JP3218295U

JP3218295U - 不可視光遮蔽構造

Info

Publication number: JP3218295U
Application number: JP2018002808U
Authority: JP
Inventors: リュホーン−ワ; チェンウェン−フ; チェンウェン−リアン; ライイン−シエン
Original assignee: ナノスターテクノロジーカンパニーリミテッド
Priority date: 2017-11-24
Filing date: 2018-07-23
Publication date: 2018-10-04
Anticipated expiration: 2028-07-23
Also published as: US20190162886A1; TWM556666U

Abstract

【課題】第１の透明基板と、金属層と、透明保護層と、不可視光遮蔽ユニットと、を含む省エネルギー化を向上できる不可視光遮蔽構造を提供する。
【解決手段】金属層１２０が第１の透明基板１１０の一側に設けられ、透明保護層１３０が金属層の第１の透明基板から離れる側に設けられる。不可視光遮蔽ユニット１４０は、透明保護層の第１の透明基板から離れる側に設けられ、且つ複数のタングステン酸ジセシウムを有する。これにより、不可視光遮蔽構造は、不可視光を効果的に遮ることができる。
【選択図】図１

Description

本考案は、光遮蔽構造に関し、特に、不可視光遮蔽構造に関する。

近年、エネルギーが不足になり、科学者が新しいエネルギーを積極的に開発する以外、省エネルギーの方法を捜すようになるので、節電の効果を達成させるために、低エネルギー消費な設備や建物部材が次第に開発されて、省エネルギー窓はその中の１つである。

現在の工商社会ではオフィスビルが立ち並び、ほとんどのビルは、採光するためにガラス窓の構造を大量に使用するが、ガラスの光透過率が高いので、熱輻射が室内に入って、エアコン等の減温装置の使用チャンスが増え、炭素排出量及びエネルギー使用率が向上するが、かえって却って省エネルギーの観念に違反する。従って、科学者は、ガラスに特別にコーティングされた、赤外線の進入を阻止すると共にガラスの透明度を維持可能な、断熱と採光の機能を兼ね備える、熱輻射の進入を遮蔽可能な省エネルギー窓を開発したが、その赤外線に対する阻止能力にまだ限りがある。

これに鑑みて、如何に省エネルギー窓等の構造の配置を効果的に改善して、不可視光をより効果的に遮蔽できるようにすることは、関連業者の努力する目標になっている。

本考案は、金属層及び不可視光遮蔽層を有し、不可視光遮蔽能力を向上可能な不可視光遮蔽構造を提供する。

本考案の一態様によると、第１の透明基板と、金属層と、透明保護層と、不可視光遮蔽ユニットと、を含む不可視光遮蔽構造を提供する。金属層が、第１の透明基板の一側に設けられ、透明保護層が、金属層の第１の透明基板から離れる側に設けられる。不可視光遮蔽ユニットは、透明保護層の第１の透明基板から離れる側に設けられ、且つ複数のタングステン酸ジセシウムを有する。

これにより、不可視光遮蔽構造は、金属層及び不可視光遮蔽層を有し、良好な可視光透過率を有することができる。

前記不可視光遮蔽構造によると、不可視光遮蔽ユニットは、赤外光遮蔽層を含んでよく、赤外光遮蔽層が、タングステン酸ジセシウムを含有するタングステン酸ジセシウム膜を含む。又は、不可視光遮蔽ユニットは、赤外光遮蔽層を含んでよく、赤外光遮蔽層が、シラン含有樹脂基、アクリル含有樹脂、ポリウレタン含有樹脂及びエポキシ含有樹脂を有する高分子ガラスセメントと、高分子ガラスセメントに均一に分散し、且つタングステン酸ジセシウムを有する複数のナノ粒子と、を含むタングステン酸ジセシウムガラスセメントを含有する。又は、前記不可視光遮蔽構造は、第１の透明基板の金属層から離れる側に設けられ、且つ複数のフッ素を有するセルフクリーニング層を更に含んでよい。

本考案の別の態様によると、第１の透明基板と、金属層と、透明保護層と、不可視光遮蔽ユニットと、第２の透明基板と、を含む不可視光遮蔽構造を提供する。金属層が、第１の透明基板の一側に設けられ、透明保護層が、金属層の第１の透明基板から離れる側に設けられる。不可視光遮蔽ユニットは、透明保護層の第１の透明基板から離れる側に設けられ、且つ紫外光赤外光遮蔽層を含む。紫外光赤外光遮蔽層は、ポリビニルブチラール樹脂、有機紫外光遮断剤及び複数のナノ粒子を含む。有機紫外光遮断剤は、ポリビニルブチラール樹脂に分散する。ナノ粒子は、高分子ガラスセメントに分散し、且つ複数のタングステン酸ジセシウムを有する。第２の透明基板は、紫外光赤外光遮蔽層の透明保護層から離れる側に設けられる。

前記不可視光遮蔽構造によると、第１の透明基板の金属層から離れる側に設けられ、且つ複数のフッ素を有するセルフクリーニング層を更に含んでよい。

本考案のまた別の態様によると、第１の透明基板と、金属層と、透明保護層と、不可視光遮蔽ユニットと、を含む不可視光遮蔽構造を提供する。金属層が、第１の透明基板の一側に設けられ、透明保護層が、金属層の第１の透明基板から離れる側に設けられる。不可視光遮蔽ユニットは、赤外光遮蔽層及び紫外光遮蔽層を含む。赤外光遮蔽層は、透明保護層の第１の透明基板から離れる側に設けられ、且つ複数のタングステン酸ジセシウムを有する。紫外光遮蔽層は、透明保護層と赤外光遮蔽層との間、第１の透明基板の金属層から離れる側、又は赤外光遮蔽層の透明保護層から離れる側に設けられる。

前記不可視光遮蔽構造によると、第１の透明基板の金属層から離れる側に設けられ、且つ複数のフッ素を有するセルフクリーニング層を更に含んでよい。紫外光遮蔽層は、複数の酸化セリウム又は複数の酸化亜鉛を有する。

本考案のまた１つの態様によると、第１の透明基板と、金属層と、透明保護層と、不可視光遮蔽ユニットと、第２の透明基板と、を含む不可視光遮蔽構造を提供する。金属層が、第１の透明基板の一側に設けられ、透明保護層が、金属層の第１の透明基板から離れる側に設けられる。不可視光遮蔽ユニットは、赤外光遮蔽層及び紫外光遮蔽層を含む。赤外光遮蔽層は、透明保護層の第１の透明基板から離れる側に設けられ、且つ複数のタングステン酸ジセシウムを有する。紫外光遮蔽層は、透明保護層と赤外光遮蔽層との間、金属層と第１の透明基板との間、又は赤外光遮蔽層の透明保護層から離れる側に設けられる。第２の透明基板は、第１の透明基板と金属層との間、透明保護層と赤外光遮蔽層との間、又は赤外光遮蔽層の透明保護層から離れる側に設けられる。

前記不可視光遮蔽構造によると、紫外光遮蔽層が、金属層と第１の透明基板との間に設けられてよく、第２の透明基板が、紫外光遮蔽層と金属層との間に設けられる。又は、紫外光遮蔽層が、透明保護層と赤外光遮蔽層との間に設けられ、第２の透明基板が、紫外光遮蔽層と赤外光遮蔽層との間に設けられる。又は、紫外光遮蔽層が、赤外光遮蔽層の透明保護層から離れる側に設けられ、第２の透明基板が、紫外光遮蔽層の透明保護層から離れる側に設けられる。

前記不可視光遮蔽構造によると、第１の透明基板の金属層から離れる側に設けられ、且つ複数のフッ素を有するセルフクリーニング層を更に含んでよい。紫外光遮蔽層は、ポリビニルブチラール樹脂及び有機紫外光遮断剤を含み、有機紫外光遮断剤が、ポリビニルブチラール樹脂に分散する。

本考案の第１の実施例による不可視光遮蔽構造を示す側面模式図である。本考案の第２の実施例による不可視光遮蔽構造を示す側面模式図である。本考案の第３の実施例による不可視光遮蔽構造を示す側面模式図である。本考案の第４の実施例による不可視光遮蔽構造を示す側面模式図である。本考案の第５の実施例による不可視光遮蔽構造を示す側面模式図である。本考案の第６の実施例による不可視光遮蔽構造を示す側面模式図である。本考案の第７の実施例による不可視光遮蔽構造を示す側面模式図である。本考案の第８の実施例による不可視光遮蔽構造を示す側面模式図である。本考案の第９の実施例による不可視光遮蔽構造を示す側面模式図である。本考案の第１０の実施例による不可視光遮蔽構造を示す側面模式図である。本考案の第１１の実施例による不可視光遮蔽構造を示す側面模式図である。本考案の第１２の実施例による不可視光遮蔽構造を示す側面模式図である。本考案の第１３の実施例による不可視光遮蔽構造を示す側面模式図である。本考案の第１４の実施例による不可視光遮蔽構造を示す側面模式図である。本考案の第１５の実施例による不可視光遮蔽構造を示す側面模式図である。

以下、図面に合わせて本考案の実施形態を説明する。明確に説明するために、数多くの実際上の細部を下記の記述において共に説明する。しかしながら、読者であれば、これらの実際上の細部は本考案を限定するように適用されるべきではないことは理解すべきである。つまり、本考案の一部の実施例において、これらの実際上の細部は必要なものではない。なお、図面を簡単化するために、ある既知の慣用の構造や素子を図面において簡単に示す。且つ重複した素子については同一の番号で示す。

本考案の不可視光遮蔽構造は、第１の透明基板と、金属層と、透明保護層と、不可視光遮蔽ユニットと、を備えてよい。不可視光遮蔽ユニットは、単独して赤外光遮蔽層を含み、又は別々に赤外光遮蔽層及び紫外光遮蔽層を含み、又は紫外光及び赤外光を同時に遮蔽できるように単独して紫外光赤外光遮蔽層を含んでもよく、且つ複数のタングステン酸ジセシウムを有する。好ましくは、金属層の成分としては、銀、アルミニウム、クロム、ニッケル、インジウム、チタニウム又は錫であってよい。

これにより、不可視光遮蔽構造は、独立した金属層及び不可視光遮蔽ユニットを有してよく、好適な可視光透過率を有すると共に、良好な不可視光遮蔽率を保持することができる。

一実施形態において、不可視光遮蔽構造は、第１の透明基板と、金属層と、透明保護層と、不可視光遮蔽ユニットと、を含む。金属層が、第１の透明基板の一側に設けられ、透明保護層が、金属層の第１の透明基板から離れる側に設けられる。不可視光遮蔽ユニットは、透明保護層の第１の透明基板から離れる側に設けられ、且つ複数のタングステン酸ジセシウムを有する。

第１の透明基板は、ガラス材料で作られてよい。赤外光遮蔽層は、タングステン酸ジセシウム膜を含んでよい。タングステン酸ジセシウム膜は、タングステン酸ジセシウムを含み、化学気相成長又は物理気相成長の方法で形成されてよく、且つ厚さが、１０〜１０００ｎｍであってよい。又は、赤外光遮蔽層は、タングステン酸ジセシウムガラスセメントを含む。タングステン酸ジセシウムガラスセメントは、高分子ガラスセメント及び複数のナノ粒子を含む。高分子ガラスセメントは、シラン含有樹脂基、アクリル含有樹脂、ポリウレタン含有樹脂及びエポキシ含有樹脂を有する。ナノ粒子は、高分子ガラスセメントに均一に分散し、且つタングステン酸ジセシウムを有し、コーティング、印刷又はスクリーン印刷の方法で作られてよく、厚さが、１〜５０μｍである。好ましくは、シラン含有樹脂基の重量百分率は。０．５％〜９０％であり、アクリル含有樹脂の重量百分率は、３％〜９０％であり、ポリウレタン含有樹脂の重量百分率は、３％〜９０％であり、エポキシ含有樹脂の重量百分率は、３％〜９０％であり、ナノ粒子の重量百分率は、０．５％〜９０％である。

別の実施形態において、不可視光遮蔽構造は、第１の透明基板と、金属層と、透明保護層と、不可視光遮蔽ユニットと、を含む。金属層が、第１の透明基板の一側に設けられ、透明保護層が、金属層の第１の透明基板から離れる側に設けられる。不可視光遮蔽ユニットは、赤外光遮蔽層及び紫外光遮蔽層を含む。赤外光遮蔽層は、透明保護層の第１の透明基板から離れる側に設けられ、且つ複数のタングステン酸ジセシウムを有する。紫外光遮蔽層は、透明保護層と赤外光遮蔽層との間、第１の透明基板の金属層から離れる側、又は赤外光遮蔽層の透明保護層から離れる側に設けられる。

紫外光遮蔽層は、複数の酸化セリウム又は複数の酸化亜鉛を有してよい。紫外光遮蔽層は、酸化セリウム膜を含んでよい。酸化セリウム膜は、酸化セリウムを含み、化学気相成長又は物理気相成長で形成されてよく、厚さが、１０〜１０００ｎｍであってよい。又は、紫外光遮蔽層は、酸化セリウムガラスセメントを含む。酸化セリウムガラスセメントは、高分子ガラスセメント及び複数のナノ粒子を含む。高分子ガラスセメントは、シラン含有樹脂基、アクリル含有樹脂、ポリウレタン含有樹脂及びエポキシ含有樹脂を含む。ナノ粒子は、高分子ガラスセメントに均一に分散し、且つ酸化セリウムであり、コーティング、印刷又はスクリーン印刷の方法で作ってよく、厚さが、１〜５０μｍである。上記の酸化セリウムは、酸化亜鉛であってもよい。好ましくは、シラン含有樹脂基の重量百分率は、０．５％〜９０％であり、アクリル含有樹脂の重量百分率は、３％〜９０％であり、ポリウレタン含有樹脂の重量百分率は、３％〜９０％であり、エポキシ含有樹脂の重量百分率は、３％〜９０％であり、ナノ粒子の重量百分率は、０．５％〜９０％である。

また別の実施形態において、不可視光遮蔽構造は、第１の透明基板と、金属層と、透明保護層と、不可視光遮蔽ユニットと、第２の透明基板と、を含む。金属層が、第１の透明基板の一側に設けられ、透明保護層が、金属層の第１の透明基板から離れる側に設けられる。不可視光遮蔽ユニットは、赤外光遮蔽層及び紫外光遮蔽層を含み、赤外光遮蔽層は、透明保護層の第１の透明基板から離れる側に設けられ、且つ複数のタングステン酸ジセシウムを有する。紫外光遮蔽層は、透明保護層と赤外光遮蔽層との間、金属層と第１の透明基板との間、又は赤外光遮蔽層の透明保護層から離れる側に設けられる。第２の透明基板は、第１の透明基板と金属層との間、透明保護層と赤外光遮蔽層との間、又は赤外光遮蔽層の透明保護層から離れる側に設けられる。

例としては、紫外光遮蔽層が、金属層と第１の透明基板との間に設けられてよく、第２の透明基板が、紫外光遮蔽層と金属層との間に設けられる。又は、紫外光遮蔽層が、透明保護層と赤外光遮蔽層との間に設けられ、第２の透明基板が、紫外光遮蔽層と赤外光遮蔽層との間に設けられる。又は、紫外光遮蔽層が、赤外光遮蔽層の透明保護層から離れる側に設けられ、第２の透明基板が、紫外光遮蔽層の透明保護層から離れる側に設けられる。

第２の透明基板は、ガラス材料で作られてよい。紫外光遮蔽層は、ポリビニルブチラール樹脂及び有機紫外光遮断剤を含んでよく、有機紫外光遮断剤が、ポリビニルブチラール（ｐｏｌｙｖｉｎｙｌｂｕｔｙｒａｌ；ＰＶＢ）樹脂に分散される。つまり、混練によって、有機紫外光遮断剤、ポリビニルブチラール樹脂及び可塑剤を混合させた後で、紫外光遮蔽機能付きのＰＶＢフィルムを押出して形成する。有機紫外光遮断剤は、台湾光永公司製のＥｖｅｒｓｏｒｂ７３２ＦＤであってよく、好ましくは、有機紫外光遮断剤の重量百分率が、０．１％〜１０％であり、ポリビニルブチラール樹脂の重量百分率が、６４％〜８５％であり、重量百分率が、１４％〜３５％である可塑剤を更に含んでもよい。

これにより、紫外光遮蔽層が金属層と第１の透明基板との間に設けられる場合、紫外光遮蔽機能付きのＰＶＢフィルムを使用すれば、第１の透明基板と第２の透明基板との間の粘着作用を提供することができるが、紫外光遮蔽層が赤外光遮蔽層の透明保護層から離れる側に設けられ、第２の透明基板が紫外光遮蔽層の透明保護層から離れる側に設けられる場合、紫外光遮蔽層は、他の層が外部環境から影響を受けずに、保護作用を提供することができる。

更なる実施形態において、不可視光遮蔽構造は、第１の透明基板と、金属層と、透明保護層と、不可視光遮蔽ユニットと、第２の透明基板と、を含む。金属層が、第１の透明基板の一側に設けられ、透明保護層が、金属層の第１の透明基板から離れる側に設けられる。不可視光遮蔽ユニットは、透明保護層の第１の透明基板から離れる側に設けられ、且つ紫外光赤外光遮蔽層を含む。紫外光赤外光遮蔽層は、ポリビニルブチラール樹脂、有機紫外光遮断剤及び複数のナノ粒子を含む。有機紫外光遮断剤は、ポリビニルブチラール樹脂に分散する。ナノ粒子は、ポリビニルブチラール樹脂に分散し、且つタングステン酸ジセシウムを有する。第２の透明基板は、紫外光赤外光遮蔽層の透明保護層から離れる側に設けられる。

紫外光赤外光遮蔽層は、ポリビニルブチラール樹脂、有機紫外光遮断剤及び複数のナノ粒子を含んでよい。有機紫外光遮断剤は、ポリビニルブチラール樹脂に分散する。ナノ粒子は、ポリビニルブチラール樹脂に分散し、且つタングステン酸ジセシウムを有する。つまり、混練によって、有機紫外光遮断剤、ポリビニルブチラール樹脂、ナノ粒子及び可塑剤を混合させた後で、紫外光赤外光遮蔽機能付きのＰＶＢフィルムを押出して形成する。好ましくは、有機紫外光遮断剤の重量百分率は、０．１％〜１０％であり、ポリビニルブチラール樹脂の重量百分率は、５％〜９０％であり、ナノ粒子の重量百分率は、１％〜９０％である。

前記不可視光遮蔽構造は、第１の透明基板の金属層から離れる側に設けられ、且つ複数のフッ素を有するセルフクリーニング層を更に含んでよい。一実施形態において、セルフクリーニング層は、フッ素膜を含んでよい。フッ素膜は、フッ素を含み、化学気相成長又は物理気相成長で形成されてよく、厚さが、１０〜１０００ｎｍであってよい。又は一実施形態において、セルフクリーニング層は、フッ素ガラスセメントを含む。フッ素ガラスセメントは、高分子ガラスセメント及び複数のナノ含フッ素樹脂を含む。高分子ガラスセメントは、シラン含有樹脂基、アクリル含有樹脂、ポリウレタン含有樹脂及びエポキシ含有樹脂を含む。ナノ含フッ素樹脂、高分子ガラスセメントに均一に分散する。且つナノ含フッ素樹脂は、フッ素を有し、コーティング、印刷又はスクリーン印刷の方法で作られてよく、厚さが、１〜５０μｍである。好ましくは、高分子ガラスセメントの重量百分率は、１０％〜９９．９％であり、ナノ含フッ素樹脂の重量百分率は、０．１％〜９０％である。

上記説明によると、以下、具体的な実施例を提出して、図面に合わせて詳しく説明する。

＜実施例＞
図１を参照されたい。図１は、本考案の第１の実施例による不可視光遮蔽構造１００を示す側面模式図である。第１の実施例において、不可視光遮蔽ユニット１４０は、赤外光遮蔽層１４１を含み、不可視光遮蔽構造１００は、上から下まで順次に第１の透明基板１１０、金属層１２０、透明保護層１３０及び赤外光遮蔽層１４１を含み、金属層１２０の成分は銀であり（他の実施例において、金属層１２０の成分は、アルミニウム、クロム、ニッケル、インジウム、チタニウム、錫であってよい）、透明保護層１３０は、物理気相成長法で作られた二酸化珪素膜であり、膜厚が５０ｎｍであり（他の実施例において、透明保護層１３０は、物理気相成長法で作られた二酸化チタン又はＡｌ_２Ｏ_３膜であってもよい）、及び赤外光遮蔽層１４１は、物理気相成長法で作られた連続のタングステン酸ジセシウムフィルムであり、膜厚が２００ｎｍであった（他の実施例において、赤外光遮蔽層１４１はタングステン酸ジセシウムガラスセメントで形成された非連続のタングステン酸ジセシウムフィルムであってもよい）。

図２を参照されたい。図２は、本考案の第２の実施例による不可視光遮蔽構造２００を示す側面模式図である。第２の実施例において、不可視光遮蔽ユニット２４０は、赤外光遮蔽層２４１を含み、不可視光遮蔽構造２００は、上から下まで順次にセルフクリーニング層２６０、第１の透明基板２１０、金属層２２０、透明保護層２３０及び赤外光遮蔽層２４１であり、セルフクリーニング層２６０は、物理気相成長方法で作られた連続のフッ素含有のフィルムであり、膜厚が５００ｎｍであり（他の実施例において、セルフクリーニング層２６０は、フッ素ガラスセメントで形成された非連続のフッ素含有のフィルムであってもよい）、金属層２２０の成分は、銀であり（他の実施例において、金属層２２０の成分は、アルミニウム、クロム、ニッケル、インジウム、チタニウム、錫であってよい）、透明保護層１３０は、物理気相成長法で作られた二酸化珪素膜であり、膜厚が５０ｎｍであり（他の実施例において、透明保護層１３０は、物理気相成長法で作られた二酸化チタン又はＡｌ_２Ｏ_３膜であってもよい）、及び赤外光遮蔽層２４１は、物理気相成長法で作られた連続のタングステン酸ジセシウムフィルムであり、膜厚が２００ｎｍであった（他の実施例において、赤外光遮蔽層２４１は、タングステン酸ジセシウムガラスセメントで形成された非連続のタングステン酸ジセシウムフィルムであってもよい）。

図３を参照されたい。図３は、本考案の第３の実施例による不可視光遮蔽構造３００を示す側面模式図である。第３の実施例において、不可視光遮蔽ユニット３４０は、紫外光赤外光遮蔽層３４３を含み、不可視光遮蔽構造３００は、上から下まで順次に第１の透明基板３１０、金属層３２０、透明保護層３３０、紫外光赤外光遮蔽層３４３及び第２の透明基板３５０であり、金属層３２０の成分は、銀であり（他の実施例において、金属層３２０の成分は、アルミニウム、クロム、ニッケル、インジウム、チタニウム、錫であってよい）、透明保護層３３０は、物理気相成長法で作られた二酸化珪素膜であり、膜厚が５０ｎｍであり（他の実施例において、透明保護層３３０は、物理気相成長法で作られた二酸化チタン又はＡｌ_２Ｏ_３膜であってもよい）、及び紫外光赤外光遮蔽層３４３は、紫外光赤外光遮蔽機能付きのＰＶＢフィルムであった。

図４を参照されたい。図４は、本考案の第４の実施例による不可視光遮蔽構造４００を示す側面模式図である。第４の実施例において、不可視光遮蔽ユニット４４０は、紫外光赤外光遮蔽層４４３を含み、不可視光遮蔽構造４００は、上から下まで順次にセルフクリーニング層４６０、第１の透明基板４１０、金属層４２０、透明保護層４３０、紫外光赤外光遮蔽層４４３及び第２の透明基板４５０であり、セルフクリーニング層４６０は、物理気相成長方法で作られた連続のフッ素含有のフィルムであり、膜厚が５００ｎｍであり（他の実施例において、セルフクリーニング層４６０は、フッ素ガラスセメントで形成された非連続のフッ素含有のフィルムであってもよい）、金属層４２０の成分は、銀であり（他の実施例において、金属層４２０の成分は、アルミニウム、クロム、ニッケル、インジウム、チタニウム、錫であってよい）、透明保護層４３０は、物理気相成長法で作られた二酸化珪素膜であり、膜厚が５０ｎｍであり（他の実施例において、透明保護層４３０は、物理気相成長法で作られた二酸化チタン又はＡｌ_２Ｏ_３膜であってもよい）、及び紫外光赤外光遮蔽層４４３は、紫外光赤外光遮蔽機能付きのＰＶＢフィルムであった。

図５を参照されたい。図５は、本考案の第５の実施例による不可視光遮蔽構造５００を示す側面模式図である。第５の実施例において、不可視光遮蔽ユニット５４０は、赤外光遮蔽層５４１及び紫外光遮蔽層５４２を含み、不可視光遮蔽構造５００は、上から下まで順次に第１の透明基板５１０、金属層５２０、透明保護層５３０、紫外光遮蔽層５４２及び赤外光遮蔽層５４１であり、金属層５２０の成分は、銀であり（他の実施例において、金属層５２０の成分は、アルミニウム、クロム、ニッケル、インジウム、チタニウム、錫であってよい）、透明保護層５３０は、物理気相成長法で作られた二酸化珪素膜であり、膜厚が５０ｎｍであり（他の実施例において、透明保護層５３０は、物理気相成長法で作られた二酸化チタン又はＡｌ_２Ｏ_３膜であってもよい）、紫外光遮蔽層５４２は、物理気相成長で作られた連続の酸化亜鉛フィルムであり、膜厚が５００ｎｍであり（他の実施例において、紫外光遮蔽層５４２は、酸化セリウムガラスセメントで形成された非連続の酸化セリウムフィルムであってもよい）、及び赤外光遮蔽層５４１は、物理気相成長法で作られた連続のタングステン酸ジセシウムフィルムであり、膜厚が２００ｎｍであった（他の実施例において、赤外光遮蔽層５４１は、タングステン酸ジセシウムガラスセメントで形成された非連続のタングステン酸ジセシウムフィルムであってもよい）。

図６を参照されたい。図６は、本考案の第６の実施例による不可視光遮蔽構造６００を示す側面模式図である。第６の実施例において、不可視光遮蔽ユニット６４０は、赤外光遮蔽層６４１及び紫外光遮蔽層６４２を含み、不可視光遮蔽構造６００は、上から下まで順次にセルフクリーニング層６６０、第１の透明基板６１０、金属層６２０、透明保護層６３０、紫外光遮蔽層６４２及び赤外光遮蔽層６４１であり、セルフクリーニング層６６０は、物理気相成長方法で作られた連続のフッ素含有のフィルムであり、膜厚が５００ｎｍであり（他の実施例において、セルフクリーニング層６６０は、フッ素ガラスセメントで形成された非連続のフッ素含有のフィルムであってもよい）、金属層６２０の成分は、銀であり（他の実施例において、金属層６２０の成分は、アルミニウム、クロム、ニッケル、インジウム、チタニウム、錫であってよい）、透明保護層６３０は、物理気相成長法で作られた二酸化珪素膜であり、膜厚が５０ｎｍであり（他の実施例において、透明保護層６３０は、物理気相成長法で作られた二酸化チタン又はＡｌ_２Ｏ_３膜であってもよい）、紫外光遮蔽層６４２は、物理気相成長で作られた連続の酸化亜鉛フィルムであり、膜厚が５００ｎｍであり（他の実施例において、紫外光遮蔽層６４２は、酸化セリウムガラスセメントで形成された非連続の酸化セリウムフィルムであってもよい）、及び赤外光遮蔽層６４１は、物理気相成長法で作られた連続のタングステン酸ジセシウムフィルムであり、膜厚が２００ｎｍであった（他の実施例において、赤外光遮蔽層６４１は、タングステン酸ジセシウムガラスセメントで形成された非連続のタングステン酸ジセシウムフィルムであってもよい）。

図７を参照されたい。図７は、本考案の第７の実施例による不可視光遮蔽構造７００を示す側面模式図である。第７の実施例において、不可視光遮蔽ユニット７４０は、赤外光遮蔽層７４１及び紫外光遮蔽層７４２を含み、不可視光遮蔽構造７００は、上から下まで順次にセルフクリーニング層７６０、紫外光遮蔽層７４２、第１の透明基板７１０、金属層７２０、透明保護層７３０及び赤外光遮蔽層７４１であり、セルフクリーニング層７６０は、物理気相成長方法で作られた連続のフッ素含有のフィルムであり、膜厚が５００ｎｍであり（他の実施例において、セルフクリーニング層７６０は、フッ素ガラスセメントで形成された非連続のフッ素含有のフィルムであってもよい）、紫外光遮蔽層７４２は、物理気相成長で作られた連続の酸化亜鉛フィルムであり、膜厚が５００ｎｍであり（他の実施例において、紫外光遮蔽層７４２は、酸化セリウムガラスセメントで形成された非連続の酸化セリウムフィルムであってもよい）、金属層７２０の成分は、銀であり（他の実施例において、金属層７２０の成分は、アルミニウム、クロム、ニッケル、インジウム、チタニウム、錫であってよい）、透明保護層７３０は、物理気相成長法で作られた二酸化珪素膜であり、膜厚が５０ｎｍであり（他の実施例において、透明保護層７３０は、物理気相成長法で作られた二酸化チタン又はＡｌ_２Ｏ_３膜であってもよい）、及び赤外光遮蔽層７４１は、物理気相成長法で作られた連続のタングステン酸ジセシウムフィルムであり、膜厚が２００ｎｍであった（他の実施例において、赤外光遮蔽層７４１は、タングステン酸ジセシウムガラスセメントで形成された非連続のタングステン酸ジセシウムフィルムであってもよい）。

図８を参照されたい。図８は、本考案の第８の実施例による不可視光遮蔽構造８００を示す側面模式図である。第８の実施例において、不可視光遮蔽ユニット８４０は、赤外光遮蔽層８４１及び紫外光遮蔽層８４２を含み、不可視光遮蔽構造８００は、上から下まで順次に第１の透明基板８１０、金属層８２０、透明保護層８３０、赤外光遮蔽層８４１及び紫外光遮蔽層８４２であり、金属層８２０の成分は、銀であり（他の実施例において、金属層８２０の成分は、アルミニウム、クロム、ニッケル、インジウム、チタニウム、錫であってよい）、透明保護層８３０は、物理気相成長法で作られた二酸化珪素膜であり、膜厚が５０ｎｍであり（他の実施例において、透明保護層８３０は、物理気相成長法で作られた二酸化チタン又はＡｌ_２Ｏ_３膜であってもよい）、赤外光遮蔽層８４１は、物理気相成長法で作られた連続のタングステン酸ジセシウムフィルムであり、膜厚が２００ｎｍであり（他の実施例において、赤外光遮蔽層８４１は、タングステン酸ジセシウムガラスセメントで形成された非連続のタングステン酸ジセシウムフィルムであってもよい）、及び紫外光遮蔽層８４２は、物理気相成長で作られた連続の酸化亜鉛フィルムであり、膜厚が５００ｎｍであった（他の実施例において、紫外光遮蔽層８４２は、酸化セリウムガラスセメントで形成された非連続の酸化セリウムフィルムであってもよい）。

図９を参照されたい。図９は、本考案の第９の実施例による不可視光遮蔽構造９００を示す側面模式図である。第９の実施例において、不可視光遮蔽ユニット９４０は、赤外光遮蔽層９４１及び紫外光遮蔽層９４２を含み、不可視光遮蔽構造９００は、上から下まで順次にセルフクリーニング層９６０、第１の透明基板９１０、金属層９２０、透明保護層９３０、赤外光遮蔽層９４１及び紫外光遮蔽層９４２であり、セルフクリーニング層９６０は、物理気相成長方法で作られた連続のフッ素含有のフィルムであり、膜厚が５００ｎｍであり（他の実施例において、セルフクリーニング層９６０は、フッ素ガラスセメントで形成された非連続のフッ素含有のフィルムであってもよい）、金属層９２０の成分は、銀であり（他の実施例において、金属層９２０の成分は、アルミニウム、クロム、ニッケル、インジウム、チタニウム、錫であってよい）、透明保護層９３０は、物理気相成長法で作られた二酸化珪素膜であり、膜厚が５０ｎｍであり（他の実施例において、透明保護層９３０は、物理気相成長法で作られた二酸化チタン又はＡｌ_２Ｏ_３膜であってもよい）、赤外光遮蔽層９４１は、物理気相成長法で作られた連続のタングステン酸ジセシウムフィルムであり、膜厚が２００ｎｍであり（他の実施例において、赤外光遮蔽層９４１は、タングステン酸ジセシウムガラスセメントで形成された非連続のタングステン酸ジセシウムフィルムであってもよい）、及び紫外光遮蔽層９４２は、物理気相成長で作られた連続の酸化亜鉛フィルムであり、膜厚が５００ｎｍであった（他の実施例において、紫外光遮蔽層６４２は、酸化セリウムガラスセメントで形成された非連続の酸化セリウムフィルムであってもよい）。

図１０を参照されたい。図１０は、本考案の第１０の実施例による不可視光遮蔽構造１０００を示す側面模式図である。第１０の実施例において、不可視光遮蔽ユニット１０４０は、赤外光遮蔽層１０４１及び紫外光遮蔽層１０４２を含み、不可視光遮蔽構造１０００は、上から下まで順次に第１の透明基板１０１０、紫外光遮蔽層１０４２、第２の透明基板１０５０、金属層１０２０、透明保護層１０３０及び赤外光遮蔽層１０４１であり、紫外光遮蔽層１０４２は、紫外光遮蔽機能付きのＰＶＢフィルムであり、金属層１０２０の成分は、銀であり（他の実施例において、金属層１０２０の成分は、アルミニウム、クロム、ニッケル、インジウム、チタニウム、錫であってよい）、透明保護層１０３０は、物理気相成長法で作られた二酸化珪素膜であり、膜厚が５０ｎｍであり（他の実施例において、透明保護層１０３０は、物理気相成長法で作られた二酸化チタン又はＡｌ_２Ｏ_３膜であってもよい）、及び赤外光遮蔽層１０４１は、物理気相成長法で作られた連続のタングステン酸ジセシウムフィルムであり、膜厚が２００ｎｍであった（他の実施例において、赤外光遮蔽層１０４１は、タングステン酸ジセシウムガラスセメントで形成された非連続のタングステン酸ジセシウムフィルムであってもよい）。

図１１を参照されたい。図１１は、本考案の第１１の実施例による不可視光遮蔽構造１１００を示す側面模式図である。第１１の実施例において、不可視光遮蔽ユニット１１４０は、赤外光遮蔽層１１４１及び紫外光遮蔽層１１４２であり、不可視光遮蔽構造１１００は、上から下まで順次にセルフクリーニング層１１６０、第１の透明基板１１１０、紫外光遮蔽層１１４２、第２の透明基板１１５０、金属層１１２０、透明保護層１１３０及び赤外光遮蔽層１１４１であり、セルフクリーニング層１１６０は、物理気相成長方法で作られた連続のフッ素含有のフィルムであり、膜厚が５００ｎｍであり（他の実施例において、セルフクリーニング層１１６０は、フッ素ガラスセメントで形成された非連続のフッ素含有のフィルムであってもよい）、紫外光遮蔽層１１４２は、紫外光遮蔽機能付きのＰＶＢフィルムであり、金属層１１２０の成分は、銀であり（他の実施例において、金属層１１２０の成分は、アルミニウム、クロム、ニッケル、インジウム、チタニウム、錫であってよい）、透明保護層１１３０は、物理気相成長法で作られた二酸化珪素膜であり、膜厚が５０ｎｍであり（他の実施例において、透明保護層１１３０は、物理気相成長法で作られた二酸化チタン又はＡｌ_２Ｏ_３膜であってもよい）、及び赤外光遮蔽層１１４１は、物理気相成長法で作られた連続のタングステン酸ジセシウムフィルムであり、膜厚が２００ｎｍであった（他の実施例において、赤外光遮蔽層１１４１は、タングステン酸ジセシウムガラスセメントで形成された非連続のタングステン酸ジセシウムフィルムであってもよい）。

図１２を参照されたい。図１２は、本考案の第１２の実施例による不可視光遮蔽構造１２００を示す側面模式図である。第１２の実施例において、不可視光遮蔽ユニット１２４０は、赤外光遮蔽層１２４１及び紫外光遮蔽層１２４２を含み、不可視光遮蔽構造１２００は、上から下まで順次に第１の透明基板１２１０、金属層１２２０、透明保護層１２３０、紫外光遮蔽層１２４２、第２の透明基板１２５０及び赤外光遮蔽層１２４１であり、紫外光遮蔽層１２４２は、紫外光遮蔽機能付きのＰＶＢフィルムであり、金属層１２２０の成分は、銀であり（他の実施例において、金属層１２２０の成分は、アルミニウム、クロム、ニッケル、インジウム、チタニウム、錫であってよい）、透明保護層１２３０は、物理気相成長法で作られた二酸化珪素膜であり、膜厚が５０ｎｍであり（他の実施例において、透明保護層１２３０は、物理気相成長法で作られた二酸化チタン又はＡｌ_２Ｏ_３膜であってもよい）、及び赤外光遮蔽層１２４１は、物理気相成長法で作られた連続のタングステン酸ジセシウムフィルムであり、膜厚が２００ｎｍであった（他の実施例において、赤外光遮蔽層１２４１は、タングステン酸ジセシウムガラスセメントで形成された非連続のタングステン酸ジセシウムフィルムであってもよい）。

図１３を参照されたい。図１３は、本考案の第１３の実施例による不可視光遮蔽構造１３００を示す側面模式図である。第１３の実施例において、不可視光遮蔽ユニット１３４０は、赤外光遮蔽層１３４１及び紫外光遮蔽層１３４２を含み、不可視光遮蔽構造１３００は、上から下まで順次にセルフクリーニング層１３６０、第１の透明基板１３１０、金属層１３２０、透明保護層１３３０、紫外光遮蔽層１３４２、第２の透明基板１３５０及び赤外光遮蔽層１３４１であり、セルフクリーニング層１３６０は、物理気相成長方法で作られた連続のフッ素含有のフィルムであり、膜厚が５００ｎｍであり（他の実施例において、セルフクリーニング層１３６０は、フッ素ガラスセメントで形成された非連続のフッ素含有のフィルムであってもよい）、紫外光遮蔽層１３４２は、紫外光遮蔽機能付きのＰＶＢフィルムであり、金属層１３２０の成分は、銀であり（他の実施例において、金属層１３２０の成分は、アルミニウム、クロム、ニッケル、インジウム、チタニウム、錫であってよい）、透明保護層１３３０は、物理気相成長法で作られた二酸化珪素膜であり、膜厚が５０ｎｍであり（他の実施例において、透明保護層１３３０は、物理気相成長法で作られた二酸化チタン又はＡｌ_２Ｏ_３膜であってもよい）、及び赤外光遮蔽層１３４１は、物理気相成長法で作られた連続のタングステン酸ジセシウムフィルムであり、膜厚が２００ｎｍであった（他の実施例において、赤外光遮蔽層１３４１は、タングステン酸ジセシウムガラスセメントで形成された非連続のタングステン酸ジセシウムフィルムであってもよい）。

図１４を参照されたい。図１４は、本考案の第１４の実施例による不可視光遮蔽構造１４００を示す側面模式図である。第１４の実施例において、不可視光遮蔽ユニット１４４０は、赤外光遮蔽層１４４１及び紫外光遮蔽層１４４２を含み、不可視光遮蔽構造１４００は、上から下まで順次に第１の透明基板１４１０、金属層１４２０、透明保護層１４３０、赤外光遮蔽層１４４１、紫外光遮蔽層１４４２及び第２の透明基板１４５０であり、紫外光遮蔽層１４４２は、紫外光遮蔽機能付きのＰＶＢフィルムであり、金属層１４２０の成分は、銀であり（他の実施例において、金属層１４２０の成分は、アルミニウム、クロム、ニッケル、インジウム、チタニウム、錫であってよい）、透明保護層１４３０は、物理気相成長法で作られた二酸化珪素膜であり、膜厚が５０ｎｍであり（他の実施例において、透明保護層１４３０は、物理気相成長法で作られた二酸化チタン又はＡｌ_２Ｏ_３膜であってもよい）、及び赤外光遮蔽層１４４１は、物理気相成長法で作られた連続のタングステン酸ジセシウムフィルムであり、膜厚が２００ｎｍであった（他の実施例において、赤外光遮蔽層１４４１は、タングステン酸ジセシウムガラスセメントで形成された非連続のタングステン酸ジセシウムフィルムであってもよい）。

図１５を参照されたい。図１５は、本考案の第１５の実施例による不可視光遮蔽構造１５００を示す側面模式図である。第１５の実施例において、不可視光遮蔽ユニット１５４０は、赤外光遮蔽層１５４１及び紫外光遮蔽層１５４２を含み、不可視光遮蔽構造１５００は、上から下まで順次にセルフクリーニング層１５６０、第１の透明基板１５１０、金属層１５２０、透明保護層１５３０、赤外光遮蔽層１５４１、紫外光遮蔽層１５４２及び第２の透明基板１５５０であり、セルフクリーニング層１５６０は、物理気相成長方法で作られた連続のフッ素含有のフィルムであり、膜厚が５００ｎｍであり（他の実施例において、セルフクリーニング層１４６０は、フッ素ガラスセメントで形成された非連続のフッ素含有のフィルムであってもよい）、紫外光遮蔽層１５４２は、紫外光遮蔽機能付きのＰＶＢフィルムであり、金属層１５２０の成分は、銀であり（他の実施例において、金属層１５２０の成分は、アルミニウム、クロム、ニッケル、インジウム、チタニウム、錫であってよい）、透明保護層１５３０は、物理気相成長法で作られた二酸化珪素膜であり、膜厚が５０ｎｍであり（他の実施例において、透明保護層１５３０は、物理気相成長法で作られた二酸化チタン又はＡｌ_２Ｏ_３膜であってもよい）、及び赤外光遮蔽層１５４１は、物理気相成長法で作られた連続のタングステン酸ジセシウムフィルムであり、膜厚が２００ｎｍであった（他の実施例において、赤外光遮蔽層１５４１は、タングステン酸ジセシウムガラスセメントで形成された非連続のタングステン酸ジセシウムフィルムであってもよい）。

＜比較例＞
第１の比較例は、上から下まで第１の透明基板、赤外光遮蔽層及び透明保護層を含み、赤外光遮蔽層の成分が、銀であり、透明保護層が、物理気相成長法で作られた二酸化珪素膜であり、膜厚が５０ｎｍであった。

第２の比較例は、上から下まで第１の透明基板、紫外光遮蔽層、第２の透明基板、赤外光遮蔽及び透明保護層を含み、紫外光遮蔽層が、紫外光遮蔽機能付きのＰＶＢフィルムであり、赤外光遮蔽層が、銀であり、透明保護層が、物理気相成長法で作られた二酸化珪素膜であり、膜厚が５０ｎｍであった。

第３の比較例は、上から下まで第１の透明基板、赤外光遮蔽、透明保護層、紫外光遮蔽層及び第２の透明基板を含み、紫外光遮蔽層が、紫外光遮蔽機能付きのＰＶＢフィルムであり、赤外光遮蔽層が、銀であり、透明保護層が、物理気相成長法で作られた二酸化珪素膜であり、膜厚が５０ｎｍであった。

下記の表１は、第１の比較例〜第３の比較例、及び第１の実施例〜第１５の実施例による紫外光遮蔽率、赤外光遮蔽率及び水滴接触角の測定結果であり、紫外光遮蔽率及び赤外光遮蔽率測定装置が、米国ＥＤＴＭ規格ＷＰ４５００であり、紫外線のテスト波長が、３６５ｎｍであり、赤外線のテスト波長が、９５０ｎｍであり、水滴接触角測定装置が、ＧＢＸ、ＰＸ６１０、Ｆｒａｎｃｅであった。

表１の構造から分かるように、本願の第１の実施例１〜第１５の実施例は、紫外光遮蔽率、赤外光遮蔽率で好ましく表現されるので、本考案の不可視光遮蔽構造が赤外光及び紫外光の遮蔽で良好な効果を有することが証明される。不可視光遮蔽構造は、セルフクリーニング層を含み、その水滴接触角が大きく、水気による汚染を受け易くなく、きれいに保持することができる。

本考案を実施例によって以上のように開示したが、それは本考案を限定するものではなく、当業者であれば、本考案の精神や範囲から逸脱しない限り、各種の変更や修正を加えることができる。従って、本考案の保護範囲は、添付の実用新案登録請求の範囲の記載によって限定される。

１００，２００，３００，４００，５００，６００，７００，８００，９００，１０００，１１００，１２００，１３００，１４００，１５００不可視光遮蔽構造、１１０，２１０，３１０，４１０，５１０，６１０，７１０，８１０，９１０，１０１０，１１１０，１２１０，１３１０，１４１０，１５１０第１の透明基板、１２０，２２０，３２０，４２０，５２０，６２０，７２０，８２０，９２０，１０２０，１１２０，１２２０，１３２０，１４２０，１５２０金属層、１３０，２３０，３３０，４３０，５３０，６３０，７３０，８３０，９３０，１０３０，１１３０，１２３０，１３３０，１４３０，１５３０透明保護層、１４０，２４０，３４０，４４０，５４０，６４０，７４０，８４０，９４０，１０４０，１１４０，１２４０，１３４０，１４４０，１５４０不可視光遮蔽ユニット、１４１，２４１，５４１，６４１，７４１，８４１，９４１，１０４１，１１４１，１２４１，１３４１，１４４１，１５４１赤外光遮蔽層、５４２，６４２，７４２，８４２，９４２，１０４２，１１４２，１２４２，１３４２，１４４２，１５４２紫外光遮蔽層、３４３，４４３紫外光赤外光遮蔽層、３５０，４５０，１０５０，１１５０，１２５０，１３５０，１４５０，１５５０第２の透明基板、２６０，４６０，６６０，７６０，９６０，１１６０，１３６０，１５６０セルフクリーニング層。

Claims

第１の透明基板と、
前記第１の透明基板の一側に設けられる金属層と、
前記金属層の前記第１の透明基板から離れる側に設けられる透明保護層と、
前記透明保護層の前記第１の透明基板から離れる側に設けられ、且つ複数のタングステン酸ジセシウムを有する不可視光遮蔽ユニットと、
を含む不可視光遮蔽構造。
前記不可視光遮蔽ユニットは、前記タングステン酸ジセシウムを含むタングステン酸ジセシウム膜を含有する赤外光遮蔽層を備える、請求項１に記載の不可視光遮蔽構造。
前記不可視光遮蔽ユニットは、シラン含有樹脂基、アクリル含有樹脂、ポリウレタン含有樹脂及びエポキシ含有樹脂を有する高分子ガラスセメントと、前記高分子ガラスセメントに均一に分散し、且つ前記タングステン酸ジセシウムを有する複数のナノ粒子と、を含むタングステン酸ジセシウムガラスセメントを含有する赤外光遮蔽層を備える、請求項１に記載の不可視光遮蔽構造。
前記第１の透明基板の前記金属層から離れる側に設けられ、且つ複数のフッ素を有するセルフクリーニング層を更に含む、請求項１に記載の不可視光遮蔽構造。
第１の透明基板と、
前記第１の透明基板の一側に設けられる金属層と、
前記金属層の前記第１の透明基板から離れる側に設けられる透明保護層と、
ポリビニルブチラール樹脂と、前記ポリビニルブチラール樹脂に分散する有機紫外光阻隔成分と、前記ポリビニルブチラール樹脂に分散し、且つ複数のタングステン酸ジセシウムを有する複数のナノ粒子と、を含む紫外光赤外光遮蔽層を含有し、前記透明保護層の前記第１の透明基板から離れる側に設けられる不可視光遮蔽ユニットと、
前記紫外光赤外光遮蔽層の前記透明保護層から離れる側に設けられる第２の透明基板と、
を備える不可視光遮蔽構造。
前記第１の透明基板の前記金属層から離れる側に設けられ、且つ複数のフッ素を有するセルフクリーニング層を更に含む、請求項５に記載の不可視光遮蔽構造。
第１の透明基板と、
前記第１の透明基板の一側に設けられる金属層と、
前記金属層の前記第１の透明基板から離れる側に設けられる透明保護層と、
前記透明保護層の前記第１の透明基板から離れる側に設けられ、且つ複数のタングステン酸ジセシウムを有する赤外光遮蔽層と、前記透明保護層と前記赤外光遮蔽層との間、前記第１の透明基板の前記金属層から離れる側、又は前記赤外光遮蔽層の前記透明保護層から離れる側に設けられる紫外光遮蔽層と、を含む不可視光遮蔽ユニットと、
を備える不可視光遮蔽構造。
前記第１の透明基板の前記金属層から離れる側に設けられ、且つ複数のフッ素を有するセルフクリーニング層を更に含む、請求項７に記載の不可視光遮蔽構造。
前記紫外光遮蔽層は、複数の酸化セリウム又は複数の酸化亜鉛を有する、請求項７に記載の不可視光遮蔽構造。
第１の透明基板と、
前記第１の透明基板の一側に設けられる金属層と、
前記金属層の前記第１の透明基板から離れる側に設けられる透明保護層と、
前記透明保護層の前記第１の透明基板から離れる側に設けられ、且つ複数のタングステン酸ジセシウムを有する赤外光遮蔽層と、前記透明保護層と前記赤外光遮蔽層との間、前記金属層と前記第１の透明基板との間、又は前記赤外光遮蔽層の前記透明保護層から離れる側に設けられる紫外光遮蔽層と、を含む不可視光遮蔽ユニットと、
前記第１の透明基板と前記金属層との間、前記透明保護層と前記赤外光遮蔽層との間、又は前記赤外光遮蔽層の前記透明保護層から離れる側に設けられる第２の透明基板と、
を備える不可視光遮蔽構造。
前記紫外光遮蔽層は、前記金属層と前記第１の透明基板との間に設けられ、前記第２の透明基板は、前記紫外光遮蔽層と前記金属層との間に設けられる、請求項１０に記載の不可視光遮蔽構造。
前記紫外光遮蔽層は、前記透明保護層と前記赤外光遮蔽層との間に設けられ、前記第２の透明基板は、前記紫外光遮蔽層と前記赤外光遮蔽層との間に設けられる、請求項１０に記載の不可視光遮蔽構造。
前記紫外光遮蔽層は、前記赤外光遮蔽層の前記透明保護層から離れる側に設けられ、前記第２の透明基板は、前記紫外光遮蔽層の前記透明保護層から離れる側に設けられる、請求項１０に記載の不可視光遮蔽構造。
前記第１の透明基板の前記金属層から離れる側に設けられ、且つ複数のフッ素を有するセルフクリーニング層を更に含む、請求項１１、１２又は１３に記載の不可視光遮蔽構造。
前記紫外光遮蔽層は、
ポリビニルブチラール樹脂と、
前記ポリビニルブチラール樹脂に分散する有機紫外光遮断剤と、
を含む、請求項１０に記載の不可視光遮蔽構造。