JP3203104B2 - 光起電力装置 - Google Patents

光起電力装置

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JP3203104B2 JP19439093A JP19439093A JP3203104B2 JP 3203104 B2 JP3203104 B2 JP 3203104B2 JP 19439093 A JP19439093 A JP 19439093A JP 19439093 A JP19439093 A JP 19439093A JP 3203104 B2 JP3203104 B2 JP 3203104B2
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amorphous semiconductor
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ito
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景一 佐野
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Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】この発明は光起電力装置に関し、
特にたとえばpin接合を有する非晶質半導体層をIT
Oのような透明導電膜とAgのような金属電極膜とで挟
む構造の光起電力装置に関する。
【0002】
【従来の技術】この種の光起電力装置の一例が、たとえ
ば、昭和59年12月17日付で公開された特開昭59
−224183号公報に開示されている。この従来技術
では、pin接合を有する非単結晶半導体層を光入射側
のITOと裏面電極とで挟み、ITO表面を凹凸に形成
するとともに、非単結晶半導体層のn層表面を凹凸に形
成している。この従来技術によれば、このような凹凸表
面を形成するとともに、n層と裏面電極との間にさらに
ITOを介挿しているので、反射率が大きくなり、それ
だけ効率が改善されている。
【0003】
【発明が解決しようとする課題】上述の従来技術では、
ITOの膜厚をたとえば5000Å以上に大きくしない
と凹凸が形成できないので、このITOによる光透過率
の低下を招来し、結果的に効率の改善につながらないと
いう欠点がある。それゆえに、この発明の主たる目的
は、効率をさらに改善できる光起電力装置を提供するこ
とである。
【0004】
【課題を解決するための手段】この発明は、非晶質半導
体層を光入射側の透明導電膜と反対側の電極層とで挟む
光起電力装置において、電極層を透明酸化物粒と金属粒
との混合物で形成したことを特徴とする、光起電力装置
である。
【0005】
【作用】電極層が透明酸化物粒と金属粒との混合物から
なるので、非晶質半導体層を通過した光が電極層で乱反
射される。したがって、非晶質半導体層中を光が斜めに
進行する効果が大きくなり、効率が改善される。
【0006】
【発明の効果】この発明によれば、裏面電極層として透
明酸化物粒と金属粒との混合物を用いることによって、
光透過率の低下なしに反射率を向上ししかも乱反射させ
るので、非晶質半導体層中を光が進む距離が長くなり、
したがって効率が改善される。この発明の上述の目的,
その他の目的,特徴および利点は、図面を参照して行う
以下の実施例の詳細な説明から一層明らかとなろう。
【0007】
【実施例】図1に示す実施例の光起電力装置10はガラ
ス基板12を含み、そのガラス基板12上にITO1
4,非晶質半導体層16および電極層18を順次積層す
る。非晶質半導体層16としてはアモルファス半導体の
ほか微結晶ないし多結晶半導体が用いられる。この非晶
質半導体層16は光入射側すなわちガラス基板12側か
ら順次形成されたpin接合を含む。そして、電極層1
8は、図2に示すように、透明酸化物粒18aと金属粒
18bとの混合物からなる。電極層18は、光起電力の
取出電極として作用するとともに、ガラス基板12およ
びITO14を経て非晶質半導体層16に入射した光を
反射させて再び非晶質半導体層16中に入射させて効率
の改善を図るものである。このような電極層18は、具
体的には、たとえばRFスパッタリング,DCスパッタ
リング,抵抗加熱蒸着あるいはイオンビーム蒸着などの
蒸着技術を用いて、たとえば数100Å程度の厚みに形
成される。
【0008】このような蒸着の初期段階においては、蒸
着物質は島状になることが知られていて、これを透明酸
化物と金属とで交互に繰り返せば、図2のように透明酸
化物粒18aと金属粒18bとが混合した電極層18が
得られる。実験ではRFスパッタリングでITOとAg
とを用いて電極層18を形成した。そのときの反応圧力
は5mTorrとし、RFパワーは300Wとし、基板
温度Tsは100℃とした。このような条件において1
0秒を超えない範囲でITOとAgとのスパッタリング
を繰り返せば、ITO粒とAg粒との混合物からなる電
極層が得られた。
【0009】このような電極層18を用いると、非晶質
半導体層16を通過した光は電極層18で乱反射され、
それによって反射光が非晶質半導体層16内を斜めに進
行することになり、したがって非晶質半導体層16内に
おける光吸収効率が大きくなるので、光起電力装置10
の短絡電流Iscが10%〜20%向上した。なお、図
2に示すような電極層を形成する場合、透明酸化物とし
てはITOのほか、SnO2 ,TiO2 ,ZnO,Ir
2 3 ,In2 3 あるいはSiO2などが利用可能で
ある。なお、SiO2 は絶縁物であるが、電極層18内
においてたとえば橋絡などによって電極層18の厚み方
向に金属粒が連続した経路が形成できる場合であれば、
このような絶縁性の透明酸化物もまた利用可能である。
そして、金属としてはAgのほかAl,AnあるいはC
uなどが利用可能である。
【0010】さらに、図2に示すような乱反射による効
率改善をさらに望めば、非晶質半導体層16内のi層を
薄くすればよい。図2に示すように透明酸化物と金属粒
との混合物からなる電極層は、図3に示すようないわゆ
る逆タイプの光起電力装置20にも利用可能である。こ
の図3に示す実施例の光起電力装置20はたとえばステ
ンレスのような基板22上に、電極層24,非晶質半導
体層26およびITOを順次積層したものである。この
光起電力装置20において、電極層24を図1実施例の
電極層18のような透明酸化物と金属粒との混合物で形
成すれば、ITOを経て非晶質半導体層26を通過した
光が電極層24で乱反射され再び非晶質半導体層26に
入射されることになる。したがって、この実施例におい
ても、先の実施例と同様に、非晶質半導体層26を通過
した光を電極層24で乱反射させることによって、効率
を高めることができるのである。
【図面の簡単な説明】
【図1】この発明の一実施例を示す図解図である。
【図2】図1実施例の電極層を拡大して模式的に示す図
解図である。
【図3】この発明の他の実施例を示す図解図である。
【符号の説明】
10,20 …光起電力装置 12,22 …基板 14,28 …ITO 16,26 …非晶質半導体層 18,24 …電極層 18a …透明酸化物粒 18b …金属粒
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (56)参考文献 特開 平5−75154(JP,A) 特開 平2−106077(JP,A) 特開 平1−149484(JP,A) 特開 平6−283746(JP,A) 実開 平2−749(JP,U) (58)調査した分野(Int.Cl.7,DB名) H01L 31/04 - 31/078

Claims (1)

    (57)【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】非晶質半導体層を光入射側の透明導電膜と
    反対側の電極層とで挟む光起電力装置において、 前記電極層を透明酸化物粒と金属粒との混合物で形成し
    たことを特徴とする、光起電力装置。
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