JP3216427B2 - シャドウマスクの製造方法 - Google Patents

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は、カラー受像管に用いら
れるシャドウマスクの製造方法に係わり、特に、シャド
ウマスクの基板となる金属材料の前処理工程に関する。

【０００２】

【従来の技術】カラー受像管に用いられるシャドウマス
クの製造方法における前処理工程の一例を図２の工程フ
ロー図を用い簡単に説明する。まず、シャドウマスクの
基板となる金属材料をアルカリ脱脂液に、例えば、浸漬
することにより、金属材料の表面に付着している油分や
有機系のゴミ等を除去する脱脂処理を行う。次いで、前
処理工程後のレジスト塗布の際に、金属材料の表面にレ
ジストを付き易くするために、金属材料を酸処理液に、
例えば、浸漬することにより金属材料の表面の整面処理
を行う。次いで、フィルターを通すことによりゴミを除
去した井戸水（以下、井水とする）を用い水洗洗浄を行
う。次いで、純水を用いさらに水洗洗浄を行う。

【０００３】上記の処理工程を前処理工程と呼称し、以
後、前処理工程の終わった金属材料を用い公知の製造方
法によりレジスト塗布、パターン露光、現像、硬膜処
理、エッチング等のフォトエッチング法を行いカラー受
像管に用いられるシャドウマスクを製造する。

【０００４】上記に示したように、従来、金属材料の前
処理工程では、水洗洗浄において井水を用いて水洗洗浄
後、純水を用い最終水洗洗浄を行う方法が一般的に行わ
れている。これは、水洗洗浄に用いる水の量が多いた
め、製造コストのかかる高価な純水の使用を最終水洗洗
浄にとどめ、もっぱら安価な井水を使用することにより
生産コストを下げる目的によるものである。

【０００５】しかし、シャドウマスクの基板となる金属
材料の前処理工程での水洗洗浄において使用する井水
は、フィルターを通してゴミを除去しているだけなの
で、井水中に塩素が残留していることがある。そのた
め、金属材料として鉄を主成分とする金属材料アルミキ
ルド材（以下、ＡＫ材という）を使用した場合、水洗洗
浄において使用する井水中の残留塩素濃度が増加する
と、井水中の塩素イオンとＡＫ材の主成分の鉄が反応を
起こし、ＡＫ材表面に塩素イオンが残留してしまうこと
がある。

【０００６】この様にして、ＡＫ材表面に残留した塩素
イオンは、前処理工程での最終水洗である純水洗浄でも
除去できずＡＫ材表面に塩素イオンが残留してしまう。
そのため、前処理工程の次工程であるレジスト塗布工程
において、塩素イオンが残留した部分においてレジスト
の密着不良が生じることにより、エッチング工程におい
て、例えば、図３中のＡおよびＢに示すような形状不良
を生じる。

【０００７】ここで、図３中のＡはレジスト密着不良に
より生じたパターンの孔が小さくなる不良を示し、図３
中のＢはレジスト密着不良により生じたパターンの形状
不良を示す。

【０００８】

【発明が解決しようとする課題】本発明の目的は、カラ
ー受像管に用いられるシャドウマスクの製造方法に係わ
り、特に、シャドウマスクの製造方法における前処理工
程において上記したような問題点を有しないシャドウマ
スクの製造方法を提供することにある。

【０００９】すなわち、本発明は、カラー受像管に用い
られるシャドウマスクの製造方法において、基板用金属
材料、特にＡＫ材の前処理工程において、前処理工程に
おける水洗洗浄の際、井水中の塩素イオン濃度を測定
し、井水中の塩素イオン濃度が２０ｍｇ／ｌ未満の場
合、該井水にて水洗洗浄を行った後に純水にて洗浄を行
い、井水中の残留塩素濃度が２０ｍｇ／ｌ以上の場合、
純水のみにて水洗洗浄を行うことを特徴とするシャドウ
マスクの製造方法を提供することにより上記の課題を解
決しようとするものである。

【００１０】本発明の一例を、図１の工程フロー図を用
い説明を行う。まず、従来工程により金属材料の脱脂、
整面処理を行う。次いで、本発明にあっては図１に示す
ように、水洗洗浄に先立ち水洗洗浄に用いる井水中の塩
素濃度の測定を行う。

【００１１】次いで、測定した井水中の塩素濃度が２０
ｍｇ／ｌ未満の場合、従来と同様に井水洗浄、純水洗浄
の順に洗浄を行う。また、測定した井水中の塩素濃度が
２０ｍｇ／ｌ以上の場合、水洗洗浄に井水を用いずに純
水のみで水洗洗浄を行う。

【００１２】次いで、公知の製造方法によりレジスト塗
布、パターン露光、現像、硬膜処理、エッチング等のフ
ォトエッチング法を行いカラー受像管に用いられるシャ
ドウマスクを製造する。

【００１３】ここで、本発明の条件である、前処理工程
における水洗洗浄に用いる井水中の塩素濃度２０ｍｇ／
ｌ未満の条件は、実際に井水中の塩素濃度を変えて井水
洗浄および純水洗浄を行い、レジスト塗布不良およびエ
ッチング不良の発生しない条件として、以下に示す実施
例から経験的に得た。

【００１４】

【作用】上記の条件を守ることにより、前処理工程にお
ける水洗洗浄において、金属材料の表面、特に、ＡＫ材
の表面に塩素イオンが残留することがなくなることによ
り、前処理工程の次工程であるレジスト塗布工程におけ
るレジストの密着不良を原因とする、エッチング工程に
おける形状不良が防げる。

【００１５】

【実施例】本発明の一実施例を、以下に示す。 ＜実施例＞シャドウマスク用金属材料としてＡＫ材を用
い、公知の方法にて、図２の工程に従い、金属材料の脱
脂処理および整面処理を行った。次いで、井水を用い水
洗洗浄後、純水を用い水洗洗浄を行った。次いで、上記
の前処理工程の終わったＡＫ材を用い公知の製造方法に
よりレジスト塗布、パターン露光、現像、硬膜処理、エ
ッチング等のフォトエッチング法を行いカラー受像管に
用いられるシャドウマスクを製造した。

【００１６】その後、製造されたシャドウマスクにおい
て、ＡＫ材表面に残留した塩素イオンに起因する欠陥を
調べたところ、１０枚中５枚の割合でＡＫ材表面に残留
した塩素イオンに起因するエッチング形状不良が認めら
れた。

【００１７】その時の、水洗洗浄に用いた井水の塩素濃
度を、笠原理化工業（株）製商品名「全天候型塩素計Ｃ
Ｌ−１Ｆ」を用い測定したところ残留塩素３０ｍｇ／ｌ
という結果を得た。

【００１８】次いで、本発明の製造工程に従い、前処理
工程における水洗洗浄を純水のみで行い、他は上記と同
様の工程および条件にてシャドウマスクの製造を行い、
その後、製造されたシャドウマスクにおいて、ＡＫ材表
面に残留した塩素イオンに起因する欠陥を調べたとこ
ろ、ＡＫ材表面に残留した塩素イオンに起因するエッチ
ング形状不良は認められなかった。

【００１９】その時の、水洗洗浄に用いた純水の塩素濃
度を、笠原理化工業（株）製商品名「全天候型塩素計Ｃ
Ｌ−１Ｆ」を用い測定したところ残留塩素０ｍｇ／ｌと
いう結果を得た。

【００２０】

【発明の効果】本発明によるシャドウマスクの製造方法
における前処理工程においては、水洗洗浄に使用する井
水中の塩素濃度を２０ｍｇ／ｌ未満に管理することによ
り金属材料表面、特にＡＫ材表面に残留した塩素イオン
に起因する、レジスト塗布不良およびエッチング形状不
良を防止できる。また、前処理工程における水洗洗浄に
使用する井水中の塩素濃度を管理することにより、井水
中の塩素濃度が２０ｍｇ／ｌ未満であれば水洗洗浄工程
の大部分を安価な井水で使用し、製造コストのかかる高
価な純水の使用を最小限にとどめることにより生産コス
トの低減が図れるなど本発明は実用上優れた効果が得ら
れる。

【００２１】

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明によるシャドウマスクの製造方法の一例
を示す工程フロー図。

【図２】従来のシャドウマスクの製造方法の一例を示す
工程フロー図。

【図３】残留塩素によるシャドウマクスのパターン形状
不良の一例を示す説明図。

【符号の説明】

１ シャドウマスク ２ 正常なパターン孔 Ａ 孔が小さい不良 Ｂ パターンの形状不良

Claims (1)

(57)【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】カラー受像管に用いられるシャドウマスク
   の製造方法において、鉄を主成分とするシャドウマスク
   用金属材料の前処理工程における水洗洗浄の際、井水中
   の塩素イオン濃度を測定し、井水中の塩素イオン濃度が
   ２０ｍｇ／ｌ未満の場合、該井水にて水洗洗浄を行った
   後に純水にて洗浄を行い、井水中の残留塩素濃度が２０
   ｍｇ／ｌ以上の場合、純水のみにて水洗洗浄を行うこと
   を特徴とするシャドウマスクの製造方法。