JP3221694B2 - 導電性組成物および電気化学素子 - Google Patents
導電性組成物および電気化学素子Info
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Description
化学素子に関する。さらに詳しくは固体電解質用導電性
組成物ならびにパターン化した固体電解質を有する電気
化学素子に関するものである。
電池、エレクトロクロミック素子、センサー、電気化学
ダイオード(ソリオンダイオード)、電気化学FET等
の電気化学素子の固体化が強く望まれている。電解液を
固体化することにより、小型化、信頼性の向上のみなら
ず、電気化学素子の集積化、積層化による高機能化が可
能である。例えば固体電解質インクが提案されているが
(特開平1−104677公報、特開平1−10467
8公報等)、従来の固体電解質はイオン伝導度が不十分
でかつ、薄膜のパターン化が困難で、特に集積化、積層
化、パターン化といった高度な応用を行うことは難かし
かった。
解決し、電気化学素子の集積化、積層化、パターン化、
生産性の向上に優れる導電性組成物および電気化学素子
を提供することをその課題とする。
鑑み、電気化学素子の集積化、積層化、パターン化、お
よび生産性の向上について鋭意検討を重ねた結果、本発
明に至った。即ち、特定の組成の固体電解質が高い導電
性を有するパターンに適しており、導電性組成物を印刷
等により特定のパターンを形成し、硬化せしめることに
より固体電解質層とし、電気化学素子の信頼性の向上、
漏液、短絡の防止性に優れ、電気化学素子の集積化、生
産性の向上を図ることができる。また、少なくとも電解
液と、チクソ化剤と、重合性化合物からなる導電性組成
物の粘性が塗工性、印刷性に大きく影響し、更にチクソ
化剤の添加が塗工性の向上に有効であり、その導電性組
成物をスクリーン印刷して硬化せしめることにより導電
性パターンをもつ電気化学素子を提供できることを見い
だした。即ち、本発明は電解質塩(a)1〜40重量
%、下記チクソ化剤(b1)1〜40重量%、下記熱重
合性成分(c1)少なくとも10重量%および溶媒
(d)からなり、固体電解質形成性を有することを特徴
とする導電性組成物。チクソ化剤(b1):炭酸カルシ
ウム、セルロース誘導体、霧状シリカ、水添ヒマシ油、
ジベンジリデンソルビトール、ワックス、アミド類およ
びアミノ酸誘導体からなる群から選ばれたチクソ化剤。
熱重合性成分(c1):ポリオールとポリイソシアネー
トとの組合せからなる熱重合性成分;電解質塩(a)1
〜40重量%、下記チクソ化剤(b2)1〜40重量
%、活性光線重合性化合物(c2)少なくとも10重量
%、光重合性開始剤(c3)および溶媒(d)からな
り、固体電解質形成性を有することを特徴とする導電性
組成物。チクソ化剤(b2):セルロース誘導体、霧状
シリカ、ジベンジリデンソルビトールおよびアミノ酸誘
導体からなる群から選ばれたチクソ化剤。;基板上に導
電性組成物をパターン状に印刷し、加熱または活性光線
により硬化せしめた固体電解質を有する電気化学素子で
ある。
デンサー、電池、キャパシター、エレクトロクロミック
素子、電気化学ダイオード(ソイオンダイオード)、電
気化学FET、センサー等を例示することができる。
通常の電気化学素子に用いるものであれば、特に制限は
ないが、例えばLiClO4 、LiBF4 、LiAS F
6 、LiPF6 、LiSb F6 、LiCF3 SO3 、L
iCF3 COO、NaClO4 、NaBF4 、NaSC
N、KBF4 、Mg(ClO4 )2 、Mg(B
F4 )2 、(C4 H9 )4 NBF4 、(C2 H5 )4 N
BF4 、(C4 H9 )4 NClO4 等の1種あるいは2
種以上が挙げられる。添加量は溶媒1リットルに対し通
常0.5モル〜7モル、好ましくは1モル〜5モルであ
る。この範囲外ではイオン伝導度が低下する。
ては炭酸カルシウム、セルロース誘導体、霧状シリカ、
水添ヒマシ油、ジベンジリデンソルビトール、ワック
ス、アミド類およびアミノ酸誘導体等が挙げられる。こ
れらのうちセルロース誘導体、霧状シリカ、水添ヒマシ
油、アミド類(脂肪酸アミド、メチロールアミド、置換
尿素等)およびアミノ酸誘導体が好ましい。
リウレタン樹脂ハンドブック」(日刊工業新聞社発行)
99頁〜119頁記載のポリエーテルポリオール、ポリ
エステルポリオール、ポリシロキサンポリオール、末端
アミンポリオールなどがあげられる。これらのうち好ま
しいものは分子量が1000〜10000のポリエーテ
ルポリオールおよびポリエステルポリオールである。こ
の範囲外では良好な力学的強度を示さない。
してもよい。その例としては前記書籍122頁〜123
頁記載の架橋剤のうちエチレングリコール、1, 4−ブ
タンジオール、トリメチロールプロパンおよび3, 3'
−ジクロロ−4, 4' −ジアミノジフェニルメタンが好
ましい。
ては、従来ポリウレタンの製造に使用されているものが
使用できる。具体的には「ポリウレタン樹脂ハンドブッ
ク」(日刊工業新聞社発行)74頁〜82頁に記載のポ
リイソシアネートのうちTDI、MDI、HDI、IP
DIおよびこれらからのプレポリマーが好ましい。ポリ
イソシアネートのNCO%は通常48%以下、好ましく
は40%以下である。この範囲では固体電解質の力学的
強度が良好である。
ブチロラクトン、γ−バレロラクトン、δ−バレロラク
トン、3−メチル−1, 3−オキサゾリジン−2−オ
ン、3−エチル−1, 3−オキサゾリジン−2−オン等
が挙げられる。またカーボネート類としてはプロピレン
カーボネート、エチレンカーボネート、スチレンカーボ
ネート等が挙げられる。ラクトン類とカーボネート類を
併用してもよい。これらのうち、好ましいものはγ−ブ
チロラクトンおよびプロピレンカーボネートである。
てもよい。その具体例はトリエチレンジアミン、スタナ
スオクトエート等である。この触媒は通常、ポリオール
に添加される。添加量の限定は特になく必要に応じて決
められる。
はポリオールとポリイソシアネートとの組合せである。
2)としては(メタ)アクリレート(e)およびポリエ
ン(f)とポリチオール(g)が挙げられ、ポリエン
(f)とポリチオール(g)は組み合わせて使用され
る。
能(メタ)アクリレート(e1)、多官能(メタ)アク
リレート(e2)が挙げられる。
てはアルキル(メタ)アクリレート[メチル(メタ)ア
クリレート、ブチル(メタ)アクリレート、トリフルオ
ロエチル(メタ)アクリレート等]、複素環式(メタ)
アクリレート[テトラヒドロフルフリル(メタ)アクリ
レート等]、ヒドロキシアルキル(メタ)アクリレート
[ヒドロキシエチルアクリレート、ヒドロキシプロピル
アクリレート等]、ヒドロキシポリオキシアルキレン
(オキシアルキレン基の炭素数は好ましくは1〜4)
(メタ)アクリレート[ヒドロキシポリオキシエチレン
(メタ)アクリレート、ヒドロキシポリオキシプロピレ
ン(メタ)アクリレート等]およびアルコキシ(アルコ
キシ基の炭素数は好ましくは1〜4)(メタ)アクリレ
ート[メトキシエチルアクリレート、エトキシエチルア
クリレート、フェノキシエチルアクリレート等]があげ
られる。(e1)のうち好ましいものはアルコキシ(ア
ルコキシ基の炭素数は好ましくは1〜4)アクリレート
および複素環式アクリレートである。
ては、例えばUV、EB硬化技術((株)総合技術セン
ター発行)142頁〜152頁記載の光重合性モノマー
および光重合性プレポリマーが挙げられる。このうち3
官能以上の光重合性モノマー、光重合性プレポリマー
(トリメチロールプロパントリアクリレート、ペンタエ
リスリトール(トリ)ペンタアクリレート、ジペンタエ
リスリトールヘキサアクリレート等)が好ましい。
官能(メタ)アクリレート(e2)を混合して使用して
もよい。
ル化合物(f1)、ポリアリルエステル化合物(f2)
などがあげられる。
してはアリルアルコールにエポキシ化合物[エチレンオ
キサイド、プロピレンオキサイド、ブチレンオキサイ
ド、スチレンオキサイド、シクロヘキセンオキサイド、
エピハロヒドリン、アリルグリシジルエーテル等]を付
加した化合物が挙げられる。このうち好ましいものはア
リルアルコールにエチレンオキサイド、プロピレンオキ
サイドを付加した化合物である。
はアリルアルコールまたは上記のポリアリルエーテル化
合物(f1)とカルボン酸との反応生成物があげられ
る。カルボン酸の例としてはモノカルボン酸(酢酸、プ
ロピオン酸、酪酸、オクタン酸、ラウリン酸、ステアリ
ン酸、オレイン酸、安息香酸等)、ジカルボン酸(アジ
ピン酸、フタル酸等)があげられる。このうち好ましい
ものはポリアリルエーテル化合物(f1)と多価カルボ
ン酸の反応生成物である。
リサルファイド(g1)、ポリチオール化合物(g2)
およびメルカプトカルボン酸エステル(g3)があげら
れる。
オコールLPシリーズ(東レチオコール(製))が挙げ
られ、平均分子量は4000以下のものである。
メタン(ジ)チオール、エタン(ジ)チオール等があげ
られる。
してはメルカプトカルボン酸と多価アルコールのエステ
ル化反応またはメルカプトカルボン酸アルキルエステル
と上記記載の多価アルコールのエステル交換反応により
得られる化合物が挙げられる。メルカプトカルボン酸の
例としては2−メルカプト酢酸、3−メルカプトプロピ
オン酸等があげられる。多価アルコールの例としてはエ
チレングリコール、トリメチロールプロパン、グリセリ
ン、ペンタエリスリトール、ショ糖等およびこれらのア
ルキレンオキサイド付加物(エチレンオキサイド、プロ
ピレンオキサイド、ブチレンオキサイド等)があげられ
る。多価アルコールとして好ましものは3価以上の多価
アルコールでアルキレンオキサイド付加物を含まないも
のである。メルカプトカルボン酸アルキルエステルの例
としては2−メルカプト酢酸エチルエステル、3−メル
カプトプロピオン酸メチルエステル等が挙げられる。
(メタ)アクリレート(e)が好ましい。
してはカルボニル化合物{ベンゾイン類[ベンゾイン、
ベゾインメチルエーテル、ベンゾインエチルエーテル、
ベンゾインイソプロピルエーテル、ベンゾインイソブチ
ルエーテル、α−メチルベンゾイン、α−フェニルベン
ゾイン等]、アントラキノン類[アントラキノン、メチ
ルアントラキノン、クロルアントラキノン等]、その他
の化合物[ベンジル、ジアセチル、アセトフェノン、ベ
ンゾフェノン、メチルベンゾイルフォーメート等]}、
硫黄化合物{ジフェニルサルファイド、ジフェニルスル
フィド、ジチオカーバメート等}、多縮合環系炭化水素
のハロゲン化物{α−クロルメチルナフタリン等}、色
素類{アクリルフラビン、フルオレセン等}、金属塩類
{塩化鉄、塩化銀等}、オニウム塩類{p−メトキシベ
ンゼンジアゾニウム、ヘキサフルオロフォスフェート、
ジフェニルアイオドニウム、トリフェニルスルフォニウ
ム等}などが挙げられる。これらは単独でも、あるいは
2種以上の混合物としても使用できる。これらのうちカ
ルボニウム化合物、硫黄化合物およびオニウム塩類が好
ましい。必要によりラジカル開始剤[アゾビスイソブチ
ロニトリル、ベンゾイルパーオキサイド等]も併用でき
る。
てはセルロース誘導体、霧状シリカ、ジベンジリデンソ
ルビトールが好ましく、セルロース誘導体のうちヒドロ
キシエチルセルロース、ヒドロキシプロピルセルロー
ス、ヒドロキシプロピルメチルセルロースがさらに好ま
しい。
貯蔵安定剤も必要により併用できる。その具体例として
は「UV、EB硬化技術((株)総合技術センター発
行)」158頁〜159頁記載の増感剤、貯蔵安定剤の
うち前者として尿素、ニトリル化合物[N, N−ジ置換
−p−アミノベンゾニトリル等]、燐化合物[トリ−n
−ブチルホスフィン等]が好ましく、後者として第4級
アンモニウムクロライド、ベンゾチアゾールおよびハイ
ドロキノンが好ましい。
ミド溶媒(N- メチルホルムアミド、N, N−ジメチル
ホルムアミド、N−メチルアセトアミド、N−メチルピ
ロジリノン等)、アルコール溶媒(メタノール、エタノ
ール等)、多価アルコール溶媒(エチレングリコール、
プロピレングリコール、ジエチレングリコール、1,4
−ブタンジオール、グリセリン、ポリエチレンオキシ
ド、ポリプロピレンオキシド等)、エーテル溶媒(メチ
ラール、1,2−ジメトキシエタン、1−エトキシ−2
−メトキシエタン、1, 2−ジエトキシエタン等)、ラ
クトン溶媒(γ−ブチロラクトン、γ−バレロラクト
ン、δ−バレロラクトン、3−メチル−1,3−オキサ
ゾリジン−2−オン、3−エチル−1, 3−オキサゾリ
ジン−2−オン等)、カーボネート溶媒(プロピレンカ
ーボネート、エチレンカーボネート、スチレンカーボネ
ート等)、ニトリル溶媒(アセトニトリル、3−メトキ
シプロピオニトリル等)、フラン溶媒(2, 5−ジメト
キシテトラヒドロフラン等)、イミダゾリジノン溶媒
(1, 3−ジメチル−2−イミダゾリジノン等)、ピロ
リドン溶媒等およびこれらの2種以上の併用が挙げられ
る。これらのうち水、アルコール溶媒、カーボネート溶
媒、エーテル溶媒、ラクトン溶媒、ニトリル溶媒および
フラン溶媒が好ましい。
いて記載する。電解質塩(a)は導電性組成物中(以下
の数字はこの基準による)、通常1〜40重量%、好ま
しくは10〜35重量%である。チクソ化剤(b1およ
びb2)は通常1〜40重量%、好ましくは5〜30重
量%である。熱重合性成分(c1)および活性光線重合
性化合物(c2)は通常10〜100重量%、好ましく
は20〜80重量%である。溶媒(d)は通常0〜90
重量%、好ましくは20〜80重量%である。この範囲
外ではイオン伝導度、パターン形成性等が悪くなる。光
重合開始剤(c3)は活性光線重合性化合物(c2)に
対して通常0.1〜10重量%、好ましくは0.5〜7
重量%である。この範囲外では適度な反応性が得られな
い。増感剤および貯蔵安定剤は活性光線重合性化合物
(c2)100部に対し通常0.1〜5部である。
ないが、通常、ガラス、セラミック、金属、紙、プラス
チック等が挙げられる。またこれらの基板上にインジウ
ム錫オキサイド、金属(金、銀、銅等)、カーボン、導
電性高分子(ポリアニリン、ポリピロール等)などを塗
布した導電性基板も挙げられる。
法と間接法がある。直接法としては電気化学素子を配置
した基板上へ熱重合性化合物を含む導電性組成物を必
要な部分にのみ、スクリーン印刷等により塗布した後、
熱重合反応を行い固体電解質を形成する方法、活性光
線重合性化合物を含む電解液組成物を塗布後、必要な部
分のみに活性光線を照射して固体電解質を形成する方法
(ホトリソグラフィー法)、揮発性溶媒および高分子
を含む導電性組成物をスクリーン印刷等により特定パタ
ーンに塗布後、溶媒を揮発させ固体電解質を形成する方
法が挙げられる。間接法としては、予め特定パターン
を持った固体電解質を作製し、この固体電解質を電気化
学素子を配置した基板へ転写する方法が挙げられる。こ
れらのうちで固体電解質のイオン伝導度、電気化学素子
と固体電解質との界面抵抗の低減および固体電解質パタ
ーンの再現性、量産性の面からあるいはの方法が好
ましい。
が、本発明はこれに限定されるものではない。
を各々重量比6:4の割合で混合した溶媒に3モル/リ
ットルの割合でLiBF4 を溶解せしめて得た電解液を
69.2重量%、エトキシジエチレングリコールアクリ
レートを20.0重量%、メチルベンゾイルフォーメー
トを0.8重量%、チクソ化剤(ヒドロキシプロピルセ
ルロース)10.0重量%を混合した。
を各々重量比6:4の割合で混合した溶媒に3モル/リ
ットルの割合でLiBF4 を溶解せしめて得た電解液を
75.6重量%、エトキシジエチレングリコールアクリ
レートを13.5重量%、トリメチロールプロパントリ
アクリレート0.2重量%、メチルベンゾイルフォーメ
ートを0.7重量%、チクソ化剤(ヒドロキシプロピル
セルロース)10.0重量%を混合した。
2−ジメトキシエタンを各々重量比7:1:2の割合で
混合した溶媒に3モル/リットルの割合でLiBF4 を
溶解せしめて得た電解液を61.8重量%、テトラヒド
ロフルフリルアクリレートを30.0重量%、メチルベ
ンゾイルフォーメートを1.2重量%の割合で混合し、
チクソ化剤(ヒドロキシプロピルセルロース)7.0重
量%を混合した。
F4 を溶解せしめて得た電解液を62.9重量%、ポリ
オキシアルキレンポリオール(グリセリンにエチレンオ
キサイド/プロピレンオキサイド=8/2(重量比)を
付加重合して得た分子量3000のもの)を27.6重
量%、ジブチル錫ジラウレート0.1重量%、チクソ化
剤(水添ヒマシ油)を7.0重量%とトリレンジイソシ
アネート2.4重量%からなるもの。これは、電解質塩
重量:チクソ化剤重量=2.2:1である。
を各々重量比6:4の割合で混合した溶媒に1モル/リ
ットルの割合で過塩素酸テトラブチルアンモニウムを溶
解せしめて得た電解液を46.2重量%、エトキシジエ
チレングリコールアクリレートを45.0重量%、メチ
ルベンゾイルフォーメートを1.8重量%の割合で混合
し、チクソ化剤(ヒドロキシプロピルセルロース)7.
0重量%を混合した。
を各々重量比6:4の割合で混合した溶媒に1.5モル
/リットルの割合でテトラフルオロホウ酸テトラブチル
アンモニウムを溶解せしめて得た電解液を48.4重量
%、エトキシジエチレングリコールアクリレートを4
0.0重量%、メチルベンゾイルフォーメートを1.6
重量%の割合で混合し、チクソ化剤(ヒドロキシプロピ
ルセルロース)7.0重量%を混合した。
を各々重量比6:4の割合で混合した溶媒に1.0モル
/リットルの割合でテトラフルオロホウ酸テトラブチル
アンモニウムを溶解せしめて得た電解液を48.4重量
%、フルフリルアクリレートを40.0重量%、メチル
ベンゾイルフォーメートを1.6重量%の割合で混合
し、チクソ化剤(ヒドロキシプロピルセルロース)1
0.0重量%を混合した。
2−ジメトキシエタンを各々重量比7:1:3の割合で
混合した溶媒に1.0モル/リットルの割合でテトラフ
ルオロホウ酸テトラエチルアンモニウムを溶解せしめて
得た電解液を42.0重量%、エトキシジエチレングリ
コールアクリレートを50.0重量%、、メチルベンゾ
イルフォーメートを2.0重量%の割合で混合し、チク
ソ化剤(ヒドロキシプロピルセルロース)6.0重量%
を混合した。
を各々重量比6:4の割合で混合した溶媒に2.0モル
/リットルの割合でテトラフルオロホウ酸テトラブチル
アンモニウムを溶解せしめて得た電解液を48.4重量
%、エトキシジエチレングリコールアクリレートを4
0.0重量%、メチルベンゾイルフォーメートを1.6
重量%の割合で混合し、チクソ化剤(ヒドロキシプロピ
ルセルロース)10.0重量%を混合した。
ガラス基板(6)にITO(5)を蒸着し透明電極とし
た。エレクトロクロミー層(3)として、通電量40m
C/cm2 で電解重合したポリアニリンを使用した。こ
のエレクトロクロミー層(3)に導電性組成物1をスク
リーン印刷で図3に示すようなパターンを印刷し、高圧
水銀灯により活性光線を照射して固体電解質層(2)を
形成し、シール材(1)で封止した。次に透明ガラス基
板(8)上にITO(7)を蒸着した対向極を加圧圧着
した。透明電極を正極とし2Vを印加したところ、パタ
ーン化した固体電解質の部分のみが数百ミリ秒〜数秒で
着色し、−0.3Vを印加したところ速やかに消色し
た。
ニリンの代わりにポリ3メチルチオフェンを用いる以外
は実施例1と同様にしてエレクトロクロミック素子を製
造した。透明電極を正極として2.5Vを印加したとこ
ろ、パターン化した固体電解質の部分のみが数百ミリ秒
〜数秒で青色に着色し、−0.3Vを印加したところ速
やかに赤色に変化した。
m蒸着したものを用いた。このエレクトロクロミー層
(3)の上に導電性組成物2をスクリーン印刷で図3に
示すようなパターンを印刷し、高圧水銀灯により活性光
線を照射して固体電解質層(2)を形成した以外は、実
施例1と同様な構造のエレクトロクロミック素子を製造
した。透明電極を負極として2Vを印加したところ、パ
ターン化した固体電解質の部分のみが数百ミリ秒〜数秒
で濃紺色に着色し、逆電界を印加したところ速やかに淡
黄色に変化した。
明ガラス基板(6)に真空蒸着法により、In2 O3 を
蒸着した(5)。この上にエレクトロクロミー層(3)
としてWO3 を400nm蒸着した。この上にスクリー
ン印刷により図3のような導電性組成物1のパターンを
印刷した。さらに高圧水銀灯により活性光線を照射し
て、パターンを有する固体電解質層(2)を設けた。次
に対向電極(9)としてステンレス基板上にIrO2 を
スパッタ法により蒸着したものを加圧圧着し、シール材
(1)で封止した。対向電極(9)を正極として2Vを
印加したところ、パターン化した固体電解質の部分のみ
が数百msec〜数secで着色し、逆電界をかけると
速やかに消色した。
た。透明ガラス基板(6)に真空蒸着法により、In2
O3 を蒸着した(5)。この上にエレクトロクロミー層
(3)としてWO3 を400nm蒸着した。この上に導
電性組成物2をスピンコートした。これに図3のパター
ンマスクを用いて活性光線を露光し、固体電解質(2)
のパターンを設けた。未硬化の固体電解質組成物をアセ
トニトリルで洗浄、除去した。次に透明ガラス基板
(8)上にITO(7)を設けた対向電極を加圧圧着し
た。対向電極を正極とし、2Vを印加したところ、パタ
ーン化した固体電解質の部分のみが数百msec〜数s
ecで着色し、逆電界をかけると速やかに消色した。
成物3、対向電極(9)として塩化第2鉄とフェリシア
ン化カリウムを混合した水溶液にステンレスを浸漬し、
5μA/cm2 で電解還元して得たプルシアンブルー−
ステンレス電極を用いる以外は実施例4と同様のエレク
トロクロミック素子を製造した。対向電極(9)を正極
とし2Vを印加したところ、パターン化した固体電解質
の部分のみが数百msec〜数secで着色し、逆電界
をかけると速やかに消色した。
クリーン印刷により図3のようなパターンを印刷した以
外は実施例4と同様にしてエレクトロクロミック素子を
製造した。対向電極(9)を正極とし、2Vを印加した
ところ、パターン化した固体電解質の部分のみが数百m
sec〜数secで着色し、逆電界をかけると速やかに
消色した。
てエレクトロクロミック素子を製造した。いずれのエレ
クトロクロミック素子も透明電極を正極にして2Vを印
加したところ、パターン化した固体電解質の部分のみが
数百msec〜数secで着色し、−0.3Vを印加し
たところ速やかに消色した。
子は電気化学素子がパターン化された固体電解質を有
し、その固体電解質が電解液と、チクソ化剤と、重合性
化合物からなる導電性組成物の硬化物からなることか
ら、電気化学素子の集積化、積層化、パターン化等に効
果を発揮するので、コンデンサー、電池、キャパシタ
ー、エレクトロクロミック素子、センサー、電気化学ダ
イオード(ソイオンダイオード)、電気化学FET等の
軽量化、小型化および生産性の向上に貢献できるという
効果を奏する。
Claims (5)
- 【請求項1】 電解質塩(a)1〜40重量%、下記チ
クソ化剤(b1)1〜40重量%、下記熱重合性成分
(c1)少なくとも10重量%および溶媒(d)からな
り、固体電解質形成性を有することを特徴とする導電性
組成物。 チクソ化剤(b1):炭酸カルシウム、セルロース誘導
体、霧状シリカ、水添ヒマシ油、ジベンジリデンソルビ
トール、ワックス、アミド類およびアミノ酸誘導体から
なる群から選ばれたチクソ化剤。 熱重合性成分(c1):ポリオールとポリイソシアネー
トとの組合せからなる熱重合性成分。 - 【請求項2】 電解質塩(a)1〜40重量%、下記チ
クソ化剤(b2)1〜40重量%、活性光線重合性化合
物(c2)少なくとも10重量%、光重合性開始剤(c
3)および溶媒(d)からなり、固体電解質形成性を有
することを特徴とする導電性組成物。チクソ化剤(b
2):セルロース誘導体、霧状シリカ、ジベンジリデン
ソルビトールおよびアミノ酸誘導体からなる群から選ば
れたチクソ化剤。 - 【請求項3】 基板上に請求項1記載の導電性組成物を
パターン状に印刷し、加熱硬化せしめた固体電解質を有
する電気化学素子。 - 【請求項4】 基板上に請求項2記載の導電性組成物を
パターン状に印刷し、活性光線で硬化せしめた固体電解
質を有する電気化学素子。 - 【請求項5】 該印刷がスクリーン印刷である請求項3
または4記載の電気化学素子。
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