JP3227502B2 - 酸化珪素質被膜形成用塗布液 - Google Patents
酸化珪素質被膜形成用塗布液Info
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Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、酸化珪素質被膜形成用
塗布液に関するもので、特に液晶セルにおける透明絶縁
被膜形成用塗布液に関する分野に利用されるものであ
る。
塗布液に関するもので、特に液晶セルにおける透明絶縁
被膜形成用塗布液に関する分野に利用されるものであ
る。
【０００２】
【従来の技術】基体に絶縁被膜を形成する方法として
は、気相成長法と塗布法が知られている。液晶セルにお
ける透明性絶縁被膜については、装置が簡便で大型化に
適しているという点で塗布法が注目され、アルコキシド
を用いた方法がすでに実用化されている。
は、気相成長法と塗布法が知られている。液晶セルにお
ける透明性絶縁被膜については、装置が簡便で大型化に
適しているという点で塗布法が注目され、アルコキシド
を用いた方法がすでに実用化されている。
【０００３】そこでは、絶縁性を阻害するような不純物
を含まないこと、透明であること、アルカリ洗浄工程に
おける耐アルカリ性が良いことなどの条件を満足する必
要がある。耐アルカリ性についてはＳｉＯ2 −ＺｒＯ2
被膜が特に優れていることは公知である〔窯業協会誌、
８５（９）、４４８〜４５４頁（１９７７）〕。
を含まないこと、透明であること、アルカリ洗浄工程に
おける耐アルカリ性が良いことなどの条件を満足する必
要がある。耐アルカリ性についてはＳｉＯ2 −ＺｒＯ2
被膜が特に優れていることは公知である〔窯業協会誌、
８５（９）、４４８〜４５４頁（１９７７）〕。
【０００４】ＳｉＯ2 −ＺｒＯ2 系複合酸化物被膜を形
成する方法としてこれまで多くの提案がなされてきた。
例えば、特開昭５７−８５８６０号公報には酸素の直接
化合した有機ジルコニウム化合物と有機シリコン化合物
との混合物を有機溶媒に溶解した透明性絶縁被膜形成用
ペーストが開示されている。特開昭５７−１００９４３
号公報にはシリコンの有機化合物と塩化ジルコニウムま
たは硝酸ジルコニウムを原料とした透明なＳｉＯ2 −Ｚ
ｒＯ2 被覆の例が示されている。また、特開昭６３−１
４５３７０号公報にはジルコニウムオキシ酸塩とシリコ
ンアルコキシド、水、有機溶媒からなる透明性被膜形成
用塗布液が開示されている。
成する方法としてこれまで多くの提案がなされてきた。
例えば、特開昭５７−８５８６０号公報には酸素の直接
化合した有機ジルコニウム化合物と有機シリコン化合物
との混合物を有機溶媒に溶解した透明性絶縁被膜形成用
ペーストが開示されている。特開昭５７−１００９４３
号公報にはシリコンの有機化合物と塩化ジルコニウムま
たは硝酸ジルコニウムを原料とした透明なＳｉＯ2 −Ｚ
ｒＯ2 被覆の例が示されている。また、特開昭６３−１
４５３７０号公報にはジルコニウムオキシ酸塩とシリコ
ンアルコキシド、水、有機溶媒からなる透明性被膜形成
用塗布液が開示されている。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】酸素の直接化合した有
機ジルコニウム化合物を使用する場合の問題点として
は、非常に高価であること、被膜形成温度が比較的高い
ことが挙げられる。また、塩化ジルコニウム、硝酸ジル
コニウムまたはそれらのオキシ酸塩などのジルコニウム
塩を使用する場合、シリコンアルコキシドと混合すると
不安定で短期間で白濁、ゲル化が生じる。
機ジルコニウム化合物を使用する場合の問題点として
は、非常に高価であること、被膜形成温度が比較的高い
ことが挙げられる。また、塩化ジルコニウム、硝酸ジル
コニウムまたはそれらのオキシ酸塩などのジルコニウム
塩を使用する場合、シリコンアルコキシドと混合すると
不安定で短期間で白濁、ゲル化が生じる。
【０００６】また、透明性絶縁被膜はＩｎｄｉｕｍ Ｔ
ｉｎ Ｏｘｉｄｅ（以下ＩＴＯと称する）膜の上に形成
されるため、塗布液によりＩＴＯ膜が腐食される場合は
使用できない。塩化ジルコニウム、硝酸ジルコニウムま
たはそれらのオキシ酸塩などのジルコニウム塩は一般的
にＰＨが低く酸性側であるから、場合によりＩＴＯ膜が
腐食されるという問題を生ずる。一方、酸が触媒として
働き比較的低温で緻密な膜を形成し易いという利点もあ
る。
ｉｎ Ｏｘｉｄｅ（以下ＩＴＯと称する）膜の上に形成
されるため、塗布液によりＩＴＯ膜が腐食される場合は
使用できない。塩化ジルコニウム、硝酸ジルコニウムま
たはそれらのオキシ酸塩などのジルコニウム塩は一般的
にＰＨが低く酸性側であるから、場合によりＩＴＯ膜が
腐食されるという問題を生ずる。一方、酸が触媒として
働き比較的低温で緻密な膜を形成し易いという利点もあ
る。
【０００７】したがって、本発明の目的はジルコニウム
塩を使用し、キレート化剤を添加することにより、安定
でかつ４００℃以下の低温で被膜形成が可能な塗布液を
得ることで、さらには、ＩＴＯ膜に対する腐食性につい
て、使用目的によって選択が可能な塗布液を得ることに
ある。
塩を使用し、キレート化剤を添加することにより、安定
でかつ４００℃以下の低温で被膜形成が可能な塗布液を
得ることで、さらには、ＩＴＯ膜に対する腐食性につい
て、使用目的によって選択が可能な塗布液を得ることに
ある。
【０００８】かかる実情に鑑み、本発明者らはＺｒＯ
（ＮＯ 3 ） 2 を用い、これにキレート化剤を添加すること
により長期間安定で、かつ４００℃以下の低温被膜形成
が可能な塗布液を見出し本発明を完成するに至った。
（ＮＯ 3 ） 2 を用い、これにキレート化剤を添加すること
により長期間安定で、かつ４００℃以下の低温被膜形成
が可能な塗布液を見出し本発明を完成するに至った。
【０００９】すなわち本発明は （１）ＺｒＯ（ＮＯ 3 ） 2 、シリコンアルコキシドまたは
その誘導体、キレート化剤、水および希釈用有機溶媒か
らなり、ＺｒＯ（ＮＯ 3 ） 2 中のＺｒの１モルに対してキ
レート化剤を３．１〜４０モル添加することを特徴とす
る酸化珪素質被膜形成用塗布液。 （２）キレート化剤がアセチルアセトンまたはアセト酢
酸エチルである前記（１）記載の酸化珪素質被膜形成用
塗布液。 （３）シリコンアルコキシドまたはその誘導体中のＳｉ
の１モルに対してＺｒＯ（ＮＯ 3 ） 2 中のＺｒを２．０〜
０．０１モル添加することを特徴とする前記（１）記載
の酸化珪素質被膜形成用塗布液を提供する。
その誘導体、キレート化剤、水および希釈用有機溶媒か
らなり、ＺｒＯ（ＮＯ 3 ） 2 中のＺｒの１モルに対してキ
レート化剤を３．１〜４０モル添加することを特徴とす
る酸化珪素質被膜形成用塗布液。 （２）キレート化剤がアセチルアセトンまたはアセト酢
酸エチルである前記（１）記載の酸化珪素質被膜形成用
塗布液。 （３）シリコンアルコキシドまたはその誘導体中のＳｉ
の１モルに対してＺｒＯ（ＮＯ 3 ） 2 中のＺｒを２．０〜
０．０１モル添加することを特徴とする前記（１）記載
の酸化珪素質被膜形成用塗布液を提供する。
【００１０】以下、本発明について詳細に述べる。本発
明に用いられるジルコニウム塩は水に可溶で、水溶液の
状態で酸性を示すもので、ＺｒＣｌ4 、ＺｒＯＣｌ2 、
Ｚｒ（ＮＯ3 ）4 、ＺｒＯ（ＮＯ3 ）2 、Ｚｒ（ＣＨ3
ＣＯＯ）4 、ＺｒＯ（ＣＨ3 ＣＯＯ）2 、Ｚｒ（Ｓ
Ｏ4 ）2 、ＺｒＯＳＯ4 などの化合物が例示される。
明に用いられるジルコニウム塩は水に可溶で、水溶液の
状態で酸性を示すもので、ＺｒＣｌ4 、ＺｒＯＣｌ2 、
Ｚｒ（ＮＯ3 ）4 、ＺｒＯ（ＮＯ3 ）2 、Ｚｒ（ＣＨ3
ＣＯＯ）4 、ＺｒＯ（ＣＨ3 ＣＯＯ）2 、Ｚｒ（Ｓ
Ｏ4 ）2 、ＺｒＯＳＯ4 などの化合物が例示される。
【００１１】このうち、ＩＴＯ膜の保護絶縁膜として使
用する用途に対しては、ＩＴＯ膜を腐食させないものと
して硝酸塩、酢酸塩の化合物が挙げられる。しかし、酢
酸塩はキレート化反応が生じ難く、キレート化剤を添加
してもあまり安定性が改善されないので好ましくない。
したがってＺｒ（ＮＯ3 ）4 、ＺｒＯ（ＮＯ3 ）2 など
の硝酸塩化合物が特に好ましい。
用する用途に対しては、ＩＴＯ膜を腐食させないものと
して硝酸塩、酢酸塩の化合物が挙げられる。しかし、酢
酸塩はキレート化反応が生じ難く、キレート化剤を添加
してもあまり安定性が改善されないので好ましくない。
したがってＺｒ（ＮＯ3 ）4 、ＺｒＯ（ＮＯ3 ）2 など
の硝酸塩化合物が特に好ましい。
【００１２】ＩＴＯ膜に接触しない用途では、ＩＴＯ膜
に対して腐食性のある化合物でもよい。例えば、ガラス
基板のアルカリ溶出防止コート剤、あるいはその他の透
明被膜としての用途では、ＺｒＣｌ4 、ＺｒＯＣｌ2 な
どの化合物が好適である。
に対して腐食性のある化合物でもよい。例えば、ガラス
基板のアルカリ溶出防止コート剤、あるいはその他の透
明被膜としての用途では、ＺｒＣｌ4 、ＺｒＯＣｌ2 な
どの化合物が好適である。
【００１３】シリコンアルコキシドとしてはＳｉ（Ｏ
Ｒ）4 、ＲＳｉ（ＯＲ1 ）3 、Ｒ3 Ｓｉ（ＯＲ1 ）など
を挙げることができる。なおここでＲ、Ｒ1 はアルキル
基を示す。また単量体の他に、２量体〜６量体などが可
能である。
Ｒ）4 、ＲＳｉ（ＯＲ1 ）3 、Ｒ3 Ｓｉ（ＯＲ1 ）など
を挙げることができる。なおここでＲ、Ｒ1 はアルキル
基を示す。また単量体の他に、２量体〜６量体などが可
能である。
【００１４】また、希釈用の有機溶媒としては、特にア
ルコールが好ましくメタノール、エタノール、ｎ−プロ
パノール、ｉ−プロパノール、ｎ−ブタノール、ｉ−ブ
タノール、ｔ−ブタノールなどが例示され用いられる。
ルコールが好ましくメタノール、エタノール、ｎ−プロ
パノール、ｉ−プロパノール、ｎ−ブタノール、ｉ−ブ
タノール、ｔ−ブタノールなどが例示され用いられる。
【００１５】添加する水の量はシリコンアルコキシド、
ジルコニウム塩の加水分解に要する理論量以上の量が必
要である。
ジルコニウム塩の加水分解に要する理論量以上の量が必
要である。
【００１６】シリコンアルコキシドまたはその誘導体中
のＳｉの１モルに対してジルコニウム塩中のＺｒを２．
０〜０．０１モル添加する。好ましくは１. ０〜０. ０
５モルである。２. ０モルを超えると被膜の基材への密
着性が劣り、０．０１モルより小さいと耐アルカリ性が
十分でないので好ましくない。
のＳｉの１モルに対してジルコニウム塩中のＺｒを２．
０〜０．０１モル添加する。好ましくは１. ０〜０. ０
５モルである。２. ０モルを超えると被膜の基材への密
着性が劣り、０．０１モルより小さいと耐アルカリ性が
十分でないので好ましくない。
【００１７】単純にジルコニウム塩、シリコンアルコキ
シド、有機溶媒、水を混ぜたのでは数日以内に白濁、ゲ
ル化するため実用的でなく、キレート化剤を添加するこ
とにより安定で、かつ、４００℃以下の低温で被覆形成
が可能な酸化珪素質被膜形成用塗布液を得ることができ
る。
シド、有機溶媒、水を混ぜたのでは数日以内に白濁、ゲ
ル化するため実用的でなく、キレート化剤を添加するこ
とにより安定で、かつ、４００℃以下の低温で被覆形成
が可能な酸化珪素質被膜形成用塗布液を得ることができ
る。
【００１８】キレート化剤としてはアセチルアセトン、
ベンゾイルアセトンなどのβ−ジケトン類、アセト酢
酸、プロピオニル酪酸、ベンゾイル酢酸、ピルビン酸、
ベンゾイル蟻酸などのα−またはβ−ケトン酸類、該ケ
トン酸類のメチル、エチル、ｎ−プロピル、ｉｓｏ−プ
ロピル、ｎ−ブチル、ｔｅｒｔ−ブチルなどのエステル
類、グリコール酸、乳酸、α−オキシ酪酸、ヒドロアク
リル酸、サリチル酸などのα−またはβ−オキシ酸類の
メチル、エチル、ｎ−プロピル、ｉｓｏ−プロピル、ｎ
−ブチル、ｔｅｒｔ−ブチルなどのエステル類、ジアセ
トンアルコール、アセトインなどのα−またはβ−オキ
シケトン類、グリコールアルデヒド、アルドールなどの
α−またはβ−オキシアルデヒド類、グリシン、アラニ
ンなどのα−アミノ酸類、アミノエチルアルコールなど
のα−またはβ−アミノアルコール類などを含むＺｒと
キレート化合物を形成する化合物を単独または２種以上
の混合物として使用できる。この中で特に好ましいのが
アセチルアセトン、アセト酢酸エチルである。
ベンゾイルアセトンなどのβ−ジケトン類、アセト酢
酸、プロピオニル酪酸、ベンゾイル酢酸、ピルビン酸、
ベンゾイル蟻酸などのα−またはβ−ケトン酸類、該ケ
トン酸類のメチル、エチル、ｎ−プロピル、ｉｓｏ−プ
ロピル、ｎ−ブチル、ｔｅｒｔ−ブチルなどのエステル
類、グリコール酸、乳酸、α−オキシ酪酸、ヒドロアク
リル酸、サリチル酸などのα−またはβ−オキシ酸類の
メチル、エチル、ｎ−プロピル、ｉｓｏ−プロピル、ｎ
−ブチル、ｔｅｒｔ−ブチルなどのエステル類、ジアセ
トンアルコール、アセトインなどのα−またはβ−オキ
シケトン類、グリコールアルデヒド、アルドールなどの
α−またはβ−オキシアルデヒド類、グリシン、アラニ
ンなどのα−アミノ酸類、アミノエチルアルコールなど
のα−またはβ−アミノアルコール類などを含むＺｒと
キレート化合物を形成する化合物を単独または２種以上
の混合物として使用できる。この中で特に好ましいのが
アセチルアセトン、アセト酢酸エチルである。
【００１９】ジルコニウム塩は加水分解されやすい。た
とえば、四塩化ジルコニウム（ＺｒＣｌ4 ）は水と接す
ると直ちに加水分解によって塩化ジルコニル（ＺｒＯＣ
ｌ2）に変化する。塩化ジルコニルは水溶液中に多核錯
イオン〔Ｚｒ4 （ＯＨ）8 （Ｈ2 Ｏ）10〕8+として存在
し、濃度２モル／リットルでは安定であるが、水を加え
て希釈すると加水分解されて更に架橋重合が進み、含水
酸化ジルコニウム（ＺｒＯ2 ・ｎＨ2 Ｏ）に至って沈殿
する。〔カーク・オスマー・エンサイクロペディア・オ
ブ・ケミカル・テクノロジー（Ｋｉｒｋ−Ｏｔｈｍｅ
ｒ；Ｅｎｃｙｃｌｏｐｅｄｉａ ｏｆ Ｃｈｅｍｉｃａ
ｌ Ｔｅｃｈｎｏｌｏｇｙ）２４巻、８８５〜８８８頁
（１９８４）〕
とえば、四塩化ジルコニウム（ＺｒＣｌ4 ）は水と接す
ると直ちに加水分解によって塩化ジルコニル（ＺｒＯＣ
ｌ2）に変化する。塩化ジルコニルは水溶液中に多核錯
イオン〔Ｚｒ4 （ＯＨ）8 （Ｈ2 Ｏ）10〕8+として存在
し、濃度２モル／リットルでは安定であるが、水を加え
て希釈すると加水分解されて更に架橋重合が進み、含水
酸化ジルコニウム（ＺｒＯ2 ・ｎＨ2 Ｏ）に至って沈殿
する。〔カーク・オスマー・エンサイクロペディア・オ
ブ・ケミカル・テクノロジー（Ｋｉｒｋ−Ｏｔｈｍｅ
ｒ；Ｅｎｃｙｃｌｏｐｅｄｉａ ｏｆ Ｃｈｅｍｉｃａ
ｌ Ｔｅｃｈｎｏｌｏｇｙ）２４巻、８８５〜８８８頁
（１９８４）〕
【００２０】これを防ぐためにはＺｒＸ4 、ＺｒＯＸ2
などの化合物を加水分解を生じにくいより安定な化合物
に変える必要がある。
などの化合物を加水分解を生じにくいより安定な化合物
に変える必要がある。
【００２１】キレート化剤を混合することによりキレー
ト反応が生じ、安定なキレート化合物を生成する。キレ
−ト化剤の作用としては分子内環化あるいは分子間架橋
がありうる。前述の多核錯イオンの配位子がキレート化
剤で置換される場合があり、あるいは部分的にＺｒ−Ｏ
−Ｚｒの結合が生成している場合も含まれる。これらの
配位したキレート化剤の立体障害によってＨ2 Ｏの親核
反応を抑制することで加水分解に対する安定化効果を有
するものである
ト反応が生じ、安定なキレート化合物を生成する。キレ
−ト化剤の作用としては分子内環化あるいは分子間架橋
がありうる。前述の多核錯イオンの配位子がキレート化
剤で置換される場合があり、あるいは部分的にＺｒ−Ｏ
−Ｚｒの結合が生成している場合も含まれる。これらの
配位したキレート化剤の立体障害によってＨ2 Ｏの親核
反応を抑制することで加水分解に対する安定化効果を有
するものである
【００２２】この反応は比較的速やかに生ずるが、確実
を期すために予めジルコニウム塩、アルコールの一部お
よびキレート化剤を混合し、ある時間保持した後、残部
の物質を混合することが好ましい。
を期すために予めジルコニウム塩、アルコールの一部お
よびキレート化剤を混合し、ある時間保持した後、残部
の物質を混合することが好ましい。
【００２３】キレート化剤の添加量はＺｒＯ（ＮＯ 3 ） 2
中のＺｒの１モルに対し、３．１モル以上である。３．
１モルより少ないと安定化の効果がなく、４０モルを超
えるとキレート化剤は一般的に高価なものであり経済性
を損なうので工業的には意味のないものである。
中のＺｒの１モルに対し、３．１モル以上である。３．
１モルより少ないと安定化の効果がなく、４０モルを超
えるとキレート化剤は一般的に高価なものであり経済性
を損なうので工業的には意味のないものである。
【００２４】塗布液の被膜形成方法としては、基板上に
浸漬法またはスピンコート法などにより塗布した後、室
温〜１００℃の温度範囲で溶媒を乾燥蒸発させ、約１５
０℃以上で焼成して透明な被膜を形成する。
浸漬法またはスピンコート法などにより塗布した後、室
温〜１００℃の温度範囲で溶媒を乾燥蒸発させ、約１５
０℃以上で焼成して透明な被膜を形成する。
【００２５】
【実施例】以下、本発明を実施例により説明するが、本
発明はこれらに限定されるものではない。なお、実施例
において用いる部は重量部を、実施例の仕込み組成にお
いて用いる％は重量％を意味する。また、実施例中の物
性評価は以下の方法に依った。 （１）ポットライフ評価 塗布液を調合し、室温で密閉状態で保管し、白濁するま
での時間をポットライフとした。 （２）ＩＴＯ膜への腐食性評価 ７６×２６×１. １ｍｍの通常のガラス基板に真空蒸着
法によりＩＴＯ膜を約２０００Ａ蒸着した。このＩＴＯ
蒸着基板の表面抵抗を予め測定しておき、塗布液中に所
定の時間浸漬し、アルコールで塗布液を洗浄除去し乾燥
した後表面抵抗を測定し、浸漬前後の抵抗変化で評価し
た。腐食されていると抵抗値が急上昇する。 （３）被膜の鉛筆硬度 ７６×２６×１. １ｍｍの通常のガラス基板を塗布液に
浸漬し、１. ５ｃｍ／分の引き上げ速度で引き上げ成膜
したのち、８０℃、１Ｈｒ乾燥し、所定の温度で焼成し
た。この被膜を東洋精機製作所製のエンピツ塗膜硬さ試
験機にて１ｋｇの加重を加えて測定した。
発明はこれらに限定されるものではない。なお、実施例
において用いる部は重量部を、実施例の仕込み組成にお
いて用いる％は重量％を意味する。また、実施例中の物
性評価は以下の方法に依った。 （１）ポットライフ評価 塗布液を調合し、室温で密閉状態で保管し、白濁するま
での時間をポットライフとした。 （２）ＩＴＯ膜への腐食性評価 ７６×２６×１. １ｍｍの通常のガラス基板に真空蒸着
法によりＩＴＯ膜を約２０００Ａ蒸着した。このＩＴＯ
蒸着基板の表面抵抗を予め測定しておき、塗布液中に所
定の時間浸漬し、アルコールで塗布液を洗浄除去し乾燥
した後表面抵抗を測定し、浸漬前後の抵抗変化で評価し
た。腐食されていると抵抗値が急上昇する。 （３）被膜の鉛筆硬度 ７６×２６×１. １ｍｍの通常のガラス基板を塗布液に
浸漬し、１. ５ｃｍ／分の引き上げ速度で引き上げ成膜
したのち、８０℃、１Ｈｒ乾燥し、所定の温度で焼成し
た。この被膜を東洋精機製作所製のエンピツ塗膜硬さ試
験機にて１ｋｇの加重を加えて測定した。
【００２６】実施例１ ＺｒＯ2 換算で２５％の硝酸ジルコニル水溶液８. ０
部、アセチルアセトン１２. ５部、ノルマルブタノール
６８. ３部、水０. ８部を撹拌機にてよく混合した。こ
の状態で約６０分保持し、次いでＳｉＯ2 換算で２８.
８％のテトラエチルシリケートを１０. ４部添加混合し
塗布液を調合した。ＺｒＯ2 ／ＳｉＯ2 換算のモル比は
０. ３３、ＺｒＯ2 換算で１モルに対しアセチルアセト
ンは７．７モルであった。このようにして得られた塗布
液のポットライフは３カ月間変化がなかった。ＩＴＯ蒸
着ガラス基板を本液に浸漬した時の腐食性評価の結果を
表１に示し、腐食性はないと判定できた。なお、比較は
腐食性が完全にないと考えられるテトラエチルシリケー
ト１０. ４部、アセチルアセトン１２. ５部、ノルマル
ブタノール６８. ３部、水４. ２部添加混合した液と比
較した。また、本実施例で得た塗布液の被膜形成による
鉛筆硬度は３００℃焼成で９Ｈ以上であり、比較液では
２Ｈであった。
部、アセチルアセトン１２. ５部、ノルマルブタノール
６８. ３部、水０. ８部を撹拌機にてよく混合した。こ
の状態で約６０分保持し、次いでＳｉＯ2 換算で２８.
８％のテトラエチルシリケートを１０. ４部添加混合し
塗布液を調合した。ＺｒＯ2 ／ＳｉＯ2 換算のモル比は
０. ３３、ＺｒＯ2 換算で１モルに対しアセチルアセト
ンは７．７モルであった。このようにして得られた塗布
液のポットライフは３カ月間変化がなかった。ＩＴＯ蒸
着ガラス基板を本液に浸漬した時の腐食性評価の結果を
表１に示し、腐食性はないと判定できた。なお、比較は
腐食性が完全にないと考えられるテトラエチルシリケー
ト１０. ４部、アセチルアセトン１２. ５部、ノルマル
ブタノール６８. ３部、水４. ２部添加混合した液と比
較した。また、本実施例で得た塗布液の被膜形成による
鉛筆硬度は３００℃焼成で９Ｈ以上であり、比較液では
２Ｈであった。
【００２７】実施例２〜５ ジルコニウム酸塩、アセチルアセトンなどの比率を表
２、３に記載のように変えた他は実施例１と同様の方法
で調合し、評価した。結果を表３に示す。ＩＴＯ膜に対
しての腐食性のあり、なしの判断は抵抗値が６０分浸漬
で５０％以上上昇するものをありと判断した。腐食性あ
りの抵抗値の変化例を表４に示す。
２、３に記載のように変えた他は実施例１と同様の方法
で調合し、評価した。結果を表３に示す。ＩＴＯ膜に対
しての腐食性のあり、なしの判断は抵抗値が６０分浸漬
で５０％以上上昇するものをありと判断した。腐食性あ
りの抵抗値の変化例を表４に示す。
【００２８】比較例１〜５ ジルコニウム酸塩、アセチルアセトンなどの比率を表
２、３に記載のように変えた他は実施例１と同様の方法
で調合し、評価した。結果を表３に示す。ＩＴＯ膜に対
しての腐食性のあり、なしの判断は抵抗値が６０分浸漬
で５０％以上上昇するものをありと判断した。腐食性あ
りの抵抗値の変化例を表４に示す。
２、３に記載のように変えた他は実施例１と同様の方法
で調合し、評価した。結果を表３に示す。ＩＴＯ膜に対
しての腐食性のあり、なしの判断は抵抗値が６０分浸漬
で５０％以上上昇するものをありと判断した。腐食性あ
りの抵抗値の変化例を表４に示す。
【００２９】
【表１】
【００３０】
【表２】
【００３１】
【表３】 （注）ジルコニル化合物：ＺｒＯ2換算で２５％の溶
液。 ａｃ：アセチルアセトン
液。 ａｃ：アセチルアセトン
【００３２】
【表４】
【００３３】
【発明の効果】本発明の酸化珪素質被膜形成用塗布液
は、水分に対して安定でポットライフが長く、酸化珪素
／酸化ジルコニウム被膜であるため耐アルカリ性があ
り、さらに４００℃以下の低温での被膜形成が可能で、
工業的に極めて有用なものである。例えば、ＩＴＯ膜に
対して腐食性がないものは液晶用絶縁被膜に適用でき、
ＩＴＯ膜に対して腐食性があるものはガラス基板のよう
な用途に適用可能である。
は、水分に対して安定でポットライフが長く、酸化珪素
／酸化ジルコニウム被膜であるため耐アルカリ性があ
り、さらに４００℃以下の低温での被膜形成が可能で、
工業的に極めて有用なものである。例えば、ＩＴＯ膜に
対して腐食性がないものは液晶用絶縁被膜に適用でき、
ＩＴＯ膜に対して腐食性があるものはガラス基板のよう
な用途に適用可能である。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 才田 健二 茨城県つくば市北原６ 住友化学工業株 式会社内 (58)調査した分野(Int.Cl.7，ＤＢ名) C09D 183/06
Claims (3)
- 【請求項１】ＺｒＯ（ＮＯ 3 ） 2 、シリコンアルコキシド
またはその誘導体、キレート化剤、水および希釈用有機
溶媒からなり、ＺｒＯ（ＮＯ 3 ） 2 中のＺｒの１モルに対
してキレート化剤を３．１〜４０モル添加することを特
徴とする酸化珪素質被膜形成用塗布液。 - 【請求項２】キレート化剤がアセチルアセトンまたはア
セト酢酸エチルである請求項１記載の酸化珪素質被膜形
成用塗布液。 - 【請求項３】シリコンアルコキシドまたはその誘導体中
のＳｉの１モルに対してＺｒＯ（ＮＯ 3 ） 2 中のＺｒを
２．０〜０．０１モル添加することを特徴とする請求項
１記載の酸化珪素質被膜形成用塗布液。
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|---|---|---|---|
| JP33030492A JP3227502B2 (ja) | 1992-12-10 | 1992-12-10 | 酸化珪素質被膜形成用塗布液 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP33030492A JP3227502B2 (ja) | 1992-12-10 | 1992-12-10 | 酸化珪素質被膜形成用塗布液 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH06172708A JPH06172708A (ja) | 1994-06-21 |
| JP3227502B2 true JP3227502B2 (ja) | 2001-11-12 |
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ID=18231148
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| KR100380127B1 (ko) * | 1994-06-24 | 2003-07-22 | 제너럴 일렉트릭 캄파니 | 고온수내의낮은부식전위를유지하기위한산화막전기전도도의조절 |
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-
1992
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