JP3211037B2 - 多機能性潤滑剤用添加剤 - Google Patents

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は、モノ−又はジチオ燐酸
のＳ−（２−ヒドロキシ−３−Ｓ−アルキル）−プロピ
ルＯ，Ｏ−ジアルキルエステルと環状酸無水物との新規
反応生成物、そして少なくとも１種の前記化合物からな
る組成物に関するものである。

【０００２】

【従来の技術】代表的な用途の間、金属材料の表面に永
続的に接触する潤滑剤及び金属工作液及び圧媒液は高温
並びに大気中の酸素及び水分の影響に晒される。したが
って、更に延長された使用は酸化的分解を引起し、これ
は金属との接触により触媒的に促進される。これは前記
液の酸性及び粘度をしばしば増加させ、その結果金属表
面の腐蝕は促進され、そして一般的な使用特性は悪化す
る。

【０００３】潤滑剤系において使用される油に添加すべ
き添加剤は公知である。非常に重要な前記添加剤は、例
えば潤滑剤の酸化的分解を抑制する添加剤、摩耗から可
動金属部材を保護する添加剤、高圧に対する保護作用を
有する添加剤、並びに腐蝕防止剤及び防錆剤として作用
する添加剤である。しかしながら、多くの場合におい
て、種々の添加剤はその作用を互いに妨げ、それ故、例
えば多くの腐蝕防止剤は極圧添加剤の作用を減少させ
る。

【０００４】前記拮抗は多機能性添加剤を使用すること
により克服することができる。所望の作用の幾つかを達
成することができる幾つかの種類の化合物が既に報告さ
れた；例えばＥＰ−Ａ３９８８４３には、腐蝕防止作用
及び摩耗防止作用の両方を示すトリアジン化合物が記載
されている。

【０００５】ＵＳ−Ａ２８３６５６４には、α−ハロゲ
ン化脂肪族モノカルボン酸及び２，５−ジメルカプト−
１，３，４−チアジアゾール並びに腐蝕防止剤及び耐摩
耗剤としてのそれらの用途が記載されている；ピルビン
酸のα−ハロゲン化半エステルと、高圧、摩耗、酸化及
び腐蝕に対する保護作用を有する多機能性添加剤として
のチアゾールジメルカプチドとの反応生成物の有用性は
ＥＰ−Ａ２２３９１６に記載されている；腐蝕防止及び
耐摩耗機能を有する添加剤としての、α位のジスルフィ
ド橋を介して脂肪族基に結合したカルボン酸誘導体の有
用性はＥＰ−Ａ２９１２３６に記載されている；ＥＰ−
Ａ１６６６９６には、例えば、酸化−及び腐蝕防止作用
を有し且つ高圧及び耐摩耗特性を改良するための潤滑剤
への添加剤としてのアルキル−チアグリシジルチオホス
フェートが提案されている；ＵＳ−Ａ４８３４８９３に
は、例えば、ジチオホスフェートから誘導された幾つか
の酸無水物半エステル例えばモノ〔（Ｏ，Ｏ−ジ−２−
エチルヘキシル−Ｓ−２−ヒドロキシプロピル）ホスホ
ロジチオエート〕−ドデシルコハク酸エステル及びその
金属塩特にＬｉ及びＣｕ塩の潤滑剤及び液体燃料への添
加剤としての有用性が開示されている。前記化合物は、
酸化防止剤としての及び耐摩耗剤及び防錆剤耐摩耗剤及
び防錆剤としての作用、並びに腐蝕防止剤としての保護
作用を有する。前記化合物のエステル、アミド及びアミ
ン塩はＵＳ−Ａ５０１９２８２に記載されている。

【０００６】

【発明が解決しようとする課題】本発明は、特に適する
多目的添加剤を提供する上記性質の幾つかを有する新規
化合物に関するものである。耐摩耗剤及び腐蝕防止剤と
しての作用及び酸化防止作用を有することに加えて、前
記化合物は高圧保護に関する添加剤としてそれらを有用
なものとする性質も有する。一つの添加剤における摩耗
保護、腐蝕保護及び高圧保護の併有は特に驚くべきこと
である。

【０００７】

【課題を解決するための手段】本発明は、次式（Ｉ）

【化６】 〔式中、Ｘは酸素原子又は硫黄原子を表わし、Ｒ及びＲ
₁ は互いに独立して炭素原子数３ないし３０のアルキル
基を表わし、Ｒ₂ は炭素原子数４ないし１８のアルキル
基を表わし、そしてＲ₃ ，Ｒ₄ ，Ｒ₅ 及びＲ₆ は互いに
独立して水素原子、炭素原子数１ないし２０のアルキル
基、炭素原子数３ないし２０のアルケニル基、ベンジル
基、フェニル基又は炭素原子数１ないし１２のアルキル
基により置換されたフェニル基を表わし、そして式中、
Ｒ₅ 及びＲ₆ は直接結合を表わしてもよく、又はＲ₃ 及
びＲ₄ は一緒になってトリメチレン基、テトラメチレン
基、次式：

【化７】 で表わされる基を表わし、そしてＲ₅ 及びＲ₆ は直接結
合又は水素原子を表わし；又はＲ₃ 及びＲ₆ は一緒にな
って基＝ＣＨ₂ を表わし、そしてＲ₄ 及びＲ₅ は水素原
子を表わし；又はＲ₄ 及びＲ₅ は一緒になって基＝ＣＨ
₂ を表わし、そしてＲ₃ 及びＲ₆ は水素原子を表わし；
又はＲ₃ ，Ｒ₄ ，Ｒ₅ 及びＲ₆ は一緒になって次式：

【化８】 で表わされる基を表わす〕で表わされる化合物；及び該
化合物の塩に関するものである。

【０００８】符号Ｃの指数に関して記載された数値範囲
は、可能な炭素原子数に関するものである。

【０００９】上記式中のアルキル基Ｒ，Ｒ₁ ，Ｒ₂ ，Ｒ
₃ ，Ｒ₄ ，Ｒ₅ 及びＲ₆ は分岐鎖基又は非分岐鎖基であ
る。アルキル基としての上記定義の範囲内において、そ
れらは例えばメチル基、エチル基、プロピル基、イソプ
ロピル基、ｎ−ブチル基、第二ブチル基、イソブチル
基、第三ブチル基、２−エチルブチル基、ｎ−ペンチル
基、イソプロピル基、１−メチルペンチル基、１，３−
ジメチルブチル基、ｎ−ヘキシル基、１−メチルヘキシ
ル基、ｎ−ヘプチル基、イソヘプチル基、１，１，３，
３−テトラメチルブチル基、１−メチルヘプチル基、３
−メチルヘプチル基、ｎ−オクチル基、２−エチルヘキ
シル基、１，１，３−トリメチルヘキシル基、１，１，
３，３−テトラメチルペンチル基、ノニル基、デシル
基、ウンデシル基、１−メチルウンデシル基、ドデシル
基、１，１，３，３，５，５−ヘキサメチル基ヘキシル
基、トリデシル基、テトラデシル基、ペンタデシル基、
ヘキサデシル基、ヘプタデシル基、オクタデシル基、エ
イコシル基、ドコシル基、ペンタコシル基又はトリアコ
ンチル基である。

【００１０】炭素原子数３ないし２０のアルケニル基Ｒ
₃ ，Ｒ₄ ，Ｒ₅ 及びＲ₆ は同様に分岐鎖基又は非分岐鎖
基であってよい。この意味は、例えばプロペニル基、イ
ソプロペニル基、２−ブテニル基、３−ブテニル基、イ
ソブテニル基、ｎ−ペンタ−２，４−ジエニル基、３−
メチル−ブテ−２−エニル基、ｎ−オクテ−２−エニル
基、ｎ−デセ−２−エニル基、ｎ−ドデセ−２−エニル
基、イソ−ドデセニル基、ｎ−オクタデセ−２−エニル
基及びｎ−オクタデセ−４−エニル基を包含する。

【００１１】炭素原子数１ないし１２のアルキル基によ
り置換されたフェニル基Ｒ₃ ，Ｒ₄，Ｒ₅ 及びＲ₆ は、
例えばメチルフェニル基、ジメチルフェニル基、トリメ
チルフェニル基、エチルフェニル基、ジエチルフェニル
基、イソプロピルフェニル基、第三ブチルフェニル基、
ジ−第三ブチルフェニル基、メチル−ジ−第三ブチルフ
ェニル基、１，１，３，３−テトラメチルブチルフェニ
ル基及び１，１，３，３，５，５−ヘキサメチルヘキシ
ルフェニル基である。アルキルフェニル基中のアルキル
基の数は、特に１−３、例えば１又は２、とりわけ１で
ある。

【００１２】式（Ｉ）で表わされる好ましい化合物は、
式中、Ｒ及びＲ₁ が互いに独立して炭素原子数３ないし
１８のアルキル基、特に炭素原子数３ないし１２のアル
キル基、例えばプロピル基、イソプロピル基、２−メチ
ルプロピル基、第二ブチル基、ｎ−ブチル基、ｎ−ペン
チル基、２−メチルブチル基、３−メチルブチル基、ｎ
−ヘキシル基、２−エチルヘキシル基、ｎ−オクチル
基、イソオクチル基及びｎ−ドデシル基；特に重要な化
合物は、式中、Ｒ及びＲ₁ が同一であり、そしてイソプ
ロピル基又は２−メチルプロピル基を表わす化合物であ
る。

【００１３】Ｒ₂ は好ましくは炭素原子数４ないし１２
のアルキル基、特に分岐鎖状炭素原子数４ないし１２の
アルキル基例えば第三ブチル基、ネオペンチル基、１−
メチルヘプチル基、１，１，３，３−テトラメチルペン
チル基、第三ノニル基、１，１，３，３，５，５−ヘキ
サメチルヘキシル又は第三ドデシル基、特に第三ノニル
基及び第三ドデシル基を表わす。

【００１４】第三ノニル基は、第三ノニルメルカプタン
に対して定義されている如く〔ケミカル アブストラク
ツ 領域（Chemical Abstracts Reg. ） No.25360-10-
5〕、１，１，３，３−テトラメチルペンチル基を含む
異性体混合物を意味するものと理解されたい。対応し
て、第三ドデシル基は、第三ドデシルカプタンに対して
定義されている如く（ケミカル アブストラクツ 領域
No.25103-58-6 ）、１，１，３，３，５，５−ヘキサメ
チルヘキシル基を含む異性体混合物を意味するものと理
解されたい。

【００１５】更に好ましい化合物は、置換基Ｒ₃ 又はＲ
₄ のうちの一つが水素原子、炭素原子数１ないし２０の
アルキル基又は炭素原子数３ないし２０のアルケニル基
を表わし、そして他が水素原子を表わし、又はＲ₃ 及び
Ｒ₄ が一緒になってトリメチレン基、テトラメチレン
基、次式：

【化９】 で表わされる基を表わし、そしてＲ₅ 及びＲ₆ が水素原
子又は直接結合を表わし、又はＲ₃ ，Ｒ₄ ，Ｒ₅ 及びＲ
₆ が一緒になって次式：

【化１０】 で表わされる基を表わす化合物である。

【００１６】特に好ましい式（Ｉ）で表わされる化合物
は、置換基Ｒ₃ 又はＲ₄ のうちの一つが炭素原子数１な
いし２０のアルキル基又は炭素原子数４ないし２０のア
ルケニル基、例えばメチル基、エチル基、プロピル基、
ｎ−オクチル基、イソオクチル基、ｎ−オクテ−２−エ
ニル基、ｎ−ノニル基、ｎ−ドデシル基、ｎ−ドデセ−
２−エニル基、イソドデセニル基又はｎ−Ｃ₁₈Ｈ₃₇基、
とりわけ炭素原子数８ないし１２のアルケニル基及び炭
素原子数８ないし１２のアルキル基、特にｎ−オクテ−
２−エニル基及びイソドデセニル基又はイソドデシル基
を表わし、そして他が水素原子を表わし、又はＲ₃ 及び
Ｒ₄ が一緒になってトリメチレン基又はテトラメチレン
基、特にテトラメチレン基を表わす化合物である。

【００１７】Ｒ₅ 及びＲ₆ は好ましくは水素原子又は直
接結合、特に水素原子を表わす。

【００１８】Ｘは好ましくは硫黄原子を表わす。

【００１９】好ましい化合物は、式中、Ｒ及びＲ₁ が互
いに独立して炭素原子数３ないし１８のアルキル基を表
わし、そしてＲ₂ が炭素原子数４ないし１８のアルキル
基を表わし、置換基Ｒ₃ 又はＲ₄ のうちの一つが水素原
子、炭素原子数１ないし２０のアルキル基又は炭素原子
数３ないし２０のアルケニル基を表わし、そして他が水
素原子を表わし、又はＲ₃ 及びＲ₄ が一緒になってトリ
メチレン基、テトラメチレン基、次式：

【化１１】 で表わされる基を表わし、そしてＲ₅ 及びＲ₆ が水素原
子又は直接結合を表わし、又はＲ₃ ，Ｒ₄ ，Ｒ₅ 及びＲ
₆ が一緒になって次式：

【化１２】 で表わされる基を表わす化合物である。

【００２０】特に好ましい式（Ｉ）で表わされる化合物
は、式中、Ｘが硫黄原子を表わし、Ｒ及びＲ₁ が互いに
独立して炭素原子数３ないし１２のアルキル基を表わ
し；Ｒ₂ が炭素原子数４ないし１２のアルキル基を表わ
し；置換基Ｒ₃ 又はＲ₄ のうちの一つが炭素原子数１な
いし２０のアルキル基又は炭素原子数４ないし２０のア
ルケニル基を表わし、そして他が水素原子を表わし；又
はＲ₃ 及びＲ₄ が一緒になってトリメチレン基又はテト
ラメチレン基を表わし；そしてＲ₅ 及びＲ₆ が水素原子
又は直接結合を表わす化合物である。

【００２１】特に重要な式（Ｉ）で表わされる化合物
は、式中、Ｒ及びＲ₁ が各々の場合において同一であ
り、そしてイソプロピル基、２−メチルプロピル基、ｎ
−ブチル基、ｎ−ペンチル基、２−メチルブチル基、３
−メチルブチル基又は２−エチルヘキシル基を表わし、
Ｒ₂ が第三ノニル基又は第三ドデシル基を表わし、置換
基Ｒ₃ 又はＲ₄ のうちの一つがオクテ−２−エニル基、
炭素原子数１２のアルケニル基又はオクタデシル基を表
わし、そして他が水素原子を表わし、そしてＲ₅ 及びＲ
₆ が水素原子を表わす化合物である。

【００２２】とりわけ重要な式（Ｉ）で表わされる化合
物は、式中、Ｒ及びＲ₁ が各々の場合において同一であ
り、そしてイソプロピル基又は２−メチルプロピル基を
表わし、Ｒ₂ が第三ノニル基を表わし、置換基Ｒ₃ 又は
Ｒ₄ のうちの一つが炭素原子数１２のアルケニル基を表
わし、そして他が水素原子を表わし、そしてＲ₅ 及びＲ
₆ が水素原子を表わす化合物である。

【００２３】一般的に特に重要な式（Ｉ）で表わされる
化合物は、式中、Ｒ及びＲ₁ が同一である化合物であ
る。

【００２４】更に又好ましい式（Ｉ）で表わされる化合
物は、式中、Ｘが硫黄原子を表わす化合物である。

【００２５】本発明は式（Ｉ）で表わされる化合物の塩
にも関するものである。これらは、式（Ｉ）中の遊離カ
ルボキシル基のプロトンが金属カチオン、例えばアルカ
リ金属又はアルカリ土類金属又は金属亜鉛若しくは銅の
うちの一つの一当量により、或いはアンモニウム又はモ
ノ−，ジ−若しくは炭素原子数１ないし１８のアルキル
基により三置換されたアンモニウム塩を表わす前記化合
物を意味すると理解されたい。混合塩も可能である。

【００２６】アンモニウムのアルキル置換基は好ましく
は少なくとも一つの炭素原子数２ないし１８のアルキル
基であり、そして適切である場合には他と同一又は異な
る炭素原子数１ないし１８のアルキル基である。アンモ
ニウムの特に好ましい置換基は、炭素原子数２ないし１
８のアルキル基、特に炭素原子数８ないし１８のアルキ
ル基、そして特に炭素原子数８のアルキル基、炭素原子
数１３のアルキル基及び炭素原子数１８のアルキル基で
ある。

【００２７】式（Ｉ）で表わされる化合物の好ましい金
属塩は、リチウム塩、ナトリウム塩、カリウム塩、マグ
ネシウム塩、カルシウム塩及び銅（ＩＩ）塩であり、そ
してリチウム塩、マグネシウム塩及び銅（ＩＩ）塩が特
に好ましい。

【００２８】アルカリ金属塩及びモノ−若しくはジ−炭
素原子数８ないし１８のアルキル−置換アンモニウム塩
が実用上特に重要である。

【００２９】本発明は更に、ａ）潤滑剤又は圧媒液若し
くは金属工作液と、ｂ）少なくとも１種の式（Ｉ）で表
わされる化合物、とからなる組成物に関するものであ
る。成分ａ）が潤滑剤である組成物が好ましい。成分
ｂ）の好ましい形態は、上記のものと同一である。

【００３０】本発明の組成物が含む潤滑剤及び圧媒液及
び金属工作液は、熱、電磁輻射線、機械的応力（特に剪
断応力による）及び酸化物質（特に大気酸素）の影響下
で多少容易に分解するであろう。この過程において生成
される分解生成物は、水が存在する場合と同様、それら
が接触している金属表面の腐蝕に寄与する。

【００３１】式（Ｉ）で表わされる化合物は、前記影響
に対する保護作用に役立ち、そして都合良くは０．０１
ないし１０重量％の範囲内で、例えば０．０１ないし５
重量％の範囲内で、好ましくは０．０３ないし３重量％
の範囲内で、特に０．２ないし０．７重量％の範囲内で
（又は他の耐摩耗添加剤と組み合わせて０．０３ないし
０．２５重量％の範囲内で）存在すべきである。１種又
はそれより多くのこれらの化合物がここに存在してよ
い。百分率データーはこれらの化合物の全重量に関する
ものであり、そして計算の基礎は成分ａ）及び何れかの
他の成分の全重量であり、成分ｂ）〔式（Ｉ）で表わさ
れる化合物〕を含まない。

【００３２】式（Ｉ）で表わされる化合物は更に又、特
に潤滑剤及び金属工作液及び圧媒液に関する多目的添加
剤として使用することができる。前記使用は潤滑剤及び
金属工作液及び圧媒液の使用特性の改良のための使用も
意味する。前記使用は、機械的浸蝕（摩耗保護）から潤
滑すべき金属成分を保護することを含む。

【００３３】問題の潤滑剤及び金属工作液及び圧媒液
は、例えば鉱油又は合成油又はそれらの混合物をベース
とする。潤滑剤は専門家には良く知られており、そして
関連する技術文献例えばディーター クラマン（Dieter
Klamann）著，“潤滑剤及び関連製品（Schmierstoff u
nd verwandte Produkte ）”〔フェルラーク ヒェミー
（Verlag Chemie ），ヴァインハイム（Weinheim）１９
８２〕、シェーヴェ−コーベック（Schewe-Kobek）著，
“潤滑剤ポケットブック（Das Schmiermittel-Taschenb
uch ）”〔ドクター アルフフレット ヒューティッヒ
−フェルラーク（Dr. Alfred Huethig-Verlag ）１９７
４〕及び“ウルマン工業化学大辞典（Ullmanns Enzyklo
paedie technischen Chemie ）”，第１３巻，第８５−
９４頁（フェルラーク ヒェミー，ヴァインハイム１９
８２）に記載されている。

【００３４】潤滑剤は、特に油及び脂肪、例えば鉱油を
ベースとするものである。油が好ましい。

【００３５】使用することができる別の種類の添加剤
は、植物油及び動物油、脂肪、獣脂及びワックス或いは
これらの互いの混合物又は上記鉱物油若しくは合成油と
の混合物である。植物油及び動物油、脂肪、獣脂及びワ
ックスは、例えばパーム−カーネル油、パーム油、オリ
ーブ油、ナタネ油（colza oil ）、ナタネ油（rapeseed
oil）、アマニ油、落花生油、大豆油、棉実油、ヒマワ
リ油、カボチャの種子油、ココナット油、トウモロコシ
油、ヒマシ油、ウォルナット油及びこれらの混合物、魚
油、屠殺された動物から得られる獣脂、牛脚油及び骨
油、並びにそれらの変性，エポキシ化及びスルホキシ化
形態、例えばエポキシ化大豆油である。

【００３６】鉱油は、特に炭化水素化合物をベースとす
る。

【００３７】合成潤滑剤の例は、脂肪族又は芳香族カル
ボン酸エステルをベースとする潤滑剤、ポリマー状エス
テルをベースとする潤滑剤、ポリアルキレンオキシドを
ベースとする潤滑剤、燐酸エステルをベースとする潤滑
剤、ポリ−α−オレフィン又はシリコーンをベースとす
る潤滑剤、又は二塩基酸と一価アルコールとのジエステ
ル例えばジオクチルセバケート若しくはジノニルアジペ
ートをベースとする潤滑剤、トリメチロールプロパント
リカプリレートのトリエステル若しくはその混合物をベ
ースとする潤滑剤、ペンタエリトリトールと一塩基酸若
しくは該酸の混合物とのテトラエステルをベースとする
潤滑剤例えばペンタエリトリトールテトラカプリレー
ト、又は一塩基酸及び二塩基酸と多価アルコールとの混
合エステル例えばトリメチロールプロパンとカプリル酸
及びセバシン酸との混合エステルをベースとする潤滑
剤、又はこれらの混合物を包含する。鉱油に加えて、特
に適する潤滑剤は例えばポリ−α−オレフィン；エステ
ル、ホスフェート、グリコール、ポリグリコール及びポ
リアルキレングリコールをベースとする潤滑剤、並びに
これらと水との混合物である。

【００３８】金属工作液及び圧媒液は潤滑剤のための上
記と同一物質をベースとして製造することができる。こ
れらはしばしば水又は他の液体中の前記物質の乳化液で
もある。

【００３９】本発明の潤滑組成物は、例えば内燃機関、
中でも自動車において使用される。

【００４０】式（Ｉ）で表わされる化合物は、潤滑剤及
び金属工作油及び圧媒油に易溶性であり、そしてそれ
故、特に前記物質に対する添加剤として適している。そ
れらの驚くべき良好な耐摩耗−及び腐蝕防止作用は特記
される。

【００４１】それ故、式（Ｉ）で表わされる化合物によ
り潤滑剤及び金属工作油及び圧媒油の使用特性を改良す
ることが可能であり、これは前記のものに対する１種又
はそれより多くの式（Ｉ）で表わされる化合物の添加を
含む。

【００４２】本発明の組成物は、幾つかの他の添加剤例
えば腐蝕防止剤、防錆剤、金属奪活剤、粘度指数改良
剤、分散剤、酸化防止剤、流動点降下剤又は極圧添加剤
若しくは耐摩耗剤を、これらの基本的性質を更に一層改
良するために含むことができる。前記補助添加剤の例は
下記のものである。

【００４３】フェノール系酸化防止剤の例

【００４４】１．アルキル化モノフェノール 例えば２，６−ジ第三ブチル−４−メチルフェノール、
２−第三ブチル−４，６−ジメチルフェノール、２，６
−ジ第三ブチル−４−エチルフェノール、２，６−ジ第
三ブチル−４−ｎ−ブチルフェノール、２，６−ジ第三
ブチル−４−イソブチルフェノール、２，６−ジシクロ
ペンチル−４−メチルフェノール、２−（α−メチルシ
クロヘキシル）−４，６−ジメチルフェノール、２，６
−ジオクタデシル−４−メチルフェノール、２，４，６
−トリシクロヘキシルフェノール、２，６−ジ第三ブチ
ル−４−メトキシメチルフェノール、２，６−ジノニル
−４−メチルフェノール、２，４−ジメチル−６−
（１′−メチルウンデシ−１′−イル）フェノール、
２，４−ジメチル−６−（１′−メチルヘプタデシ−
１′−イル）フェノール、２，４−ジメチル−６−
（１′−メチルトリデシ−１′−イル）フェノール及び
それらの混合物。

【００４５】２．アルキルチオメチルフェノール 例えば２，４−ジオクチルチオメチル−６−第三ブチル
フェノール、２，４−ジオクチルチオメチル−６−メチ
ルフェノール、２，４−ジオクチルチオメチル−６−エ
チルフェノール及び２，６−ジドデシルチオメチル−４
−ノニルフェノール。

【００４６】３．ヒドロキノン及びアルキル化ヒドロキ
ノン 例えば２，６−ジ第三ブチル−４−メトキシフェノー
ル、２，５−ジ第三ブチルヒドロキノン、２，５−ジ第
三アミルヒドロキノン、２，６−ジフェニル−４−オク
タデシルオキシフェノール、２，６−ジ第三ブチルヒド
ロキノン、２，５−ジ第三ブチル−４−ヒドロキシアニ
ソール、３，５−ジ第三ブチル−４−ヒドロキシアニソ
ール、３，５−ジ第三ブチル−４−ヒドロキシフェニル
ステアレート及びビス（３，５−ジ第三ブチル−４−ヒ
ドロキシフェニル）アジペート。

【００４７】４．ヒドロキシル化チオジフェニルエーテ
ル 例えば２，２′−チオビス（６−第三ブチル−４−メチ
ルフェノール）、２，２′−チオビス（４−オクチルフ
ェノール）、４，４′−チオビス（６−第三ブチル−３
−メチルフェノール）、４，４′−チオビス（６−第三
ブチル−２−メチルフェノール）、４，４′−チオビス
（３，６−ジ第二アミルフェノール）及び４，４′−ビ
ス（２，６−ジメチル−４−ヒドロキシフェニル）ジス
ルフィド。

【００４８】５．アルキリデンビスフェノール 例えば２，２′−メチレンビス（６−第三ブチル−４−
メチルフェノール）、２，２′−メチレンビス（６−第
三ブチル−４−エチルフェノール）、２，２′−メチレ
ンビス［４−メチル−６−（α−メチルシクロヘキシ
ル）フェノール］、２，２′−メチレンビス（４−メチ
ル−６−シクロヘキシルフェノール）、２，２′−メチ
レンビス（６−ノニル−４−メチルフェノール）、２，
２′−メチレンビス（４，６−ジ第三ブチルフェノー
ル）、２，２′−エチリデンビス（４，６−ジ第三ブチ
ルフェノール）、２，２′−エチリデンビス（６−第三
ブチル−４−イソブチルフェノール）、２，２′−メチ
レンビス［６−（α−メチルベンジル）−４−ノニルフ
ェノール］、２，２′−メチレンビス［６−（α，α−
ジメチルベンジル）−４−ノニルフェノール］、４，
４′−メチレンビス（２，６−ジ第三ブチルフェノー
ル）、４，４′−メチレンビス（６−第三ブチル−２−
メチルフェノール）、１，１−ビス（５−第三ブチル−
４−ヒドロキシ−２−メチルフェニル）ブタン、２，６
−ビス（３−第三ブチル−５−メチル−２−ヒドロキシ
ベンジル）−４−メチルフェノール、１，１，３−トリ
ス（５−第三ブチル−４−ヒドロキシ−２−メチルフェ
ニル）ブタン、１，１−ビス（５−第三ブチル−４−ヒ
ドロキシ−２−メチルフェニル）−３−ｎ−ドデシルメ
ルカプトブタン、エチレングリコールビス［３，３−ビ
ス（３′−第三ブチル−４′−ヒドロキシフェニル）ブ
チレート］、ビス（３−第三ブチル−４−ヒドロキシ−
５−メチルフェニル）ジシクロペンタジエン、ビス［２
−（３′−第三ブチル−２′−ヒドロキシ−５′−メチ
ルベンジル）−６−第三ブチル−４−メチルフェニル］
テレフタレート、１，１−ビス（３，５−ジメチル−２
−ヒドロキシフェニル）ブタン、２，２−ビス（３，５
−ジ第三ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロパン、
２，２−ビス（５−第三ブチル−４−ヒドロキシ−２−
メチルフェニル）−４−ｎ−ドデシルメルカプトブタン
及び１，１，５，５−テトラ（５−第三ブチル−４−ヒ
ドロキシ−２−メルカプトフェニル）ペンタン。

【００４９】６．Ｏ−，Ｎ−及びＳ−ベンジル化合物 例えば３，５，３′，５′−テトラ第三ブチル−４，
４′−ジヒドロキシジベンジルエーテル、オクタデシル
４−ヒドロキシ−３，５−ジメチルベンジルメルカプト
アセテート、トリス（３，５−ジ第三ブチル−４−ヒド
ロキシベンジル）アミン、ビス（４−第三ブチル−３−
ヒドロキシ−２，６−ジメチルベンジル）ジチオテレフ
タレート、ビス（３，５−ジ第三ブチル−４−ヒドロキ
シベンジル）スルフィド及びイソオクチル３，５−ジ第
三ブチル−４−ヒドロキシベンジルメルカプトアセテー
ト。

【００５０】７．ヒドロキシベンジル化マロネート 例えばジオクタデシル２，２−ビス（３，５−ジ第三ブ
チル−２−ヒドロキシベンジル）マロネート、ジオクタ
デシル２−（３−第三ブチル−４−ヒドロキシ−５−メ
チルベンジル）マロネート、ジドデシルメルカプトエチ
ル２，２−ビス（３，５−ジ第三ブチル−４−ヒドロキ
シベンジル）マロネート及びジ〔４−（１，１，３，３
−テトラメチルブチル）フェニル〕−２，２−ビス
（３，５−ジ第三ブチル−４−ヒドロキシベンジル）マ
ロネート。

【００５１】８．ヒドロキシベンジル−芳香族炭化水素 例えば１，３，５−トリス（３，５−ジ第三ブチル−４
−ヒドロキシベンジル）−２，４，６−トリメチルベン
ゼン、１，４−ビス（３，５−ジ第三ブチル−４−ヒド
ロキシベンジル）−２，３，５，６−テトラメチルベン
ゼン及び２，４，６−トリス（３，５−ジ第三ブチル−
４−ヒドロキシベンジル）フェノール。

【００５２】９．トリアジン化合物 例えば２，４−ビスオクチルメルカプト−６−（３，５
−ジ第三ブチル−４−ヒドロキシアニリノ）−１，３，
５−トリアジン、２−オクチルメルカプト−４，６−ビ
ス（３，５−ジ第三ブチル−４−ヒドロキシアニリノ）
−１，３，５−トリアジン、２−オクチルメルカプト−
４，６−ビス（３，５−ジ第三ブチル−４−ヒドロキシ
フェノキシ）−１，３，５−トリアジン、２，４，６−
トリス（３，５−ジ第三ブチル−４−ヒドロキシフェノ
キシ）−１，２，３−トリアジン、１，３，５−トリス
（３，５−ジ第三ブチル−４−ヒドロキシベンジル）イ
ソシアヌレート、１，３，５−トリス（４−第三ブチル
−３−ヒドロキシ−２，６−ジメチルベンジル）イソシ
アヌレート、２，４，６−トリス（３，５−ジ第三ブチ
ル−４−ヒドロキシフェニルエチル）−１，３，５−ト
リアジン、１，３，５−トリス（３，５−ジ第三ブチル
−４−ヒドロキシフェニルプロピオニル）ヘキサヒドロ
−１，３，５−トリアジン及び１，３，５−トリス
（３，５−ジシクロヘキシル−４−ヒドロキシベンジ
ル）イソシアヌレート。

【００５３】１０．ベンゾホスホネート 例えばジメチル２，５−ジ第三ブチル−４−ヒドロキシ
ベンジルホスホネート、ジエチル３，５−ジ第三ブチル
−４−ヒドロキシベンジルホスホネート、ジオクタデシ
ル３，５−ジ第三ブチル−４−ヒドロキシベンジルホス
ホネート、ジオクタデシル５−第三ブチル−４−ヒドロ
キシ−３−メチルベンジルホスホネート及び３，５−ジ
第三ブチル−４−ヒドロキシベンジルホスホン酸モノエ
チルエステルのＣａ塩。

【００５４】１１．アシルアミノフェノール 例えば４−ヒドロキシラウリン酸アニリド、４−ヒドロ
キシステアリン酸アニリド及びオクチルＮ−（３，５−
ジ第三ブチル−４−ヒドロキシフェニル）カルバメー
ト。

【００５５】１２．下記の一価又は多価アルコールを用
いたβ−（３，５−ジ第三ブチル−４−ヒドロキシフェ
ニル）プロピン酸エステル 例えばメタノール、エタノール、オクタデカノール、
１，６−ヘキサンジオール、１，９−ノナンジオール、
エチレングリコール、１，２−プロパンジオール、ネオ
ペンチルグリコール、チオジエチレングリコール、ジエ
チレングリコール、トリエチレングリコール、ペンタエ
リトリトール、トリス（ヒドロキシエチル）イソシアヌ
レート、Ｎ，Ｎ′−ビス（ヒドロキシエチル）蓚酸ジア
ミド、３−チアウンデカノール、３−チアペンタデカノ
ール、トリメチルヘキサンジオール、トリメチロールプ
ロパン及び４−ヒドロキシメチル−１−ホスファ−２，
６，７−トリオキサビシクロ〔２．２．２〕オクタン。

【００５６】１３．下記の一価又は多価アルコールを用
いたβ−（５−第三ブチル−４−ヒドロキシ−３−メチ
ルフェニル）プロピン酸エステル 例えばメタノール、エタノール、オクタデカノール、
１，６−ヘキサンジオール、１，９−ノナンジオール、
エチレングリコール、１，２−プロパンジオール、ネオ
ペンチルグリコール、チオジエチレングリコール、ジエ
チレングリコール、トリエチレングリコール、ペンタエ
リトリトール、トリス（ヒドロキシエチル）イソシアヌ
レート、Ｎ，Ｎ′−ビス（ヒドロキシエチル）蓚酸ジア
ミド、３−チアウンデカノール、３−チアペンタデカノ
ール、トリメチルヘキサンジオール、トリメチロールプ
ロパン及び４−ヒドロキシメチル−１−ホスファ−２，
６，７−トリオキサビシクロ〔２．２．２〕オクタン。

【００５７】１４．下記の一価又は多価アルコールを用
いたβ−（３，５−ジシクロヘキシル−４−ヒドロキシ
フェニル）プロピン酸エステル 例えばメタノール、エタノール、オクタデカノール、
１，６−ヘキサンジオール、１，９−ノナンジオール、
エチレングリコール、１，２−プロパンジオール、ネオ
ペンチルグリコール、チオジエチレングリコール、ジエ
チレングリコール、トリエチレングリコール、ペンタエ
リトリトール、トリス（ヒドロキシエチル）イソシアヌ
レート、Ｎ，Ｎ′−ビス（ヒドロキシエチル）蓚酸ジア
ミド、３−チアウンデカノール、３−チアペンタデカノ
ール、トリメチルヘキサンジオール、トリメチロールプ
ロパン及び４−ヒドロキシメチル−１−ホスファ−２，
６，７−トリオキサビシクロ〔２．２．２〕オクタン。

【００５８】１５．下記の一価又は多価アルコールを用
いた３，５−ジ第三ブチル−４−ヒドロキシフェニル酢
酸エステル 例えばメタノール、エタノール、オクタデカノール、
１，６−ヘキサンジオール、１，９−ノナンジオール、
エチレングリコール、１，２−プロパンジオール、ネオ
ペンチルグリコール、チオジエチレングリコール、ジエ
チレングリコール、トリエチレングリコール、ペンタエ
リトリトール、トリス（ヒドロキシエチル）イソシアヌ
レート、Ｎ，Ｎ′−ビス（ヒドロキシエチル）蓚酸ジア
ミド、３−チアウンデカノール、３−チアペンタデカノ
ール、トリメチルヘキサンジオール、トリメチロールプ
ロパン及び４−ヒドロキシメチル−１−ホスファ−２，
６，７−トリオキサビシクロ〔２．２．２〕オクタン。

【００５９】１．１６．β−（３，５−ジ第三ブチル−
４−ヒドロキシフェニル）プロピン酸アミド 例えばＮ，Ｎ′−ビス（３，５−ジ第三ブチル−４−ヒ
ドロキシフェニルプロピオニル）ヘキサメチレンジアミ
ン、Ｎ，Ｎ′−ビス（３，５−ジ第三ブチル−４−ヒド
ロキシフェニルプロピオニル）トリメチレンジアミン及
びＮ，Ｎ′−ビス（３，５−ジ第三ブチル−４−ヒドロ
キシフェニルプロピオニル）ヒドラジン。

【００６０】アミン酸化防止剤の例 Ｎ，Ｎ′−ジイソプロピル−ｐ−フェニレンジアミン、
Ｎ，Ｎ′−第二ブチル−ｐ−フェニレンジアミン、Ｎ，
Ｎ′−ビス−（１，４−ジメチルペンチル）−ｐ−フェ
ニレンジアミン、Ｎ，Ｎ′−ビス（１−エチル−３−メ
チルペンチル）−ｐ−フェニレンジアミン、Ｎ，Ｎ′−
ビス（１−メチルヘプチル）−ｐ−フェニレンジアミ
ン、Ｎ，Ｎ′−ジシクロヘキシル−ｐ−フェニレンジア
ミン、Ｎ，Ｎ′−ジフェニル−ｐ−フェニレンジアミ
ン、Ｎ，Ｎ′−ジ（２−ナフチル）−ｐ−フェニレンジ
アミン、Ｎ−イソプロピル−Ｎ′−フェニル−ｐ−フェ
ニレンジアミン、Ｎ−（１，３−ジメチルブチル）−
Ｎ′−フェニル−ｐ−フェニレンジアミン、Ｎ−（１−
メチルヘプチル）−Ｎ′−フェニル−ｐ−フェニレンジ
アミン、Ｎ−シクロヘキシル−Ｎ′−フェニル−ｐ−フ
ェニレンジアミン、４−（ｐ−トルエンスルホンアミ
ド）ジフェニルアミン、Ｎ，Ｎ′−ジメチル−Ｎ，Ｎ′
−第二ブチル−ｐ−フェニレンジアミン、ジフェニルア
ミン、Ｎ−アリルジフェニルアミン、４−イソプロポキ
シジフェニルアミン、Ｎ−フェニル−１−ナフチルアミ
ン、Ｎ−フェニル−２−ナフチルアミン、オクチル化ジ
フェニルアミン、例えばｐ，ｐ′−ジ第三ブチル−オク
チルジフェニルアミン、４−ｎ−ブチルアミノフェノー
ル、４−ブチリルアミノフェノール、４−ノナノイルア
ミノフェノール、４−ドデカノイルアミノフェノール、
４−オクタデカノイルアミノフェノール、ジ（４−メト
キシフェニル）アミン、２，６−ジ第三ブチル−ブチル
−４−ジメチルアミノメチルフェノール、２，４′−ジ
アミノジフェニルメタン、４，４′−ジアミノジフェニ
ルメタン、Ｎ，Ｎ，Ｎ′，Ｎ′−テトラメチル−４，
４′−ジアミノジフェニルメタン、１，２−ジ［（２−
メチルフェニル）アミノ］エタン、１，２−ジ（フェニ
ルアミノ）プロパン、（ｏ−トリル）ビグアニド、ジ
［４−（１′，３′−ジメチルブチル）フェニル］アミ
ン、第三オクチル化Ｎ−フェニル−１−ナフチルアミ
ン、モノ−及びジアルキル化第三ブチル／第三オクチル
ジフェニルアミンの混合物、モノ−及びジアルキル化イ
ソプロピル／イソヘキシルジフェニルアミンの混合物、
モノ−及びジアルキル化第三ブチルジフェニルアミンの
混合物、２，３−ジヒドロ−３，３−ジメチル−４Ｈ−
１，４−ベンゾチアジン、フェノチアジン、Ｎ−アリル
フェノチアジン、Ｎ，Ｎ，Ｎ′，Ｎ′−テトラフェニル
−１，４−ジアミノブテ−２−エン、Ｎ，Ｎ−ビス
（２，２，６，６−テトラメチルピペリジ−４−イル−
ヘキサメチレンジアミン、ビス（２，２，６，６−テト
ラメチルピペリジ−４−イル）セバケート、２，２，
６，６−テトラメチルピペリジン−４−オン及び２，
２，６，６−テトラメチルピペリジン−４−オール。

【００６１】別の酸化防止剤 脂肪族又は芳香族ホスフィット、チオジプロピン酸エス
テル又はチオジ酢酸エステル、又はジチオカルバミン酸
塩又はジチオ燐酸塩、２，２，１２，１２−テトラメチ
ル−５，９−ジヒドロキシ−３，７，１１−トリチアト
リデカン及び２，２，１５，１５−テトラメチル−５，
１２−ジヒドロキシ−３，７，１０，１４−テトラチア
ヘキサデカン。

【００６２】金属奪活剤（例えば銅の場合） ａ）ベンゾトリアゾール及びその誘導体、４−又は５−
アルキルベンゾトリアゾール（例えばトルトリアゾー
ル）及びその誘導体、４，５，６，７−テトラヒドロベ
ンゾトリアゾール及び５，５′−メチレンビス−ベンゾ
トリアゾール；ベンゾトリアゾール又はトルトリアゾー
ルのマンニッヒ塩基例えば１−〔ジ（２−エチルヘキシ
ル）アミノメチル〕トルトリアゾール及び１−〔ジ（２
−エチルヘキシル）アミノメチル〕ベンゾトリアゾー
ル；及びアルコキシアルキルベンゾトリアゾール例えば
１−（ノニルオキシメチル）ベンゾトリアゾール、１−
（１−ブトキシエチル）ベンゾトリアゾール及び１−
（１−シクロヘキシルオキシブチル）トルトリアゾー
ル。

【００６３】ｂ）１，２，４−トリアゾール及びその誘
導体例えば３−アルキル（又はアリール）−１，２，４
−トリアゾール、及び１，２，４−トリアゾールのマン
ニッヒ塩基例えば１−〔ジ（２−エチルヘキシル）アミ
ノメチル〕−１，２，４−トルトリアゾール；アルコキ
シアルキル−１，２，４−トリアゾール例えば１−（１
−ブトキシエチル）−１，２，４−トリアゾール；及び
アクリル化３−アミノ−１，２，４−トリアゾール。

【００６４】ｃ）イミダゾール誘導体例えば４，４′−
メチレンビス（２−ウンデシル−５−メチルイミダゾー
ル）及びビス〔（Ｎ−メチル）イミダゾール−２−イ
ル〕カルビノールオクチルエステル。

【００６５】ｄ）硫黄含有複素環式化合物例えば２−メ
ルカプトベンゾチアゾール、２，５−ジメルカプト−
１，３，４−チアジアゾール、２，５−ジメルカプトベ
ンゾチアジアゾール及びその誘導体；及び３，５−ビス
〔ジ（２−エチルヘキシル）アミノ−メチル〕−１，
３，４−チアジアゾリン−２−オン。

【００６６】ｅ）アミノ化合物例えばサリチリデン−プ
ロピレンジアミン、サリチルアミノグアニジン及びこれ
らの塩。

【００６７】錆止剤の例 ａ）有機酸及びそのエステル、金属塩及びその無水物、
例えば：アルキル−及びアルケニルコハク酸及びアルコ
ール、ジオール又はヒドロキシカルボン酸とのそれらの
部分エステル、アルキル−及びアルケニルコハク酸の部
分アミド、４−ノニルフェノキシ酢酸、アルコキシ−及
びアルコキシエトキシカルボン酸例えばドデシルオキシ
酢酸、ドデシルオキシ（エトキシ）酢酸及びそれらのア
ミン塩、及び更にＮ−オレオイルサルコシン、ソルビタ
ンモノオレート、鉛ナフテネート、アルケニルコハク酸
無水物例えばドデセニルコハク酸無水物、２−Ｏ−（カ
ルボキシメチル）−１−Ｏ−ドデシル−３−Ｏ−メチル
グリセロール及び２−Ｏ−（カルボキシメチル）−１−
Ｏ−テトラデシル−３−Ｏ−メチルグリセロール及びそ
の塩特にナトリウム及びトリエタノールアミン塩。

【００６８】ｂ）窒素含有化合物、例えば： Ｉ．第一、第二、第三脂肪族アミン又は脂環式アミン並
びに有機酸及び無機酸のアミン塩、例えば油溶性アルキ
ルアンモニウムカルボン酸塩、及び更に又１−〔Ｎ，Ｎ
−ビス（２−ヒドロキシエチル）アミノ〕−３−（４−
ノニルフェノキシ）プロパン−２−オール。

【００６９】ＩＩ．ヘテロ環式化合物、例えば置換性イ
ミダゾリン及びオキサゾリン、及び２−ヘプタデセニル
−１−（２−ヒドロキシエチル）イミダゾリン。

【００７０】ｃ）燐含有化合物、例えば：燐酸部分エス
テル又はホスホン酸部分エステルのアミン塩、亜鉛ジア
ルキル−ジチオホスフェート。

【００７１】ｄ）硫黄含有化合物、例えば：バリウムジ
ノニルナフタレン−スルホネート、カルシウム石油−ス
ルホネート、アルキルチオ−置換脂肪族カルボン酸、脂
肪族２−スルホカルボン酸のエステル及びその塩。

【００７２】ｅ）グリセロール誘導体、例えば：グリセ
ロールモノオレエート、１−（アルキルフェノキシ）−
３−（２−ヒドロキシエチル）グリセロール、１−（ア
ルキルフェノキシ）−３−（２，３−ジヒドロキシプロ
ピル）グリセロール及び２−カルボキシエチル−１，３
−ジアルキルグリセロール。

【００７３】粘度指数改良剤の例 ポリアクリルレート、ポリメタクリレート、ビニルピロ
リドン／メタクリレートコポリマー、ポリビニルピロリ
ドン、ポリブテン、オレフィンコポリマー、スチレン／
アクリレートコポリマー及びポリエーテル。

【００７４】流動点降下剤の例 ポリメタクリレート及びアルキル化ナフタレン誘導体。

【００７５】分散剤／界面活性剤の例 ポリブテニルコハク酸アミド又はイミド、ポリブテニル
燐酸誘導体及び塩基性のマグネシウム、カルシウム及び
バリウムスルホネート及びフェノレート。

【００７６】耐摩耗添加剤の例 硫黄及び／又は燐及び／又はハロゲン原子を含む化合
物、例えば硫化オレフィン又は植物油、亜鉛ジアルキル
−ジチオホスフェート、アルキル化トリフェニルホスフ
ェート、トリトリルホスフェート、トリクレジルホスフ
ェート、塩化パラフィン、アルキル及びアリールジ−及
びトリスルフィド、モノ−及びジアルキルホスフェート
のアミン塩、メチルホスホン酸のアミン塩、ジエタノー
ルアミノメチルトリルトリアゾール、ジ（２−エチルヘ
キシル）アミノメチルトリルトリアゾール、２，５−ジ
メルカプト−１，３，４−チアジアゾール誘導体、エチ
ル３−〔（ビス−イソプロポキシルオキシ−ホスフィノ
チオイル）チオ〕プロピオネート、トリフェニルチオホ
スフェート、トリフェニルホスホロチオエート、トリス
（アルキルフェニル）ホスホロチオエート及びその混合
物〔例えばトリス（イソノニルフェニル）ホスホロチオ
エート〕、ジフェニルモノノニルフェニルホスホロチオ
エート、イソブチルフェニルジフェニルホスホロチオエ
ート、３−ヒドロキシ−１，３−チアホスフェタン３−
オキシド、トリチオ燐酸５，５，５−トリス〔イソオク
チル２−アセテート〕、２−メルカプトベンゾチアゾー
ル誘導体例えば１−〔Ｎ，Ｎ−ビス（２−エチルヘキシ
ル）アミノメチル〕−２−メルカプト−１Ｈ−１，３−
ベンゾチアゾール、及びエトキシカルボニル−５−オク
チルジチオカルバメート。

【００７７】式（Ｉ）で表わされる化合物の製造 式（Ｉ）で表わされる化合物は公知方法、例えば次式
（ＩＩ）：

【化１３】 で表わされる化合物を次式（ＩＩＩ）：

【化１４】 で表わされる相当する環状酸無水物と反応させることに
より製造することができる。

【００７８】式（ＩＩＩ）で表わされる化合物は、幾つ
かの場合には市販品を入手可能であり、そして例えば高
分子科学及び技術大辞典（Encyclopedia of Polymer Sc
ience and Technology），第１巻，第１１７及び１１８
頁、インターサイエンス パブリッシャーズ／ウィレイ
（Interscience Publishers/Wiley ），ニューヨーク，
１９６４年に記載されている公知方法により製造するこ
とができる。各場合におけるＸ，Ｒ，Ｒ₁ ，Ｒ₂ ，
Ｒ₃ ，Ｒ₄ ，Ｒ₅ 及びＲ₆ は上記の如くである。

【００７９】ＥＰ−Ａ１６６６９６に記載されている式
（ＩＩ）で表わされる化合物は、次式：

【化１５】 で表わされる相当するチオ燐酸のジエステルを次式：

【化１６】 で表わされる所望の２，３−エポキシプロピルチオエー
テルと反応させることにより得ることができる。ジチオ
燐酸のＯ，Ｏ−ジエステルは、相当するアルコールをＰ
₂ Ｓ₅ と反応させることによりＵＳ−Ａ４８３４８９３
に基づいて製造することができる。チオ燐酸の比較誘導
体（Ｘ＝酸素原子）は、次式：

【化１７】 で表わされる相当するホスフィットをＳ／ＮＨ₃ と反応
させることにより、アンモニウム塩で且つＥＰ−Ａ１２
５２０９に記載されているものとして得ることができ
る。次いで、前記アンモニウム塩をエポキシ化合物と更
に直接反応させてもよいし（ＤＥ−Ｂ３０２５２７７参
照）、又は最初に相当する遊離酸に変換してもよい。

【００８０】化合物（ＩＩ）と化合物（ＩＩＩ）とを反
応させるために、環状酸無水物のほぼ当量を式（ＩＩ）
で表わされる出発化合物の選択量に好ましくはゆっくり
添加する。出発化合物は最初に溶媒に投入してもよい。
適する溶媒は、例えばトルエン又はジブチルエーテル、
又は前記二つの混合物である。反応は触媒の存在下で行
うことができ、触媒は最初に出発化合物と一緒に投入す
るか、又は約半分の反応時間後に添加する。適する触媒
は、例えば４−トルエンスルホン酸、メタンスルホン酸
又は４−ジメチルアミノ−ピリジンである。混合物は都
合良くは全反応時間を通して一定温度に保持される。反
応温度は、例えば２０ないし１５０℃、そして通常５０
ないし１２０℃、好ましくは５０ないし８０℃であって
よい。反応時間は、１ないし２４時間、そして通常５な
いし１６時間の間である。処理は通常使用される方法、
例えば有機相を洗浄し、乾燥し、次いで溶媒を除去する
ことにより行うことができる。

【００８１】通常得られる（対照性の酸無水物を使用す
る場合以外）異性体混合物（Ｒ₄ 及びＲ₅ はＲ₃ 及びＲ
₆ と同一ではない）は、所望により、慣用の物理化学的
方法の手段を用いて分離することができる。実際上は、
分離は必要ない。前記異性体混合物は、例えば潤滑剤及
び金属工作液及び圧媒液に添加することができる。

【００８２】式（Ｉ）で表わされる化合物のアンモニウ
ム塩を製造するために、相当するアミンの化学量論量を
（適切であれば溶媒中でもよい）都合良くは所望化合物
の溶液に添加し、次いで充分混合した後、前記溶媒
（類）を減圧下で除去する。適する溶媒は例えばトルエ
ンである。

【００８３】式（Ｉ）で表わされる化合物の金属塩は、
相当する金属水酸化物を用いる反応により製造すること
ができる。遊離酸機能を有する相当する化合物を都合良
くは溶媒に投入し、金属水酸化物を添加し、次いで窒素
下で反応混合物を加熱することにより溶媒とともに水を
移動させる。

【００８４】銅塩を製造するためには、出発化合物は好
ましくはＣｕ（ＩＩ）アセチルアセトネートであり、こ
れを式（Ｉ）で表わされる化合物の溶液に添加する。充
分に混合した後、遊離したアセチルアセトン及び使用し
た溶媒をアンモニウム塩の製造の際の方法と同一の方法
により除去する。適する溶媒はトルエンである。

【実施例】

【００８５】本発明の詳細な説明のために、若干の実施
例を示す。これらの実施例において、及び本明細書の残
部において、部及び百分率データーは特記しない限り重
量による。イソ−ドデセニルコハク酸無水物は、２，５
−フランジオン、ジヒドロ−３−（テトラプロペニル）
の如くＣＡＲＮ２５３７７−７３−５に記載されたコハ
ク酸無水物の置換基としての種々のＣ₁₂Ｈ₂₃異性体を有
する工業級異性体混合物を意味する。ジ−イソ−トリデ
シルアミンは、窒素原子上に二つのＣ₁₃Ｈ₂₇アルキル置
換基を有する（ＣＡＲＮ１０１０１２−９７−９におい
て定義されたような）工業級製品である。

【００８６】実施例１ 攪拌しながら且つ２０−２５℃の水浴を用いて冷却しな
がら、第三ノニル（２，３−エポキシプロピル）チオエ
ーテル２８．６ｇをＯ，Ｏ′−ジイソプロピルジチオ燐
酸２７．０ｇに滴下する。発熱終了後、混合物を５０℃
で１時間加熱する。次いで、揮発性成分を０．２mbar下
２５℃で除去する。中間体５４．１ｇ（理論量の９９．
８％）が、屈折率ｎ_D ²⁰＝１．５１１６を有し且つ次
式：

【化１８】 で表わされる無色液体として残る。

【００８７】次いで、この生成物４４．３ｇを最初にト
ルエン１０ｍｌに投入し、次いでイソ−ドデセニルコハ
ク酸無水物２８．７ｇを滴下する。一定に攪拌しながら
混合物を５０℃で３時間保持し、次いで４−トルエンス
ルホン酸０．１ｇを添加し、次いで攪拌しながら混合物
を５０℃で更に３時間保持する。次いで、これを冷却
し、水で洗浄し、そして有機相を硫酸ナトリウム上で乾
燥し、減圧を用いて溶媒を除去する。イソ−ドデセニル
基の位置に関して異性体である次式：

【化１９】 で表わされる二つの化合物の混合物７１．７ｇ（理論量
の１００．０％）が、屈折率ｎ_D ²⁰＝１．５００３を有
し且つ波数１７０９ｃｍ^- 及び１７４１ｃｍ^- において
吸収極大を有する無色粘稠液体として残る。

【００８８】実施例２ 実施例１における化合物と同一の化合物は、下記の合成
変法により得ることもできる。第三ノニル（２，３−エ
ポキシプロピル）チオエーテル８８．６ｇを約３０分か
けてトルエン１００ｍｌ中のＯ，Ｏ′−ジイソプロピル
ジチオ燐酸８８．０ｇに滴下すると、この間に反応混合
物は昇温する。次いで、反応混合物を７０℃で３時間保
持し、次いで混合物を冷却し、５％過酸化水素溶液１２
ｍｌを添加し、混合物を５０℃で１０分間加熱し、水相
を分離し、飽和炭酸ナトリウム溶液３０ｍｌ、次いで各
回に水５０ｍｌを用いて有機相を連続して洗浄し、そし
て硫酸ナトリウムを用いて乾燥し、次いで減圧を用いて
溶媒を除去する。屈折率ｎ_D ²⁰＝１．５１３２を有する
粘稠液体として実施例１から得られたものと同一の中間
体１６６．２ｇ（理論量の９４％）が残る。

【００８９】次いで、この生成物１６０ｇを最初にトル
エン１００ｍｌ及びジブチルエーテル１０ｍｌに投入
し、次いで４−トルエンスルホン酸０．２ｇを添加す
る。次いで、イソ−ドデセニルコハク酸無水物１０４ｇ
を滴下する。攪拌しながら混合物を７０℃で５時間保持
し、次いで冷却し、水５０ｍｌを用いて一回洗浄し、次
いで硫酸ナトリウム上で乾燥した後、減圧を用いて溶媒
を除去する。ｎ_D ²⁰＝１．５００１を有する粘稠淡黄色
液体として実施例１に基づいて得られたものと同一の最
終生成物２４４．２ｇ（理論量の９４％）が残る。

【００９０】実施例３ Ｏ，Ｏ′−ジイソブチルジチオ燐酸２７．６ｇを実施例
１において記載した第三ノニル（２，３−エポキシプロ
ピル）チオエーテル２６．０ｇと反応させる。中間体５
１．８ｇ（理論量の９８．７％）が、屈折率ｎ_D ²⁰＝
１．５０６２を有し且つ次式：

【化２０】 で表わされる無色液体として得られる。

【００９１】イソ−ドデセニルコハク酸無水物２４．５
ｇを実施例１に記載した前記生成物４０．２ｇに添加す
る。イソ−ドデセニル基の位置に関して異性体である次
式：

【化２１】 で表わされる二つの化合物の混合物６２．９ｇ（理論量
の９８．９％）が、屈折率ｎ_D ²⁰＝１．４９４２を有す
る粘稠淡黄色液体として得られる。

【００９２】実施例４ Ｏ，Ｏ′−ジ−ｎ−ペンチル−ジチオ燐酸３０．０ｇ
を、実施例１に記載した如く６０℃で第三ノニル（２，
３−エポキシプロピル）チオエーテル２５．２ｇと反応
させる。中間体５３．９ｇ（理論量の９９％）が、ｎ_D
²⁰＝１．５０５１及び³¹Ｐ−ＮＭＲに関する化学シフト
δ＝９６ｐｐｍを有する次式：

【化２２】 で表わされる無色液体として得られる。

【００９３】イソ−ドデセニルコハク酸無水物２６．３
ｇをこの生成物４５．７ｇに滴下すると、この間に温度
が上昇する。４−トルエンスルホン酸０．１ｇを添加し
た後、反応混合物を５０℃で３時間保持し、冷却し、次
いで実施例１に記載した如く処理する。次式：

【化２３】 で表わされる異性体混合物６６．２ｇ（理論量の９３
％）が、ｎ_D ²⁰＝１．４９８４及び³¹Ｐ−ＮＭＲに関す
る化学シフトδ＝９６ｐｐｍを有する淡黄色液体として
得られる。

【００９４】実施例５ Ｏ，Ｏ′−ジ（２−エチルヘキシル）ジチオ燐酸３２ｇ
を、実施例１に記載した如く６０℃で第三ノニル（２，
３−エポキシプロピル）チオエーテル２０．５ｇと反応
させる。中間体４９．２ｇ（理論量の９５．５％）が、
屈折率ｎ_D ²⁰＝１．４９１９を有し且つ次式：

【化２４】 で表わされる無色液体として得られる。

【００９５】この生成物３８．７ｇを実施例１と同様に
イソ−ドデセニルコハク酸無水物１９．０ｇと反応させ
る。次式：

【化２５】 で表わされる異性体混合物５６．８ｇ（理論量の１００
％）が、屈折率ｎ_D ²⁰＝１．４９０７を有する粘稠淡黄
色液体として得られる。

【００９６】実施例６ 第三ドデシル２，３−エポキシプロピルチオエーテル５
０．０ｇを、攪拌しながら窒素下で且つ水浴を用いて冷
却しながらＯ，Ｏ′−ジイソプロピルジチオ燐酸３９．
４ｇに添加すると、この間温度は２０℃以上には上昇し
ない。次いで、混合物を４０℃で１時間加熱し、続いて
揮発性成分を真空下で除去する。中間体８７．８ｇが、
ｎ_D ²⁰＝１．５０９３、³¹Ｐ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃ ）に
関する化学シフトδ＝９２．６ｐｐｍを有し且つ次式：

【化２６】 で表わされる粘稠無色液体として残る。

【００９７】次いで、この生成物３２．５ｇを最初にト
ルエン１０ｍｌに投入し、４−ジメチルアミノピリジン
０．１ｇを添加し、次いでイソ−ドデセニルコハク酸無
水物１９．２ｇを滴下する。一定に攪拌しながら混合物
を５０℃で７時間保持する。それを冷却し、トルエンを
用いて希釈し、次いで水を用いて洗浄し、そして有機相
を硫酸ナトリウム上で乾燥し、次いで減圧を用いて溶媒
を除去する。次式：

【化２７】 で表わされる異性体混合物５１ｇ（理論量の１００％）
が、屈折率ｎ_D ²⁰＝１．４９９７を有し且つ波数１７０
９ｃｍ^- 及び１７４１ｃｍ^- （ＫＢｒ）においてＩＲ吸
収極大を有する粘稠淡黄色液体として残る。

【００９８】実施例７ 第三ノニル（２，３−エポキシプロピル）チオエーテル
２１．７ｇを、窒素下で且つ水浴を用いて冷却しなが
ら、ジブチルエーテル５０ｍｌ中のＯ，Ｏ′−ジ−ｎ−
ドデシル−ジチオ燐酸４６．７ｇに滴下すると、この間
温度は２０℃以上には上昇しない。次いで、混合物を６
０℃で２時間加熱する。４−トルエンスルホン酸０．１
ｇを添加後、イソ−ドデセニルコハク酸無水物２６．６
ｇを反応混合物に添加する。一定に攪拌しながら混合物
を６０℃で６時間保持する。次いでそれを冷却し、トル
エンを用いて希釈し、次いで水を用いて洗浄し、そして
有機相を硫酸ナトリウム上で乾燥し、次いで減圧を用い
て溶媒を除去する。次式：

【化２８】 で表わされる異性体混合物８０．４ｇ（理論量の８４
％）が、屈折率ｎ_D ²⁰＝１．４８６５を有し且つ波数１
７１０ｃｍ^- 及び１７３８ｃｍ^- （ＫＢｒ）においてＩ
Ｒ吸収極大を有する粘稠淡黄色液体として残る。

【００９９】実施例８ 第三ノニル（２，３−エポキシプロピル）チオエーテル
２５．５ｇを、窒素下で且つ水浴を用いて冷却しなが
ら、ジブチルエーテル５０ｍｌ中のＯ，Ｏ′−ジドデシ
ル−ジチオ燐酸５５．０ｇに滴下すると、この間温度は
２０−２５℃以上には上昇しない。次いで、混合物を６
０℃で２時間加熱する。室温に冷却し且つ４−トルエン
スルホン酸０．１ｇ及びテトラヒドロフタル酸無水物１
８．０ｇを添加後、一定に攪拌しながら反応混合物を６
０℃で５時間保持する。次いで更にテトラヒドロフタル
酸無水物３．６ｇ（２０％過剰）を添加し、そしてこの
混合物を還流下５時間加熱する。次いでそれを冷却し、
不溶性残部を濾別し、濾液をトルエンを用いて希釈し次
いで水を用いて洗浄し、そしてそして有機相を硫酸ナト
リウム上で乾燥し、次いで減圧を用いて溶媒を除去す
る。次式：

【化２９】 で表わされる化合物９４．０ｇ（理論量の９５％）が、
屈折率ｎ_D ²⁰＝１．４９３０を有する淡黄色液体として
残る。二三日後、更に沈澱５ｇを濾別する。この液体は
屈折率ｎ_D ²⁰＝１．４９３６を有し且つ波数１７０９ｃ
ｍ^- 及び１７３７ｃｍ^- （ＫＢｒ）においてＩＲ吸収極
大を有する。

【０１００】実施例９

【化３０】 ａ）第三ノニル（２，３−エポキシプロピル）チオエー
テル３１．６ｇを、実施例１ａと同様に８５％濃度Ｏ，
Ｏ′−ジドデシル−ジチオ燐酸８０．０ｇと反応させ
る。ｎ_D ²⁰＝１．４９２４を有する無色液体８８．９ｇ
（理論量の７５％）が得られる。 ｂ）上記生成物３６．０ｇ及びフタル酸無水物９．２ｇ
をジブチルエーテル３０ｍｌに溶解する。４−ジメチル
アミノピリジン０．１ｇを添加後、ジエチルアミン８．
０ｇを滴下する。この混合物を７０℃で２時間攪拌した
後、それを冷却し、２Ｎ塩酸を用いて酸性となし、トル
エンを用いて希釈し、次いで抽出する。分離した有機相
を水５０ｍｌを用いて２回洗浄し、硫酸ナトリウム上で
乾燥し、次いで真空下で濃縮する。ｎ_D ²⁰＝１．５０７
１を有する黄色液体４１．６ｇ（理論量の９５％）を得
る。ＩＲ（Ｐ＝Ｓ）１７３１ｃｍ^- 。

【０１０１】実施例１０

【化３１】 ジ−ｎ−オクチルホスフィット１５３．３ｇ（０．５０
モル）及び硫黄１６．０ｇ（０．５モル）を窒素雰囲気
下５０℃で攪拌し、そしてアンモニアガスをガスの吸収
が終わるまで通ずる。この操作の間、反応混合物を２０
ないし２５℃に保持する。混合物をこの温度で更に９０
分間攪拌した後、過剰のアンモニアを除去するために窒
素を溶液に３０分間通ずる。活性炭５ｇを添加後、混合
物を濾過し、次いで真空下で濾液から溶媒を除去する。
次式：

【化３２】 で表わされる淡灰色ワックス１７２．８ｇ（理論量の９
７％）が残る。

【０１０２】この生成物１１８．６ｇをトルエン４００
ｍｌに溶解し、そしてこの溶液を５Ｎ塩酸１００ｍｌ次
いで水１００ｍｌを３回に分けて用いて連続して洗浄す
る。有機相を真空下で濃縮し、そして次式：

【化３３】 で表わされる淡黄色液体１１０．１ｇ（理論量の９７
％）が残る。

【０１０３】第三ノニル（２，３−エポキシプロピル）
チオエーテル２５．９６ｇを、窒素下でトルエン２００
ｍｌ中の上記で得られたＯ，Ｏ−ジ−ｎ−オクチル−モ
ノチオ燐酸４０．６２ｇに滴下する。添加が終了した
時、混合物を６０℃で２時間加熱し、次いで溶媒を真空
下で留去する。次式：

【化３４】 で表わされる淡黄色油状物〔これは、³¹Ｐ−ＮＭＲ（Ｃ
ＤＣｌ₃ ）に基づいて、所望生成物（δ２９．８ｐｐ
ｍ）８０％及び次式：（Ｏ−ｎ−オクチル）₂ Ｐ（＝
Ｓ）−Ｏ−ＣＨ₂ ＣＨ（ＯＨ）ＣＨ₂ −第三Ｃ₉ Ｈ₁₉で
表わされる異性体化合物２０％からなる〕が残る。

【０１０４】この生成物４９．５ｇをトルエン５０ｍｌ
に溶解する。メタンスルホン酸０．５ｇを添加後、イソ
−ドデセニルコハク酸無水物２２．６ｇ（８５ミリモ
ル）を滴下し、次いでこの混合物を７０℃で２２時間加
熱する。冷却後、混合物を水及び５％硫酸ナトリウム溶
液各７５ｍｌを用いて洗浄する。溶媒を留去した後、淡
黄色粘稠油状物６６ｇが残る。この粗生成物６．０ｇを
カラムクロマトグラフィー（クロロホルム／シリカゲ
ル）により精製する。異性体混合物３．６ｇ（６０％）
が主分画として得られる。³¹Ｐ−ＮＭＲ：δ＝２９．１
ｐｐｍにおける一つの共鳴シグナルのみ。

【０１０５】

【化３５】 ジブチルエーテル５０ｍｌ中のＯ，Ｏ−ジドデシル−ジ
チオ燐酸２８．０ｇ及び第三ノニル（２，３−エポキシ
プロピル）チオエーテル１３．０ｇから、実施例８と同
様に中間体を製造する。次いで、フェニルコハク酸無水
物１６．９ｇ及びトリエチルアミン３．４ｇの全体を添
加し、そしてこの混合物を前記酸無水物が融解するまで
約１００℃に加熱し、次いでテトラヒドロフラン２０ｍ
ｌを添加後、約２５℃で４８時間攪拌する。次いで、２
Ｎ塩酸５０ｍｌ及び水２×５０ｍｌを用いてそれを洗浄
し、そして硫酸ナトリウム上で乾燥し、次いで真空中で
溶媒を留去する。クロマトグラフィー（メチレンクロリ
ド／ジエチルエーテル／石油エーテル１：４：５）によ
り、試料１０ｇからｎ_D ²⁰＝１．５０３７、ＩＲ１７１
２ｃｍ^- ，１７４２ｃｍ^- （ＫＢｒ上のフィルム）を有
する生成物を得る。

【０１０６】

【化３６】 Ｏ，Ｏ−ジイソプロピル−ジチオ燐酸１７．１４ｇを、
実施例１と同様ｎ−オクチル（２，３−エポキシプロピ
ル）チオエーテル１６．１９ｇと反応させる。次式：

【化３７】 で表わされる中間体３２．６ｇ（８０％）が得られる。

【０１０７】この生成物２０．８３ｇをトルエン３０ｍ
ｌ中で８０℃で、イソ−ドデセニルコハク酸無水物１
２．６５ｇと８時間加熱する。反応を完結させるため
に、次いでジブチルエーテル３０ｍｌ及びジアザビシク
ロオクタン３．０ｇを添加し、そしてこの混合物を２５
℃で４８時間攪拌する。次いでトルエンを用いて希釈
し、希塩酸、２×水及び硫酸ナトリウム溶液を用いて連
続して洗浄し、そして硫酸ナトリウム上で乾燥し、次い
で真空中で溶媒を留去する。淡黄色粘稠液体３１．５ｇ
（理論量の９４％）が残る。ＩＲ１７１１ｃｍ^- ，１７
４０ｃｍ^- 。

【０１０８】実施例１３ 一定に攪拌しながら、第三ドデシル（２，３−エポキシ
プロピル）チオエーテル２０．６ｇをトルエン１００ｍ
ｌ中のＯ，Ｏ′−ジ（２−エチルヘキシル）ジチオ燐酸
２０．６ｇに滴下する。次いでこの混合物を６０℃で５
時間加熱する。メチルコハク酸無水物６．７ｇ、ジブチ
ルエーテル８０ｍｌ及び４−トルエンスルホン酸０．２
ｇを添加後、反応混合物を１２０℃で５時間保持する。
次いでそれを冷却し、次いで水１００ｍｌを用いて洗浄
し、そして硫酸ナトリウム上で乾燥後、減圧下で溶媒を
留去する。次式：

【化３８】 で表わされる化合物の混合物３８．０ｇ（理論量の９０
％）が、屈折率ｎ_D ²⁰＝１．４９１４を有し且つ波数１
７１２ｃｍ^- 及び１７４１ｃｍ^- においてＩＲ吸収極大
を有する粘稠淡黄色液体として得られる。

【０１０９】表１に示す化合物が、相当する出発化合物
を使用することにより前記実施例と同様に得られる。

【０１１０】

【表１】

【０１１１】実施例２０ 第三ノニル（２，３−エポキシプロピル）チオエーテル
１８．７ｇを、窒素下で且つ水浴を用いて冷却しなが
ら、トルエン２０ｍｌ中のＯ，Ｏ′−ジイソブチル−ジ
チオ燐酸２０．９ｇに滴下すると、この間温度は２０−
２５℃以上には上昇しない。次いで、混合物を６０℃で
２時間加熱する。ｎ−オクタデシルコハク酸無水物３
０．４ｇを添加後、反応混合物を１１０℃で３時間保持
する。次いでそれを冷却し、トルエンを用いて希釈し、
次いで水を用いて洗浄し、そして有機相を硫酸ナトリウ
ム上で乾燥し、次いで減圧を用いて溶媒を除去する。次
式：

【化３９】 で表わされる化合物の混合物６３．０ｇ（理論量の８９
％）が、融点範囲４７−５６℃で且つ波数１７１０ｃｍ
^- 及び１７４１ｃｍ^- （ＫＢｒ）においてＩＲ吸収極大
を有する淡黄色でゆっくり固化するワックスとして得ら
れる。

【０１１２】実施例２１ ８５％濃度Ｏ，Ｏ′−ジ−ｎ−ドデシル−ジチオ燐酸８
０．０ｇを、実施例１と同様に第三ノニル（２，３−エ
ポキシプロピル）チオエーテル３１．６ｇと反応させ
る。屈折率ｎ_D ²⁰＝１．４９２４を有し且つ次式：

【化４０】 で表わされる無色液体８８．９ｇ（理論量の７５％）が
得られる。

【０１１３】次いでジメチルアミノピリジン０．１ｇを
最初にジブチルエーテル３０ｍｌ中の前記生成物３６．
０ｇ及びフタル酸無水物９．２ｇの溶液に添加し、続い
てトリエチルアミン８．０ｇを滴下する。混合物を７０
℃で８時間攪拌する。次いでこれを冷却し、そして２モ
ル塩酸を用いて酸性となし、次いでトルエンを用いて希
釈後、有機相を分離する。これを水５０ｍｌを用いて２
回洗浄し、硫酸ナトリウム上で乾燥し、次いで真空下で
濃縮する。次式：

【化４１】 で表わされる化合物４１．６ｇ（理論量の７５％）が、
屈折率ｎ_D ²⁰＝１．５０７１を有し且つ１７３１ｃｍ^-
にＩＲ吸収を有する黄色液体として得られる。

【０１１４】表２に示す化合物が、相当する出発化合物
を使用することにより実施例２１に記載された製造方法
により得られる。前述の如く、メチレンクロリド／アセ
トンの勾配を使用するシリカゲル上のフラッシュクロマ
トグラフィーにより処理が行われる。

【０１１５】

【表２】

【０１１６】実施例２６：実施例１から得られた化合物
のジイソトリデシルアンモニウム塩 工業級ジトリデシルアミン８．２１ｇをトルエン２０ｍ
ｌ中の実施例１から得られた生成物１５．０ｇに滴下す
る。充分に混合物した後、減圧を用いることにより溶媒
を留去する。次式：

【化４２】 で表わされる異性体化合物の混合物２１．７ｇ（理論量
の９３％）が、屈折率ｎ_D ²⁰＝１．４９０５を有する粘
稠黄色液体として残る。

【０１１７】実施例２７：実施例３から得られた化合物
のリチウム塩 実施例３から得られた生成物１５．０ｇをトルエン１０
０ｍｌに溶解する。水酸化リチウム０．９０ｇを添加
後、この混合物を還流下且つ窒素下で水分離器を使用し
て、反応水がもはや流出なくなるまで加熱する。次いで
減圧下で溶媒を留去する。次式：

【化４３】 で表わされる異性体混合物１５．７ｇが、屈折率ｎ_D ²⁰
＝１．５０６０を有する粘稠黄色液体として得られる。 微量分析値： Ｃ Ｈ Ｓ Ｐ Ｌｉ 計算値： ５９．２％ ９．３７％ １３．２％ ４．２３％ ０．９５％ 測定値： ６０．５％ ９．１３％ １２．２％ ４．０２％ ０．９３％

【０１１８】使用実施例 実施例２８−４４：銅に関する摩耗防止及び腐蝕性 シェル四球試験機（Shell four ball tester；ＦＢＴ）
を使用するＡＳＴＭ標準法Ｄ−２７８３−８１を、耐摩
耗添加剤としての安定性のための試験に使用する。４０
℃において２６．２ｍｍ² ／秒及び１００℃において
４．８ｍｍ² ／秒の粘度並びに硫黄含有率０．５４％を
有する油を、基準油として使用する。上記の特定の実施
例から得られた試験すべき化合物を、各場合において１
重量％の量前記基準油に添加する。下記の事が決定され
る。 ａ）１０秒以内に四球が一緒に接合する場合における荷
重（ｋｇによる）としての接合荷重ＷＬ、及び ｂ）１時間にわたる２０ｋｇの荷重下での平均摩耗傷直
径ＷＳＤ（ｍｍによる）。

【０１１９】銅に関する腐蝕をＡＳＴＭ標準法Ｄ−１３
０に従って決定する。このために、銅の多孔性細片を１
２０℃に保持した試料組成物中に３時間浸漬する。これ
は、更に１−ジ（２−エチルヘキシル）アミノメチルト
ルトリアゾール型の市販の銅掃去剤０．０３％及び、比
較試料を除いて、本発明の化合物各１％を含む上記基準
油からなる。次いで、銅細片を油から取り出し、洗浄
し、そして評価するがこの際、ＡＳＴＭ銅細片腐蝕標準
法を評価のために使用する。評価は下記４段階： １−析出なし ２−中程度の析出 ３−激しい析出 ４−腐蝕 からなるが、試料の増影法に基づいて数値群１ないし４
の範囲内で詳細な副分類も行う。ＡからＥまでの定性的
評価において、等級ＡはＢよりも上位にあり、ＢはＣよ
りも上位にあり、以下同様である。

【０１２０】上記基準油における本発明の特定の化合物
の１％濃度溶液に関する結果を表３に示す。

【０１２１】

【表３】

【０１２２】実施例４５−５３：防錆特性 本発明の生成物を、水の存在下でタービン油中で防錆特
性に関してＡＳＴＭ標準法Ｄ６６５Ｂに従って試験す
る。

【０１２３】試験方法は、ＩＳＯ ＶＧ種ＶＧ４６の試
験すべき油３００ｍｌ（本発明の化合物０．２５％を含
む）、及びＡＳＴＭ Ｄ６６５Ｂに基づく擬似海水３０
ｍｌを６０℃で２４時間容器中で攪拌するように設定す
る。円筒状の鋼製試験片を試験すべき油に浸漬する。鋼
製試験片の腐蝕程度を、０が錆の生成が全くない場合を
意味し、そして３が激しく錆を生成する場合を意味する
ものとして測定する。したがって、数１及び２は前記の
二つの極値の間の腐蝕程度を示す。本試験の結果を表４
に要約する。

【０１２４】

【表４】

フロントページの続き (51)Int.Cl.⁷ 識別記号 ＦＩ Ｃ１０Ｎ 30:10 Ｃ１０Ｎ 30:10 30:12 30:12 40:08 40:08 40:20 40:20 (72)発明者 カイ シュテファン グレニンガー ドイツ連邦共和国，7848 バート ベリ ンゲン，ケレルマッテン ５アー (72)発明者 ミレス フッチングス スイス国，4057 バーゼル，フェルバー ストラーセ１ (56)参考文献 米国特許5019282（ＵＳ，Ａ) 米国特許4834893（ＵＳ，Ａ) (58)調査した分野(Int.Cl.⁷，ＤＢ名) ＣＡ（ＳＴＮ) ＣＡＯＬＤ（ＳＴＮ) ＲＥＧＩＳＴＲＹ（ＳＴＮ)

Claims (5)

(57)【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 次式（Ｉ） 【化１】 〔式中、Ｘは酸素原子又は硫黄原子を表わし、Ｒ及びＲ
   ₁ は互いに独立して炭素原子数３ないし３０のアルキル
   基を表わし、Ｒ₂ は炭素原子数４ないし１８のアルキル
   基を表わし、そしてＲ₃ ，Ｒ₄ ，Ｒ₅ 及びＲ₆ は互いに
   独立して水素原子、炭素原子数１ないし２０のアルキル
   基、炭素原子数３ないし２０のアルケニル基、ベンジル
   基、フェニル基又は炭素原子数１ないし１２のアルキル
   基により置換されたフェニル基を表わし、そして式中、
   Ｒ₅ 及びＲ₆ は直接結合を表わしてもよく、又はＲ₃ 及
   びＲ₄ は一緒になってトリメチレン基、テトラメチレン
   基、次式： 【化２】 で表わされる基を表わし、そしてＲ₅ 及びＲ₆ は直接結
   合又は水素原子を表わし；又はＲ₃ 及びＲ₆ は一緒にな
   って基＝ＣＨ₂ を表わし、そしてＲ₄ 及びＲ₅ は水素原
   子を表わし；又はＲ₄ 及びＲ₅ は一緒になって基＝ＣＨ
   ₂ を表わし、そしてＲ₃ 及びＲ₆ は水素原子を表わし；
   又はＲ₃ ，Ｒ₄ ，Ｒ₅ 及びＲ₆ は一緒になって次式： 【化３】 で表わされる基を表わす〕で表わされる化合物；又は該
   化合物の塩。
2. 【請求項２】 式中、Ｘが硫黄原子を表わし、Ｒ及びＲ
   ₁ が互いに独立して炭素原子数３ないし１２のアルキル
   基を表わし；Ｒ₂ が炭素原子数４ないし１２のアルキル
   基を表わし；置換基Ｒ₃ 又はＲ₄ のうちの一つが炭素原
   子数１ないし２０のアルキル基又は炭素原子数４ないし
   ２０のアルケニル基を表わし、そして他が水素原子を表
   わし；又はＲ₃ 及びＲ₄ が一緒になってトリメチレン基
   又はテトラメチレン基を表わし；そしてＲ₅ 及びＲ₆ が
   水素原子又は直接結合を表わす請求項１記載の化合物。
3. 【請求項３】 式中、Ｘが硫黄原子を表わす請求項１記
   載の化合物。
4. 【請求項４】 ａ）潤滑剤又は圧媒液若しくは金属工作
   液と、ｂ）少なくとも１種の請求項１記載の式（Ｉ）で
   表わされる化合物、とからなる組成物。
5. 【請求項５】 腐蝕防止剤、防錆剤、金属奪活剤、粘度
   指数調整剤、分散剤、酸化防止剤、流動点降下剤並びに
   極圧添加剤及び耐摩耗添加剤からなる群から選択された
   １種又はそれより多くの他の添加剤を更に含む請求項４
   記載の組成物。