JPS60106977A - シヤドウマスクの製造方法 - Google Patents
シヤドウマスクの製造方法Info
- Publication number
- JPS60106977A JPS60106977A JP21249783A JP21249783A JPS60106977A JP S60106977 A JPS60106977 A JP S60106977A JP 21249783 A JP21249783 A JP 21249783A JP 21249783 A JP21249783 A JP 21249783A JP S60106977 A JPS60106977 A JP S60106977A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- photosensitive film
- mask
- fed
- tank
- photoresist film
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
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- Photosensitive Polymer And Photoresist Processing (AREA)
- ing And Chemical Polishing (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔発明の技術分野〕
本発明はカラー受像管用シャドウマスクの製造方法に係
り、特にエツチング前の工程に関するものである。
り、特にエツチング前の工程に関するものである。
カラー受１’１ＪＹＩに用いられるシャドウマスクは規
則的に配列された多数の透孔が穿設されており、色選別
機能を果たす重要な部拐の一つである。このようなシャ
ドウマスク材として使用される金属薄板は、リムド低炭
素鋼板或はアルきキルド低炭素鋼板が一般的である。之
等の素材は０．１０１１１１乃至０．３０５ｍの所定の
厚さに圧延され、冷間圧延後の最終工程で防錆のために
約４００ｍｇ／ｍ’乃至８００ｍｇ／ｍ”の防錆油が金
属板表面に塗布され長尺のものがコイル状に巻回される
。この状態から通常のフォトエツチング法にてシャドウ
マスクを製造する工程は次のようにして実施される。
則的に配列された多数の透孔が穿設されており、色選別
機能を果たす重要な部拐の一つである。このようなシャ
ドウマスク材として使用される金属薄板は、リムド低炭
素鋼板或はアルきキルド低炭素鋼板が一般的である。之
等の素材は０．１０１１１１乃至０．３０５ｍの所定の
厚さに圧延され、冷間圧延後の最終工程で防錆のために
約４００ｍｇ／ｍ’乃至８００ｍｇ／ｍ”の防錆油が金
属板表面に塗布され長尺のものがコイル状に巻回される
。この状態から通常のフォトエツチング法にてシャドウ
マスクを製造する工程は次のようにして実施される。
まずマスク材コイルを巻き戻し機に装着し帯状の金属薄
板を引張り乍ら脱脂及び表面清浄工程に入る。一般的に
は高温アルカリ脱脂、水洗、硝酸ブリエッチ、水洗或は
トリクレン脱脂、酸沈い、アルカリ脱脂、水洗、硝酸ブ
リエッチ、水洗等の処理を行なう。この脱脂工程での処
理が不充分な場合、この後の感光膜形成時に感光材のは
じきゃ塗布むら等の不良を発生する。感光膜の塗布は、
例えば牛乳カゼイン酸アルカリと重クロム酸アンモニウ
ムカラする感光液或はポリビニールアル＝＋−ルと重ク
ロム酸アンモニウムからなる感光液に浸漬するか、流し
込むか或は吹きつけるか等の手段により金属薄板の両面
に塗布形成し乾燥して所定の厚さを有する感光膜を得る
。次いでこの感光膜に所定のマスクパターンを介して露
光し現像、乾燥及びバーニング工程を経て透孔を穿設す
べき部分の金属面のみを露出させる。この後例えば塩化
第２鉄等のエツチング液によるエツチング工程を経て目
的とする形状の透孔を穿設、水洗、乾燥して長尺の金属
薄板から所定の枠に切り離してフラットマスクが得られ
る。
板を引張り乍ら脱脂及び表面清浄工程に入る。一般的に
は高温アルカリ脱脂、水洗、硝酸ブリエッチ、水洗或は
トリクレン脱脂、酸沈い、アルカリ脱脂、水洗、硝酸ブ
リエッチ、水洗等の処理を行なう。この脱脂工程での処
理が不充分な場合、この後の感光膜形成時に感光材のは
じきゃ塗布むら等の不良を発生する。感光膜の塗布は、
例えば牛乳カゼイン酸アルカリと重クロム酸アンモニウ
ムカラする感光液或はポリビニールアル＝＋−ルと重ク
ロム酸アンモニウムからなる感光液に浸漬するか、流し
込むか或は吹きつけるか等の手段により金属薄板の両面
に塗布形成し乾燥して所定の厚さを有する感光膜を得る
。次いでこの感光膜に所定のマスクパターンを介して露
光し現像、乾燥及びバーニング工程を経て透孔を穿設す
べき部分の金属面のみを露出させる。この後例えば塩化
第２鉄等のエツチング液によるエツチング工程を経て目
的とする形状の透孔を穿設、水洗、乾燥して長尺の金属
薄板から所定の枠に切り離してフラットマスクが得られ
る。
このようなシャドウマスク製造工程のラインはマスク利
投入からエツチングまで連続的に流れる場合と、感光膜
形成、露光、現像からバーニング、エツチングと各工程
ごとに分かれて流れる場合とがある。前者の場合、例え
ば露光時にごみ等の欠陥が生じた際でもマスク材の流れ
を中断することは容易ではない。一方後者のように例え
ば多品種のシャドウマスクを製造し得るように複合ライ
ンを有する場合は、各々の工程で生成品のチェックが可
能であり、不良が発見された場合は最初の工程に戻すこ
とができるためマスク材の材料歩留りは高く有利である
。例えば感光膜の小泡、ピンホール、露光時のゴミ等に
よる欠点及び両面のマスクパターンずれ等により生ずる
不良はエツチング工程後に判別できるものが多い。この
場合バーニングが終了した生成品のエツチングを中止し
、残ったマスク材を再使用することによりマスク材損失
がまぬがれる。ここで感光膜形成及び露光工程で不良が
発見された場合、感光膜は容易に剥離除去でき最初の工
程に再度投入することができる。
投入からエツチングまで連続的に流れる場合と、感光膜
形成、露光、現像からバーニング、エツチングと各工程
ごとに分かれて流れる場合とがある。前者の場合、例え
ば露光時にごみ等の欠陥が生じた際でもマスク材の流れ
を中断することは容易ではない。一方後者のように例え
ば多品種のシャドウマスクを製造し得るように複合ライ
ンを有する場合は、各々の工程で生成品のチェックが可
能であり、不良が発見された場合は最初の工程に戻すこ
とができるためマスク材の材料歩留りは高く有利である
。例えば感光膜の小泡、ピンホール、露光時のゴミ等に
よる欠点及び両面のマスクパターンずれ等により生ずる
不良はエツチング工程後に判別できるものが多い。この
場合バーニングが終了した生成品のエツチングを中止し
、残ったマスク材を再使用することによりマスク材損失
がまぬがれる。ここで感光膜形成及び露光工程で不良が
発見された場合、感光膜は容易に剥離除去でき最初の工
程に再度投入することができる。
しかし乍ら感光膜の現像、乾燥、バーニング工程を経た
場合、感光膜と金属薄板との密着強度及び耐薬品性は飛
躍的に向上する。従ってマスク生材脱脂清浄工程のアル
カリ濃度、液温、スプレー圧等の処理条件を厳しくして
も之等の感光膜を完全に除去することは容易ではない。
場合、感光膜と金属薄板との密着強度及び耐薬品性は飛
躍的に向上する。従ってマスク生材脱脂清浄工程のアル
カリ濃度、液温、スプレー圧等の処理条件を厳しくして
も之等の感光膜を完全に除去することは容易ではない。
感光膜の除去を完全に行なうためには処理時間を長くす
るか、又は機械的な摩擦に依ればよいとも考えられる。
るか、又は機械的な摩擦に依ればよいとも考えられる。
しかし乍ら処理時間を長くするためには処理チャンバー
を長くシｔもければならず、処理時間の延長や設備コス
トの増大等の点から好ましくない。一方機械的な摩擦の
手段、例えばブラッシングによる除去はブラシの材質及
びマスク材とのこすれ強さ等の調整が微妙であり、時と
してマスク材表面に傷をつけたり部分的に残存させたり
する。或はブラシの摩耗により剥離作用が変動する等の
欠点を有している。感光膜が完全に除去されず部分的に
残存する場合は感光材の再塗布時にその部分の膜厚が大
となり露光工程で焼、付けられるマスクパターン潜像に
歪みを生じ、マスク材表面に傷を生じた場合も含めて目
的とする形状の透孔が得られないことになる。
を長くシｔもければならず、処理時間の延長や設備コス
トの増大等の点から好ましくない。一方機械的な摩擦の
手段、例えばブラッシングによる除去はブラシの材質及
びマスク材とのこすれ強さ等の調整が微妙であり、時と
してマスク材表面に傷をつけたり部分的に残存させたり
する。或はブラシの摩耗により剥離作用が変動する等の
欠点を有している。感光膜が完全に除去されず部分的に
残存する場合は感光材の再塗布時にその部分の膜厚が大
となり露光工程で焼、付けられるマスクパターン潜像に
歪みを生じ、マスク材表面に傷を生じた場合も含めて目
的とする形状の透孔が得られないことになる。
本発明は以上の点に瓜みてなされたもので、シャドウマ
スク製造工程の途中から完全に清浄な金属薄板を得るこ
とを可能とし、マスク材の材料効率を高めるシャドウマ
スク製造方法を提供することを目的とする。
スク製造工程の途中から完全に清浄な金属薄板を得るこ
とを可能とし、マスク材の材料効率を高めるシャドウマ
スク製造方法を提供することを目的とする。
本発明は金属薄板への感光膜の現像又は定着後に感光膜
を溶解膨潤し超音波浴を施こして感光膜を剥離除去する
ラインを備えることにより、比較的簡便な設備で感光膜
の再塗布に実質的に支障のない充分清浄な表面を有する
金属薄板とし材料効率を高めたシャドウマスクの製造方
法である。
を溶解膨潤し超音波浴を施こして感光膜を剥離除去する
ラインを備えることにより、比較的簡便な設備で感光膜
の再塗布に実質的に支障のない充分清浄な表面を有する
金属薄板とし材料効率を高めたシャドウマスクの製造方
法である。
以下本発明の実施例について詳細に説明する。
第１図は本発明を適用したシャドウマスクの製造工程の
一実施例を示す概略工程図である。尚、エツチング工程
までのシャドウマスクの基本的製造ラインそのものは従
来と同様であるので基本的工程についての説明は省略し
、何等かの欠陥が発生し最初の工程に戻す時点から説明
する。まず感光膜の形成されていない場合は回収材をア
ンワイ／ダ−（ａ）に装着し、その尽先に流している生
材とシーム溶接ｍ （ｂ）によりシーム溶接する。−力
感光膜の形成された回収材は溶接部に対応する感光膜な
化学的又は機械的に除去した後先に流している住利とシ
ーム溶接機（ｂ）に−よリシーム溶接する。
一実施例を示す概略工程図である。尚、エツチング工程
までのシャドウマスクの基本的製造ラインそのものは従
来と同様であるので基本的工程についての説明は省略し
、何等かの欠陥が発生し最初の工程に戻す時点から説明
する。まず感光膜の形成されていない場合は回収材をア
ンワイ／ダ−（ａ）に装着し、その尽先に流している生
材とシーム溶接ｍ （ｂ）によりシーム溶接する。−力
感光膜の形成された回収材は溶接部に対応する感光膜な
化学的又は機械的に除去した後先に流している住利とシ
ーム溶接機（ｂ）に−よリシーム溶接する。
次いで防錆油の脱脂又は感光膜の剥離を行なうが、感光
膜が存在しない生材を長時間アルカリ液で処理するとア
ルカリ焼けを生じ後工程での感光膜との密着力が低下す
ることがあり、アルカリ焼けが発生する場合には流し方
を変える必要がある。次に脱脂槽（Ｃ）により脱脂を行
なう。脱脂液は５〜ｌＯチ濃度のアルカリ液、例えば重
合りん酸塩、オルノリン酸塩、炭酸塩、珪酸塩及び界面
活性剤とからなるもの、或は水酸化ナトリウム又は水酸
化カリウムを高温にして２〜３ ｋｇ／ｃｄｔの液圧に
てスプレー処理する。その後感光膜の溶解及び膨潤剥離
を目的とする処理ｊ！！（ｄ）に入る。ここでは１０〜
２０％ａ度のアルカリ液、例えば水酸化ナトリウムと有
機キレート剤からなるもの、水酸化ナトリウム又は水酸
化カリウムを高温にして２〜３ ｋｇ／ｃｆの液圧にて
スプレー処理する。有機キレート剤としてはエチレンジ
アミン四酢酸、グルコン酸又はニトリロ三酢酸が適して
いる。次いで処理浴（ｅ）に入り、ここでは処理４ｍ
（ｄ）と同じような組成を有するアルカリ液が５０〜７
０”０に保たれ、この浴中にマスク材を浸漬し且つ超音
波浴を行なう。ここでは処理長をとるために多段のロー
ラを介してマスク材をつづら折り状に流してもよい。超
音波発射電極は処理浴中に直接浸漬した型、又は浸漬浴
の下部に取付けられた型のものがあるが、何れも１０に
〜３９ Ｋ１１ｚの周波数にて間欠又は連続に超音波を
かける。即ち前段の処理によって膨潤し残存しているマ
スク材表面の感光膜を超音波の機械的衝撃力によって完
全に除去することができる。この後水洗槽（ｆ）に入り
スプレー水によりマスク材表面のアルカリ分を洗い流し
た後プリエッチ槽（ｇ）に入る。このプリエッチはマス
ク材表面をわずかに化学的に粗くし感光膜の密着性を良
くするために行なうもので、約０．２〜１．０９！ｔの
希硝酸をスプレーすることにより行なう。このプリエッ
チはマスク材がリムド鋼の場合特に問題はないが、アル
ミキルド鋼の場合は表面層にあるアルミと硝酸とが反応
し錆のような汚れが表面に形成され易いため避けた方が
よい。その後再び水洗４１１ （ｈ）に入りマスク材表
面のプリエッチ液をスプレー水により洗い流し清浄なマ
スク材表面を得た後、濡れたままの状態で次の感光膜塗
布工程（ｉ）へ流れる。生材を上記全工程通すことによ
ってアルカリ焼けが発生した場合、第２図に示すように
脱脂処理を目的とする脱脂槽（Ｃ）を通した後処理槽（
ｄ）の感光膜溶解膨潤及び超音波の処理浴（ｅ）を行な
わず直接水洗槽（ｆ）に行くとよい。この場合処理槽（
ｄ）はアルカリ液のスプレーを停止し、処理浴（ｅ）は
マスク月を浸漬浴に導く四−ラなエアーシリンダ等によ
り上方に移動させて浴を通さずに流すことができる。
膜が存在しない生材を長時間アルカリ液で処理するとア
ルカリ焼けを生じ後工程での感光膜との密着力が低下す
ることがあり、アルカリ焼けが発生する場合には流し方
を変える必要がある。次に脱脂槽（Ｃ）により脱脂を行
なう。脱脂液は５〜ｌＯチ濃度のアルカリ液、例えば重
合りん酸塩、オルノリン酸塩、炭酸塩、珪酸塩及び界面
活性剤とからなるもの、或は水酸化ナトリウム又は水酸
化カリウムを高温にして２〜３ ｋｇ／ｃｄｔの液圧に
てスプレー処理する。その後感光膜の溶解及び膨潤剥離
を目的とする処理ｊ！！（ｄ）に入る。ここでは１０〜
２０％ａ度のアルカリ液、例えば水酸化ナトリウムと有
機キレート剤からなるもの、水酸化ナトリウム又は水酸
化カリウムを高温にして２〜３ ｋｇ／ｃｆの液圧にて
スプレー処理する。有機キレート剤としてはエチレンジ
アミン四酢酸、グルコン酸又はニトリロ三酢酸が適して
いる。次いで処理浴（ｅ）に入り、ここでは処理４ｍ
（ｄ）と同じような組成を有するアルカリ液が５０〜７
０”０に保たれ、この浴中にマスク材を浸漬し且つ超音
波浴を行なう。ここでは処理長をとるために多段のロー
ラを介してマスク材をつづら折り状に流してもよい。超
音波発射電極は処理浴中に直接浸漬した型、又は浸漬浴
の下部に取付けられた型のものがあるが、何れも１０に
〜３９ Ｋ１１ｚの周波数にて間欠又は連続に超音波を
かける。即ち前段の処理によって膨潤し残存しているマ
スク材表面の感光膜を超音波の機械的衝撃力によって完
全に除去することができる。この後水洗槽（ｆ）に入り
スプレー水によりマスク材表面のアルカリ分を洗い流し
た後プリエッチ槽（ｇ）に入る。このプリエッチはマス
ク材表面をわずかに化学的に粗くし感光膜の密着性を良
くするために行なうもので、約０．２〜１．０９！ｔの
希硝酸をスプレーすることにより行なう。このプリエッ
チはマスク材がリムド鋼の場合特に問題はないが、アル
ミキルド鋼の場合は表面層にあるアルミと硝酸とが反応
し錆のような汚れが表面に形成され易いため避けた方が
よい。その後再び水洗４１１ （ｈ）に入りマスク材表
面のプリエッチ液をスプレー水により洗い流し清浄なマ
スク材表面を得た後、濡れたままの状態で次の感光膜塗
布工程（ｉ）へ流れる。生材を上記全工程通すことによ
ってアルカリ焼けが発生した場合、第２図に示すように
脱脂処理を目的とする脱脂槽（Ｃ）を通した後処理槽（
ｄ）の感光膜溶解膨潤及び超音波の処理浴（ｅ）を行な
わず直接水洗槽（ｆ）に行くとよい。この場合処理槽（
ｄ）はアルカリ液のスプレーを停止し、処理浴（ｅ）は
マスク月を浸漬浴に導く四−ラなエアーシリンダ等によ
り上方に移動させて浴を通さずに流すことができる。
以上のようなラインを有する工程を経ることによって、
現像定着後の感光膜を有する回収材の感光膜は実質的に
支障のない程度に充分剥離除去され清浄な面が得られ、
再び感光膜塗布形成工程へ流れ目的とする厚さの感光膜
を形成することができる。また現像定着前の生のマスク
材も上記ラインに兼用して流すことができ、結局エツチ
ング前の回収再投入は全て上記ラインを利用することが
できる。
現像定着後の感光膜を有する回収材の感光膜は実質的に
支障のない程度に充分剥離除去され清浄な面が得られ、
再び感光膜塗布形成工程へ流れ目的とする厚さの感光膜
を形成することができる。また現像定着前の生のマスク
材も上記ラインに兼用して流すことができ、結局エツチ
ング前の回収再投入は全て上記ラインを利用することが
できる。
以上のように本発明によれば、エツチング前の工程途中
での何等かの不良により良品としてのシャドウマスクが
得られなかった場合でも、何度でも再使用が可能であり
マスク材の使用効率を高めることができる。
での何等かの不良により良品としてのシャドウマスクが
得られなかった場合でも、何度でも再使用が可能であり
マスク材の使用効率を高めることができる。
第１図及び第２図は本発明の與造方法の一実施例を説明
するための概略工程図である。
するための概略工程図である。
Claims (1)
- シャドウマスク原材となる長尺金属薄板を脱脂し、感光
膜を塗布形成し、１スクパターンを介して前記感光膜を
露光現像定着し、エツチングにより多数のみ孔を穿設す
るラインを備えたシャドウマスクの製造方法において、
前記感光膜の現像又は定着後に前記感光膜を溶解膨潤し
超音汲浴を施こして前記感光膜を剥離除去するラインを
少なくとも備えたことを特徴とするシャドウマスクの製
造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP21249783A JPS60106977A (ja) | 1983-11-14 | 1983-11-14 | シヤドウマスクの製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP21249783A JPS60106977A (ja) | 1983-11-14 | 1983-11-14 | シヤドウマスクの製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS60106977A true JPS60106977A (ja) | 1985-06-12 |
Family
ID=16623636
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP21249783A Pending JPS60106977A (ja) | 1983-11-14 | 1983-11-14 | シヤドウマスクの製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS60106977A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2021010370A1 (ja) * | 2019-07-12 | 2021-01-21 | 株式会社ニコン | 基板処理方法、パターン形成方法、及び基板処理システム |
-
1983
- 1983-11-14 JP JP21249783A patent/JPS60106977A/ja active Pending
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2021010370A1 (ja) * | 2019-07-12 | 2021-01-21 | 株式会社ニコン | 基板処理方法、パターン形成方法、及び基板処理システム |
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