JP3204385B2 - Semiconductor device - Google Patents

Semiconductor device

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JP3204385B2
JP3204385B2 JP34814597A JP34814597A JP3204385B2 JP 3204385 B2 JP3204385 B2 JP 3204385B2 JP 34814597 A JP34814597 A JP 34814597A JP 34814597 A JP34814597 A JP 34814597A JP 3204385 B2 JP3204385 B2 JP 3204385B2
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稔 上村
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Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、半導体装置に関す
るものである。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a semiconductor device.

【0002】[0002]

【従来の技術】半導体チップ内に、リダンダンシー機能
のような補完機能や性能試験を行うためのテスト機能等
の補助機能が付設された半導体装置が知られている。
2. Description of the Related Art There is known a semiconductor device in which a semiconductor chip is provided with an auxiliary function such as a complementary function such as a redundancy function and a test function for performing a performance test.

【0003】特開平6−13447号公報には、半導体
チップ内にテスト機能を行うテスト回路を付設させた半
導体装置が開示されている。図3は、上記公報記載の図
であって、図において、符号101〜109は半導体チ
ップ、110は半導体チップの特性を測定するための補
助回路、111は信号ライン、112は電源ライン、1
13はGNDライン、114はスクライブ線、を示して
いる。
Japanese Patent Application Laid-Open No. Hei 6-13447 discloses a semiconductor device in which a test circuit for performing a test function is provided in a semiconductor chip. FIG. 3 is a diagram described in the above publication, in which reference numerals 101 to 109 denote semiconductor chips, 110 denotes an auxiliary circuit for measuring characteristics of the semiconductor chip, 111 denotes a signal line, 112 denotes a power line, and 1 denotes a power line.
Reference numeral 13 denotes a GND line, and 114 denotes a scribe line.

【0004】図に示すように、半導体チップ102の特
性を測定するための補助回路110は、スクライブ線1
14を介して、隣接する半導体チップ101上に配置さ
れている。同様に、チップ103のための補助回路がチ
ップ102上に、チップ105のための補助回路がチッ
プ104上に、チップ106のための補助回路がチップ
105上に、といった具合で配置されている。このよう
にすることで、スクライブ時に、補助回路を確実に切り
離すことができるようになっている。
As shown in FIG. 1, an auxiliary circuit 110 for measuring characteristics of a semiconductor chip 102 includes a scribe line 1.
It is arranged on the adjacent semiconductor chip 101 via. Similarly, an auxiliary circuit for the chip 103 is arranged on the chip 102, an auxiliary circuit for the chip 105 is arranged on the chip 104, an auxiliary circuit for the chip 106 is arranged on the chip 105, and so on. By doing so, the auxiliary circuit can be reliably disconnected at the time of scribing.

【0005】しかしながら、この技術においては、各半
導体チップに対する補助回路110が、製造時に必ず必
要であり、補助回路をなくしてしまうことができない。
However, in this technique, the auxiliary circuit 110 for each semiconductor chip is always required at the time of manufacturing, and the auxiliary circuit cannot be eliminated.

【0006】また、半導体チップ内にリダンダンシー機
能を行う補助回路を付設させた半導体装置の例につい
て、図4を参照して説明する。図4(a)において、半
導体装置の一例としての半導体記憶装置1は、楕円内の
メモリセルアレイ等を任意の数だけ行列配置した部分
と、その中のリダンダンシー部分を選択・動作させるた
めのリダンダンシー制御回路9を周辺部分に具備してい
る。
An example of a semiconductor device in which an auxiliary circuit for performing a redundancy function is provided in a semiconductor chip will be described with reference to FIG. In FIG. 4A, a semiconductor memory device 1 as an example of a semiconductor device has a portion in which an arbitrary number of memory cell arrays and the like in an ellipse are arranged in a matrix and a redundancy control for selecting and operating a redundancy portion in the portion. A circuit 9 is provided in a peripheral portion.

【0007】さらに詳しく述べると、図4(a)の拡大
図である図4(b)に示すように、メモリの任意の個数
を行列配置させたメモリセルアレイ1と、その行・列そ
れぞれの方向に接して両側に配置されたカラムリダンダ
ンシー用メモリセルアレイ5・ロウリダンダンシー用メ
モリセルアレイ6と、所望のメモリセルアレイを選択す
るためにそれぞれメモリセルアレイの行・列方向におい
てカラムリダンダンシー用メモリセルアレイ5・ロウリ
ダンダンシー用メモリセルアレイ6に接して配置された
カラムデコーダー3・ロウデコーダー2と、カラムリダ
ンダンシー用メモリセルアレイ5を選択するためにそれ
とカラムデコーダーに接するように配置されたカラムリ
ダンダンシー用デコーダー7と、ロウリダンダンシー用
メモリセルアレイ6を選択するためにそれとロウデコー
ダーに接するように配置されたロウリダンダンシー用デ
コーダー8と、メモリセルデータを選択・増幅するため
にカラムリダンダンシー用メモリセルアレイ間にそれと
接するように配置されたセンスアンプ4と、を具備して
いる。
More specifically, as shown in FIG. 4B, which is an enlarged view of FIG. 4A, a memory cell array 1 in which an arbitrary number of memories are arranged in a matrix, and the direction of each row and column thereof , A column redundancy memory cell array 5 and a row redundancy memory cell array 6, and a column redundancy memory cell array 5 and a row redundancy in the row and column directions of the memory cell array in order to select a desired memory cell array. A column decoder 3 and a row decoder 2 arranged in contact with the memory cell array 6 for use, a column redundancy decoder 7 arranged in contact with the column decoder in order to select the memory cell array 5 for column redundancy, and a row redundancy Memory cell array And a sense amplifier 4 arranged between and in contact with a row redundancy decoder 8 for selecting and amplifying memory cell data between a row redundancy memory cell array and a row redundancy decoder 8 for selecting and amplifying memory cell data. , Is provided.

【0008】上述のように、メモリセルアレイ1に隣接
してリダンダンシー用のメモリセル5、6を配置し、ま
た、それらを選択するためのデコーダー7、8もメモリ
セルを選択するためのロウデコーダー3およびカラムデ
コーダー2に隣接して配置されていた。
As described above, the memory cells 5 and 6 for redundancy are arranged adjacent to the memory cell array 1, and the decoders 7 and 8 for selecting them are also row decoders 3 for selecting the memory cells. And the column decoder 2.

【0009】[0009]

【発明が解決しようとする課題】第1の問題点は、補完
機能部分を本来の機能部分に隣接させたり散在させたり
していることである。また、製造時に必ず補完機能が必
要となるため、不要となってもその削除が不可能である
という問題点もある。第2の問題点は、例えば半導体記
憶装置のリダンダンシー機能などは、チップ内の任意の
位置において同じ構成を有しており、そのため、本来の
記憶容量に比例して補完機能の規模も増大してしまうこ
とである。このことにより、歩留まり向上のための必要
数以上に補完機能が準備されてしまっていた。第3の問
題点は、シュリンクチップ開発のための工数が膨大に必
要であるという点である。
The first problem is that the complementary function part is adjacent to or scattered from the original function part. In addition, since a complementary function is always required at the time of manufacture, there is also a problem that even if it becomes unnecessary, it cannot be deleted. The second problem is that, for example, the redundancy function of the semiconductor memory device has the same configuration at an arbitrary position in the chip, and therefore, the scale of the complementary function increases in proportion to the original storage capacity. Is to put it. As a result, more complementary functions were prepared than necessary for improving the yield. A third problem is that a large number of steps are required for shrink chip development.

【0010】本発明は、上記事情に鑑みてなされたもの
で、補助回路を分離可能とすることにより、チップサイ
ズを低減し得る半導体装置を提供することを目的とす
る。また、本発明は、リダンダンシー用回路の数を低減
させることにより、チップサイズを低減し得る半導体装
置を提供することを目的とする。
The present invention has been made in view of the above circumstances, and has as its object to provide a semiconductor device capable of reducing a chip size by making an auxiliary circuit separable. Another object of the present invention is to provide a semiconductor device capable of reducing the chip size by reducing the number of redundancy circuits.

【0011】[0011]

【課題を解決するための手段】請求項1記載の半導体装
置においては、半導体チップ内に、特定の機能を有する
電子回路からなる半導体集積回路が形成されてなる半導
体装置において、前記半導体集積回路の補完機能やテス
ト機能等の補助機能を行う補助回路が設けられ、前記半
導体集積回路が、半導体メモリセル集積回路であり、前
記補助回路が、前記半導体メモリセル集積回路の製造時
における不良機能を補うリダンダンシー用回路であっ
て、該補助回路は、前記半導体集積回路が形成された領
域の周辺部分の半導体チップ上であって、スクライブ線
を介して切断可能な領域に配置されていることを特徴と
する。請求項2記載の半導体装置においては、半導体チ
ップ内に、特定の機能を有する電子回路からなる半導体
集積回路が形成されてなる半導体装置において、 前記
半導体集積回路の補完機能やテスト機能等の補助機能を
行う補助回路が設けられ、前記半導体集積回路が、半導
体メモリセル集積回路であり、前記補助回路が、前記
導体メモリセル集積回路の製造時における不良機能を補
うリダンダンシー用回路であって、該リダンダンシー用
回路は、複数の半導体メモリセルに対して1つの割合で
設けられ、該補助回路は、前記半導体集積回路が形成さ
れた領域の周辺部分の半導体チップ上であって、スクラ
イブ線を介して切断可能な領域に配置されていることを
特徴とする。
According to a first aspect of the present invention, there is provided a semiconductor device in which a semiconductor integrated circuit comprising an electronic circuit having a specific function is formed in a semiconductor chip. auxiliary circuit for performing an auxiliary function such as completion and test function is provided, the half
The conductor integrated circuit is a semiconductor memory cell integrated circuit;
The auxiliary circuit is used when manufacturing the semiconductor memory cell integrated circuit.
Circuit for redundancy to compensate for defective functions in
The auxiliary circuit is arranged on a semiconductor chip in a peripheral portion of a region where the semiconductor integrated circuit is formed, and is arranged in a region that can be cut through a scribe line. In the semiconductor device according to the second aspect, a semiconductor chip is provided.
Semiconductors consisting of electronic circuits with specific functions
A semiconductor device on which an integrated circuit is formed;
Auxiliary functions such as complementary functions and test functions for semiconductor integrated circuits
Auxiliary circuit is provided to perform, the semiconductor integrated circuit, a semiconductor memory cell integrated circuit, the auxiliary circuit, met redundancy circuit compensates a defective function in the manufacturing of the semi <br/> conductor memory cell integrated circuit Thus, the redundancy circuit is provided at a ratio of one to a plurality of semiconductor memory cells.
And the auxiliary circuit is provided with the semiconductor integrated circuit.
On the semiconductor chip in the periphery of the
It is characterized in that it is arranged in a region that can be cut through the eve line .

【0012】請求項1記載の発明によると、補助回路
が、半導体集積回路が形成された領域の周辺部分に配置
されている。すなわち、本発明においては、補完機能や
テスト機能等の補助機能を行う補助回路を備えた部分
(以下、「補助チップ」と称す)を、本来の機能部分の
みを残した部分(以下、「本チップ」と称す)に付帯さ
せている。これにより、補助機能を任意に分割可能と
し、性能を変えることなくチップサイズを縮小すること
ができる。つまり、チップ内に散在していた補助機能部
分を補助チップ内に集中配置し、従来と同一の機能を保
つため接続しておく。かつ、分離可能とするために、本
チップと補助チップとの間に、スクライブ線が設けられ
ることが好ましく、このスクライブ線においては、メタ
ルオプションと同様に、別データ層にて設計を行う。ま
た、補助チップを削除する際には、ステッパーの露光範
囲調節機能や本チップのみのマスクを準備することによ
り、可能となる。請求項2記載の発明によると、補助回
路が、リダンダンシー用回路であるので、歩留まりが向
上して、リダンダンシー機能を必要としなくなった際
に、リダンダンシー用回路を削除することが容易であ
る。請求項3記載の発明によると、複数の半導体メモリ
セルに対して1つの割合でリダンダンシー用回路が設け
られることにより、リダンダンシー用回路の数を低減す
ることができる。これにより、リダンダンシー用回路の
占める面積比率を低減させることができ、有効チップ数
を増大させることができる。すなわち、従来技術におい
ては、1つの半導体メモリセルに対して1つの割合でリ
ダンダンシー用回路(リダンダンシー用メモリやその制
御回路等)が設けられていたため、必要以上に多数のリ
ダンダンシー用回路が形成されており、リダンダンシー
用回路の占める面積が相対的に大きくなっていた。これ
に対して、本発明においては、リダンダンシー用回路の
数を、複数の半導体メモリセルに対して1つの割合とす
ることにより、上記効果をもたらすことができる。
According to the first aspect of the present invention, the auxiliary circuit is arranged in a peripheral portion of a region where the semiconductor integrated circuit is formed. That is, in the present invention, a portion provided with an auxiliary circuit that performs an auxiliary function such as a complementary function or a test function (hereinafter, referred to as an “auxiliary chip”) is replaced by a portion (hereinafter, referred to as “an auxiliary chip”) in which only the original functional portion is left. Chips). As a result, the auxiliary function can be arbitrarily divided, and the chip size can be reduced without changing the performance. In other words, the auxiliary function parts scattered in the chip are centrally arranged in the auxiliary chip, and are connected to maintain the same function as the conventional one. In addition, in order to enable separation, a scribe line is preferably provided between the present chip and the auxiliary chip, and the scribe line is designed in a separate data layer as in the case of the metal option. In addition, when the auxiliary chip is deleted, it becomes possible by preparing the exposure range adjusting function of the stepper or preparing a mask of only this chip. According to the second aspect of the present invention, since the auxiliary circuit is a redundancy circuit, the yield is improved, and it is easy to eliminate the redundancy circuit when the redundancy function is no longer required. According to the third aspect of the present invention, the number of the redundancy circuits can be reduced by providing one redundancy circuit for a plurality of semiconductor memory cells. Thus, the area ratio occupied by the redundancy circuit can be reduced, and the number of effective chips can be increased. That is, in the related art, a redundancy circuit (redundancy memory and its control circuit, etc.) is provided at one ratio for one semiconductor memory cell, so that more redundancy circuits than necessary are formed. As a result, the area occupied by the redundancy circuit was relatively large. On the other hand, in the present invention, the above effects can be obtained by setting the number of redundancy circuits to one for a plurality of semiconductor memory cells.

【0013】[0013]

【発明の実施の形態】以下、本発明の実施の形態につい
て、図面を参照して説明する。
Embodiments of the present invention will be described below with reference to the drawings.

【0014】図1は、本発明の半導体装置の一実施形態
を示すもので、半導体装置の一例として、リダンダンシ
ー機能を備えた半導体記憶装置を示している。
FIG. 1 shows one embodiment of the semiconductor device of the present invention, and shows a semiconductor memory device having a redundancy function as an example of the semiconductor device.

【0015】図1(a)において、半導体チップは、メ
モリセルアレイ1(半導体メモリセル)等を任意の数だ
け行列配置した本チップ(半導体メモリセル集積回路)
Aと、本チップに接した補助チップ(リダンダンシー用
回路)Bと、から構成されている。
In FIG. 1A, a semiconductor chip is a semiconductor chip (semiconductor memory cell integrated circuit) in which an arbitrary number of memory cell arrays 1 (semiconductor memory cells) and the like are arranged in rows and columns.
A and an auxiliary chip (redundancy circuit) B in contact with the present chip.

【0016】補助チップBは、ロウリダンダンシー用メ
モリセルアレイ11と、これに接して配置されたロウリ
ダンダンシー用デコーダーおよびロウリダンダンシー制
御回路10と、カラムリダンダンシー用メモリセルアレ
イ13と、これに接して配置されたカラムリダンダンシ
ー用デコーダーおよびカラムリダンダンシー制御回路1
2と、を具備している。
The auxiliary chip B includes a row redundancy memory cell array 11, a row redundancy decoder and a row redundancy control circuit 10 disposed in contact therewith, and a column redundancy memory cell array 13 and is disposed in contact therewith. Decoder for column redundancy and column redundancy control circuit 1
And 2.

【0017】この場合、ロウリダンダンシー用メモリセ
ルアレイ11と、これに接して配置されたロウリダンダ
ンシー用デコーダーおよびロウリダンダンシー制御回路
10とは、1つの列をなす複数の(図示例で言えば6個
の)メモリセルアレイ1に対して1つの割合で設けられ
たロウリダンダンシー回路を構成している。同様に、カ
ラムリダンダンシー用メモリセルアレイ13と、これに
接して配置されたカラムリダンダンシー用デコーダーお
よびカラムリダンダンシー制御回路12とは、1つの行
をなす複数のメモリセルアレイ1に対して1つの割合で
設けられたカラムリダンダンシー回路を構成している。
In this case, the row redundancy memory cell array 11 and the row redundancy decoder and row redundancy control circuit 10 arranged in contact with the memory cell array 11 are composed of a plurality of columns (six in the illustrated example). 1.) A row redundancy circuit is provided for the memory cell array 1 at a ratio of one. Similarly, the column redundancy memory cell array 13 and the column redundancy decoder and the column redundancy control circuit 12 arranged in contact therewith are provided at a ratio of one to a plurality of memory cell arrays 1 forming one row. A column redundancy circuit.

【0018】また、図1(a)の拡大図である図1
(b)に示すように、本チップAは、メモリセルの任意
の個数を行列配置させたメモリセルアレイ1と、その行
・列それぞれの方向に接して両側に配置されたカラムデ
コーダー3・ロウデコーダー2と、センスアンプ4と、
を具備している。
FIG. 1 is an enlarged view of FIG.
As shown in (b), this chip A has a memory cell array 1 in which an arbitrary number of memory cells are arranged in a matrix, and a column decoder 3 and a row decoder arranged on both sides in contact with the respective rows and columns. 2, sense amplifier 4,
Is provided.

【0019】本チップAと補助チップBとの関係につい
て、図2を参照して説明する。図2に示すように、本チ
ップAと補助チップBとの間には、スクライブ線18が
配置されている。スクライブ線18を横断して、リード
/ライトバス19、および、リダンダンシー選択信号線
・制御信号線・電源線・GND線等のライン17が、両
チップA、Bの各機能部分間を接続している。また、補
助チップB内には、前述のように、リダンダンシー用メ
モリセルアレイ14(ロウリダンダンシー用メモリセル
アレイ11またはカラムリダンダンシー用メモリセルア
レイ13)と、リダンダンシー用デコーダー15が配置
され、さらにリダンダンシー用デコーダー15に隣接し
てリダンダンシー制御回路16が配置されている。
The relationship between the present chip A and the auxiliary chip B will be described with reference to FIG. As shown in FIG. 2, a scribe line 18 is arranged between the present chip A and the auxiliary chip B. Across the scribe line 18, a read / write bus 19 and a line 17 such as a redundancy selection signal line, a control signal line, a power supply line, and a GND line connect the functional units of the chips A and B to each other. I have. As described above, the redundancy memory cell array 14 (the row redundancy memory cell array 11 or the column redundancy memory cell array 13) and the redundancy decoder 15 are arranged in the auxiliary chip B. A redundancy control circuit 16 is arranged adjacent to the control circuit.

【0020】図1(b)において、メモリセルアレイ
1、ロウデコーダー2、カラムデコーダー3、センスア
ンプ4は、半導体記憶装置本来の機能を実現するための
部分である。一方、図1(a)に示す、カラムリダンダ
ンシー用メモリセルアレイ13、ロウリダンダンシー用
メモリセルアレイ11、カラムリダンダンシー用デコー
ダーおよびカラムリダンダンシー制御回路12、ロウリ
ダンダンシー用デコーダーおよびロウリダンダンシー制
御回路10は、本来の機能を補助する目的で存在してい
る。図からわかるように、本来の機能部分と補助機能部
分とは、明確に分離して配置されており、図2に示すよ
うに、スクライブ線18において切断可能となってい
る。
In FIG. 1B, a memory cell array 1, a row decoder 2, a column decoder 3, and a sense amplifier 4 are parts for realizing the original functions of the semiconductor memory device. On the other hand, the column redundancy memory cell array 13, the row redundancy memory cell array 11, the column redundancy decoder and the column redundancy control circuit 12, the row redundancy decoder and the row redundancy control circuit 10 shown in FIG. Exist for the purpose of assisting. As can be seen, the original functional part and the auxiliary functional part are clearly separated from each other, and can be cut at the scribe line 18 as shown in FIG.

【0021】ここで、本チップAと補助チップBとの間
は、従来の方法と変わらない機能を維持するために上位
メタル層配線で接続されている。これには、リードライ
トバス線、リダンダンシー用信号線群、等がある。この
とき、スクライブ線18との交差部分20を、予め別の
データ層で設計しておくことにより、後に補助チップB
をこの部分のスクライブ線で切断するように生産を変更
する際に、交差部分20を加えないメタルオプションマ
スクを準備することで、スクライブ部分のメタル層を容
易に取り除くことができることにより、切断時のゴミに
よる歩留まり低下を防ぐことができる。
Here, the chip A and the auxiliary chip B are connected by an upper metal layer wiring in order to maintain the same function as the conventional method. This includes a read / write bus line, a signal line group for redundancy, and the like. At this time, the intersection 20 with the scribe line 18 is designed in another data layer in advance so that the auxiliary chip B
When the production is changed so as to be cut by the scribe line of this part, the metal layer of the scribe part can be easily removed by preparing a metal option mask that does not add the intersection part 20, so that the It is possible to prevent a decrease in yield due to dust.

【0022】このようにして、任意に補助チップBを切
断可能になると、生産技術が向上して歩留まりが上がる
ことにより補助機能がない場合の方が生産有利になる場
合など、つまり、補助機能が不要になったときに容易に
削除することができる。これは、ステッパーのシャッタ
ーで露光範囲を調節したり、面付けの違うマスクを準備
したりして、本チップAのみを生産することにより、可
能となる。
In this way, if the auxiliary chip B can be arbitrarily cut, the production technology is improved and the yield is increased, so that the production without the auxiliary function becomes more advantageous. It can be easily deleted when it is no longer needed. This can be achieved by adjusting the exposure range with the shutter of the stepper, or preparing a mask with a different imposition, and producing only the present chip A.

【0023】〔計算例〕以下、リダンダンシー機能を有
する半導体記憶装置に関して、従来方式と本発明による
方式とを比較する。計算条件は、8インチウェハを仮
定すること、リダンダンシー救済率を95%と仮定す
ること、完全良品率とリダンダンシー救済率以外は考
慮しないこと(テスト費用等は考慮しない)、である。
また、本発明においては、リダンダンシー用回路を設け
ないものとする。
[Calculation Example] Hereinafter, a conventional method and a method according to the present invention will be compared with respect to a semiconductor memory device having a redundancy function. The calculation conditions are assuming an 8-inch wafer, assuming a redundancy remedy rate of 95%, and taking no consideration other than the perfect non-defective product rate and the redundancy remedy rate (not considering test costs, etc.).
Further, in the present invention, no redundancy circuit is provided.

【0024】〔例1〕完全良品率が70%の場合 従来方式では、チップサイズを4mm×8mmとする
と、有効チップ数は850個/枚である。完全良品数
は、850個×0.7=595個である。リダンダンシ
ー救済品数は、(850−595)×0.95=242
個である。合計は、595+242=837個である。
本発明では、チップサイズを3.7mm×8mmとする
と、有効チップ数は924個/枚である。完全良品数
は、924個×0.7=646個である。したがって、
837個>646個で、従来方式の方が多い。
Example 1 In the case where the perfect non-defective rate is 70% In the conventional method, if the chip size is 4 mm × 8 mm, the number of effective chips is 850 / chip. The number of perfect non-defective products is 850 × 0.7 = 595. The number of redundancy relief products is (850-595) x 0.95 = 242
Individual. The total is 595 + 242 = 837.
In the present invention, when the chip size is 3.7 mm × 8 mm, the number of effective chips is 924 / sheet. The number of perfect non-defective products is 924 × 0.7 = 646. Therefore,
837> 646, and the conventional method is more common.

【0025】〔例2〕完全良品率が92%の場合 従来方式では、チップサイズを4mm×8mmとする
と、有効チップ数は850個/枚である。完全良品数
は、850個×0.92=782個である。リダンダン
シー救済品数は、(850−782)×0.95=64
個である。合計は、782+64=846個である。本
発明では、チップサイズを3.7mm×8mmとする
と、有効チップ数は924個/枚である。完全良品数
は、924個×0.92=850個である。したがっ
て、846個<850個で、本発明の方が多い。
[Example 2] When the perfect non-defective rate is 92% In the conventional method, if the chip size is 4 mm × 8 mm, the number of effective chips is 850 / sheet. The number of perfect non-defective products is 850 × 0.92 = 782. The number of redundancy relief products is (850-782) x 0.95 = 64
Individual. The total is 782 + 64 = 846. In the present invention, when the chip size is 3.7 mm × 8 mm, the number of effective chips is 924 / sheet. The number of perfect non-defective products is 924 × 0.92 = 850. Therefore, 846 <850, and the present invention is more common.

【0026】上述の例では、補完機能を必要としない完
全良品が生産できる率(以下、「完全良品率」と称す)
が70%と低い場合には、従来方式の方が良品数が勝る
が、完全良品率が92%と高率になると、リダンダンシ
ー用回路を設けなくても本発明の方法が勝ることがわか
る。このように、完全良品率が向上して、補完機能を必
要としなくなった際に補助チップを削除することによ
り、チップサイズが縮小できる。そのことにより、生産
性も向上することができる。
In the above example, the rate at which a perfect non-defective product that does not require a supplementary function can be produced (hereinafter, referred to as "perfect non-defective product rate")
Is 70%, the conventional method is superior in the number of non-defective products. However, when the perfect non-defective ratio is as high as 92%, the method of the present invention is superior without providing a redundancy circuit. In this way, the chip size can be reduced by removing the auxiliary chip when the complete non-defective product rate is improved and the complement function is no longer required. Thereby, productivity can be improved.

【0027】[0027]

【発明の効果】本発明の半導体装置によれば、以下の効
果を奏する。第1の効果は、テスト機能・補完機能等の
補助機能が不要になった時点で、このような補助機能を
容易に削除できるようになるということである。その理
由は、テスト機能・補完機能等の補助機能部分を独立配
置することにより、分離可能になるからである。第2の
効果は、本来の機能部分にかかわらず、テスト機能・補
完機能等の補助機能の設計が独立して行えることであ
る。その理由も、テスト機能・補完機能等の補助機能部
分を独立配置することにより、分離可能になるからであ
る。第3の効果は、設計工数の削減が可能になるという
ことである。その理由は、予め性能確認の済んだ製品
を、品質を変えずに、容易にチップサイズを縮小できる
ことにより、開発工数を削減できるからである。
According to the semiconductor device of the present invention, the following effects can be obtained. The first effect is that when the auxiliary functions such as the test function and the complementary function become unnecessary, such auxiliary functions can be easily deleted. The reason for this is that the auxiliary functions such as the test function and the complementary function can be separated by independently arranging them. A second effect is that independent design of auxiliary functions such as a test function and a complementary function can be performed independently of the original functional part. The reason is that the auxiliary functions such as the test function and the complementary function can be separated by independently arranging them. A third effect is that design man-hours can be reduced. The reason is that the number of development steps can be reduced by easily reducing the chip size of a product whose performance has been confirmed in advance without changing the quality.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】 (a)は本発明の半導体装置の一実施形態を
示す概略構成図であり、(b)はその拡大図である。
FIG. 1A is a schematic configuration diagram illustrating an embodiment of a semiconductor device according to the present invention, and FIG. 1B is an enlarged view thereof.

【図2】 図1の半導体装置における補助機能部分を拡
大して示す概略構成図である。
FIG. 2 is a schematic configuration diagram showing an enlarged auxiliary function part in the semiconductor device of FIG. 1;

【図3】 補助機能としてテスト機能を有する従来の半
導体装置の構成例を示す図である。
FIG. 3 is a diagram showing a configuration example of a conventional semiconductor device having a test function as an auxiliary function.

【図4】 補助機能としてリダンダンシー機能を有する
従来の半導体装置の構成例を示す図である。
FIG. 4 is a diagram showing a configuration example of a conventional semiconductor device having a redundancy function as an auxiliary function.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

A 本チップ(半導体メモリセル集積回路) B 補助チップ(リダンダンシー用回路) 1 メモリセルアレイ(半導体メモリセル) 2 ロウデコーダー 3 カラムデコーダー 4 センスアンプ 10 ロウリダンダンシー用デコーダーおよびロウリダ
ンダンシー制御回路 11 ロウリダンダンシー用メモリセルアレイ 12 カラムリダンダンシー用デコーダーおよびカラム
リダンダンシー制御回路 13 カラムリダンダンシー用メモリセルアレイ 18 スクライブ線
A chip (semiconductor memory cell integrated circuit) B auxiliary chip (redundancy circuit) 1 memory cell array (semiconductor memory cell) 2 row decoder 3 column decoder 4 sense amplifier 10 decoder for row redundancy and row redundancy control circuit 11 memory for row redundancy Cell array 12 Decoder for column redundancy and column redundancy control circuit 13 Memory cell array for column redundancy 18 Scribe line

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 FI H01L 27/10 471 H01L 27/04 A (56)参考文献 特開 平6−69297(JP,A) 特開 平4−305960(JP,A) 特開 平1−215040(JP,A) 特開 昭61−104640(JP,A) 特開 平7−94588(JP,A) (58)調査した分野(Int.Cl.7,DB名) H01L 27/04 G11C 29/00 603 G11C 29/00 671 H01L 21/82 H01L 21/822 H01L 27/10 471 ──────────────────────────────────────────────────続 き Continuation of the front page (51) Int.Cl. 7 Identification symbol FI H01L 27/10 471 H01L 27/04 A (56) References JP-A-6-69297 (JP, A) JP-A-4-305960 (JP, A) JP-A-1-215040 (JP, A) JP-A-61-104640 (JP, A) JP-A-7-94588 (JP, A) (58) Fields investigated (Int. Cl. 7) , DB name) H01L 27/04 G11C 29/00 603 G11C 29/00 671 H01L 21/82 H01L 21/822 H01L 27/10 471

Claims (2)

(57)【特許請求の範囲】(57) [Claims] 【請求項1】 半導体チップ内に、特定の機能を有する
電子回路からなる半導体集積回路が形成されてなる半導
体装置において、 前記半導体集積回路の補完機能やテスト機能等の補助機
能を行う補助回路が設けられ、前記半導体集積回路が、半導体メモリセル集積回路であ
り、前記補助回路が、前記半導体メモリセル集積回路の
製造時における不良機能を補うリダンダンシー用回路で
あって、 該補助回路は、前記半導体集積回路が形成された領域の
周辺部分の半導体チップ上であって、スクライブ線を介
して切断可能な領域に配置されていることを特徴とする
半導体装置。
In a semiconductor device in which a semiconductor integrated circuit including an electronic circuit having a specific function is formed in a semiconductor chip, an auxiliary circuit for performing an auxiliary function such as a complementary function or a test function of the semiconductor integrated circuit is provided. Wherein the semiconductor integrated circuit is a semiconductor memory cell integrated circuit.
The auxiliary circuit is a semiconductor memory cell integrated circuit.
A circuit for redundancy that compensates for defective functions during manufacturing
The semiconductor device is characterized in that the auxiliary circuit is arranged in a region that can be cut through a scribe line on a semiconductor chip in a peripheral portion of a region where the semiconductor integrated circuit is formed.
【請求項2】 半導体チップ内に、特定の機能を有する
電子回路からなる半導体集積回路が形成されてなる半導
体装置において、 前記半導体集積回路の補完機能やテスト機能等の補助機
能を行う補助回路が設けられ、 前記半導体集積回路が、半導体メモリセル集積回路であ
り、前記補助回路が、前記半導体メモリセル集積回路の
製造時における不良機能を補うリダンダンシー用回路
あって、 該リダンダンシー用回路は、複数の半導体メモリセルに
対して1つの割合で設けられ、 該補助回路は、前記半導体集積回路が形成された領域の
周辺部分の半導体チップ上であって、スクライブ線を介
して切断可能な領域に配置されている ことを特徴とする
半導体装置。
2. A semiconductor chip having a specific function.
Semiconductor integrated circuit formed of electronic circuit
In the body unit, auxiliary machines completion and testing functions of the semiconductor integrated circuit
Auxiliary circuit is provided for performing ability, the semiconductor integrated circuit, a semiconductor memory cell integrated circuit, the auxiliary circuit, with redundancy circuit to compensate for defective function in the manufacturing of the semiconductor memory cell integrated circuit
The redundancy circuit is provided at a ratio of one to a plurality of semiconductor memory cells , and the auxiliary circuit is provided in a region where the semiconductor integrated circuit is formed.
On the peripheral semiconductor chip via the scribe line
A semiconductor device, wherein the semiconductor device is arranged in an area that can be cut by cutting .
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