JP3196515B2 - 液晶パネルの製造方法 - Google Patents
液晶パネルの製造方法Info
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Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、ディスプレイ装置等に
用いられる液晶パネルの製造方法に関するものである。
用いられる液晶パネルの製造方法に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】液晶パネルの製造方法においては、例え
ば図３に示すように、共にガラス基板からなる上基板１
と下基板２の互いの対向する面に表示パターンを形成す
る電極３が設けられ、これらに配向膜（図示せず）が塗
布される。さらにこれらの基板１、２にラビング処理が
施され、このラビング処理された基板１、２の互いの対
向する面の一方に所定の形状でシール剤４が印刷され
る。
ば図３に示すように、共にガラス基板からなる上基板１
と下基板２の互いの対向する面に表示パターンを形成す
る電極３が設けられ、これらに配向膜（図示せず）が塗
布される。さらにこれらの基板１、２にラビング処理が
施され、このラビング処理された基板１、２の互いの対
向する面の一方に所定の形状でシール剤４が印刷され
る。
【０００３】そしてこれらの基板１、２が重ね合わさ
れ、アライメントされると共に、このアライメントされ
た状態で所定のギャップが形成される。この状態でシー
ル剤４に加熱または所定の紫外線が照射されてシール剤
４が硬化される。さらに形成されたギャップに所定の液
晶（図示せず）が注入され、シール剤４の開口部が封止
された後に、熱処理されて液晶パネルが製造される。
れ、アライメントされると共に、このアライメントされ
た状態で所定のギャップが形成される。この状態でシー
ル剤４に加熱または所定の紫外線が照射されてシール剤
４が硬化される。さらに形成されたギャップに所定の液
晶（図示せず）が注入され、シール剤４の開口部が封止
された後に、熱処理されて液晶パネルが製造される。
【０００４】ところがこのような液晶パネルの製造方法
において、従来のプロセスでは、基板１、２がアライメ
ントされ、所定の圧力が基板１、２に加えられて所定の
ギャップが形成され、この状態で同時にシール剤４に加
熱または所定の紫外線が照射されてシール剤４の硬化が
行われるようにされていた。
において、従来のプロセスでは、基板１、２がアライメ
ントされ、所定の圧力が基板１、２に加えられて所定の
ギャップが形成され、この状態で同時にシール剤４に加
熱または所定の紫外線が照射されてシール剤４の硬化が
行われるようにされていた。
【０００５】このため、上述のプロセスでは、シール剤
４が加圧状態のまま硬化されることになり、加圧による
歪みを内部応力として残したまま上下基板が固定され、
後日に問題を生じる恐れがある。
４が加圧状態のまま硬化されることになり、加圧による
歪みを内部応力として残したまま上下基板が固定され、
後日に問題を生じる恐れがある。
【０００６】また、シール剤４として例えば紫外線硬化
型樹脂を使用していた場合には、基板の温度上昇を抑え
るために、紫外線の照射レベルを低く設定する必要があ
り、その分照射時間が長く必要になって、生産性が悪化
してしまうものであった。
型樹脂を使用していた場合には、基板の温度上昇を抑え
るために、紫外線の照射レベルを低く設定する必要があ
り、その分照射時間が長く必要になって、生産性が悪化
してしまうものであった。
【０００７】さらに、シール剤４として例えば熱硬化型
樹脂を使用していた場合には、シール剤以外に仮止め用
の紫外線硬化樹脂を必要とし、仮止め部としてのスペー
スが必要となるために、基板のサイズ等に制約を生じて
しまう恐れがあった。
樹脂を使用していた場合には、シール剤以外に仮止め用
の紫外線硬化樹脂を必要とし、仮止め部としてのスペー
スが必要となるために、基板のサイズ等に制約を生じて
しまう恐れがあった。
【０００８】
【発明が解決しようとする課題】この出願はこのような
点に鑑みて成されたものであって、解決しようとする問
題点は、従来のプロセスではシール剤が加圧状態のまま
硬化され、加圧による歪みを内部応力として残したまま
上下基板が固定される。またシール剤として紫外線硬化
型樹脂を使用していた場合には、紫外線の照射レベルを
低く設定する必要があり、その分照射時間が長く必要に
なって生産性が悪化してしまう。さらにシール剤として
熱硬化型樹脂を使用していた場合には、シール剤以外に
仮止め用の紫外線硬化樹脂を必要とし、基板のサイズ等
に制約を生じてしまうというものである。
点に鑑みて成されたものであって、解決しようとする問
題点は、従来のプロセスではシール剤が加圧状態のまま
硬化され、加圧による歪みを内部応力として残したまま
上下基板が固定される。またシール剤として紫外線硬化
型樹脂を使用していた場合には、紫外線の照射レベルを
低く設定する必要があり、その分照射時間が長く必要に
なって生産性が悪化してしまう。さらにシール剤として
熱硬化型樹脂を使用していた場合には、シール剤以外に
仮止め用の紫外線硬化樹脂を必要とし、基板のサイズ等
に制約を生じてしまうというものである。
【０００９】
【課題を解決するための手段】本発明による第１の手段
は、パターニングされた後に配向膜が塗布され、ラビン
グされた上下のガラス基板１、２に所定の形状で少なく
とも紫外線で硬化されるシール剤４を印刷し、このシー
ル剤４の印刷されたガラス基板１、２に対して、上記ガ
ラス基板１、２を重ね合わせて所定の小さい圧力を加え
た状態でアライメントを行う工程（Ａ）と、その後、上
記重ね合わされたガラス基板１、２に所定の大きい圧力
を加えて上記上下のガラス基板１、２間に所定のギャッ
プを形成する工程（Ｂ）と、その後、上記圧力を除くと
共に短時間で上記印刷されたシール剤４の所定部に比較
的強い紫外線を短時間スポット照射（光ファイバ１０）
して上記シール剤４の所定部（仮止め部分１１）を硬化
させる工程（Ｃ）と、その後、上記印刷されたシール剤
４の全体に比較的弱い紫外線を全面照射して上記シール
剤４の全体を硬化させる工程（Ｄ）とを有し、その後、
上記ギャップに所定の液晶を注入、封止、熱処理するよ
うにした液晶パネルの製造方法である。
は、パターニングされた後に配向膜が塗布され、ラビン
グされた上下のガラス基板１、２に所定の形状で少なく
とも紫外線で硬化されるシール剤４を印刷し、このシー
ル剤４の印刷されたガラス基板１、２に対して、上記ガ
ラス基板１、２を重ね合わせて所定の小さい圧力を加え
た状態でアライメントを行う工程（Ａ）と、その後、上
記重ね合わされたガラス基板１、２に所定の大きい圧力
を加えて上記上下のガラス基板１、２間に所定のギャッ
プを形成する工程（Ｂ）と、その後、上記圧力を除くと
共に短時間で上記印刷されたシール剤４の所定部に比較
的強い紫外線を短時間スポット照射（光ファイバ１０）
して上記シール剤４の所定部（仮止め部分１１）を硬化
させる工程（Ｃ）と、その後、上記印刷されたシール剤
４の全体に比較的弱い紫外線を全面照射して上記シール
剤４の全体を硬化させる工程（Ｄ）とを有し、その後、
上記ギャップに所定の液晶を注入、封止、熱処理するよ
うにした液晶パネルの製造方法である。
【００１０】本発明による第２の手段は、第１の手段記
載の液晶パネルの製造方法において、上記印刷されたシ
ール剤の所定部に比較的強い紫外線を短時間スポット照
射する工程（Ｃ）では、光ファイバ１０を用いて上記比
較的強い紫外線を導光して照射を行うようにした液晶パ
ネルの製造方法である。
載の液晶パネルの製造方法において、上記印刷されたシ
ール剤の所定部に比較的強い紫外線を短時間スポット照
射する工程（Ｃ）では、光ファイバ１０を用いて上記比
較的強い紫外線を導光して照射を行うようにした液晶パ
ネルの製造方法である。
【００１１】本発明による第３の手段は、第１の手段記
載の液晶パネルの製造方法において、上記シール剤が熱
硬化を併用するタイプのものであるときは、上記比較的
強い紫外線を短時間スポット照射して上記シール剤の所
定部を硬化させる工程（Ｄ）の後に、所望の加熱処理を
行う工程（Ｅ）を設けるようにした液晶パネルの製造方
法である。
載の液晶パネルの製造方法において、上記シール剤が熱
硬化を併用するタイプのものであるときは、上記比較的
強い紫外線を短時間スポット照射して上記シール剤の所
定部を硬化させる工程（Ｄ）の後に、所望の加熱処理を
行う工程（Ｅ）を設けるようにした液晶パネルの製造方
法である。
【００１２】本発明による第４の手段は、第１の手段記
載の液晶パネルの製造方法において、上記所定の小さい
圧力は上記シール剤４の設けられるシール部の面積に対
して２〜１０ｋｇ／ｃｍ2 、上記所定の大きい圧力は上
記シール部の面積に対して２〜２０ｋｇ／ｃｍ2 、上記
比較的強い紫外線は上記シール部の面積に対して１００
〜１０００ｍＷ／ｃｍ2 、上記比較的弱い紫外線は上記
シール部の面積に対して５０〜２００ｍＷ／ｃｍ2 であ
るようにした液晶パネルの製造方法である。
載の液晶パネルの製造方法において、上記所定の小さい
圧力は上記シール剤４の設けられるシール部の面積に対
して２〜１０ｋｇ／ｃｍ2 、上記所定の大きい圧力は上
記シール部の面積に対して２〜２０ｋｇ／ｃｍ2 、上記
比較的強い紫外線は上記シール部の面積に対して１００
〜１０００ｍＷ／ｃｍ2 、上記比較的弱い紫外線は上記
シール部の面積に対して５０〜２００ｍＷ／ｃｍ2 であ
るようにした液晶パネルの製造方法である。
【００１３】
【作用】これによれば、シール剤の硬化時に加圧を行っ
ていないので、加圧歪み等が発生する恐れがなく、シー
ル剤の接着力や粘度等の制約を少なくすることができ
る。また、アライメントとシール剤の硬化のプロセスを
分けているので、アライメントのプロセスにシール剤の
硬化のための長時間が費やされることがなく、生産性を
極めて向上させることができる。さらに、仮止めのため
のスペース等を設ける必要がなく、基板のサイズ等の制
約を解消することができる。
ていないので、加圧歪み等が発生する恐れがなく、シー
ル剤の接着力や粘度等の制約を少なくすることができ
る。また、アライメントとシール剤の硬化のプロセスを
分けているので、アライメントのプロセスにシール剤の
硬化のための長時間が費やされることがなく、生産性を
極めて向上させることができる。さらに、仮止めのため
のスペース等を設ける必要がなく、基板のサイズ等の制
約を解消することができる。
【００１４】
【実施例】図１は、アライメントからシール剤４の硬化
までの重ね合わせのプロセスを示す。なお、アライメン
トより前の工程及びシール剤４の硬化の後の工程は従来
と同じなので図示を省略する。また、図中で図３と対応
する部分には同一の符号を付して説明を省略する。ただ
し、図３で表示パターンを形成する電極３は、本願の説
明に不要なので図１では図示を省略する。
までの重ね合わせのプロセスを示す。なお、アライメン
トより前の工程及びシール剤４の硬化の後の工程は従来
と同じなので図示を省略する。また、図中で図３と対応
する部分には同一の符号を付して説明を省略する。ただ
し、図３で表示パターンを形成する電極３は、本願の説
明に不要なので図１では図示を省略する。
【００１５】この図１において、重ね合わせの工程より
前のプロセスは従来の液晶パネルの製造方法と同じであ
って、パターニングされたガラス基板に配向膜が塗布さ
れ、ラビング処理が行われる。これらの上下の基板１、
２の片方に、少なくとも紫外線で硬化される樹脂からな
るシール剤４が所定の形状で印刷されている。
前のプロセスは従来の液晶パネルの製造方法と同じであ
って、パターニングされたガラス基板に配向膜が塗布さ
れ、ラビング処理が行われる。これらの上下の基板１、
２の片方に、少なくとも紫外線で硬化される樹脂からな
るシール剤４が所定の形状で印刷されている。
【００１６】そして最初の工程Ａでは、これらの上下の
基板１、２に所定の小さい圧力（例えばシール剤４の印
刷されるシール部の面積に対して２〜１０ｋｇ／ｃ
ｍ2 ）を加えた状態で、所望の位置にアライメントを行
う。
基板１、２に所定の小さい圧力（例えばシール剤４の印
刷されるシール部の面積に対して２〜１０ｋｇ／ｃ
ｍ2 ）を加えた状態で、所望の位置にアライメントを行
う。
【００１７】次に工程Ｂでは、上述の工程Ａでアライメ
ントが完了した上下の基板１、２に対して、所定の大き
い圧力（例えばシール剤４の印刷されるシール部の面積
に対して２〜２０ｋｇ／ｃｍ2 ）を所定時間（例えば３
〜１０ｓｅｃ）加えて、基板１、２の間に所定のギャッ
プを形成する。
ントが完了した上下の基板１、２に対して、所定の大き
い圧力（例えばシール剤４の印刷されるシール部の面積
に対して２〜２０ｋｇ／ｃｍ2 ）を所定時間（例えば３
〜１０ｓｅｃ）加えて、基板１、２の間に所定のギャッ
プを形成する。
【００１８】さらに工程Ｃでは、上述の工程Ｂで所定の
ギャップの形成が完了した上下の基板１、２から上述の
圧力を除去し、その後短時間（例えば１０ｓｅｃ）以内
にシール剤４の一部に比較的強い紫外線（例えばシール
剤４の印刷されるシール部の面積に対して１００〜１０
００ｍＷ／ｃｍ2 ）を短時間（例えば１０ｓｅｃ）以内
照射して、シール剤４の一部を硬化し、仮止めを行う。
ギャップの形成が完了した上下の基板１、２から上述の
圧力を除去し、その後短時間（例えば１０ｓｅｃ）以内
にシール剤４の一部に比較的強い紫外線（例えばシール
剤４の印刷されるシール部の面積に対して１００〜１０
００ｍＷ／ｃｍ2 ）を短時間（例えば１０ｓｅｃ）以内
照射して、シール剤４の一部を硬化し、仮止めを行う。
【００１９】なお紫外線の照射範囲は、例えばシール部
の長さの１０〜３０ｍｍ間隔程度に１照射の割合とし、
例えば光ファイバ１０で紫外線を導光して行う。またこ
の照射される紫外線の照度及び照射時間は、使用するシ
ール剤４の感度によって最適に定められる。
の長さの１０〜３０ｍｍ間隔程度に１照射の割合とし、
例えば光ファイバ１０で紫外線を導光して行う。またこ
の照射される紫外線の照度及び照射時間は、使用するシ
ール剤４の感度によって最適に定められる。
【００２０】そして工程Ｄでは、上述の工程Ｃでシール
剤４の一部（仮止め部分１１）の硬化が完了されたシー
ル剤４の全体に、比較的弱い紫外線（例えばシール剤４
の印刷されるシール部の面積に対して５０〜２００ｍＷ
／ｃｍ2 ）を、シール剤４の硬化に必要な量照射して、
完全硬化（本硬化）を行う。
剤４の一部（仮止め部分１１）の硬化が完了されたシー
ル剤４の全体に、比較的弱い紫外線（例えばシール剤４
の印刷されるシール部の面積に対して５０〜２００ｍＷ
／ｃｍ2 ）を、シール剤４の硬化に必要な量照射して、
完全硬化（本硬化）を行う。
【００２１】このシール剤４が完全硬化（本硬化）され
た後の工程は、従来の液晶パネルの製造方法と同じであ
って、形成されたギャップに所定の液晶が注入され、シ
ール剤４の開口部が封止された後に熱処理されて液晶パ
ネルが製造される。
た後の工程は、従来の液晶パネルの製造方法と同じであ
って、形成されたギャップに所定の液晶が注入され、シ
ール剤４の開口部が封止された後に熱処理されて液晶パ
ネルが製造される。
【００２２】従ってこの方法によれば、シール剤の硬化
時に加圧を行っていないので、加圧歪み等が発生する恐
れがなく、シール剤の接着力や粘度等の制約を少なくす
ることができる。
時に加圧を行っていないので、加圧歪み等が発生する恐
れがなく、シール剤の接着力や粘度等の制約を少なくす
ることができる。
【００２３】また、アライメントとシール剤の硬化のプ
ロセスを分けているので、アライメントのプロセスにシ
ール剤の硬化のための長時間が費やされることがなく、
生産性を極めて向上させることができる。
ロセスを分けているので、アライメントのプロセスにシ
ール剤の硬化のための長時間が費やされることがなく、
生産性を極めて向上させることができる。
【００２４】すなわち従来の方法では、液晶パネルの重
ね合わせの工程で、アライメントと本硬化を同一工程で
行っていたために、紫外線照度（基板温度上昇抑制）の
制約によってタクトを短くすることができなかった。こ
れに対して本願の発明の方法によれば、大幅なタクトの
短縮が可能となるものである。
ね合わせの工程で、アライメントと本硬化を同一工程で
行っていたために、紫外線照度（基板温度上昇抑制）の
制約によってタクトを短くすることができなかった。こ
れに対して本願の発明の方法によれば、大幅なタクトの
短縮が可能となるものである。
【００２５】さらに、仮止めのためのスペース等を設け
る必要がなく、基板のサイズ等の制約を解消することが
できるものである。これにより、非常に小さな基板の作
成が可能となり、またより高精度な重ね合わせを可能に
することができる。
る必要がなく、基板のサイズ等の制約を解消することが
できるものである。これにより、非常に小さな基板の作
成が可能となり、またより高精度な重ね合わせを可能に
することができる。
【００２６】なおシール剤４として例えば熱硬化併用型
の紫外線硬化型樹脂を使用する場合には、上述の図１の
工程Ｄで本硬化を行った後に、図２に示すように所定の
加熱硬化を行う工程Ｅを設ける。そしてその後は従来の
液晶パネルの製造方法と同様に、液晶の注入、シール剤
４の開口部の封止、熱処理を行うことによって、液晶パ
ネルが製造される。
の紫外線硬化型樹脂を使用する場合には、上述の図１の
工程Ｄで本硬化を行った後に、図２に示すように所定の
加熱硬化を行う工程Ｅを設ける。そしてその後は従来の
液晶パネルの製造方法と同様に、液晶の注入、シール剤
４の開口部の封止、熱処理を行うことによって、液晶パ
ネルが製造される。
【００２７】
【発明の効果】この発明によれば、シール剤の硬化時に
加圧を行っていないので、加圧歪み等が発生する恐れが
なく、シール剤の接着力や粘度等の制約を少なくするこ
とができる。また、アライメントとシール剤の硬化のプ
ロセスを分けているので、アライメントのプロセスにシ
ール剤の硬化のための長時間が費やされることがなく、
生産性を極めて向上させることができる。さらに、仮止
めのためのスペース等を設ける必要がなく、基板のサイ
ズ等の制約を解消することができるようになった。
加圧を行っていないので、加圧歪み等が発生する恐れが
なく、シール剤の接着力や粘度等の制約を少なくするこ
とができる。また、アライメントとシール剤の硬化のプ
ロセスを分けているので、アライメントのプロセスにシ
ール剤の硬化のための長時間が費やされることがなく、
生産性を極めて向上させることができる。さらに、仮止
めのためのスペース等を設ける必要がなく、基板のサイ
ズ等の制約を解消することができるようになった。
【図１】本発明による液晶パネルの製造方法の一例の説
明図である。
明図である。
【図２】本発明による液晶パネルの製造方法の他の例の
説明図である。
説明図である。
【図３】液晶パネルの構造の説明のための図である。
【符号の説明】 １、２ ガラス基板 ４ シール剤 １０ 光ファイバ １１ 仮止め部分
Claims (4)
- 【請求項１】 パターニングされた後に配向膜が塗布さ
れ、ラビングされた上下のガラス基板に所定の形状で少
なくとも紫外線で硬化されるシール剤を印刷し、このシ
ール剤の印刷されたガラス基板に対して、 上記ガラス基板を重ね合わせて所定の小さい圧力を加え
た状態でアライメントを行う工程と、 その後、上記重ね合わされたガラス基板に所定の大きい
圧力を加えて上記上下のガラス基板間に所定のギャップ
を形成する工程と、 その後、上記圧力を除くと共に短時間で上記印刷された
シール剤の所定部に比較的強い紫外線を短時間スポット
照射して上記シール剤の所定部を硬化させる工程と、 その後、上記印刷されたシール剤の全体に比較的弱い紫
外線を全面照射して上記シール剤の全体を硬化させる工
程とを有し、 その後、上記ギャップに所定の液晶を注入、封止、熱処
理するようにした液晶パネルの製造方法。 - 【請求項２】 請求項１記載の液晶パネルの製造方法に
おいて、 上記印刷されたシール剤の所定部に比較的強い紫外線を
短時間スポット照射する工程では、光ファイバを用いて
上記比較的強い紫外線を導光して照射を行うようにした
液晶パネルの製造方法。 - 【請求項３】 請求項１記載の液晶パネルの製造方法に
おいて、 上記シール剤が熱硬化を併用するタイプのものであると
きは、上記比較的強い紫外線を短時間スポット照射して
上記シール剤の所定部を硬化させる工程の後に、所望の
加熱処理を行う工程を設けるようにした液晶パネルの製
造方法。 - 【請求項４】 請求項１記載の液晶パネルの製造方法に
おいて、 上記所定の小さい圧力は上記シール剤の設けられるシー
ル部の面積に対して２〜１０ｋｇ／ｃｍ2 、上記所定の
大きい圧力は上記シール部の面積に対して２〜２０ｋｇ
／ｃｍ2 、上記比較的強い紫外線は上記シール部の面積
に対して１００〜１０００ｍＷ／ｃｍ2 、上記比較的弱
い紫外線は上記シール部の面積に対して５０〜２００ｍ
Ｗ／ｃｍ2 であるようにした液晶パネルの製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP19975794A JP3196515B2 (ja) | 1994-08-24 | 1994-08-24 | 液晶パネルの製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP19975794A JP3196515B2 (ja) | 1994-08-24 | 1994-08-24 | 液晶パネルの製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0862556A JPH0862556A (ja) | 1996-03-08 |
| JP3196515B2 true JP3196515B2 (ja) | 2001-08-06 |
Family
ID=16413125
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP19975794A Expired - Fee Related JP3196515B2 (ja) | 1994-08-24 | 1994-08-24 | 液晶パネルの製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3196515B2 (ja) |
Families Citing this family (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR100746828B1 (ko) * | 2001-05-15 | 2007-08-07 | 엘지전자 주식회사 | 유기 전계발광 소자의 봉지장치 및 방법 |
| KR100563382B1 (ko) * | 2002-11-07 | 2006-03-28 | 코닉시스템 주식회사 | 액정표시소자용 실링제 경화방법 및 그에 사용되는 자외선조사장치 |
-
1994
- 1994-08-24 JP JP19975794A patent/JP3196515B2/ja not_active Expired - Fee Related
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|---|---|
| JPH0862556A (ja) | 1996-03-08 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20080608 Year of fee payment: 7 |
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