JP3199040B2 - 走査型露光装置及びそれに用いる露光方法並びにその制御プログラムを記録した記録媒体 - Google Patents
走査型露光装置及びそれに用いる露光方法並びにその制御プログラムを記録した記録媒体Info
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- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
- G03F7/70216—Mask projection systems
- G03F7/70358—Scanning exposure, i.e. relative movement of patterned beam and workpiece during imaging
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
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- G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
- G03F7/70691—Handling of masks or workpieces
- G03F7/70716—Stages
- G03F7/70725—Stages control
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- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Container, Conveyance, Adherence, Positioning, Of Wafer (AREA)
- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
- Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は走査型露光装置及び
それに用いる露光方法並びにその制御プログラムを記録
した記録媒体に関し、特にレチクル上のマスクパターン
とウェハとを同時に移動させながら露光を行う走査型露
光装置に関する。
それに用いる露光方法並びにその制御プログラムを記録
した記録媒体に関し、特にレチクル上のマスクパターン
とウェハとを同時に移動させながら露光を行う走査型露
光装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】従来、この種の走査型露光装置において
は、レチクルステージとウェハステージとを同時に移動
（スキャン）させながら露光を行っているため、これら
レチクルステージ及びウェハステージの振動が結像特性
に大きな影響を与えることとなる。
は、レチクルステージとウェハステージとを同時に移動
（スキャン）させながら露光を行っているため、これら
レチクルステージ及びウェハステージの振動が結像特性
に大きな影響を与えることとなる。
【０００３】すなわち、レチクルステージ及びウェハス
テージの移動（スキャン）スピードと、レチクルステー
ジ及びウェハステージの振動量との間には図３に示すよ
うな関係がある。また、レチクルステージ及びウェハス
テージの振動量と設計ルール（例えば、０．２５μｍル
ールや０．１８μｍルール等）との間には、結像に影響
を与えない許容量がある。
テージの移動（スキャン）スピードと、レチクルステー
ジ及びウェハステージの振動量との間には図３に示すよ
うな関係がある。また、レチクルステージ及びウェハス
テージの振動量と設計ルール（例えば、０．２５μｍル
ールや０．１８μｍルール等）との間には、結像に影響
を与えない許容量がある。
【０００４】このステージ駆動による振動の影響をスル
ープットの低下や走査距離の増加なしに排除するため
に、特開昭９−１９９３８６号公報に開示された技術で
は、ステージ駆動によって発生する装置の変形による露
光条件の変化を予め測定し、実際の露光時に測定された
露光条件変化に対する補正値を反映させながら走査露光
を行っている。
ープットの低下や走査距離の増加なしに排除するため
に、特開昭９−１９９３８６号公報に開示された技術で
は、ステージ駆動によって発生する装置の変形による露
光条件の変化を予め測定し、実際の露光時に測定された
露光条件変化に対する補正値を反映させながら走査露光
を行っている。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】上述した従来の走査型
露光装置では、高スループットを考慮すると、最大のス
キャンスピードを基準として露光を行いたいが、これら
レチクルステージ及びウェハステージのスキャンスピー
ドを上げると、図３に示すように、レチクルステージ及
びウェハステージの振動量が大きくなるという問題があ
る。
露光装置では、高スループットを考慮すると、最大のス
キャンスピードを基準として露光を行いたいが、これら
レチクルステージ及びウェハステージのスキャンスピー
ドを上げると、図３に示すように、レチクルステージ及
びウェハステージの振動量が大きくなるという問題があ
る。
【０００６】一方、パターンサイズに対しては許容振動
量が存在し、例えばパターンサイズが０．２５μｍルー
ルの場合には４０ｎｍの振動があったとしても結像には
影響が無いが、０．１８μｍルールの場合には２０ｎｍ
の振動があったとしても結像性能に影響がでる可能性が
ある。つまり、設計ルールが大きいパターンで影響がで
ない振動においても、設計ルールが小さい場合には影響
がでる可能性があるという問題がある。尚、上記の公報
記載の技術では実際の露光時に測定された露光条件変化
に対する補正値を反映させながら走査露光を行っている
ため、上記の問題の解決とはならない。
量が存在し、例えばパターンサイズが０．２５μｍルー
ルの場合には４０ｎｍの振動があったとしても結像には
影響が無いが、０．１８μｍルールの場合には２０ｎｍ
の振動があったとしても結像性能に影響がでる可能性が
ある。つまり、設計ルールが大きいパターンで影響がで
ない振動においても、設計ルールが小さい場合には影響
がでる可能性があるという問題がある。尚、上記の公報
記載の技術では実際の露光時に測定された露光条件変化
に対する補正値を反映させながら走査露光を行っている
ため、上記の問題の解決とはならない。
【０００７】そこで、本発明の目的は上記の問題点を解
消し、最もスループットの高い条件で露光を実施するこ
とができる走査型露光装置及びそれに用いる露光方法並
びにその制御プログラムを記録した記録媒体を提供する
ことにある。
消し、最もスループットの高い条件で露光を実施するこ
とができる走査型露光装置及びそれに用いる露光方法並
びにその制御プログラムを記録した記録媒体を提供する
ことにある。
【０００８】
【課題を解決するための手段】本発明による走査型露光
装置は、レチクルステージとウェハステージとを用いて
レチクルとウェハとを同時に移動させながら露光を行う
走査型露光装置であって、予め求められた設計ルールと
前記レチクルステージ及び前記ウェハステージの許容振
動量との関係を基に少なくとも外部から入力される設計
ルールに応じてステージ振動量とステージスキャンスピ
ードとの比例関係から前記レチクルステージ及び前記ウ
ェハステージの最大スキャンスピードを決定する決定手
段を備えている。
装置は、レチクルステージとウェハステージとを用いて
レチクルとウェハとを同時に移動させながら露光を行う
走査型露光装置であって、予め求められた設計ルールと
前記レチクルステージ及び前記ウェハステージの許容振
動量との関係を基に少なくとも外部から入力される設計
ルールに応じてステージ振動量とステージスキャンスピ
ードとの比例関係から前記レチクルステージ及び前記ウ
ェハステージの最大スキャンスピードを決定する決定手
段を備えている。
【０００９】本発明による他の走査型露光装置は、レチ
クルステージとウェハステージとを用いてレチクルとウ
ェハとを同時に移動させながら露光を行う走査型露光装
置であって、前記レチクルステージを駆動するレチクル
ステージ駆動手段と、前記ウェハステージを駆動するウ
ェハステージ駆動手段と、予め求められた設計ルールと
前記レチクルステージ及び前記ウェハステージの許容振
動量との関係を記憶するスキャンスピードテーブルと、
前記スキャンスピードテーブルの記憶内容を基に少なく
とも外部から入力される設計ルールに応じてステージ振
動量とステージスキャンスピードとの比例関係から前記
レチクルステージ及び前記ウェハステージの最大スキャ
ンスピードを決定する決定手段と、前記決定手段の決定
結果に応じて前記レチクルステージ駆動手段及び前記ウ
ェハステージ駆動手段を制御する制御手段とを備えてい
る。
クルステージとウェハステージとを用いてレチクルとウ
ェハとを同時に移動させながら露光を行う走査型露光装
置であって、前記レチクルステージを駆動するレチクル
ステージ駆動手段と、前記ウェハステージを駆動するウ
ェハステージ駆動手段と、予め求められた設計ルールと
前記レチクルステージ及び前記ウェハステージの許容振
動量との関係を記憶するスキャンスピードテーブルと、
前記スキャンスピードテーブルの記憶内容を基に少なく
とも外部から入力される設計ルールに応じてステージ振
動量とステージスキャンスピードとの比例関係から前記
レチクルステージ及び前記ウェハステージの最大スキャ
ンスピードを決定する決定手段と、前記決定手段の決定
結果に応じて前記レチクルステージ駆動手段及び前記ウ
ェハステージ駆動手段を制御する制御手段とを備えてい
る。
【００１０】本発明による走査型露光方法は、レチクル
ステージとウェハステージとを用いてレチクルとウェハ
とを同時に移動させながら露光を行う走査型露光方法で
あって、予め求められた設計ルールと前記レチクルステ
ージ及び前記ウェハステージの許容振動量との関係を基
に少なくとも外部から入力される設計ルールに応じてス
テージ振動量とステージスキャンスピードとの比例関係
から前記レチクルステージ及び前記ウェハステージの最
大スキャンスピードを決定するステップを備えている。
ステージとウェハステージとを用いてレチクルとウェハ
とを同時に移動させながら露光を行う走査型露光方法で
あって、予め求められた設計ルールと前記レチクルステ
ージ及び前記ウェハステージの許容振動量との関係を基
に少なくとも外部から入力される設計ルールに応じてス
テージ振動量とステージスキャンスピードとの比例関係
から前記レチクルステージ及び前記ウェハステージの最
大スキャンスピードを決定するステップを備えている。
【００１１】本発明による他の走査型露光方法は、レチ
クルステージとウェハステージとを用いてレチクルとウ
ェハとを同時に移動させながら露光を行う走査型露光方
法であって、予め求められた設計ルールと前記レチクル
ステージ及び前記ウェハステージの許容振動量との関係
を基に少なくとも外部から入力される設計ルールに応じ
てステージ振動量とステージスキャンスピードとの比例
関係から前記レチクルステージ及び前記ウェハステージ
の最大スキャンスピードを決定するステップと、その決
定結果に応じて前記レチクルステージを駆動するレチク
ルステージ駆動手段と前記ウェハステージを駆動するウ
ェハステージ駆動手段とを制御するステップとを備えて
いる。
クルステージとウェハステージとを用いてレチクルとウ
ェハとを同時に移動させながら露光を行う走査型露光方
法であって、予め求められた設計ルールと前記レチクル
ステージ及び前記ウェハステージの許容振動量との関係
を基に少なくとも外部から入力される設計ルールに応じ
てステージ振動量とステージスキャンスピードとの比例
関係から前記レチクルステージ及び前記ウェハステージ
の最大スキャンスピードを決定するステップと、その決
定結果に応じて前記レチクルステージを駆動するレチク
ルステージ駆動手段と前記ウェハステージを駆動するウ
ェハステージ駆動手段とを制御するステップとを備えて
いる。
【００１２】本発明による走査型露光制御プログラムを
記録した記録媒体は、コンピュータに、レチクルステー
ジとウェハステージとを用いてレチクルとウェハとを同
時に移動させながら露光を行わせるための走査型露光制
御プログラムを記録した記録媒体であって、前記走査型
露光制御プログラムは前記コンピュータに、予め求めら
れた設計ルールと前記レチクルステージ及び前記ウェハ
ステージの許容振動量との関係を基に少なくとも外部か
ら入力される設計ルールに応じてステージ振動量とステ
ージスキャンスピードとの比例関係から前記レチクルス
テージ及び前記ウェハステージの最大スキャンスピード
を決定させている。
記録した記録媒体は、コンピュータに、レチクルステー
ジとウェハステージとを用いてレチクルとウェハとを同
時に移動させながら露光を行わせるための走査型露光制
御プログラムを記録した記録媒体であって、前記走査型
露光制御プログラムは前記コンピュータに、予め求めら
れた設計ルールと前記レチクルステージ及び前記ウェハ
ステージの許容振動量との関係を基に少なくとも外部か
ら入力される設計ルールに応じてステージ振動量とステ
ージスキャンスピードとの比例関係から前記レチクルス
テージ及び前記ウェハステージの最大スキャンスピード
を決定させている。
【００１３】本発明による他の走査型露光制御プログラ
ムを記録した記録媒体は、コンピュータに、レチクルス
テージとウェハステージとを用いてレチクルとウェハと
を同時に移動させながら露光を行わせるための走査型露
光制御プログラムを記録した記録媒体であって、前記走
査型露光プログラムは前記コンピュータに、予め求めら
れた設計ルールと前記レチクルステージ及び前記ウェハ
ステージの許容振動量との関係を基に少なくとも外部か
ら入力される設計ルールに応じてステージ振動量とステ
ージスキャンスピードとの比例関係から前記レチクルス
テージ及び前記ウェハステージの最大スキャンスピード
を決定させ、その決定結果に応じて前記レチクルステー
ジを駆動するレチクルステージ駆動手段と前記ウェハス
テージを駆動するウェハステージ駆動手段とを制御させ
ている。
ムを記録した記録媒体は、コンピュータに、レチクルス
テージとウェハステージとを用いてレチクルとウェハと
を同時に移動させながら露光を行わせるための走査型露
光制御プログラムを記録した記録媒体であって、前記走
査型露光プログラムは前記コンピュータに、予め求めら
れた設計ルールと前記レチクルステージ及び前記ウェハ
ステージの許容振動量との関係を基に少なくとも外部か
ら入力される設計ルールに応じてステージ振動量とステ
ージスキャンスピードとの比例関係から前記レチクルス
テージ及び前記ウェハステージの最大スキャンスピード
を決定させ、その決定結果に応じて前記レチクルステー
ジを駆動するレチクルステージ駆動手段と前記ウェハス
テージを駆動するウェハステージ駆動手段とを制御させ
ている。
【００１４】すなわち、本発明の走査型露光装置は、予
め設計ルールと許容振動量との関係を求めておき、設計
ルールに応じてステージの最大スキャンスピードを決定
する構成としている。
め設計ルールと許容振動量との関係を求めておき、設計
ルールに応じてステージの最大スキャンスピードを決定
する構成としている。
【００１５】これによって、結像性能を劣化させること
なく、高スループットでの露光が可能になる。つまり、
設計ルールを入力することによって、ステージスキャン
スピードが決定され、ステージスピードを減速させた場
合の露光量の減光を予め設定された複数の減光フィルタ
のうちの最適なものを用いることによって達成してい
る。
なく、高スループットでの露光が可能になる。つまり、
設計ルールを入力することによって、ステージスキャン
スピードが決定され、ステージスピードを減速させた場
合の露光量の減光を予め設定された複数の減光フィルタ
のうちの最適なものを用いることによって達成してい
る。
【００１６】したがって、設計ルールに応じて、結像性
能に影響しない最大のステージスキャンスピードを得る
ことが可能となる。つまり、最もスループットの高い条
件で露光を実施することが可能となる。
能に影響しない最大のステージスキャンスピードを得る
ことが可能となる。つまり、最もスループットの高い条
件で露光を実施することが可能となる。
【００１７】
【発明の実施の形態】次に、本発明の一実施例について
図面を参照して説明する。図１は本発明の一実施例によ
る走査型露光装置の構成を示すブロック図である。図に
おいて、本発明の一実施例による走査型露光装置は減光
フィルタ１と、レチクルステージ２と、レチクルステー
ジ駆動機構３と、投影レンズ４と、ウェハステージ６
と、ウェハステージ駆動機構７と、スキャンスピード制
御装置８と、入力装置９と、スキャンスピードテーブル
１０と、制御メモリ１１とから構成されている。
図面を参照して説明する。図１は本発明の一実施例によ
る走査型露光装置の構成を示すブロック図である。図に
おいて、本発明の一実施例による走査型露光装置は減光
フィルタ１と、レチクルステージ２と、レチクルステー
ジ駆動機構３と、投影レンズ４と、ウェハステージ６
と、ウェハステージ駆動機構７と、スキャンスピード制
御装置８と、入力装置９と、スキャンスピードテーブル
１０と、制御メモリ１１とから構成されている。
【００１８】減光フィルタ１は予め用意されている複数
のフィルタの中から、ステージスピードを減速させた場
合に最適な露光量を得るための減光を実現すべく選択さ
れたフィルタがセットされている。
のフィルタの中から、ステージスピードを減速させた場
合に最適な露光量を得るための減光を実現すべく選択さ
れたフィルタがセットされている。
【００１９】レチクルステージ２はマスクパターンが形
成されたレチクル（図示せず）を搭載し、レチクルステ
ージ駆動機構３によって矢印Ａの方向に移動される。レ
チクルステージ駆動機構３はスキャンスピード制御装置
８によって指示される速度でレチクルステージ２を移動
させる。
成されたレチクル（図示せず）を搭載し、レチクルステ
ージ駆動機構３によって矢印Ａの方向に移動される。レ
チクルステージ駆動機構３はスキャンスピード制御装置
８によって指示される速度でレチクルステージ２を移動
させる。
【００２０】投影レンズ４は減光フィルタ１及びレチク
ルステージ２上のレチクルを介して入射された光を、ウ
ェハステージ６上に載置されたウェハ５上に照射する。
ウェハステージ６はウェハ５を搭載し、ウェハステージ
駆動機構７によって矢印Ｂの方向に移動される。ウェハ
ステージ駆動機構７はスキャンスピード制御装置８によ
って指示される速度でウェハステージ６を移動させる。
ルステージ２上のレチクルを介して入射された光を、ウ
ェハステージ６上に載置されたウェハ５上に照射する。
ウェハステージ６はウェハ５を搭載し、ウェハステージ
駆動機構７によって矢印Ｂの方向に移動される。ウェハ
ステージ駆動機構７はスキャンスピード制御装置８によ
って指示される速度でウェハステージ６を移動させる。
【００２１】スキャンスピード制御装置８は入力装置９
から入力されるパターンサイズ及び設計ルールを基にス
キャンスピードテーブル１０を参照し、ステージ振動量
とステージスキャンスピードとの関係から設計ルールに
応じた最大のスキャンスピードを決定する。スキャンス
ピード制御装置８は決定したスキャンスピードを基にレ
チクルステージ２及びウェハステージ６各々の移動速度
をレチクルステージ駆動機構３及びウェハステージ駆動
機構７に指示する。
から入力されるパターンサイズ及び設計ルールを基にス
キャンスピードテーブル１０を参照し、ステージ振動量
とステージスキャンスピードとの関係から設計ルールに
応じた最大のスキャンスピードを決定する。スキャンス
ピード制御装置８は決定したスキャンスピードを基にレ
チクルステージ２及びウェハステージ６各々の移動速度
をレチクルステージ駆動機構３及びウェハステージ駆動
機構７に指示する。
【００２２】スキャンスピードテーブル１０には予めパ
ターンサイズ及び設計ルールに対して結像特性に影響を
及ぼすステージ振動量を求め、そのステージ振動量から
設定されたステージ振動量とステージスキャンスピード
との関係が格納されている。制御メモリ１１にはスキャ
ンスピード制御装置８の処理動作を実現するためのプロ
グラムが格納されており、ＲＯＭ（リードオンリメモ
リ）やＩＣ（集積回路）メモリが使用可能である。
ターンサイズ及び設計ルールに対して結像特性に影響を
及ぼすステージ振動量を求め、そのステージ振動量から
設定されたステージ振動量とステージスキャンスピード
との関係が格納されている。制御メモリ１１にはスキャ
ンスピード制御装置８の処理動作を実現するためのプロ
グラムが格納されており、ＲＯＭ（リードオンリメモ
リ）やＩＣ（集積回路）メモリが使用可能である。
【００２３】図２は図１のスキャンスピード制御装置８
の処理動作を示すフローチャートであり、図３は本発明
の一実施例で用いるステージ振動量とステージスキャン
スピードとの関係を示す図である。これら図１〜図３を
参照して本発明の一実施例による走査型露光装置の動作
について説明する。尚、図２に示す処理動作はスキャン
スピード制御装置８が制御メモリ１１のプログラムを実
行することで実現される。
の処理動作を示すフローチャートであり、図３は本発明
の一実施例で用いるステージ振動量とステージスキャン
スピードとの関係を示す図である。これら図１〜図３を
参照して本発明の一実施例による走査型露光装置の動作
について説明する。尚、図２に示す処理動作はスキャン
スピード制御装置８が制御メモリ１１のプログラムを実
行することで実現される。
【００２４】本発明の一実施例による走査型露光装置で
は、図１に示すように、レチクルステージ駆動機構３及
びウェハステージ駆動機構７によってレチクルステージ
２とウェハステージ６とを逆方向（または同一方向）に
同期させながら移動させ、露光を実施する形態をとって
いる。この場合、これらのステージを移動させることに
よって振動が生じるため、結像性能が影響する場合があ
る。特に、設計ルールが小さい場合には少しの振動でも
影響を受ける。
は、図１に示すように、レチクルステージ駆動機構３及
びウェハステージ駆動機構７によってレチクルステージ
２とウェハステージ６とを逆方向（または同一方向）に
同期させながら移動させ、露光を実施する形態をとって
いる。この場合、これらのステージを移動させることに
よって振動が生じるため、結像性能が影響する場合があ
る。特に、設計ルールが小さい場合には少しの振動でも
影響を受ける。
【００２５】例えば、０．２５μｍルールの場合には４
０ｎｍの振動でも影響がでないとしても、０．１８μｍ
ルールの場合には２０ｎｍの振動でも影響がでる可能性
がある。通常、最大のスループットを得るために、ステ
ージスキャンスピードは最大に設定してあるため、この
時のステージ振動量が４０ｎｍであるとすると、０．１
８μｍルールの結像は得られないことになる。
０ｎｍの振動でも影響がでないとしても、０．１８μｍ
ルールの場合には２０ｎｍの振動でも影響がでる可能性
がある。通常、最大のスループットを得るために、ステ
ージスキャンスピードは最大に設定してあるため、この
時のステージ振動量が４０ｎｍであるとすると、０．１
８μｍルールの結像は得られないことになる。
【００２６】振動量とスキャンスピードとは図３に示す
ような比例関係にあるため、予め設計ルールと許容振動
量との関係を求めておき、設計ルールに応じてステージ
の最大スキャンスピードを決定する構成にすると、結像
性能を劣化させることなく、高スループットで露光が可
能になる。
ような比例関係にあるため、予め設計ルールと許容振動
量との関係を求めておき、設計ルールに応じてステージ
の最大スキャンスピードを決定する構成にすると、結像
性能を劣化させることなく、高スループットで露光が可
能になる。
【００２７】そこで、スキャンスピード制御装置８は入
力装置９から設計ルールが入力されると（図２ステップ
Ｓ１）、その設計ルールを基にスキャンスピードテーブ
ル１０を参照し、最適最大のステージスキャンスピード
を検索する（図２ステップＳ２）。
力装置９から設計ルールが入力されると（図２ステップ
Ｓ１）、その設計ルールを基にスキャンスピードテーブ
ル１０を参照し、最適最大のステージスキャンスピード
を検索する（図２ステップＳ２）。
【００２８】スキャンスピード制御装置８は最適最大の
ステージスキャンスピードが検索されなければ（図２ス
テップＳ３）、最適最大のステージスキャンスピードが
ないことを図示せぬ表示装置に表示する（図２ステップ
Ｓ４）。
ステージスキャンスピードが検索されなければ（図２ス
テップＳ３）、最適最大のステージスキャンスピードが
ないことを図示せぬ表示装置に表示する（図２ステップ
Ｓ４）。
【００２９】また、スキャンスピード制御装置８は最適
最大のステージスキャンスピードが検索されれば（図２
ステップＳ３）、予め用意されている複数の減光フィル
タ１の中から、前回のステージスピードからの減速また
は増速に応じた最適なものを選択し（図２ステップＳ
５）、その選択結果を表示装置に表示して減光フィルタ
１のセットを指示する。オペレータはその指示に応じて
減光フィルタ１の交換等を行う。
最大のステージスキャンスピードが検索されれば（図２
ステップＳ３）、予め用意されている複数の減光フィル
タ１の中から、前回のステージスピードからの減速また
は増速に応じた最適なものを選択し（図２ステップＳ
５）、その選択結果を表示装置に表示して減光フィルタ
１のセットを指示する。オペレータはその指示に応じて
減光フィルタ１の交換等を行う。
【００３０】スキャンスピード制御装置８は検索された
最適最大のステージスキャンスピードとなるようにレチ
クルステージ駆動機構３及びウェハステージ駆動機構７
を制御し（図２ステップＳ６）、レチクルステージ駆動
機構３及びウェハステージ駆動機構７によってレチクル
ステージ２とウェハステージ６とを逆方向（矢印Ａの方
向及び矢印Ｂの方向）（または同一方向）に同期させな
がら移動させ、露光を実施させる。
最適最大のステージスキャンスピードとなるようにレチ
クルステージ駆動機構３及びウェハステージ駆動機構７
を制御し（図２ステップＳ６）、レチクルステージ駆動
機構３及びウェハステージ駆動機構７によってレチクル
ステージ２とウェハステージ６とを逆方向（矢印Ａの方
向及び矢印Ｂの方向）（または同一方向）に同期させな
がら移動させ、露光を実施させる。
【００３１】スキャンスピード制御装置８は同一条件に
て露光処理を続行するのであれば（図２ステップＳ
６）、上記のステップＳ６を繰返し実行して露光を実施
させる。また、スキャンスピード制御装置８は同一条件
にて露光処理を続行するのでなければ（図２ステップＳ
７）、全ての処理が終了かを判定し（図２ステップＳ
８）、終了であれば全ての処理を終了し、終了でなけれ
ばステップＳ１に戻って露光処理を続行する。
て露光処理を続行するのであれば（図２ステップＳ
６）、上記のステップＳ６を繰返し実行して露光を実施
させる。また、スキャンスピード制御装置８は同一条件
にて露光処理を続行するのでなければ（図２ステップＳ
７）、全ての処理が終了かを判定し（図２ステップＳ
８）、終了であれば全ての処理を終了し、終了でなけれ
ばステップＳ１に戻って露光処理を続行する。
【００３２】つまり、設計ルールを入力装置１から入力
することによって、ステージスキャンスピードを決定
し、ステージスピードを減速させた場合の露光量の減光
は減光フィルタ１を用いることによって達成される。
することによって、ステージスキャンスピードを決定
し、ステージスピードを減速させた場合の露光量の減光
は減光フィルタ１を用いることによって達成される。
【００３３】このように、予め設計ルールと許容振動量
との関係を求めておき、設計ルールに応じてレチクルス
テージ２及びウェハステージ６の最大スキャンスピード
を決定する構成とすることによって、設計ルールに応じ
て、結像性能に影響しない最大のステージスキャンスピ
ードを得ることができる。つまり、最もスループットの
高い条件で露光を実施することができる。
との関係を求めておき、設計ルールに応じてレチクルス
テージ２及びウェハステージ６の最大スキャンスピード
を決定する構成とすることによって、設計ルールに応じ
て、結像性能に影響しない最大のステージスキャンスピ
ードを得ることができる。つまり、最もスループットの
高い条件で露光を実施することができる。
【００３４】
【発明の効果】以上説明したように本発明によれば、レ
チクルステージとウェハステージとを用いてレチクルと
ウェハとを同時に移動させながら露光を行う際に、予め
求められた設計ルールとレチクルステージ及びウェハス
テージの許容振動量との関係を基に少なくとも外部から
入力される設計ルールに応じてレチクルステージ及びウ
ェハステージの最大スキャンスピードを決定することに
よって、最もスループットの高い条件で露光を実施する
ことができるという効果がある。
チクルステージとウェハステージとを用いてレチクルと
ウェハとを同時に移動させながら露光を行う際に、予め
求められた設計ルールとレチクルステージ及びウェハス
テージの許容振動量との関係を基に少なくとも外部から
入力される設計ルールに応じてレチクルステージ及びウ
ェハステージの最大スキャンスピードを決定することに
よって、最もスループットの高い条件で露光を実施する
ことができるという効果がある。
【図１】本発明の一実施例による走査型露光装置の構成
を示すブロック図である。
を示すブロック図である。
【図２】図１のスキャンスピード制御装置の処理動作を
示すフローチャートである。
示すフローチャートである。
【図３】本発明の一実施例で用いるステージ振動量とス
テージスキャンスピードとの関係を示す図である。
テージスキャンスピードとの関係を示す図である。
１ 減光フィルタ ２ レチクルステージ ３ レチクルステージ駆動機構 ４ 投影レンズ ５ ウェハステージ ６ ウェハステージ駆動機構 ７ ウェハステージ駆動機構 ８ スキャンスピード制御装置 ９ 入力装置 １０ スキャンスピードテーブル １１ 制御メモリ
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (58)調査した分野(Int.Cl.7，ＤＢ名) H01L 21/027 G03F 7/20 521 H01L 21/68
Claims (11)
- 【請求項１】 レチクルステージとウェハステージとを
用いてレチクルとウェハとを同時に移動させながら露光
を行う走査型露光装置であって、予め求められた設計ル
ールと前記レチクルステージ及び前記ウェハステージの
許容振動量との関係を基に少なくとも外部から入力され
る設計ルールに応じてステージ振動量とステージスキャ
ンスピードとの比例関係から前記レチクルステージ及び
前記ウェハステージの最大スキャンスピードを決定する
決定手段を有することを特徴とする走査型露光装置。 - 【請求項２】 前記設計ルールと前記許容振動量との関
係を記憶するスキャンスピードテーブルを含むことを特
徴とする請求項１記載の走査型露光装置。 - 【請求項３】 前記ウェハに対する絶対露光量の調整を
行うための減光フィルタを含むことを特徴とする請求項
１または請求項２記載の走査型露光装置。 - 【請求項４】 レチクルステージとウェハステージとを
用いてレチクルとウェハとを同時に移動させながら露光
を行う走査型露光装置であって、前記レチクルステージ
を駆動するレチクルステージ駆動手段と、前記ウェハス
テージを駆動するウェハステージ駆動手段と、予め求め
られた設計ルールと前記レチクルステージ及び前記ウェ
ハステージの許容振動量との関係を記憶するスキャンス
ピードテーブルと、前記スキャンスピードテーブルの記
憶内容を基に少なくとも外部から入力される設計ルール
に応じてステージ振動量とステージスキャンスピードと
の比例関係から前記レチクルステージ及び前記ウェハス
テージの最大スキャンスピードを決定する決定手段と、
前記決定手段の決定結果に応じて前記レチクルステージ
駆動手段及び前記ウェハステージ駆動手段を制御する制
御手段とを有することを特徴とする走査型露光装置。 - 【請求項５】 前記ウェハに対する絶対露光量の調整を
行うための減光フィルタを含むことを特徴とする請求項
４記載の走査型露光装置。 - 【請求項６】 レチクルステージとウェハステージとを
用いてレチクルとウェハとを同時に移動させながら露光
を行う走査型露光方法であって、予め求められた設計ル
ールと前記レチクルステージ及び前記ウェハステージの
許容振動量との関係を基に少なくとも外部から入力され
る設計ルールに応じてステージ振動量とステージスキャ
ンスピードとの比例関係から前記レチクルステージ及び
前記ウェハステージの最大スキャンスピードを決定する
ステップを有することを特徴とする走査型露光方法。 - 【請求項７】 前記ウェハへの露光を減光する減光フィ
ルタで前記ウェハに対する絶対露光量の調整を行うよう
にしたことを特徴とする請求項６記載の走査型露光方
法。 - 【請求項８】 レチクルステージとウェハステージとを
用いてレチクルとウェハとを同時に移動させながら露光
を行う走査型露光方法であって、予め求められた設計ル
ールと前記レチクルステージ及び前記ウェハステージの
許容振動量との関係を基に少なくとも外部から入力され
る設計ルールに応じてステージ振動量とステージスキャ
ンスピードとの比例関係から前記レチクルステージ及び
前記ウェハステージの最大スキャンスピードを決定する
ステップと、その決定結果に応じて前記レチクルステー
ジを駆動するレチクルステージ駆動手段と前記ウェハス
テージを駆動するウェハステージ駆動手段とを制御する
ステップとを有することを特徴とする走査型露光方法。 - 【請求項９】 前記ウェハへの露光を減光する減光フィ
ルタで前記ウェハに対する絶対露光量の調整を行うよう
にしたことを特徴とする請求項８記載の走査型露光方
法。 - 【請求項１０】 コンピュータに、レチクルステージと
ウェハステージとを用いてレチクルとウェハとを同時に
移動させながら露光を行わせるための走査型露光制御プ
ログラムを記録した記録媒体であって、前記走査型露光
制御プログラムは前記コンピュータに、予め求められた
設計ルールと前記レチクルステージ及び前記ウェハステ
ージの許容振動量との関係を基に少なくとも外部から入
力される設計ルールに応じてステージ振動量とステージ
スキャンスピードとの比例関係から前記レチクルステー
ジ及び前記ウェハステージの最大スキャンスピードを決
定させることを特徴とする走査型露光制御プログラムを
記録した記録媒体。 - 【請求項１１】 コンピュータに、レチクルステージと
ウェハステージとを用いてレチクルとウェハとを同時に
移動させながら露光を行わせるための走査型露光制御プ
ログラムを記録した記録媒体であって、前記走査型露光
プログラムは前記コンピュータに、予め求められた設計
ルールと前記レチクルステージ及び前記ウェハステージ
の許容振動量との関係を基に少なくとも外部から入力さ
れる設計ルールに応じてステージ振動量とステージスキ
ャンスピードとの比例関係から前記レチクルステージ及
び前記ウェハステージの最大スキャンスピードを決定さ
せ、その決定結果に応じて前記レチクルステージを駆動
するレチクルステージ駆動手段と前記ウェハステージを
駆動するウェハステージ駆動手段とを制御させることを
特徴とする走査型露光制御プログラムを記録した記録媒
体。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP31970598A JP3199040B2 (ja) | 1998-11-11 | 1998-11-11 | 走査型露光装置及びそれに用いる露光方法並びにその制御プログラムを記録した記録媒体 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP31970598A JP3199040B2 (ja) | 1998-11-11 | 1998-11-11 | 走査型露光装置及びそれに用いる露光方法並びにその制御プログラムを記録した記録媒体 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2000150346A JP2000150346A (ja) | 2000-05-30 |
| JP3199040B2 true JP3199040B2 (ja) | 2001-08-13 |
Family
ID=18113267
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP31970598A Expired - Fee Related JP3199040B2 (ja) | 1998-11-11 | 1998-11-11 | 走査型露光装置及びそれに用いる露光方法並びにその制御プログラムを記録した記録媒体 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3199040B2 (ja) |
-
1998
- 1998-11-11 JP JP31970598A patent/JP3199040B2/ja not_active Expired - Fee Related
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP2000150346A (ja) | 2000-05-30 |
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