TWM556666U - 不可見光遮蔽結構 - Google Patents

Abstract

本創作提供一種不可見光遮蔽結構，包含一第一透明基板、一金屬層、一透明保護層以及一不可見光遮蔽單元，金屬層設置在第一透明基板的一側，透明保護層設置在金屬層遠離第一透明基板的一側，不可見光遮蔽單元設置在透明保護層遠離第一透明基板的一側，且不可見光遮蔽單元具有多數個鎢酸銫(Cs₂O₄W)。藉此，不可見光遮蔽結構可有效遮擋不可見光。

Description

不可見光遮蔽結構

本新型是有關於一種光遮蔽結構，且尤其是有關一種不可見光遮蔽結構。

近年來能源短缺，科學家除了積極開發新能源外，亦開始尋求節省能源的方法，是以低耗能的設備或建築構件逐漸被開發出來，以期可以達到省電的效果，而節能窗便是其中一種。

由於現今工商社會中辦公大樓林立，多數大樓為了採光而使用大量的玻璃窗結構，但也因為玻璃的光穿透度高，導致熱輻射進入室內，增加了冷氣機等降溫器的使用機會而導致排碳量及能源使用率的提升，反而與環保節能的觀念背道而馳。因此，科學家開發出可以遮蔽熱輻射進入的節能窗，其在玻璃上設有特殊塗層，不僅可以阻擋紅外光線的進入，同時可以維持玻璃的透明度，兼具隔熱與採光的功能，然其阻擋紅外線的能力仍有限。

有鑑於此，如何有效改善節能窗等結構配置使其更有效的遮蔽不可見光，遂成相關業者努力的目標。

本新型提供一種不可見光遮蔽結構，其具有金屬層及不可見光遮蔽層，而能提升不可見光遮蔽能力。

依據本新型之一態樣提供一種不可見光遮蔽結構，包含一第一透明基板、一金屬層、一透明保護層以及一不可見光遮蔽單元，金屬層設置在第一透明基板的一側，透明保護層設置在金屬層遠離第一透明基板的一側，不可見光遮蔽單元設置在透明保護層遠離第一透明基板的一側，且不可見光遮蔽單元具有多數個鎢酸銫(Cs₂O₄W)。

藉此，不可見光遮蔽結構具有金屬層及不可見光遮蔽層，而能具有良好的可見光穿透率。

依據前述之不可見光遮蔽結構，其中不可見光遮蔽單元可包含一紅外光遮蔽層，紅外光遮蔽層包含一鎢酸銫膜，鎢酸銫膜包含鎢酸銫。或不可見光遮蔽單元可包含一紅外光遮蔽層，紅外光遮蔽層包含一鎢酸銫玻璃膠，鎢酸銫玻璃膠包含一高分子玻璃膠體及複數奈米粒子，高分子玻璃膠體具有含矽烷樹脂基、含亞克力樹脂、含聚氨脂樹脂以及含環氧樹脂，奈米粒子均勻分散於高分子玻璃膠體，且奈米粒子具有鎢酸銫。或前述不可見光遮蔽結構可更包含一自潔層設置在第一透明基板遠離金屬層的一側，且自潔層具有多數個氟。

依據本新型之另一態樣提供一種不可見光遮蔽結構，包含一第一透明基板、一金屬層、一透明保護層、一不可見光遮蔽單元以及一第二透明基板，金屬層設置在第一透明基板的一側，透明保護層設置在金屬層遠離第一透明基板的一 側，不可見光遮蔽單元設置在透明保護層遠離第一透明基板的一側且包含一紫外光紅外光遮蔽層，紫外光紅外光遮蔽層包含一聚乙烯醇縮丁醛樹脂、一有機紫外光阻隔劑及複數奈米粒子，有機紫外光阻隔劑分散於聚乙烯醇縮丁醛樹脂中，奈米粒子分散於高分子玻璃膠體，且奈米粒子具有複數鎢酸銫；第二透明基板設置在紫外光紅外光遮蔽層遠離透明保護層的一側。

依據前述之不可見光遮蔽結構，更可包含一自潔層設置在第一透明基板遠離金屬層的一側，且自潔層具有多數個氟。

依據本新型之又一態樣提供一種不可見光遮蔽結構，包含一第一透明基板、一金屬層、一透明保護層以及一不可見光遮蔽單元，金屬層設置在第一透明基板的一側，透明保護層設置在金屬層遠離第一透明基板的一側。不可見光遮蔽單元包含一紅外光遮蔽層及一紫外光遮蔽層，紅外光遮蔽層設置在透明保護層遠離第一透明基板的一側，且紅外光遮蔽層具有多數個鎢酸銫；紫外光遮蔽層設置在透明保護層與紅外光遮蔽層之間、第一透明基板遠離金屬層的一側、或紅外光遮蔽層遠離透明保護層的一側。

依據前述之不可見光遮蔽結構，可更包含一自潔層設置在第一透明基板遠離金屬層的一側，且自潔層具有多數個氟。其中紫外光遮蔽層具有多數個氧化鈰或多數個氧化鋅。

依據本新型之再一態樣提供一種不可見光遮蔽結構，包含一第一透明基板、一金屬層、一透明保護層、一不可見光遮蔽單元以及一第二透明基板，金屬層設置在第一透明基 板的一側，透明保護層設置在金屬層遠離第一透明基板的一側。不可見光遮蔽單元包含一紅外光遮蔽層及一紫外光遮蔽層，紅外光遮蔽層設置在透明保護層遠離第一透明基板的一側，且紅外光遮蔽層具有多數個鎢酸銫；紫外光遮蔽層設置在透明保護層與紅外光遮蔽層之間、金屬層與第一透明基板之間、或紅外光遮蔽層遠離透明保護層的一側；第二透明基板設置在第一透明基板與金屬層之間、透明保護層與紅外光遮蔽層之間、或紅外光遮蔽層遠離透明保護層的一側。

依據前述之不可見光遮蔽結構，其中紫外光遮蔽層可設置在金屬層與第一透明基板之間，第二透明基板設置在紫外光遮蔽層與金屬層之間。或紫外光遮蔽層設置在透明保護層與紅外光遮蔽層之間，第二透明基板設置在紫外光遮蔽層與紅外光遮蔽層之間。或紫外光遮蔽層設置在紅外光遮蔽層遠離透明保護層的一側，第二透明基板設置在紫外光遮蔽層遠離透明保護層的一側。

依據前述之不可見光遮蔽結構，更包含一自潔層，設置在第一透明基板遠離金屬層的一側，且自潔層具有多數個氟。紫外光遮蔽層包含一聚乙烯醇縮丁醛樹脂及一有機紫外光阻隔劑，有機紫外光阻隔劑分散於聚乙烯醇縮丁醛樹脂中。

100、200、300、400、500、600、700、800、900、1000、1100、1200、1300、1400、1500‧‧‧不可見光遮蔽結構

110、210、310、410、510、610、710、810、910、1010、1110、1210、1310、1410、1510‧‧‧第一透明基板

120、220、320、420、520、620、720、820、920、1020、1120、1220、1320、1420、1520‧‧‧金屬層

130、230、330、430、530、630、730、830、930、1030、1130、1230、1330、1430、1530‧‧‧透明保護層

140、240、340、440、540、640、740、840、940、1040、1140、1240、1340、1440、1540‧‧‧不可見光遮蔽單元

141、241、541、641、741、841、941、1041、1141、1241、1341、1441、1541‧‧‧紅外光遮蔽層

542、642、742、842、942、1042、1142、1242、1342、1442、1542‧‧‧紫外光遮蔽層

343、443‧‧‧紫外光紅外光遮蔽層

350、450、1050、1150、1250、1350、1450、1550‧‧‧第二透明基板

260、460、660、760、960、1160、1360、1560‧‧‧自潔層

第1圖繪示依照本新型第1實施例之一種不可見光遮蔽結構 的側視示意圖；第2圖繪示依照本新型第2實施例之一種不可見光遮蔽結構的側視示意圖；第3圖繪示依照本新型第3實施例之一種不可見光遮蔽結構的側視示意圖；第4圖繪示依照本新型第4實施例之一種不可見光遮蔽結構的側視示意圖；第5圖繪示依照本新型第5實施例之一種不可見光遮蔽結構的側視示意圖；第6圖繪示依照本新型第6實施例之一種不可見光遮蔽結構的側視示意圖；第7圖繪示依照本新型第7實施例之一種不可見光遮蔽結構的側視示意圖；第8圖繪示依照本新型第8實施例之一種不可見光遮蔽結構的側視示意圖；第9圖繪示依照本新型第9實施例之一種不可見光遮蔽結構的側視示意圖；第10圖繪示依照本新型第10實施例之一種不可見光遮蔽結構的側視示意圖；第11圖繪示依照本新型第11實施例之一種不可見光遮蔽結構的側視示意圖；第12圖繪示依照本新型第12實施例之一種不可見光遮蔽結構的側視示意圖；第13圖繪示依照本新型第13實施例之一種不可見光遮蔽結 構的側視示意圖；第14圖繪示依照本新型第14實施例之一種不可見光遮蔽結構的側視示意圖；以及第15圖繪示依照本新型第15實施例之一種不可見光遮蔽結構的側視示意圖。

以下將參照圖式說明本新型之實施方式。為明確說明起見，許多實務上的細節將在以下敘述中一併說明。然而，閱讀者應瞭解到，這些實務上的細節不應用以限制本新型。也就是說，在本新型部分實施例中，這些實務上的細節是非必要的。此外，為簡化圖式起見，一些習知慣用的結構與元件在圖式中將以簡單示意的方式繪示；並且重複之元件將可能使用相同的編號表示。

本新型之不可見光遮蔽結構可包含一第一透明基板、一金屬層、一透明保護層以及一不可見光遮蔽單元，其中不可見光遮蔽單元可以是單獨包含紅外光遮蔽層，或是分別包含一紅外光遮蔽層及一紫外光遮蔽層，或是單獨包含一紫外光紅外光遮蔽層而能同時遮蔽紫外光及紅外光，且不可見光遮蔽單元具有多數個鎢酸銫。較佳的，金屬層的成分可為可為銀、鋁、鉻、鎳、銦、鈦或錫。

藉此，不可見光遮蔽結構可具有獨立的金屬層及不可見光遮蔽單元，可以使不可見光遮蔽結構具有較佳的可見光穿透率，且同時保持良好的不可見光遮蔽率。

在一實施方式中，不可見光遮蔽結構包含一第一透明基板、一金屬層、一透明保護層以及一不可見光遮蔽單元，金屬層設置在第一透明基板的一側，透明保護層設置在金屬層遠離第一透明基板的一側，不可見光遮蔽單元設置在透明保護層遠離第一透明基板的一側，且不可見光遮蔽單元具有多數個鎢酸銫。

其中第一透明基板可為玻璃材料製成；紅外光遮蔽層可包含一鎢酸銫膜，鎢酸銫膜包含鎢酸銫，其可以是用化學氣相沉積或物理氣相沉積方式形成，厚度可為10-1000nm。或紅外光遮蔽層包含一鎢酸銫玻璃膠，鎢酸銫玻璃膠包含一高分子玻璃膠體及複數奈米粒子，高分子玻璃膠體具有含矽烷樹脂基、含亞克力樹脂、含聚氨脂樹脂以及含環氧樹脂，奈米粒子均勻分散於高分子玻璃膠體，且奈米粒子具有鎢酸銫，其可利用塗佈、列印或網印方式製作，厚度為1-50μm。較佳的，含矽烷樹脂基的重量百分比為0.5%~90%，含亞克力樹脂的重量百分比為3%~90%，含聚氨脂樹脂的重量百分比為3%~90%，含環氧樹脂的重量百分比為3%~90%，奈米粒子的重量百分比為0.5%~90%。

在另一實施方式中，不可見光遮蔽結構包含一第一透明基板、一金屬層、一透明保護層以及一不可見光遮蔽單元，金屬層設置在第一透明基板的一側，透明保護層設置在金屬層遠離第一透明基板的一側。不可見光遮蔽單元包含一紅外光遮蔽層及一紫外光遮蔽層，紅外光遮蔽層設置在透明保護層遠離第一透明基板的一側，且紅外光遮蔽層具有多數個鎢酸 銫；紫外光遮蔽層設置在透明保護層與紅外光遮蔽層之間、第一透明基板遠離金屬層的一側、或紅外光遮蔽層遠離透明保護層的一側。

紫外光遮蔽層可具有多數個氧化鈰或多數個氧化鋅。其中紫外光遮蔽層可包含一氧化鈰膜，氧化鈰膜包含氧化鈰，其可以是用化學氣相沉積或物理氣相沉積方式形成，厚度可為10-1000nm。或紫外光遮蔽層包含一氧化鈰玻璃膠，氧化鈰玻璃膠包含一高分子玻璃膠體及複數奈米粒子，高分子玻璃膠體包含含矽烷樹脂基、含亞克力樹脂、含聚氨脂樹脂以及含環氧樹脂，奈米粒子均勻分散於高分子玻璃膠體，且奈米粒子為氧化鈰，其可利用塗佈、列印或網印方式製作，厚度為1-50μm。上述的氧化鈰可換為氧化鋅。較佳的，含矽烷樹脂基的重量百分比為0.5%~90%，含亞克力樹脂的重量百分比為3%~90%，含聚氨脂樹脂的重量百分比為3%~90%，含環氧樹脂的重量百分比為3%~90%，奈米粒子的重量百分比為0.5%~90%。

在又一實施方式中，不可見光遮蔽結構包含一第一透明基板、一金屬層、一透明保護層、一不可見光遮蔽單元以及一第二透明基板，金屬層設置在第一透明基板的一側，透明保護層設置在金屬層遠離第一透明基板的一側。不可見光遮蔽單元包含一紅外光遮蔽層及一紫外光遮蔽層，紅外光遮蔽層設置在透明保護層遠離第一透明基板的一側，且紅外光遮蔽層具有多數個鎢酸銫；紫外光遮蔽層設置在透明保護層與紅外光遮蔽層之間、金屬層與第一透明基板之間、或紅外光遮蔽層遠 離透明保護層的一側；第二透明基板設置在第一透明基板與金屬層之間、透明保護層與紅外光遮蔽層之間、或紅外光遮蔽層遠離透明保護層的一側。

舉例而言，紫外光遮蔽層可設置在金屬層與第一透明基板之間，第二透明基板設置在紫外光遮蔽層與金屬層之間。或紫外光遮蔽層設置在透明保護層與紅外光遮蔽層之間，第二透明基板設置在紫外光遮蔽層與紅外光遮蔽層之間。或紫外光遮蔽層設置在紅外光遮蔽層遠離透明保護層的一側，第二透明基板設置在紫外光遮蔽層遠離透明保護層的一側。

其中第二透明基板可為玻璃材料製成；紫外光遮蔽層可包含一聚乙烯醇縮丁醛樹脂及一有機紫外光阻隔劑，有機紫外光阻隔劑分散於聚乙烯醇縮丁醛樹脂(PVB)中。也就是說，透過混煉的方式，讓有機紫外光阻隔劑、聚乙烯醇縮丁醛樹脂及可塑劑混合後，押出形成具有紫外光遮蔽功能之PVB膠膜。其中有機紫外光阻隔劑可為台灣光永公司生產之Eversorb 732FD，較佳的，有機紫外光阻隔劑的重量百分比為0.1%~10%，聚乙烯醇縮丁醛樹脂的重量百分比為64%~85%，還可以包含可塑劑，其重量百分比為14%~35%。

藉此，當紫外光遮蔽層設置在金屬層與第一透明基板之間時，使用具有紫外光遮蔽功能之PVB膠膜可以提供第一透明基板及第二透明基板之間的貼合作用，而當紫外光遮蔽層設置在紅外光遮蔽層遠離透明保護層的一側，第二透明基板設置在紫外光遮蔽層遠離透明保護層的一側時，紫外光遮蔽層可提供保護作用，使其他層不受外界環境影響。

在更一實施方式中，不可見光遮蔽結構包含一第一透明基板、一金屬層、一透明保護層、一不可見光遮蔽單元以及一第二透明基板，金屬層設置在第一透明基板的一側，透明保護層設置在金屬層遠離第一透明基板的一側，不可見光遮蔽單元設置在透明保護層遠離第一透明基板的一側且包含一紫外光紅外光遮蔽層，紫外光紅外光遮蔽層包含一聚乙烯醇縮丁醛樹脂、一有機紫外光阻隔劑及複數奈米粒子，有機紫外光阻隔劑分散於聚乙烯醇縮丁醛樹脂中，奈米粒子分散於高分子玻璃膠體，且奈米粒子具有鎢酸銫；第二透明基板設置在紫外光紅外光遮蔽層遠離透明保護層的一側。

紫外光紅外光遮蔽層可包含一聚乙烯醇縮丁醛樹脂、一有機紫外光阻隔劑及複數奈米粒子，有機紫外光阻隔劑分散於聚乙烯醇縮丁醛樹脂中，奈米粒子分散於聚乙烯醇縮丁醛樹脂，且奈米粒子具有鎢酸銫。也就是說，透過混煉的方式，讓有機紫外光阻隔劑、聚乙烯醇縮丁醛樹脂及可塑劑混合後，押出形成具有紫外光紅外光遮蔽功能之PVB膠膜。較佳的，有機紫外光阻隔劑的重量百分比為0.1%~10%，聚乙烯醇縮丁醛樹脂的重量百分比為5%~90%，奈米粒子的重量百分比為1%~90%。

前述不可見光遮蔽結構更可包含一自潔層設置在第一透明基板遠離金屬層的一側，且自潔層具有多數個氟。在一實施方式中，自潔層可包含一氟膜，氟膜包含氟，其可以是用化學氣相沉積或物理氣相沉積方式形成，厚度可為10-1000nm。或在一實施方式中，自潔層包含一氟玻璃膠，氟 玻璃膠包含一高分子玻璃膠體及複數奈米含氟樹脂，高分子玻璃膠體包含含矽烷樹脂基、含亞克力樹脂、含聚氨脂樹脂以及含環氧樹脂，奈米粒子均勻分散於高分子玻璃膠體，且奈米含氟樹脂具有氟，其可利用塗佈、列印或網印方式製作，厚度為1-50μm。較佳的，高分子玻璃膠體的重量百分比為10%~99.9%，奈米含氟樹脂的重量百分比為0.1%~90%。

根據上述說明，以下提出具體實施例並配合圖式予以詳細說明。

<實施例>

請參閱第1圖，其中第1圖繪示依照本新型第1實施例之一種不可見光遮蔽結構100的側視示意圖。第1實施例中，不可見光遮蔽單元140包含紅外光遮蔽層141，不可見光遮蔽結構100由上而下依序為第一透明基板110、金屬層120、透明保護層130及紅外光遮蔽層141，其中金屬層120的成分為銀(在其他實施例中，金屬層120成分可為鋁、鉻、鎳、銦、鈦、錫)，透明保護層130是以物理氣相沉積方法製作的二氧化矽膜，膜厚50nm(在其他實施例中，透明保護層130可以是以物理氣相沉積方法製作的二氧化鈦或三氧化二鋁膜)，以及紅外光遮蔽層141是以物理氣相沉積方法製作的連續鎢酸銫薄膜，膜厚200nm(在其他實施例中，紅外光遮蔽層141亦可以是以鎢酸銫玻璃膠形成的不連續連續鎢酸銫薄膜)。

請參閱第2圖，其中第2圖繪示依照本新型第2實施例之一種不可見光遮蔽結構200的側視示意圖。第2實施例中，不可見光遮蔽單元240包含紅外光遮蔽層241，不可見光 遮蔽結構200由上而下依序為自潔層260、第一透明基板210、金屬層220、透明保護層230及紅外光遮蔽層241，其中自潔層260是以物理氣相沉積方法製成之連續含氟薄膜，膜厚500nm(在其他實施例中，自潔層260亦可以是以氟玻璃膠形成的不連續含氟薄膜)，金屬層220的成分為銀(在其他實施例中，金屬層220成分可為鋁、鉻、鎳、銦、鈦、錫)，透明保護層130是以物理氣相沉積方法製作的二氧化矽膜，膜厚50nm(在其他實施例中，透明保護層130可以是以物理氣相沉積方法製作的二氧化鈦或三氧化二鋁膜)，以及紅外光遮蔽層241是以物理氣相沉積方法製作的連續鎢酸銫薄膜，膜厚200nm(在其他實施例中，紅外光遮蔽層241亦可以是以鎢酸銫玻璃膠形成的不連續連續鎢酸銫薄膜)。

請參閱第3圖，其中第3圖繪示依照本新型第3實施例之一種不可見光遮蔽結構300的側視示意圖。第3實施例中，不可見光遮蔽單元340包含紫外光紅外光遮蔽層343，不可見光遮蔽結構300由上而下依序為第一透明基板310、金屬層320、透明保護層330、紫外光紅外光遮蔽層343及第二透明基板350，其中金屬層320的成分為銀(在其他實施例中，金屬層320成分可為鋁、鉻、鎳、銦、鈦、錫)，透明保護層330是以物理氣相沉積方法製作的二氧化矽膜，膜厚50nm(在其他實施例中，透明保護層330可以是以物理氣相沉積方法製作的二氧化鈦或三氧化二鋁膜)，以及紫外光紅外光遮蔽層343為具有紫外光紅外光遮蔽功能之PVB膠膜。

請參閱第4圖，其中第4圖繪示依照本新型第4實 施例之一種不可見光遮蔽結構400的側視示意圖。第4實施例中，不可見光遮蔽單元440包含紫外光紅外光遮蔽層443，不可見光遮蔽結構400由上而下依序為自潔層460、第一透明基板410、金屬層420、透明保護層430、紫外光紅外光遮蔽層443及第二透明基板450，其中自潔層460是以物理氣相沉積方法製成之連續含氟薄膜，膜厚500nm(在其他實施例中，自潔層460亦可以是以氟玻璃膠形成的不連續含氟薄膜)，金屬層420的成分為銀(在其他實施例中，金屬層420成分可為鋁、鉻、鎳、銦、鈦、錫)，透明保護層430是以物理氣相沉積方法製作的二氧化矽膜，膜厚50nm(在其他實施例中，透明保護層430可以是以物理氣相沉積方法製作的二氧化鈦或三氧化二鋁膜)，以及紫外光紅外光遮蔽層443為具有紫外光紅外光遮蔽功能之PVB膠膜。

請參閱第5圖，其中第5圖繪示依照本新型第5實施例之一種不可見光遮蔽結構500的側視示意圖。第5實施例中，不可見光遮蔽單元540包含一紅外光遮蔽層541及一紫外光遮蔽層542，不可見光遮蔽結構500由上而下依序為第一透明基板510、金屬層520、透明保護層530、紫外光遮蔽層542及紅外光遮蔽層541，其中金屬層520的成分為銀(在其他實施例中，金屬層520成分可為鋁、鉻、鎳、銦、鈦、錫)，透明保護層530是以物理氣相沉積方法製作的二氧化矽膜，膜厚50nm(在其他實施例中，透明保護層530可以是以物理氣相沉積方法製作的二氧化鈦或三氧化二鋁膜)，紫外光遮蔽層542是以物理氣相沉積製作之連續氧化鋅薄膜，膜厚500nm(在其他實 施例中，紫外光遮蔽層542亦可以是以氧化鈰玻璃膠形成的不連續連續氧化鈰薄膜)，以及紅外光遮蔽層541是以物理氣相沉積方法製作的連續鎢酸銫薄膜，膜厚200nm(在其他實施例中，紅外光遮蔽層541亦可以是以鎢酸銫玻璃膠形成的不連續連續鎢酸銫薄膜)。

請參閱第6圖，其中第6圖繪示依照本新型第6實施例之一種不可見光遮蔽結構600的側視示意圖。第6實施例中，不可見光遮蔽單元640包含一紅外光遮蔽層641及一紫外光遮蔽層642，不可見光遮蔽結構600由上而下依序為自潔層660、第一透明基板610、金屬層620、透明保護層630、紫外光遮蔽層642及紅外光遮蔽層641，其中自潔層660是以物理氣相沉積方法製成之連續含氟薄膜，膜厚500nm(在其他實施例中，自潔層660亦可以是以氟玻璃膠形成的不連續含氟薄膜)，金屬層620的成分為銀(在其他實施例中，金屬層620成分可為鋁、鉻、鎳、銦、鈦、錫)，透明保護層630是以物理氣相沉積方法製作的二氧化矽膜，膜厚50nm(在其他實施例中，透明保護層630可以是以物理氣相沉積方法製作的二氧化鈦或三氧化二鋁膜)，紫外光遮蔽層642是以物理氣相沉積製作之連續氧化鋅薄膜，膜厚500nm(在其他實施例中，紫外光遮蔽層642亦可以是以氧化鈰玻璃膠形成的不連續連續氧化鈰薄膜)，以及紅外光遮蔽層641是以物理氣相沉積方法製作的連續鎢酸銫薄膜，膜厚200nm(在其他實施例中，紅外光遮蔽層641亦可以是以鎢酸銫玻璃膠形成的不連續連續鎢酸銫薄膜)。

請參閱第7圖，其中第7圖繪示依照本新型第7實 施例之一種不可見光遮蔽結構700的側視示意圖。第7實施例中，不可見光遮蔽單元740包含一紅外光遮蔽層741及一紫外光遮蔽層742，不可見光遮蔽結構700由上而下依序為自潔層760、紫外光遮蔽層742、第一透明基板710、金屬層720、透明保護層730及紅外光遮蔽層741，其中自潔層760是以物理氣相沉積方法製成之連續含氟薄膜，膜厚500nm(在其他實施例中，自潔層760亦可以是以氟玻璃膠形成的不連續含氟薄膜)，紫外光遮蔽層742是以物理氣相沉積製作之連續氧化鋅薄膜，膜厚500nm(在其他實施例中，紫外光遮蔽層742亦可以是以氧化鈰玻璃膠形成的不連續連續氧化鈰薄膜)，金屬層720的成分為銀(在其他實施例中，金屬層720成分可為鋁、鉻、鎳、銦、鈦、錫)，透明保護層730是以物理氣相沉積方法製作的二氧化矽膜，膜厚50nm(在其他實施例中，透明保護層730可以是以物理氣相沉積方法製作的二氧化鈦或三氧化二鋁膜)，以及紅外光遮蔽層741是以物理氣相沉積方法製作的連續鎢酸銫薄膜，膜厚200nm(在其他實施例中，紅外光遮蔽層741亦可以是以鎢酸銫玻璃膠形成的不連續連續鎢酸銫薄膜)。

請參閱第8圖，其中第8圖繪示依照本新型第8實施例之一種不可見光遮蔽結構800的側視示意圖。第8實施例中，不可見光遮蔽單元840包含一紅外光遮蔽層841及一紫外光遮蔽層842，不可見光遮蔽結構800由上而下依序為第一透明基板810、金屬層820、透明保護層830、紅外光遮蔽層841及紫外光遮蔽層842，其中金屬層820的成分為銀(在其他實施例中，金屬層820成分可為鋁、鉻、鎳、銦、鈦、錫)，透明保 護層830是以物理氣相沉積方法製作的二氧化矽膜，膜厚50nm(在其他實施例中，透明保護層830可以是以物理氣相沉積方法製作的二氧化鈦或三氧化二鋁膜)，紅外光遮蔽層841是以物理氣相沉積方法製作的連續鎢酸銫薄膜，膜厚200nm(在其他實施例中，紅外光遮蔽層841亦可以是以鎢酸銫玻璃膠形成的不連續連續鎢酸銫薄膜)，以及紫外光遮蔽層842是以物理氣相沉積製作之連續氧化鋅薄膜，膜厚500nm(在其他實施例中，紫外光遮蔽層842亦可以是以氧化鈰玻璃膠形成的不連續連續氧化鈰薄膜)。

請參閱第9圖，其中第9圖繪示依照本新型第9實施例之一種不可見光遮蔽結構900的側視示意圖。第9實施例中，不可見光遮蔽單元940包含一紅外光遮蔽層941及一紫外光遮蔽層942，不可見光遮蔽結構900由上而下依序為自潔層960、第一透明基板910、金屬層920、透明保護層930、紅外光遮蔽層941及紫外光遮蔽層942，其中自潔層960是以物理氣相沉積方法製成之連續含氟薄膜，膜厚500nm(在其他實施例中，自潔層960亦可以是以氟玻璃膠形成的不連續含氟薄膜)，金屬層920的成分為銀(在其他實施例中，金屬層920成分可為鋁、鉻、鎳、銦、鈦、錫)，透明保護層930是以物理氣相沉積方法製作的二氧化矽膜，膜厚50nm(在其他實施例中，透明保護層930可以是以物理氣相沉積方法製作的二氧化鈦或三氧化二鋁膜)，紅外光遮蔽層941是以物理氣相沉積方法製作的連續鎢酸銫薄膜，膜厚200nm(在其他實施例中，紅外光遮蔽層941亦可以是以鎢酸銫玻璃膠形成的不連續連續鎢酸銫薄 膜)，以及紫外光遮蔽層942是以物理氣相沉積製作之連續氧化鋅薄膜，膜厚500nm(在其他實施例中，紫外光遮蔽層642亦可以是以氧化鈰玻璃膠形成的不連續連續氧化鈰薄膜)。

請參閱第10圖，其中第10圖繪示依照本新型第10實施例之一種不可見光遮蔽結構1000的側視示意圖。第10實施例中，不可見光遮蔽單元1040包含一紅外光遮蔽層1041及一紫外光遮蔽層1042，不可見光遮蔽結構1000由上而下依序為第一透明基板1010、紫外光遮蔽層1042、第二透明基板1050、金屬層1020、透明保護層1030及紅外光遮蔽層1041，其中紫外光遮蔽層1042為具有紫外光遮蔽功能之PVB膠膜，金屬層1020的成分為銀(在其他實施例中，金屬層1020成分可為鋁、鉻、鎳、銦、鈦、錫)，透明保護層1030是以物理氣相沉積方法製作的二氧化矽膜，膜厚50nm(在其他實施例中，透明保護層1030可以是以物理氣相沉積方法製作的二氧化鈦或三氧化二鋁膜)，以及紅外光遮蔽層1041是以物理氣相沉積方法製作的連續鎢酸銫薄膜，膜厚200nm(在其他實施例中，紅外光遮蔽層1041亦可以是以鎢酸銫玻璃膠形成的不連續連續鎢酸銫薄膜)。

請參閱第11圖，其中第11圖繪示依照本新型第11實施例之一種不可見光遮蔽結構1100的側視示意圖。第11實施例中，不可見光遮蔽單元1140包含一紅外光遮蔽層1141及一紫外光遮蔽層1142，不可見光遮蔽結構1100由上而下依序為自潔層1160、第一透明基板1110、紫外光遮蔽層1142、第二透明基板1150、金屬層1120、透明保護層1130及紅外光遮 蔽層1141，其中自潔層1160是以物理氣相沉積方法製成之連續含氟薄膜，膜厚500nm(在其他實施例中，自潔層1160亦可以是以氟玻璃膠形成的不連續含氟薄膜)，紫外光遮蔽層1142為具有紫外光遮蔽功能之PVB膠膜，金屬層1120的成分為銀(在其他實施例中，金屬層1120成分可為鋁、鉻、鎳、銦、鈦、錫)，透明保護層1130是以物理氣相沉積方法製作的二氧化矽膜，膜厚50nm(在其他實施例中，透明保護層1130可以是以物理氣相沉積方法製作的二氧化鈦或三氧化二鋁膜)，以及紅外光遮蔽層1141是以物理氣相沉積方法製作的連續鎢酸銫薄膜，膜厚200nm(在其他實施例中，紅外光遮蔽層1141亦可以是以鎢酸銫玻璃膠形成的不連續連續鎢酸銫薄膜)。

請參閱第12圖，其中第12圖繪示依照本新型第12實施例之一種不可見光遮蔽結構1200的側視示意圖。第12實施例中，不可見光遮蔽單元1240包含一紅外光遮蔽層1241及一紫外光遮蔽層1242，不可見光遮蔽結構1200由上而下依序為第一透明基板1210、金屬層1220、透明保護層1230、紫外光遮蔽層1242、第二透明基板1250以及紅外光遮蔽層1241，其中紫外光遮蔽層1242為具有紫外光遮蔽功能之PVB膠膜，金屬層1220的成分為銀(在其他實施例中，金屬層1220成分可為鋁、鉻、鎳、銦、鈦、錫)，透明保護層1230是以物理氣相沉積方法製作的二氧化矽膜，膜厚50nm(在其他實施例中，透明保護層1230可以是以物理氣相沉積方法製作的二氧化鈦或三氧化二鋁膜)，以及紅外光遮蔽層1241是以物理氣相沉積方法製作的連續鎢酸銫薄膜，膜厚200nm(在其他實施例中， 紅外光遮蔽層1241亦可以是以鎢酸銫玻璃膠形成的不連續連續鎢酸銫薄膜)。

請參閱第13圖，其中第13圖繪示依照本新型第13實施例之一種不可見光遮蔽結構1300的側視示意圖。第13實施例中，不可見光遮蔽單元1340包含一紅外光遮蔽層1341及一紫外光遮蔽層1342，不可見光遮蔽結構1300由上而下依序為自潔層1360、第一透明基板1310、金屬層1320、透明保護層1330、紫外光遮蔽層1342、第二透明基板1350以及紅外光遮蔽層1341，其中自潔層1360是以物理氣相沉積方法製成之連續含氟薄膜，膜厚500nm(在其他實施例中，自潔層1360亦可以是以氟玻璃膠形成的不連續含氟薄膜)，紫外光遮蔽層1342為具有紫外光遮蔽功能之PVB膠膜，金屬層1320的成分為銀(在其他實施例中，金屬層1320成分可為鋁、鉻、鎳、銦、鈦、錫)，透明保護層1330是以物理氣相沉積方法製作的二氧化矽膜，膜厚50nm(在其他實施例中，透明保護層1330可以是以物理氣相沉積方法製作的二氧化鈦或三氧化二鋁膜)，以及紅外光遮蔽層1341是以物理氣相沉積方法製作的連續鎢酸銫薄膜，膜厚200nm(在其他實施例中，紅外光遮蔽層1341亦可以是以鎢酸銫玻璃膠形成的不連續連續鎢酸銫薄膜)。

請參閱第14圖，其中第14圖繪示依照本新型第14實施例之一種不可見光遮蔽結構1400的側視示意圖。第14實施例中，不可見光遮蔽單元1440包含一紅外光遮蔽層1441及一紫外光遮蔽層1442，不可見光遮蔽結構1400由上而下依序為第一透明基板1410、金屬層1420、透明保護層1430、紅外 光遮蔽層1441、紫外光遮蔽層1442及第二透明基板1450，其中紫外光遮蔽層1442為具有紫外光遮蔽功能之PVB膠膜，金屬層1420的成分為銀(在其他實施例中，金屬層1420成分可為鋁、鉻、鎳、銦、鈦、錫)，透明保護層1430是以物理氣相沉積方法製作的二氧化矽膜，膜厚50nm(在其他實施例中，透明保護層1430可以是以物理氣相沉積方法製作的二氧化鈦或三氧化二鋁膜)，以及紅外光遮蔽層1441是以物理氣相沉積方法製作的連續鎢酸銫薄膜，膜厚200nm(在其他實施例中，紅外光遮蔽層1441亦可以是以鎢酸銫玻璃膠形成的不連續連續鎢酸銫薄膜)。

請參閱第15圖，其中第15圖繪示依照本新型第15實施例之一種不可見光遮蔽結構1500的側視示意圖。第15實施例中，不可見光遮蔽單元1540包含一紅外光遮蔽層1541及一紫外光遮蔽層1542，不可見光遮蔽結構1500由上而下依序為自潔層1560、第一透明基板1510、金屬層1520、透明保護層1530、紅外光遮蔽層1541、紫外光遮蔽層1542及第二透明基板1550，其中自潔層1560是以物理氣相沉積方法製成之連續含氟薄膜，膜厚500nm(在其他實施例中，自潔層1460亦可以是以氟玻璃膠形成的不連續含氟薄膜)，紫外光遮蔽層1542為具有紫外光遮蔽功能之PVB膠膜，金屬層1520的成分為銀(在其他實施例中，金屬層1520成分可為鋁、鉻、鎳、銦、鈦、錫)，透明保護層1530是以物理氣相沉積方法製作的二氧化矽膜，膜厚50nm(在其他實施例中，透明保護層1530可以是以物理氣相沉積方法製作的二氧化鈦或三氧化二鋁膜)，以及紅 外光遮蔽層1541是以物理氣相沉積方法製作的連續鎢酸銫薄膜，膜厚200nm(在其他實施例中，紅外光遮蔽層1541亦可以是以鎢酸銫玻璃膠形成的不連續連續鎢酸銫薄膜)。

<比較例>

第1比較例由上而下包含第一透明基板、紅外光遮蔽層及透明保護層，其中紅外光遮蔽層為成分為銀，透明保護層是以物理氣相沉積方法製作的二氧化矽膜，膜厚50nm。

第2比較例由上而下包含第一透明基板、紫外光遮蔽層、第二透明基板、紅外光遮蔽及透明保護層，其中紫外光遮蔽層為具有紫外光遮蔽功能之PVB膠膜，紅外光遮蔽層為銀，透明保護層是以物理氣相沉積方法製作的二氧化矽膜，膜厚50nm。

第3比較例由上而下包含第一透明基板、紅外光遮蔽、透明保護層、紫外光遮蔽層及第二透明基板、，其中紫外光遮蔽層為具有紫外光遮蔽功能之PVB膠膜，紅外光遮蔽層為銀，透明保護層為是以物理氣相沉積方法製作的二氧化矽膜，膜厚50nm。

下表一為第1比較例至第3比較例，及以第1實施例至第15實施例之紫外光阻隔率、紅外光阻隔率及水滴角的量測結果，其中紫外光阻隔率及紅外光阻隔率測量機台為美國EDTM型號WP4500，紫外線測試波長為365nm，紅外線測試波長為950nm，水滴角測量機台為GBX，PX610，France)。

由表一之結構可知，本案之實施例一至十五在紫外光阻隔率、紅外光阻隔率上都有較佳的表現，故可以證明本新型之不可見光遮蔽結構在紅外光及紫外光的遮蔽上有良好的效果。而不可見光遮蔽結構包含自潔層，則其水滴角大，不 易受到水氣污染，而能保持清潔。

雖然本新型已以實施例揭露如上，然其並非用以限定本新型，任何熟習此技藝者，在不脫離本新型之精神和範圍內，當可作各種之更動與潤飾，因此本新型之保護範圍當視後附之申請專利範圍所界定者為準。

Claims (15)

1. 一種不可見光遮蔽結構，包含：一第一透明基板；一金屬層，設置在該第一透明基板的一側；一透明保護層，設置在該金屬層遠離該第一透明基板的一側；以及一不可見光遮蔽單元，設置在該透明保護層遠離該第一透明基板的一側，且該不可見光遮蔽單元具有多數個鎢酸銫(Cs₂O₄W)。
2. 如申請專利範圍第1項所述之不可見光遮蔽結構，其中該不可見光遮蔽單元包含一紅外光遮蔽層，該紅外光遮蔽層包含：一鎢酸銫膜，包含該些鎢酸銫。
3. 如申請專利範圍第1項所述之不可見光遮蔽結構，其中該不可見光遮蔽單元包含一紅外光遮蔽層，該紅外光遮蔽層包含：一鎢酸銫玻璃膠，包含：一高分子玻璃膠體，具有含矽烷樹脂基、含亞克力樹脂、含聚氨脂樹脂以及含環氧樹脂；及複數奈米粒子，均勻分散於該高分子玻璃膠體；其中該些奈米粒子具有該些鎢酸銫。
4. 如申請專利範圍第1項所述之不可見光遮蔽 結構，更包含：一自潔層，設置在該第一透明基板遠離該金屬層的一側，且該自潔層具有多數個氟。
5. 一種不可見光遮蔽結構，包含：一第一透明基板；一金屬層，設置在該第一透明基板的一側；一透明保護層，設置在該金屬層遠離該第一透明基板的一側；一不可見光遮蔽單元，設置在該透明保護層遠離該第一透明基板的一側，該不可見光遮蔽單元包含：一紫外光紅外光遮蔽層，包含：一聚乙烯醇縮丁醛樹脂；一有機紫外光阻隔成分，分散於該聚乙烯醇縮丁醛樹脂中；及複數奈米粒子，分散於該聚乙烯醇縮丁醛樹脂，且該些奈米粒子具有複數鎢酸銫；以及一第二透明基板，設置在該紫外光紅外光遮蔽層遠離該透明保護層的一側。
6. 如申請專利範圍第5項所述之不可見光遮蔽結構，更包含：一自潔層，設置在該第一透明基板遠離該金屬層的一側，且該自潔層具有多數個氟。
7. 一種不可見光遮蔽結構，包含：一第一透明基板；一金屬層，設置在該第一透明基板的一側；一透明保護層，設置在該金屬層遠離該第一透明基板的一側；以及一不可見光遮蔽單元，包含：一紅外光遮蔽層，設置在該透明保護層遠離該第一透明基板的一側，且該紅外光遮蔽層具有多數個鎢酸銫；及一紫外光遮蔽層，設置在該透明保護層與該紅外光遮蔽層之間、該第一透明基板遠離該金屬層的一側、或該紅外光遮蔽層遠離該透明保護層的一側。
8. 如申請專利範圍第7項所述之不可見光遮蔽結構，更包含：一自潔層，設置在該第一透明基板遠離該金屬層的一側，且該自潔層具有多數個氟。
9. 如申請專利範圍第7項所述之不可見光遮蔽結構，其中該紫外光遮蔽層具有多數個氧化鈰或多數個氧化鋅。
10. 一種不可見光遮蔽結構，包含：一第一透明基板；一金屬層，設置在該第一透明基板的一側； 一透明保護層，設置在該金屬層遠離該第一透明基板的一側；一不可見光遮蔽單元，包含：一紅外光遮蔽層，設置在該透明保護層遠離該第一透明基板的一側，且該紅外光遮蔽層具有多數個鎢酸銫；及一紫外光遮蔽層，設置在該透明保護層與該紅外光遮蔽層之間、該金屬層與該第一透明基板之間、或該紅外光遮蔽層遠離該透明保護層的一側；以及一第二透明基板，設置在該第一透明基板與該金屬層之間、該透明保護層與該紅外光遮蔽層之間、或該紅外光遮蔽層遠離該透明保護層的一側。
11. 如申請專利範圍第10項所述之不可見光遮蔽結構，其中該紫外光遮蔽層設置在該金屬層與該第一透明基板之間，該第二透明基板設置在該紫外光遮蔽層與該金屬層之間。
12. 如申請專利範圍第10項所述之不可見光遮蔽結構，其中該紫外光遮蔽層設置在該透明保護層與該紅外光遮蔽層之間，該第二透明基板設置在該紫外光遮蔽層與該紅外光遮蔽層之間。
13. 如申請專利範圍第10項所述之不可見光遮蔽結構，其中該紫外光遮蔽層設置在該紅外光遮蔽層遠離該 透明保護層的一側，該第二透明基板設置在該紫外光遮蔽層遠離該透明保護層的一側。
14. 如申請專利範圍第11項、第12項或第13項所述之不可見光遮蔽結構，更包含：一自潔層，設置在該第一透明基板遠離該金屬層的一側，且該自潔層具有多數個氟。
15. 如申請專利範圍第10項所述之不可見光遮蔽結構，其中該紫外光遮蔽層包含：一聚乙烯醇縮丁醛樹脂；一有機紫外光阻隔劑，分散於該聚乙烯醇縮丁醛樹脂中。