運ぶ接触体とを、永久磁石層から電気的に分離
するが、一方また、磁気抵抗層を単一磁区状態に保持す
るのに必要な磁束が結合することを可能にする。スペー
サを用いることにより、すべてのセンス電流が磁気抵抗
素子のこれらの部分のみにほぼ閉じ込められ、それによ
り、読み出し感度関数がほぼ対称になる。
は、図7(a)〜(d)に示されたような処理工程によ
り作成することができる。
磁気抵抗ヘッドが、ベース被覆体60と、軟磁気遮蔽体
62と、従来は酸化アルミニュームで構成されるハーフ
・ギャップ酸化物層64とを有する、基板の上に作成さ
れる。本発明の磁気抵抗素子10が、この酸化物層64
の上に、沈着され、そして、特別の2層除去レジストを
用いることによりパターンに作成される。この2層除去
レジストは上部分67と下部分66とを有し、そして、
上部分67の幅は下部分66の幅よりも大きい。(また
別の方式では、単一層レジストをまた用いることができ
る。)本発明の処理工程では、得られる磁気抵抗素子の
幅が上にあるレジスト構造体よりもわずかに小さな幅を
有するように、化学エッチング剤を用いて過剰にエッチ
ングが行われる。
これらのレジスト層をマスクとして用いて、永久磁石層
がスパッタ沈着される。その結果、図7(b)に示され
ているような構造体が得られる。この構造体では、永久
磁石層22および24が、小さな間隙26だけ、磁気抵
抗素子10から分離される。
去工程により除去される。その後、センサ全体の上に電
気絶縁体層27が沈着される。図7(c)を参照。この
電気絶縁体層は、Al2 O3 のような酸化アルミニュー
ムであることができる。次に、また別のレジスト層68
がこの絶縁体の上に沈着され、そしてパターンに作成さ
れて、磁気抵抗層10の大部分70が露出されると共
に、磁気抵抗素子の端部に沿っての小さな領域がレジス
トで被覆されたままに残される。このレジスト・マスク
68を用いて、選択的化学エッチングまたはイオン加工
法のような適切な処理工程により、絶縁体27が磁気抵
抗センサの上から除去され、それにより、この中央間隙
領域70の中に磁気抵抗層が露出される。
て、従来の処理工程を用いてパターンに作成され、その
結果、図7(d)に示された構造体が得られる。この構
造体は、図6(b)に示された構造体と事実上同じであ
る。
ジストを除去するならば、図7(a)の2層レジスト6
6、67は、従来の単一層レジストで置き換えることが
できる。
理工程を変更し、図7(c)に示された段階を省略し
て、図3のセンサ構造体を製造することができる。
うに設計された変更実施例の図面である。この図面に示
されているように、磁気抵抗素子10は三角形として構
成され、それにより、磁気抵抗素子の非効率な上右部分
17がなくなっている。このように構成することによ
り、接触体12の間を流れるすべての電流は、静止磁気
抵抗素子磁化ベクトルMに対して、有利な角度を有する
であろう。図3に示されたような長方形の磁気抵抗素子
に対応する部分17を流れる電流は、空気に触れる表面
に近い部分よりも、小さな磁束の中で動作する。さら
に、領域16と同様に、電流は磁化ベクトルMにほぼ平
行な角度で流れる。その結果、このような領域の中での
磁気抵抗センサの動作は非常に非効率的である。
な抵抗率の永久磁石層とを用いることにより、全体の電
流が因子2だけ小さくなると予想されるが、センサ出力
も25%だけ小さくなると予想される。したがって、セ
ンサの電流効率が高められる。
磁気抵抗素子の磁化ベクトルMの方向は、図面の左から
右に向かい、したがって、磁気抵抗素子のそれぞれの磁
化ベクトルとそれぞれの永久磁石層は、それらの境界に
おいて約45°の角度でもって交差する。そうであって
も、それぞれの磁化ベクトルが整列しているから、長方
形の磁気抵抗素子の場合と同じ量の永久磁石材料を用い
て、磁束の整合が達成される。その結果、磁気抵抗素子
10は、端部38に沿って、磁区の形成を招くような未
飽和の磁極を有しない。
感度がほぼ対称的である読み出し感度の「スイート・ス
ポット」(最大感度の領域)の位置は、磁気抵抗ヘッド
の薄膜記録部の開口の高さを制御するため及び磁気抵抗
素子をヘッドの空気に触れる表面に露出させるために薄
膜ヘッドに必要な工程であるラッピングにより影響を受
け、それにより、ディスクの表面からの磁束を磁気抵抗
素子の中に効率的に入れることができる。例えば、この
図面において、ラッピングは図の下部から点30まで広
く行うことができる。このことは、図の左側の接触体1
2′の実効位置に影響を与えないが、しかし、それは図
の右側の接触体の最初の位置を右に移動させるであろ
う。したがって、この移動は、読み出し感度関数の「ス
イート・スポット」の中心を右に移動させるであろう。
により、同じ薄膜構造体の上にまた物理的に配置される
薄膜記録部と磁気抵抗素子とを整合させるのに、1つの
問題点を生ずる。(記録部は、典型的には、後で形成さ
れる薄膜層で作成される。米国特許第4,967,29
8号を参照されたい。)1つの「スイート・スポット」
の位置は、他の「スイート・スポット」に対して精密に
制御されるべきである。したがって、ラッピングによる
「スイート・スポット」の移動は好ましくない。
ト・スポット」の移動の問題点に対する1つの解決法
が、図9に示されている。図9の磁気抵抗素子には、ラ
ッピングされない「空気に触れる」表面(ABS)に対
し細い延長体32が備えられる。この延長体32は「リ
ップ」と呼ぶことができる。右側のセンス電流接触体1
2には、ラッピングされないABSに対し垂直方向に延
長された接触体端部34を形成するように、ラッピング
の許容度の最高点30の上に配置された肘部が備えられ
る。そのように構成されるならば、「リップ」の幅によ
り、磁気抵抗素子の実効読み出し幅が得られ、そして、
接触体構造は「スイート・スポット」の位置をラッピン
グに対し不変にする。高抵抗率永久磁石材料または分離
間隙により、不都合な電流が流れることが防止される。
は、この端部から垂直方向に流れようとする。そのよう
な方向を有しているので、この電流は、主として、磁気
抵抗素子の磁化ベクトルMに平行に進むであろう。した
がって、実質的に、入力磁束に対するセンサの出力応答
の成分は得られないであろう。
変性を有し、また、図8の三角形素子に関して議論した
ように、素子の非効率な「後側部分」17を省いてい
る。
なく、しかも「リップ」を有しない、基本設計に対する
1つの変更実施例を示す。
更実施例の図面である。この変更実施例では、長方形の
磁気抵抗素子が約45°回転されており、そして、「リ
ップ」32を有している。接触体は、オリジナルな設計
におけるように傾斜しているよりはむしろ、ABSに対
して「正方形的」に取り付けられる。永久磁石層22お
よび24は、「ダイアモンド」の上左端部と下右端部と
に沿って配置される。これらの永久磁石層はいずれも、
製造の際、ABSに平行な方向に向かう磁化ベクトルM
を有するように、すなわち、左から右に向かう磁化ベク
トルMを有するように、パターンに作成される。けれど
も、永久磁石層により反対端部に生ずる誘起された反対
極性の「磁荷」により、中央領域の中の磁気抵抗素子の
磁化ベクトルMが回転し、それにより、これらの端部の
間において、図に示されているように、磁化ベクトルM
は45°下方に向かって進む。けれども、「リップ」の
中の磁化ベクトルMはABSに平行な方向を向いたまま
であることに注意されたい。このことは、リップの形状
が異なることと、磁気抵抗素子の端部の磁化ベクトルそ
れ自身がABS端部に平行に整合しようとすることと、
の両方によるものである。
は、分離された安定化永久磁石層40を備えている。け
れども、図12に示されているように、これは設計上の
選択の問題である。「リップ」はまた、「活性領域」安
定化層22を延長することにより安定化され得る。
とが同じ方向を向いていないために、縦バイアス磁界を
導入することなしに磁気抵抗素子の磁区構造を安定化す
るのに必要な永久磁石層の量は、調整されなければなら
ない。この調整は、磁化ベクトルが下記の式により整合
される時、必要な量を乗算することにより行われる。こ
の場合、与えられた境界に対し、永久磁石材料は磁化ベ
クトルM1 と厚さt1を有し、磁気抵抗素子は磁化ベク
トルM2 と厚さt2 を有し、および、磁化ベクトルM1
およびM2 と境界との間の角度は、それぞれ、thet
a1 およびtheta2 である。永久磁石材料の量は、
下記の式により選定される。
有する。第1の利点は、センス電流接触体を「正方形
化」することができ、それにより、これらはラッピング
に対して不変性を有し、および、センス電流Iおよび静
止磁化ベクトルMが約45°の方向を向いているため
に、やはり線形的出力が得られることである。第2の利
点として、センサは、「読み出す」ことは全くできない
が純粋に磁束の案内路として動作する「リップ」を有す
ることである。
図面である。この実施例では、磁気抵抗素子10がパタ
ーンに作成され、それにより、永久磁石層22と磁気抵
抗素子10との間の交差する境界が磁気抵抗ヘッドのA
BSに平行な方向を向くように、「左側」永久磁石層2
2が作成される。この図面に示されているように、永久
磁石層の磁化ベクトルMは、最初、好ましい磁気抵抗素
子磁化層と同じ方向である右下方に45°だけ傾いた方
向に、整合される。また、図面に示されているように、
センス電流Iが「リップ」のすぐ上の事実上長方形の領
域のみを流れるように、最も左のセンス接触体12を構
成することができる。そのように構成することにより、
読み出し感度関数は、外部横バイアス磁界を有するが横
バイアス磁界により生ずる感度の損失のない、磁気抵抗
素子センサに比べて勝るとも劣らない。
端部に沿って永久磁石安定化が存在しないことを必要と
する。その代わり、この端部の安定化は、ABSにおけ
る磁気抵抗素子の近くに間隔を置いてセンサの軟磁気遮
蔽体を配置することにより達成される。軟磁気膜の層
は、図7(a)で62で示されており、および、前記米
国特許第5,079,035号に示されている。図1の
層15、および、図3aの層23を参照されたい。
ている図11に戻るならば、「リップ」構造体は、「磁
束拡大」部分に連結されたラッピングに影響されない
「柱」部分として説明することができる。この「磁束拡
大」部分は、接触体12の間の磁気抵抗素子の中を電流
が流れる活性センス領域に、さらに連結される。このリ
ップ構造体は、図14にさらによく示されている。
46で示されており、そして、拡大領域は参照番号48
で示されている。
べての「リップ」実施例に比べて、好ましいリップ構造
体である。このリップから出る磁束密度はリップに入る
磁束密度よりも小さいけれども、センサのセンス電流と
相互作用する領域が大きいことにより、センサの全出力
を大きくすることができる。その結果、磁気抵抗センサ
の読み出し幅は活性領域の幅とは独立に調整することが
でき、それにより、そのおのおのを分離して最適化する
ことができる。
示されたセンス構造体の1つの変更実施例を示す。この
変更実施例では、接触体12′は接触体12のように傾
斜していなく、「四角形」である。この構造のセンサに
より、傾斜した左側接触体を備えた設計よりも、対称性
の非常によい読み出し感度関数が得られる。
抗素子10との境界に2個のほぼ直角の端部70および
72を有する。これらの端部の頂点74は、傾斜した接
触体12からの電流のほぼ中心に位置する。1つの端部
70はまた、図において点30にまでラッピングするこ
とにより定められる空気に触れる表面に対し、ほぼ直角
である。
要な層の平面図。
の構造図。
(a)は図3の線5a−5a′に沿っての横断面図、
(b)は図3の線5b−5b′に沿っての横断面図。
の別の実施例の図であって、(a)は平面図、(b)は
(a)図の線6b−6b′に沿っての横断面図。
る方法の図であって、(a)〜(d)は作成の各段階を
示す図。
形の磁気抵抗素子を有する別の実施例の構造図。
ように設計されたリップを備えた磁気抵抗センサを得る
ために、センサと接触体との両方が構成されたさらに別
の実施例の構造図。
た、好ましい実施例の1つの変更実施例の構造図。
分離して安定化されたリップを回転したセンサが備え
た、磁気抵抗素子の別の構造図。
センサに対するリップ安定化の一般的構成図。
的許容性があり、回転された静止磁化ベクトルと、四角
形化された接触体と、リップとを備えた実施例の構造
図。
れる幅よりも大きい幅のセンサに対し磁束を供給するた
めに、拡大した後方領域を有するリップ構造体の図。
体の構造を示す別の実施例の図。
Claims (8)
- 【請求項1】 磁気抵抗センサであって、 磁化ベクトルと、該磁化ベクトルに平行でない第1と第
2のエッジと、印加される磁気フラックスによって変化
する比抵抗とを有する磁気抵抗素子と、 前記磁気抵抗素子に接触する第1と第2のコンタクトエ
ッジをそれぞれ有し、前記磁気抵抗素子に感知電流を供
給する第1と第2の電流接触体であって、前記第1と第
2のコンタクトエッジが前記磁気抵抗素子の第1と第2
のエッジとそれぞれ交差していて前記磁気抵抗素子の一
部において電流が流れるのを禁止し、これにより前記磁
気抵抗素子の有効感知領域を画定する第1と第2の電流
接触体と、 前記磁気抵抗素子の第1のエッジに隣接して同一平面上
に位置する永久磁石と、 を具備する磁気抵抗センサ。 - 【請求項2】 請求項1記載の磁気抵抗センサであっ
て、 前記磁気抵抗素子は、該磁気抵抗素子の第1のエッジに
おいて厚さt1を有し、前記磁気抵抗素子の磁化ベクト
ルは、大きさM1と該第1のエッジとの間の角度θ1とを
有し、 前記永久磁石は、前記磁気抵抗素子の第1のエッジの近
傍において厚さt2を有し、さらに、大きさM2と該第1
のエッジとの間の角度θ2とを有する磁化ベクトルを有
し、 厚さt1とt2、大きさM1とM2、角度θ1とθ2は、次式 M1・t1・sin(θ1)=M2・t2・sin(θ2) を満たすことを特徴とし、これにより読出し感度をほと
んど低下させることなくバルクハウゼンノイズを低減さ
せた磁気抵抗センサ。 - 【請求項3】 請求項1又は2記載の磁気抵抗センサで
あって、前記磁気抵抗素子と前記永久磁石との間にギャ
ップを有する磁気抵抗センサ。 - 【請求項4】 請求項1又は2記載の磁気抵抗センサで
あって、 前記永久磁石が、前記磁気抵抗素子の第1のエッジに接
触し、前記磁気抵抗素子の比抵抗よりも大きな比抵抗を
有する 磁気抵抗センサ。 - 【請求項5】 磁気抵抗センサを製造する方法であっ
て、 磁気抵抗材料の層を形成する工程と、 前記磁気抵抗層にマスク構造を形成する工程と、 前記磁気抵抗層をオーバーエッチングして、前記磁気抵
抗層のマスクされていない部分を取り除くとともに、前
記マスク構造の下の磁気抵抗層の一部を取り除く工程
と、 永久磁石材料の層を形成する工程と、 前記マスク構造を取り除き、これにより前記磁気抵抗材
料と前記永久磁石材料との間にギャップを残す工程と、 を含む方法。 - 【請求項6】 磁気抵抗センサを製造する方法であっ
て、 基板上に磁気抵抗素子を形成する工程であって、前記磁
気抵抗素子が前記基板と交差する平面を定義する端面を
有し、かつ、前記磁気抵抗素子が第1の磁化ベクトルを
有する工程と、 前記磁気抵抗素子の端面に向かい合う端面を有し、第2
の磁化ベクトルを有する永久磁石を形成する工程であっ
て、前記第1と第2の磁化ベクトルがほぼ等しい大きさ
と方向を有して、前記磁気抵抗素子の端面と前記永久磁
石の端面との間の磁束の不連続を防止する工程と、 を含む方法。 - 【請求項7】 請求項6記載の方法であって、 前記磁気抵抗素子の端面と前記永久磁石の端面との間の
電気伝導を禁止する電気的絶縁手段を形成する工程をさ
らに含む方法。 - 【請求項8】 請求項7記載の方法であって、 前記電気的絶縁手段を形成する工程が、前記磁気抵抗素
子と前記永久磁石との間にギャップを形成することによ
り行われる方法。
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