JP3210923U - 被洗浄物の洗浄・乾燥システム - Google Patents
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Abstract
【課題】被洗浄物の形状が複雑でポケットが多く、洗浄時に洗浄水がポケットの深部に浸入する被洗浄物の場合であっても、短時間で効率よく乾燥を行うことができる、被洗浄物の洗浄・乾燥システムを提供すること。【解決手段】被洗浄物の洗浄・乾燥システム1は、被洗浄物を洗浄する洗浄ユニット3と、該洗浄ユニットで洗浄された被洗浄物を乾燥させる乾燥ユニット5を備えている。洗浄ユニットは、被洗浄物を薬液で洗浄する薬液洗浄手段10と、薬液洗浄手段で洗浄された被洗浄物を純水で洗浄する純水洗浄手段40を具備している。乾燥ユニットは、純水洗浄手段で洗浄された被洗浄物を乾燥させる、スピン/ブロー乾燥手段70と、真空乾燥手段100を備えている。【選択図】図1
Description
本考案は、被洗浄物、たとえば、半導体工場で使われるウェーハ搬送・保管用のプラスチック製基板収納容器(たとえば、FOSB、FOUP、以下「FOSB等」という。)を洗浄・乾燥するのに好適な、被洗浄物の洗浄・乾燥システムに関するものである。
従来、基板収納容器の一例として、たとえば、特許文献1には、複数枚の半導体ウェーハWを収納する容器本体201と、この容器本体の開口した正面202を閉鎖する着脱自在の容器蓋体210を備えたプラスチック製基板収納容器200が提案されている(本願の図6参照)。
半導体ウェーハWは、たとえばφ300mmあるいは450mmの大きさを有する大口径の薄いシリコンウェーハからなり、容器本体201内の上下方向に25枚又は26枚が並べられて整列収納される。半導体ウェーハWは、半導体加工装置(図示せず)により加工されるが、この半導体加工装置には蓋体開閉装置(図示せず)が併設されている。
図6において、容器本体201は、所定の成形材料を使用して透明、不透明、又は半透明のフロントオープンボックスとして形成され、両側壁が後方に向かうに従って段階的に接近するよう傾斜形成されており、この両側壁の傾斜により、背面壁の面積が横長に開口した正面202の面積よりも小さく設定される。この容器本体201の内部両側、すなわち、両側壁の内面には、半導体ウェーハWを略水平に支持する左右一対のティース203が対設され、この一対のティース203が上下方向に所定のピッチで配列されている。
容器本体201の天井中央部には、搬送に供される平面略矩形のロボティツクフランジ205が装着され、このロボティツクフランジ205がOHT(オーバーヘッドトランスファー)と呼ばれる自動搬送機に把持されることにより、基板収納容器200が工程内を自動的に搬送される。また、容器本体201の正面202の周縁部には、外方向には屈曲して張り出す蓋体嵌合用のリム206が周設され、このリム206内周面の上部両側と下部両側とに、容器蓋体210を構成する施錠機構230用の施錠穴207がそれぞれ矩形に穿孔されている。
容器本体201の両側壁外面の中央部には、作業員に把持される搬送ハンドル208がそれぞれ着脱自在に装着され、また、両側壁外面の下部には、前後方向に伸びる搬送用のサイドレール209がそれそれ選択的に装着される。
容器蓋体210は、容器本体201のリム206内に圧入して嵌合される断面略トレー形の蓋本体211と、さらに、この蓋本体211の開口した表面に螺子具を介して覆着されるカバープレート226とを備えて形成され、蓋体開閉装置に真空吸着された状態で容器本体201に着脱される。蓋本体211とカバープレート226との間に、蓋体開閉装置により外部から操作される施錠機構230、及び施錠機構230を構成する回転操作リール231の回転位置を制御する位置制御手段250を内蔵している。
施錠機構230は、蓋体210のカバープレート226の外部からの操作で回転する左右一対の回転操作リール231と、各回転操作リール231の回転に連動して直線的に上下方向に進退する複数の進退動バー237と、各進退動バー237の進退動により搖動して蓋本体211の出没孔225から出没する複数の施錠爪241を備え、容器蓋体210の一対の設置空間に設置されており、複数の施錠爪241が容器本体201の施錠穴207に接離する。
このように、基板収納容器を構成する容器本体と容器蓋体の形状は複雑で、特に、容器蓋体にはポケットが多く形成されるため、洗浄時の洗浄水がポケットに浸入することを生起する。
また、被洗浄物を洗浄・乾燥するシステムの一例として、たとえば、特許文献2には、電子光学部品を搬送する際に使用されるプラスチック製のトレイ等の、汚染物質であるパーティクルや水分の付着を極力抑えることが望まれる物を洗浄・乾燥するシステムが提案されている。
このシステムは、被洗浄物を薬液で洗浄する薬液洗浄槽と、水切りされた被洗浄物を収容する真空チャンバー内の真空度の上下動を繰り返す真空度制御手段を備えている。薬液洗浄槽では超音波洗浄を行い、また、真空度制御手段では真空チャンバー内の真空度を、少なくとも、−95〜−80kPaの範囲内と、−20〜−5kPaの範囲内との間で繰り返し上下動させる。
この種の被洗浄物の洗浄・乾燥システムとしては、少なくとも、次の条件を満たすことが求められる。
(1)被洗浄物を乾燥する時間が短く、単位時間当たり相当数の被洗浄物を乾燥処理する処理能力があること、また、比較的大きな被洗浄物を小スペースで乾燥処理できること
(2)被洗浄物が容器本体と蓋体のように分離できる場合、容器本体と蓋体に分離した状態で乾燥させることが可能であること;
(3)被洗浄物の形状が複雑でポケットが多く洗浄時に洗浄水がポケットの深部に浸入する被洗浄物であっても、短時間で効率よく乾燥を行うことができること;
(4)洗浄した被洗浄物を乾燥処理する際に被洗浄物が変形・劣化しないこと;
(1)被洗浄物を乾燥する時間が短く、単位時間当たり相当数の被洗浄物を乾燥処理する処理能力があること、また、比較的大きな被洗浄物を小スペースで乾燥処理できること
(2)被洗浄物が容器本体と蓋体のように分離できる場合、容器本体と蓋体に分離した状態で乾燥させることが可能であること;
(3)被洗浄物の形状が複雑でポケットが多く洗浄時に洗浄水がポケットの深部に浸入する被洗浄物であっても、短時間で効率よく乾燥を行うことができること;
(4)洗浄した被洗浄物を乾燥処理する際に被洗浄物が変形・劣化しないこと;
しかしながら、上記の従来の被洗浄物の洗浄・乾燥システムにあっては、例えば、次のような問題点があった。
(1)被洗浄物がFOSB等の場合、例えば、FOSBは、シリコンウェーハの出荷容器のため、非常に高清浄度が要求されるが、浸漬超音波薬液洗浄では、(i)繰り返される薬液洗浄による液汚れの増加に伴うFOSBの汚染が惹起される、(ii)FOSBの構造は大きな袋形状を形成するため浸漬させることがそもそも困難である、(iii)FOSBは樹脂部材なので、浸漬超音波による樹脂部材へのダメージが生じることが懸念され、また超音波のキャビテーション振動により微小パーティクル(汚染物質)が発生しやすい、(iv)使用される薬液量を多く必要とし環境負荷が大きい;
(2)被洗浄物の形状が複雑で洗浄水が被洗浄物の深部に浸入するような場合には、短時間のうちに洗浄水を乾燥除去することが必すしも容易でない;
(3)容器本体と蓋体とから構成され複雑な形状を採る被洗浄物(たとえば、FOSB等)を完全乾燥するためには、通常、除湿、乾燥エアーの供給、温風乾燥等を必要とするので乾燥時間がかかり、また乾燥手段を設置するため広いスペースが必要となる;
(4)真空チャンバー内の真空度の上下動を繰り返し行う必要上、真空チャンバー内では複数回の圧力変動を行うため、バルブ類からの発麈が生じやすい;
(1)被洗浄物がFOSB等の場合、例えば、FOSBは、シリコンウェーハの出荷容器のため、非常に高清浄度が要求されるが、浸漬超音波薬液洗浄では、(i)繰り返される薬液洗浄による液汚れの増加に伴うFOSBの汚染が惹起される、(ii)FOSBの構造は大きな袋形状を形成するため浸漬させることがそもそも困難である、(iii)FOSBは樹脂部材なので、浸漬超音波による樹脂部材へのダメージが生じることが懸念され、また超音波のキャビテーション振動により微小パーティクル(汚染物質)が発生しやすい、(iv)使用される薬液量を多く必要とし環境負荷が大きい;
(2)被洗浄物の形状が複雑で洗浄水が被洗浄物の深部に浸入するような場合には、短時間のうちに洗浄水を乾燥除去することが必すしも容易でない;
(3)容器本体と蓋体とから構成され複雑な形状を採る被洗浄物(たとえば、FOSB等)を完全乾燥するためには、通常、除湿、乾燥エアーの供給、温風乾燥等を必要とするので乾燥時間がかかり、また乾燥手段を設置するため広いスペースが必要となる;
(4)真空チャンバー内の真空度の上下動を繰り返し行う必要上、真空チャンバー内では複数回の圧力変動を行うため、バルブ類からの発麈が生じやすい;
したがって、本考案は上記事情に鑑みてなされたものであり、本考案の目的は、樹脂部材である被洗浄物への洗浄時のダメージがなく、洗浄時に微小パーティクルの発生も抑えられる、被洗浄物の洗浄・乾燥システムを提供することにある。
本考案の他の目的は、被洗浄物を洗浄する際に使用される薬液の液量が少なくてすみ、環境負荷を最小限に抑えることができ、また、洗浄作業者への騒音被害も無い、被洗浄物の洗浄・乾燥システムを提供することにある。
本考案のもう一つ他の目的は、被洗浄物を乾燥する時間が短く、単位時間当たり相当数の被洗浄物を乾燥処理する処理能力があり、比較的大きな被洗浄物を小スペースで乾燥処理できる、被洗浄物の洗浄・乾燥システムを提供することにある。
本考案のもう一つ他の目的は、被洗浄物の形状が複雑でポケットが多く、洗浄時に洗浄水がポケットの深部に浸入する被洗浄物の場合であっても、短時間で効率よく乾燥を行うことができる、被洗浄物の洗浄・乾燥システムを提供することにある。
本考案のもう一つ他の目的は、洗浄した被洗浄物を乾燥処理する際に被洗浄物が変形・劣化しない、被洗浄物の洗浄・乾燥システムを提供することにある。
本考案のさらにもう一つ他の目的は、真空乾燥時に被洗浄物からのアウトガスを積極的に除去できる可能性のある、被洗浄物の洗浄・乾燥システムを提供することにある。
本考案に係る被洗浄物の洗浄・乾燥システムは、
洗浄された被洗浄物を乾燥させる乾燥ユニットを含んで構成され、
該乾燥ユニットは、スピン/ブロー乾燥手段と、真空乾燥手段を具備し、
該スピン/ブロー乾燥手段は、スピン乾燥メンバーとブロー乾燥メンバーを備え、
該スピン乾燥メンバーは、被洗浄物を保持し水平方向に回転し被洗浄物に付着した純水の除去を行う水平回転テーブルと、被洗浄物を保持し垂直方向に回転し被洗浄物に付着した純水の除去を行う垂直回転テーブルを含んで構成され、
前記スピン乾燥メンバーにおいて被洗浄物を保持した状態でクリーンな温風をチャンバ内に供給し被洗浄物に付着した純水を乾燥させ、
前記真空乾燥手段は、真空チャンバー内で大気圧から一気に高真空付近まで減圧可能な乾燥手段として構成し、被洗浄物を完全乾燥させることを特徴としている。
洗浄された被洗浄物を乾燥させる乾燥ユニットを含んで構成され、
該乾燥ユニットは、スピン/ブロー乾燥手段と、真空乾燥手段を具備し、
該スピン/ブロー乾燥手段は、スピン乾燥メンバーとブロー乾燥メンバーを備え、
該スピン乾燥メンバーは、被洗浄物を保持し水平方向に回転し被洗浄物に付着した純水の除去を行う水平回転テーブルと、被洗浄物を保持し垂直方向に回転し被洗浄物に付着した純水の除去を行う垂直回転テーブルを含んで構成され、
前記スピン乾燥メンバーにおいて被洗浄物を保持した状態でクリーンな温風をチャンバ内に供給し被洗浄物に付着した純水を乾燥させ、
前記真空乾燥手段は、真空チャンバー内で大気圧から一気に高真空付近まで減圧可能な乾燥手段として構成し、被洗浄物を完全乾燥させることを特徴としている。
前記ブロー乾燥メンバーは、ブロー供給部と、クリーンエアー供給部と、フィルタと、ヒーターを含んで構成され、前記スピン乾燥メンバーにおいて被洗浄物を保持した状態でクリーンな温風をチャンバ内に供給するようにすることができる。
前記スピン乾燥メンバーとブロー乾燥メンバーを同時に作動させ、被洗浄物の付着水を除去することが適当である。
さらに、被洗浄物を洗浄する洗浄ユニットを備え、
該洗浄ユニットは、被洗浄物を薬液で洗浄する薬液洗浄手段と、該薬液洗浄手段で洗浄された被洗浄物を純水で洗浄する純水洗浄手段を備え、
前記薬液洗浄手段は、被洗浄物を保持し水平方向に回転する水平回転テーブルと、被洗浄物を保持し垂直方向に回転する垂直回転テーブルと、前記水平回転テーブルに保持される被洗浄物に薬液をシャワー状態で供給する第1の薬液供給部と、前記垂直回転テーブルに保持される被洗浄物に薬液をシャワー状態で供給する第2の薬液供給部を有するように構成し、
前記洗浄ユニットで洗浄された被洗浄物を前記乾燥ユニットで乾燥するようにすることもできる。
該洗浄ユニットは、被洗浄物を薬液で洗浄する薬液洗浄手段と、該薬液洗浄手段で洗浄された被洗浄物を純水で洗浄する純水洗浄手段を備え、
前記薬液洗浄手段は、被洗浄物を保持し水平方向に回転する水平回転テーブルと、被洗浄物を保持し垂直方向に回転する垂直回転テーブルと、前記水平回転テーブルに保持される被洗浄物に薬液をシャワー状態で供給する第1の薬液供給部と、前記垂直回転テーブルに保持される被洗浄物に薬液をシャワー状態で供給する第2の薬液供給部を有するように構成し、
前記洗浄ユニットで洗浄された被洗浄物を前記乾燥ユニットで乾燥するようにすることもできる。
前記純水洗浄手段は、被洗浄物を保持し水平方向に回転する水平回転テーブルと、被洗浄物を保持し垂直方向に回転する垂直回転テーブルと、前記水平回転テーブルに保持される被洗浄物に純水をシャワー状態で供給する第1の純水供給部と、前記垂直回転テーブルに保持される被洗浄物に純水をシャワー状態で供給する第2の純水供給部と、被洗浄物を収容するチャンバ内を洗浄する純水をシャワー状態で供給する第3の純水供給部を有するように構成することができる。
本考案は以上のごとく構成され、次に記載される効果を奏する。
(1)被洗浄物への洗浄時のダメージがなく、洗浄時に微小パーティクルの発生も抑えられる、被洗浄物の洗浄・乾燥システムが得られる。
(2)被洗浄物を洗浄する際に使用される薬液の液量も少なくてすみ、環境負荷を最小限に抑えることができ、また、洗浄作業者への騒音被害も無い、被洗浄物の洗浄・乾燥システムが得られる。
(3)被洗浄物を乾燥する時間が短く、単位時間当たり相当数の被洗浄物を乾燥処理する処理能力があり、比較的大きな被洗浄物を小スペースで乾燥処理できる、被洗浄物の洗浄・乾燥システムが得られる。
(4)被洗浄物の形状が複雑でポケットが多く、洗浄時に洗浄水がポケットの深部に浸入する被洗浄物の場合であっても、短時間で効率よく乾燥を行うことができる、被洗浄物の洗浄・乾燥システムが得られる。
(5)洗浄した被洗浄物を乾燥処理する際に被洗浄物が変形・劣化しない、被洗浄物の洗浄・乾燥システムが得られる。
(6)真空乾燥時に被洗浄物からのアウトガスを積極的に除去できる可能性のある、被洗浄物の洗浄・乾燥システムが得られる。
(1)被洗浄物への洗浄時のダメージがなく、洗浄時に微小パーティクルの発生も抑えられる、被洗浄物の洗浄・乾燥システムが得られる。
(2)被洗浄物を洗浄する際に使用される薬液の液量も少なくてすみ、環境負荷を最小限に抑えることができ、また、洗浄作業者への騒音被害も無い、被洗浄物の洗浄・乾燥システムが得られる。
(3)被洗浄物を乾燥する時間が短く、単位時間当たり相当数の被洗浄物を乾燥処理する処理能力があり、比較的大きな被洗浄物を小スペースで乾燥処理できる、被洗浄物の洗浄・乾燥システムが得られる。
(4)被洗浄物の形状が複雑でポケットが多く、洗浄時に洗浄水がポケットの深部に浸入する被洗浄物の場合であっても、短時間で効率よく乾燥を行うことができる、被洗浄物の洗浄・乾燥システムが得られる。
(5)洗浄した被洗浄物を乾燥処理する際に被洗浄物が変形・劣化しない、被洗浄物の洗浄・乾燥システムが得られる。
(6)真空乾燥時に被洗浄物からのアウトガスを積極的に除去できる可能性のある、被洗浄物の洗浄・乾燥システムが得られる。
以下、本考案に係る被洗浄物の洗浄・乾燥システムについて、添付図面とともに説明する。実施例では、被洗浄物を基板収納容器とした例を用いて説明する。
被洗浄物の洗浄・乾燥システム1は、被洗浄物を洗浄する洗浄ユニット3と、該洗浄ユニットで洗浄された被洗浄物を乾燥させる乾燥ユニット5を備えて構成されている。
(前記洗浄ユニット3について)
前記洗浄ユニット3は、被洗浄物を薬液で洗浄する薬液洗浄手段10と、該薬液洗浄手段で洗浄された被洗浄物を純水で洗浄する純水洗浄手段40を具備している。
前記洗浄ユニット3は、被洗浄物を薬液で洗浄する薬液洗浄手段10と、該薬液洗浄手段で洗浄された被洗浄物を純水で洗浄する純水洗浄手段40を具備している。
このうち、前記薬液洗浄手段10は、第1チャンバ11と、蓋12と、容器本体201を保持し水平方向に回転する水平回転テーブル13と、この回転テーブル13に連結している回転軸14と、駆動モータ15と、内面シャワー供給部16と、外面シャワー供給部17と、排気ダクト19と、液体と気体とを分離するセパレータ20と、(蓋体210の施錠爪241が係止して)蓋体210を保持し垂直方向に回転する垂直回転テーブル23と、回転軸24と、駆動モータ25と、内面シャワー供給部26と、外面シャワー供給部27と、薬液循環タンク31と、薬液供給用ポンプ32と、薬液循環用ポンプ34と、フィルタ35と、ヒーター36と、薬液原液貯留タンク37と、定量原液補充用ポンプ用38を具備している。
前記薬液洗浄手段10は、被洗浄物を保持し水平方向に回転する前記水平回転テーブル13と、被洗浄物を保持し垂直方向に回転する前記垂直回転テーブル23と、前記内面シャワー供給部16と前記外面シャワー供給部17とで形成され、前記水平回転テーブル13に保持される被洗浄物201に対し薬液をシャワー状態で供給する第1の薬液供給部と、前記内面シャワー供給部26と前記外面シャワー供給部27とで形成され、前記垂直回転テーブル23に保持される被洗浄物210に対し薬液をシャワー状態で供給する第2の薬液供給部を含んで構成されている。かくして、前記薬液洗浄手段10は、薬液シャワーを供給(提供)するため、液汚れの増加にともなう被洗浄物の汚染を回避できるとともに、微小パーティクルの発生を抑えることができる。さらに、使用する薬液の液量も少なく済み、環境負荷も少なく、作業者への騒音被害も無くすることができる。
前記純水洗浄手段40は、第2チャンバ41と、蓋42と、薬液洗浄後の容器本体201を保持し水平方向に回転する水平回転テーブル43と、回転軸44と、駆動モータ45と、内面洗浄水供給部(ノズル)46と、外面洗浄水供給部(ノズル)47と、チャンバ内に純水をシャワー状態で供給する上面洗浄水供給部(ノズル)48と、排気ダクト49と、セパレータ50と、薬液洗浄後の蓋体210を保持し垂直方向に回転する垂直回転テーブル53と、回転軸54と、駆動モータ55と、内面洗浄水供給部(ノズル)56と、外面洗浄水供給部(ノズル)57と、蓋内側洗浄水供給部(ノズル)58と、超純水供給部61と、フィルタ65と、ヒーター66を具備している。
前記純水洗浄手段40は、被洗浄物を保持し水平方向に回転する前記水平回転テーブル43と、被洗浄物を保持し垂直方向に回転する前記垂直回転テーブル53と、前記内面シャワー供給部46と前記外面シャワー供給部47とで形成され、前記水平回転テーブル43に保持される被洗浄物201に対し純水をシャワー状態で供給する第1の純水供給部と、前記内面シャワー供給部56と前記外面シャワー供給部57とで形成され、前記垂直回転テーブル53に保持される被洗浄物210に対し純水をシャワー状態で供給する第2の純水供給部と、被洗浄物を収容する前記第2チャンバ41および前記蓋42を洗浄する純水をシャワー状態で供給する第3の純水供給部48.58を含んで構成されている。
(前記乾燥ユニット5について)
前記乾燥ユニット5は、前記純水洗浄手段40で洗浄された被洗浄物201.210を乾燥させる、スピン/ブロー乾燥手段70と、真空乾燥手段100を具備している。
前記乾燥ユニット5は、前記純水洗浄手段40で洗浄された被洗浄物201.210を乾燥させる、スピン/ブロー乾燥手段70と、真空乾燥手段100を具備している。
前記スピン/ブロー乾燥手段70は、スピン乾燥メンバー70Aとブロー乾燥メンバー70Bより構成され、該スピン乾燥メンバー70Aとブロー乾燥メンバー70Bは同時に作動し、被洗浄物に付着した純水を除去する。すなわち、加温と回転による水切り動作で洗浄水(水滴)の除去を図る。
前記スピン/ブロー乾燥手段70は、第3チャンバ71と、蓋72と、容器本体201を保持し水平方向に回転する水平回転テーブル73と、回転軸74と、駆動モータ75と、内面用ブロー供給部(ノズル)76と、外面用ブロー供給部(ノズル)77と、底面用ブロー供給部(ノズル)78と、排気ダクト79と、セパレータ80と、蓋体210を保持し垂直方向に回転する垂直回転テーブル83と、回転軸84と、駆動モータ85と、内面用ブロー供給部(ノズル)86と、外面用ブロー供給部(ノズル)87と、クリーンエアー供給部91と、フィルタ95と、ヒーター96を具備している。
前記スピン乾燥メンバー70Aは、被洗浄物201を保持し水平方向に回転し被洗浄物に付着した純水の除去を行う前記水平回転テーブル73と、被洗浄物210を保持し垂直方向に回転し被洗浄物に付着した純水の除去を行う前記垂直回転テーブル83を含んで構成される。
前記ブロー乾燥メンバー70Bは、前記ブロー供給部76,77,78,83,86、87と、前記クリーンエアー供給部91と、前記フィルタ95と、前記ヒーター96を含んで構成され、前記スピン乾燥メンバー70Aが被洗浄物201,210を保持した状態でクリーンな温風を前記第3チャンバ71内に供給し被洗浄物に付着した純水を乾燥させる。
本考案を構成する前記スピン乾燥メンバー70Aでは、蓋体210を高速回転させて蓋体に形成された複雑なポケットの内部に浸入した洗浄水の効果的な水切りを行うとともに、前記ブロー乾燥メンバーが供給するエアーブローを温風とすることで被乾燥物に熱量を与えて乾燥を促進させる。また回転数を高性能サーボモーターで制御し、高速→低速の繰り返しで低速時には水滴の残部を積極的にエアーブローし乾燥させる。
前記スピン/ブロー乾燥手段70における処理条件の一例を以下に示す。(容器本体と蓋体を同時処理):
(容器本体)
回転数 :50rpm(水平回転)
処理時間 :4〜6分
内面ノズル:10個程度、0.15MPa−1500L/min
外面ノズル:8個程度、0.15MPa−1200L/min
エアー温度:40〜55℃
(蓋体)
回転数 :50〜700rpm(垂直回転)
処理時間 :4〜6分
内面ノズル:5個程度、0.15MPa−750L/min
外面ノズル:8個程度、0.15MPa−1200L/min
エアー温度:40〜55℃
(容器本体)
回転数 :50rpm(水平回転)
処理時間 :4〜6分
内面ノズル:10個程度、0.15MPa−1500L/min
外面ノズル:8個程度、0.15MPa−1200L/min
エアー温度:40〜55℃
(蓋体)
回転数 :50〜700rpm(垂直回転)
処理時間 :4〜6分
内面ノズル:5個程度、0.15MPa−750L/min
外面ノズル:8個程度、0.15MPa−1200L/min
エアー温度:40〜55℃
前記真空乾燥手段100は、第4チャンバ101と、蓋102と、容器本体201を保持する水平テーブル103と、真空圧力センサ107と、窒素ガス供給部110と、蓋体210を保持する垂直テーブル113と、フィルタ115と、ヒーター116と、真空ポンプ121,122と、フィルタ125を具備している。
真空乾燥は、加温と高真空領域まで使用する。また、真空解放(大気解放)時は、清浄度の高い窒素を導入させて、結露やパーティクルの付着の無いようにする。
真空乾燥における真空度は、予め熱量を持った真空チャンバーで、大気圧から一気に高真空付近まで減圧して完全乾燥させる。またスピン/ブロー乾燥との組み合わせで水滴が無い状態からの真空乾燥として、15分以内の高速乾燥が実現できる。本考案では、一回の減圧のみで完全乾燥するためパーティクルの発生を最少減にでき、バルブ類からの発麈はない。また、高真空付近まで減圧するため、FOSB等からのアウトガスを積極的に除去できる。なお、アウトガスは、樹脂材から出るものでシリコンウェーハにとっては曇りやパーティクル付着の問題を引き起こす1つの原因にもなるため、通常は洗浄乾燥後に数時間の放置が必要であるが、上記実施例によれば洗浄乾燥後の時間も短縮できる。被洗浄物のポケットに入り込んだ洗浄水を真空乾燥で完全に除去する。
真空チャンバの処理条件の一例を以下に示す。(容器本体と蓋体を同時処理):
到達圧力:10〜30Pa(abs)
制御温度:50〜60℃
処理時間:5〜15分
解放時間:5分
給 気:N2ガス加圧供給(大気解放時の吸気がドライであることを保証する)
到達圧力:10〜30Pa(abs)
制御温度:50〜60℃
処理時間:5〜15分
解放時間:5分
給 気:N2ガス加圧供給(大気解放時の吸気がドライであることを保証する)
真空解放時に供給するガスは、窒素ガスが好ましいが、窒素ガスとともにドライエアーを混ぜて供給してもよく、また窒素ガスに代えてドライエアーを供給するようにしてもよい。
1 被洗浄物の洗浄・乾燥システム
3 洗浄ユニット
5 乾燥ユニット
10 薬液洗浄手段
13 水平回転テーブル
23 垂直回転テーブル
40 純水洗浄手段
43 水平回転テーブル
53 垂直回転テーブル
70 スピン/ブロー乾燥手段
70A スピン乾燥メンバー
70B ブロー乾燥メンバー
73 水平回転テーブル
83 垂直回転テーブル
100 真空乾燥手段
3 洗浄ユニット
5 乾燥ユニット
10 薬液洗浄手段
13 水平回転テーブル
23 垂直回転テーブル
40 純水洗浄手段
43 水平回転テーブル
53 垂直回転テーブル
70 スピン/ブロー乾燥手段
70A スピン乾燥メンバー
70B ブロー乾燥メンバー
73 水平回転テーブル
83 垂直回転テーブル
100 真空乾燥手段
Claims (5)
- 洗浄された被洗浄物を乾燥させる乾燥ユニットを含んで構成され、
該乾燥ユニットは、スピン/ブロー乾燥手段と、真空乾燥手段を具備し、
該スピン/ブロー乾燥手段は、スピン乾燥メンバーとブロー乾燥メンバーを備え、
該スピン乾燥メンバーは、被洗浄物を保持し水平方向に回転し被洗浄物に付着した純水の除去を行う水平回転テーブルと、被洗浄物を保持し垂直方向に回転し被洗浄物に付着した純水の除去を行う垂直回転テーブルを含んで構成され、
前記スピン乾燥メンバーにおいて被洗浄物を保持した状態でクリーンな温風をチャンバ内に供給し被洗浄物に付着した純水を乾燥させ、
前記真空乾燥手段は、真空チャンバー内で大気圧から一気に高真空付近まで減圧可能な乾燥手段として構成し、被洗浄物を完全乾燥させることを特徴とする被洗浄物の洗浄・乾燥システム。 - 前記ブロー乾燥メンバーは、ブロー供給部と、クリーンエアー供給部と、フィルタと、ヒーターを含んで構成され、前記スピン乾燥メンバーにおいて被洗浄物を保持した状態でクリーンな温風をチャンバ内に供給することを特徴とする請求項1記載の被洗浄物の洗浄・乾燥システム。
- 前記スピン乾燥メンバーとブロー乾燥メンバーは同時に作動することを特徴とする請求項1または2に記載の被洗浄物の洗浄・乾燥システム。
- さらに、被洗浄物を洗浄する洗浄ユニットを備え、
該洗浄ユニットで洗浄された被洗浄物を前記乾燥ユニットで乾燥し、
該洗浄ユニットは、被洗浄物を薬液で洗浄する薬液洗浄手段と、該薬液洗浄手段で洗浄された被洗浄物を純水で洗浄する純水洗浄手段を備え、
前記薬液洗浄手段は、被洗浄物を保持し水平方向に回転する水平回転テーブルと、被洗浄物を保持し垂直方向に回転する垂直回転テーブルと、前記水平回転テーブルに保持される被洗浄物に薬液をシャワー状態で供給する第1の薬液供給部と、前記垂直回転テーブルに保持される被洗浄物に薬液をシャワー状態で供給する第2の薬液供給部を有するように構成し、
前記洗浄ユニットで洗浄された被洗浄物を前記乾燥ユニットで乾燥することを特徴とする請求項1乃至3いずれか一項に記載の被洗浄物の洗浄・乾燥システム。 - 前記純水洗浄手段は、被洗浄物を保持し水平方向に回転する水平回転テーブルと、被洗浄物を保持し垂直方向に回転する垂直回転テーブルと、前記水平回転テーブルに保持される被洗浄物に純水をシャワー状態で供給する第1の純水供給部と、前記垂直回転テーブルに保持される被洗浄物に純水をシャワー状態で供給する第2の純水供給部と、被洗浄物を収容するチャンバ内を洗浄する純水をシャワー状態で供給する第3の純水供給部を有することを特徴とする請求項4に記載の被洗浄物の洗浄・乾燥システム。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2017001502U JP3210923U (ja) | 2017-03-16 | 2017-03-16 | 被洗浄物の洗浄・乾燥システム |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2017001502U JP3210923U (ja) | 2017-03-16 | 2017-03-16 | 被洗浄物の洗浄・乾燥システム |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP3210923U true JP3210923U (ja) | 2017-06-15 |
Family
ID=59061329
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2017001502U Active JP3210923U (ja) | 2017-03-16 | 2017-03-16 | 被洗浄物の洗浄・乾燥システム |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP3210923U (ja) |
-
2017
- 2017-03-16 JP JP2017001502U patent/JP3210923U/ja active Active
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