JP3207218B2 - ウェット処理槽の薬液散布装置 - Google Patents

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は、ＬＣＤ等の基板にエッ
チング処理や現像処理等のウェット処理を行うウェット
処理槽にて、基板に所定の薬液を散布する薬液散布装置
に関するものであり、特に装置の簡略化に改良を加えた
ものである。

【０００２】

【従来の技術】一般にＬＣＤ等の基板を製造する基板製
造工程には、基板に対してエッチング処理や現像処理等
のウェット処理を行うウェット処理槽が組込まれてい
る。このウェット処理槽には前記基板に現像液など所定
の薬液を散布する薬液散布装置が設けられている。

【０００３】図３はウェット処理槽の薬液散布装置の構
成を示す概念図である。図において、薬液散布装置１は
基板３に所定の薬液６を散布する装置で、中空の直方体
状のウェット処理槽２内に設けられており、基板３を搬
送する回転可能な搬送ローラ４と、搬送ローラ４に回転
力を供給する駆動モータ５と、基板３に薬液６を散布す
るシャワー部７とを備えている。

【０００４】前記ウェット処理槽２には、搬送される基
板３の入口部２ａ及び出口部２ｂが形成されており、入
口部２ａから出口部２ｂに渡って前記搬送ローラ４が一
定の間隔で配設されている。また、搬送ローラ４上方に
は前記シャワー部７が前記搬送ローラ４と平行に配設さ
れている。

【０００５】搬送ローラ４は基板３を下方から支持し、
駆動モータ５から回転力を供給されて回転し、基板３を
図中右方へ連続的に搬送する。また、シャワー部７は、
薬液６が供給されるパイプ７ａと、このパイプ７ａの長
手方向に開口される複数のシャワー口７ｂとから成り、
シャワー口７ｂから基板３上に薬液６を散布する。

【０００６】なお、基板３の全面にまんべんなく薬液６
を散布する必要から、シャワー部７の長さ寸法はかなり
長く設定され、また、駆動モータ５によって決定される
搬送ローラ４の搬送速度は比較的低速度に設定されてい
る。

【０００７】ところで、薬液６は通常、散布された部分
から即座に所定の反応が始まる。この様な薬液６を散布
する薬液散布装置においては、基板３が低速度でウェッ
ト処理槽２内を通過する場合、次のような不具合が生じ
た。すなわち、図３に示すように、ウェット処理槽２の
入口部２ａ付近において、最初に薬液６が散布される基
板３の前端部３ａは逸早く反応が開始され、最後に薬液
６が散布される基板３の後端部３ｂは、最も遅く反応が
開始される。つまり、薬液６による反応開始のタイミン
グは、基板３の搬送方向に沿って段階的に変化してい
き、これに応じて基板３上には基板搬送方向に沿った反
応ムラが発生する。

【０００８】この様な反応ムラが発生した基板は不良品
となり、基板製造工程にて製造される基板の精度が低下
する。最近では基板が大形化する傾向にあり、上記のよ
うな同一基板での薬液による反応開始タイミングのずれ
は益々大きくなっており、その解消が急務となってい
た。

【０００９】そこで、ウェット処理槽の入口部付近にお
いて、基板の前端部と後端部とがウェット処理槽に入る
タイムラグをできるだけ小さくする薬液散布装置が提案
されている。この様な従来例を図４に示す。図示された
薬液散布装置８の特徴は、ウェット処理槽２の入口部２
ａ付近のいくつかの搬送ローラ９に対して回転力を供給
し、駆動力の切替可能である第１の駆動モータ１０と、
搬送ローラ９以外の搬送ローラ１１に対して回転力を供
給する第２の駆動モータ１２とが設置されている点にあ
る。

【００１０】第１の駆動モータ１０は、基板３がウェッ
ト処理槽２の入口部２ａに差掛かった時点で搬送ローラ
９に高速度の回転力を供給する。そして、基板３全体が
ウェット処理槽２に搬入された時点では搬送ローラ９に
比較的低速度の回転力を供給するように駆動力を切替え
る。この低速時の搬送ローラ９の回転速度は、第２の駆
動モータ１２により回転する搬送ローラ１１の回転速度
と等しく設定されている。

【００１１】基板３全体がウェット処理槽２に搬入され
た時点で、第１の駆動モータ１０の駆動力が切替わり、
搬送ローラ９は搬送ローラ１１と共に低速度で回転す
る。そのため、基板３はウェット処理槽２内を低速度で
搬送され、基板３上にまんべんなく薬液６が散布され
る。

【００１２】また、搬送ローラ１１が基板３を搬送する
際、新たな基板３がウェット処理槽２の入口部２ａに差
掛かかると、第１の駆動モータ１０は再度、駆動力を切
替え、搬送ローラ９に高速度の回転力を供給して、搬送
ローラ９は新たな基板３を高速度でウェット処理槽２に
入れる。

【００１３】以上のような薬液散布装置８によれば、駆
動モータ１０により高速度で回転する搬送ローラ９を用
いて高速度で基板３をウェット処理槽２内に搬入するこ
とができる。そのため、基板３の前端部３ａと後端部３
ｂとがウェット処理槽２に入るタイムラグは極めて小さ
く、基板３全体がほぼ同時にシャワー部７の下方に位置
して、基板３の全面に同時に薬液６を散布することがで
きる。

【００１４】従って、基板３において薬液６による反応
開始のタイミングにズレがなく、散布される薬液６の分
布性能が向上して基板３上での反応ムラは発生しない。
これにより、製造される基板の精度を高めることができ
る。

【００１５】なお、上記の薬液散布装置８は、駆動モー
タ１０，１２という２つの駆動源を有しているが、たと
え駆動源が１つであっても、基板３がウェット処理槽２
の入口部２ａに差掛かった時点で、搬送ローラを高速度
で回転させ、基板の全体がウェット処理槽の入った時点
で搬送ローラを低速度で回転させるという、駆動力切替
機構を有していれば、薬液散布装置８と同様の効果を期
待することができる。

【００１６】

【発明が解決しようとする課題】しかし、以上のような
２つの駆動源もしくは駆動力切替機構を有している従来
例は、装置が複雑化・大形化するという問題点を抱えて
いる。また、ウェット処理槽入口部付近の搬送ローラを
高速回転させて、基板を高速で搬送させた場合、搬送さ
れる基板に対する慣性は強くなり、前方に位置する基板
に衝突して破損する等の危険性もあり、搬送される基板
に対する安全性が低いという問題があった。

【００１７】本発明のウェット処理槽の薬液散布装置
は、以上の問題点を解消するために提案されたものであ
り、その目的は、薬液反応を基板全面に均一に施して製
造される基板精度を高めると共に、小形化が容易で、且
つ搬送される基板の安全性が高いウェット処理槽の薬液
散布装置を提供することである。

【００１８】

【課題を解決するための手段】以上の課題を解決するた
めに、本発明のウェット処理槽の薬液散布装置は、ＬＣ
Ｄの基板にエッチング処理や現像処理等を行うウェット
処理槽にて、前記基板に所定の薬液を散布する薬液散布
装置において、前記基板を搬送する回転可能な搬送ロー
ラと、前記搬送ローラに回転力を供給する駆動モータ
と、前記基板に薬液を高速で噴射して散布する高流速ノ
ズルとが備えられ、前記高流速ノズルは、前記ウェット
処理槽内にその全体が搬送された前記基板に対して前記
薬液を噴射可能に設けられるとともに、該高速流ノズル
からの１回の前記薬液の噴射によって、該薬液が前記基
板全面へほぼ同時に散布されるように、該基板の搬送方
向に対して傾斜して配置されていること、を特徴とす
る。

【００１９】

【作用】以上のような構成を有する本発明において、駆
動モータから基板を下方から支持する搬送ローラに対し
て回転力が供給されて該搬送ローラが回転され、基板が
ウェット処理槽内へ搬送される。そして、ウェット処理
槽内にその全体が完全に搬送された基板に対して、高流
速ノズルが薬液を高速で１回噴射する。この時、高流速
ノズルは基板に対して傾斜して配置されており、該高流
速ノズルから発射された薬液は、その１回の発射によっ
て基板全面に対してほぼ全面にまんべんなく散布され
る。

【００２０】従って、散布された部分から即座に反応が
始まる薬液を散布する場合、薬液反応は基板全面で同時
に起き、基板上で反応ムラが発生することがない。

【００２１】

【実施例】進んで、本発明のウェット処理槽の薬液散布
装置の一実施例を図１及び図２に基づいて説明する。図
１は本実施例の構成を示す概念図であり、図２は本実施
例の要部斜視図である。なお、図３にて示した従来例と
同一部材に関しては同一符号を付し、説明は省略する。

【００２２】本実施例の薬液散布装置１は、ウェット処
理槽２に設けられており、１回の発射で薬液６を基板３
全面に散布するように薬液６を高速で噴射する高流速ノ
ズル１６を備えた点を構成上の特徴としている。

【００２３】この高流速ノズル１６は、基板３の幅寸法
と同様の幅寸法を有しており、搬送ローラ４の上方に配
置されている。また、高流速ノズル１６は、その先端部
がウェット処理槽２の入口部２ａ側に向いており、基板
３の搬送方向に傾斜して配置されている。また、ウェッ
ト処理槽２の入口部２ａから出口部２ｂまでの長さは、
基板３の長さ寸法よりやや長く設定されており、前記高
流速ノズル１６は、このウェット処理槽２の出口部２ｂ
寄り上方に配置されている。

【００２４】以上の構成を有する本実施例において、駆
動モータ５から回転力が供給されて搬送ローラ４は低速
で回転するように設定されており、搬送ローラ４により
基板３はウェット処理槽２内を低速で搬送される。搬送
された基板３の前端部３ａが高流速ノズル１６の下方位
置に差掛かった時点で、高流速ノズル１６が薬液６を１
回、噴射する。この時、高流速ノズル１６は基板３の幅
寸法と同様の幅寸法を有しているため、薬液６は基板３
の前端部３ａの幅寸法全体に渡って発射される。

【００２５】また、高流速ノズル１６は基板３の搬送方
向に対向して傾斜して配置されているため、薬液６は基
板３の前端部３ａから後端部３ｂへスムーズに流れる。
この時、高流速ノズル１６から噴射された薬液６は、
０．５〜１秒程度で基板３の前端部３ａから後端部３ｂ
まで広がり、基板３全面にまんべんなく薬液６が散布さ
れる。

【００２６】以上のような薬液散布装置１によれば、高
流速ノズル１６が１回の発射で薬液６を基板３全面にま
んべんなく、且つほぼ同時に散布することができるた
め、薬液６による反応開始のタイミングが基板３上でず
れることがない。従って、薬液反応が基板３全面でほぼ
同時に起き、基板３上での反応ムラを防止できる。これ
により、薬液６による反応を基板３全面に均一に施すこ
とが可能となり、基板製造工程にて製造される基板３の
精度を高めることができる。

【００２７】また、本実施例の薬液散布装置１の駆動源
は、搬送ローラ４を低速回転させる駆動モータ５の１つ
だけである。そのため、２つの駆動源もしくは駆動力切
替機構を設ける必要がなく、装置の構成を簡略化するこ
とができ、小形化が容易である。

【００２８】更に、駆動モータ５により搬送ローラ４が
基板３を低速で搬送するため、搬送される基板３に対す
る慣性は弱く、前方に位置する基板３に衝突して破損す
る等の事故が発生せず、基板３に対する安全性が高い。
しかも、本実施例によれば、高流速ノズル１６から１
回、薬液６を発射するだけで、基板３全体に薬液６を散
布可能であるため、ウェット処理槽２の長さ寸法は、基
板３を完全に収納可能な長さだけあれば十分である。そ
のため、装置の小形化を大幅に進めることができ、基板
製造工程の小形化も促進される。

【００２９】また、装置の小形化と同時に搬送ローラ４
の設置数が減少するため、装置の製造コストを抑えるこ
とができるので、経済的にも有利である。なお、本発明
のウェット処理槽の薬液散布装置は、以上のような実施
例に限定されるものではなく、高流速ノズルの先端部は
ウェット処理槽の出口部側に向いていても良く、また基
板搬送方向に対する高流速ノズルの傾斜角度も適宜変更
可能である。

【００３０】

【発明の効果】以上述べたように、本発明のウェット処
理槽の薬液散布装置によれば、高流速ノズルが、ウェッ
ト処理槽内にその全体が搬送された基板に対して薬液を
噴射可能に設けられるとともに、該高速流ノズルからの
１回の薬液の噴射によって、該薬液がこの基板全面へほ
ぼ同時に散布されるように、該基板の搬送方向に対して
傾斜して配置されているため、薬液による反応を基板全
面に均一に施すことができ、基板製造工程にて製造され
る基板の精度を高めることができる。

【００３１】また、本発明によれば、駆動源として搬送
ローラを低速回転させる駆動モータを１つ備えるだけで
あるため、小形化が容易であり、且つ搬送される基板に
対して優れた安全性を確保することができる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明のウェット処理槽の薬液散布装置の一実
施例の構成を示す概念図。

【図２】本実施例の要部斜視図。

【図３】従来のウェット処理槽の薬液散布装置の構成を
示す概念図。

【図４】従来のウェット処理槽の薬液散布装置の構成を
示す概念図。

【符号の説明】

１ 薬液散布装置 ２ ウェット処理槽 ２ａ 入口部 ２ｂ 出口部 ３ 基板 ３ａ 前端部 ３ｂ 後端部 ４ 搬送ローラ ５ 駆動モータ ６ 薬液 ７ シャワー部 ７ａ パイプ ７ｂ シャワー口 ８ 薬液散布装置 １０ 第１の駆動モータ １１ 搬送ローラ １２ 第２の駆動モータ １６ 高流速ノズル

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (58)調査した分野(Int.Cl.⁷，ＤＢ名) H01L 21/027,21/304 H01L 21/306,21/308 H05K 3/06 C23F 1/00 - 1/46

Claims (1)

(57)【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 ＬＣＤの基板にエッチング処理や現像処
   理等を行うウェット処理槽にて、前記基板に所定の薬液
   を散布する薬液散布装置において、 前記基板を搬送する回転可能な搬送ローラと、 前記搬送ローラに回転力を供給する駆動モータと、 前記基板に薬液を高速で噴射して散布する高流速ノズル
   とが備えられ、 前記高流速ノズルは、前記ウェット処理槽内にその全体
   が搬送された前記基板に対して前記薬液を噴射可能に設
   けられるとともに、該高速流ノズルからの１回の前記薬
   液の噴射によって、該薬液が前記基板全面へほぼ同時に
   散布されるように、該基板の搬送方向に対して傾斜して
   配置されていること、 を特徴とするウェット処理槽の薬液散布装置。