JP3195317B2 - ネマチックオルガノシロキサン、その製造方法およびその使用 - Google Patents
ネマチックオルガノシロキサン、その製造方法およびその使用Info
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Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、少なくとも２個の
メソゲン側基を有するオルガノシロキサン、その製造方
法および光学的異方性の層を製造するためのその使用に
関する。
メソゲン側基を有するオルガノシロキサン、その製造方
法および光学的異方性の層を製造するためのその使用に
関する。
【０００２】
【従来の技術】液晶ディスプレイ（ＬＣＤ）において広
範に使用されている低分子量のネマチック化合物は、電
界での良好な配向能およびスイッチング能を特徴として
いる。しかしながら、これらの配向構造は、電界無印加
では特に安定ではない。昇温させると、ネマチックな配
向は、最終的に秩序構造が最早存在しなくなるまで減少
する。それに対して、幾つかの使用、例えば偏光板およ
び位相差板には、広範な温度範囲にかけてネマチック配
向が保持される材料が必要である。多くの場合におい
て、低分子量のネマチック化合物の場合のように、液状
物質を基板間に封入する代わりに、配向構造を固体のフ
ィルム中に固定することも有利である。
範に使用されている低分子量のネマチック化合物は、電
界での良好な配向能およびスイッチング能を特徴として
いる。しかしながら、これらの配向構造は、電界無印加
では特に安定ではない。昇温させると、ネマチックな配
向は、最終的に秩序構造が最早存在しなくなるまで減少
する。それに対して、幾つかの使用、例えば偏光板およ
び位相差板には、広範な温度範囲にかけてネマチック配
向が保持される材料が必要である。多くの場合におい
て、低分子量のネマチック化合物の場合のように、液状
物質を基板間に封入する代わりに、配向構造を固体のフ
ィルム中に固定することも有利である。
【０００３】液晶特性を固定するための公知法は、液晶
をポリマーネットワークに、例えば配向した液晶性側鎖
ポリマーの架橋によって結合させることである。しかし
ながら、液晶性側鎖ポリマーは、一般に低分子量液晶よ
りも、そのより高い粘度（一般に分子量に伴い増加す
る）のために、配向させるのがより困難である。容易に
配向できる液晶性側鎖ポリマーは、例えばコレステリッ
クシロキサンである。ＵＳ−Ａ−５，２１１，８７７号
は、コレステロール基およびメタクリリル基を有する側
鎖を有している環式オルガノシロキサンをベースとする
かかる化合物を記載している。しかしながら、２個のフ
ェニル基を有する化合物によるコレステロールの置換
は、スメクチックＳＡ相を有し、かつより高秩序なＳＢ
相の２次的量（secondary amount）を有する材料を誘導
するにすぎない。この材料は、配向させるのが困難であ
り、従って提案される使用には不適当である。
をポリマーネットワークに、例えば配向した液晶性側鎖
ポリマーの架橋によって結合させることである。しかし
ながら、液晶性側鎖ポリマーは、一般に低分子量液晶よ
りも、そのより高い粘度（一般に分子量に伴い増加す
る）のために、配向させるのがより困難である。容易に
配向できる液晶性側鎖ポリマーは、例えばコレステリッ
クシロキサンである。ＵＳ−Ａ−５，２１１，８７７号
は、コレステロール基およびメタクリリル基を有する側
鎖を有している環式オルガノシロキサンをベースとする
かかる化合物を記載している。しかしながら、２個のフ
ェニル基を有する化合物によるコレステロールの置換
は、スメクチックＳＡ相を有し、かつより高秩序なＳＢ
相の２次的量（secondary amount）を有する材料を誘導
するにすぎない。この材料は、配向させるのが困難であ
り、従って提案される使用には不適当である。
【０００４】ＵＳ−Ａ−５，６１０，２５８号は、従来
の技術は、それぞれが２個の芳香族基または脂環式基を
有する種々のタイプの側基を有しているオルガノシロキ
サンまたはそれぞれが２個より多い芳香族基または脂環
式基を有する同一のメソゲン側基を有しているオルガノ
シロキサンは、どれも配向させるのが困難であり、同時
に広範なネマチック相を有さないと示していることを記
載している。それに対して、該米国明細書は、オルガノ
シロキサン１個あたり少なくとも３個の異なるメソゲン
側基を有し、その際、オルガノシロキサン１個あたり少
なくとも２個のメソゲン側基が、それぞれ少なくとも３
個の芳香族基、ヘテロ芳香族基および／または脂環式基
を有さねばならない環式オルガノシロキサンが、広範な
ネマチック相を有する容易に配向可能な側鎖ポリマーで
あると記載している。記載した化合物の合成は、多くの
別々の工程を介して進行し、かつ工業的プロセスのため
には複雑すぎる。これらの材料からの光学的異方性の層
の製造を、製造期間における許容時間内に完了させる必
要があるならば、記載されたオルガノシロキサンから
は、不透明な（hazy）光学的異方性の層だけが製造でき
る。
の技術は、それぞれが２個の芳香族基または脂環式基を
有する種々のタイプの側基を有しているオルガノシロキ
サンまたはそれぞれが２個より多い芳香族基または脂環
式基を有する同一のメソゲン側基を有しているオルガノ
シロキサンは、どれも配向させるのが困難であり、同時
に広範なネマチック相を有さないと示していることを記
載している。それに対して、該米国明細書は、オルガノ
シロキサン１個あたり少なくとも３個の異なるメソゲン
側基を有し、その際、オルガノシロキサン１個あたり少
なくとも２個のメソゲン側基が、それぞれ少なくとも３
個の芳香族基、ヘテロ芳香族基および／または脂環式基
を有さねばならない環式オルガノシロキサンが、広範な
ネマチック相を有する容易に配向可能な側鎖ポリマーで
あると記載している。記載した化合物の合成は、多くの
別々の工程を介して進行し、かつ工業的プロセスのため
には複雑すぎる。これらの材料からの光学的異方性の層
の製造を、製造期間における許容時間内に完了させる必
要があるならば、記載されたオルガノシロキサンから
は、不透明な（hazy）光学的異方性の層だけが製造でき
る。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】本発明の課題は、大規
模で容易に合成され、ネマチック配向を有する状態に容
易に変換でき、かつ透明な光学的異方性の層を引き続い
ての架橋により製造するために使用することができる化
合物を提供することである。
模で容易に合成され、ネマチック配向を有する状態に容
易に変換でき、かつ透明な光学的異方性の層を引き続い
ての架橋により製造するために使用することができる化
合物を提供することである。
【０００６】
【課題を解決するための手段】本発明は、少なくとも２
個のメソゲン側基を有し、その多くとも１個が３核を有
し、その他が全て２核を有し、その際、核という用語
が、６員環または６員環からなる２環式系を意味し、か
つ少なくとも１個のメソゲン側基が、メタクリリル基ま
たはアクリリル基を有するネマチックオルガノシロキサ
ン（Ｆ）に関する。
個のメソゲン側基を有し、その多くとも１個が３核を有
し、その他が全て２核を有し、その際、核という用語
が、６員環または６員環からなる２環式系を意味し、か
つ少なくとも１個のメソゲン側基が、メタクリリル基ま
たはアクリリル基を有するネマチックオルガノシロキサ
ン（Ｆ）に関する。
【０００７】意想外にも、かつ現行の知識状況に反し
て、これらのオルガノシロキサン（Ｆ）は、広範の温度
範囲において液晶相を有し、かつ良好なネマチック配向
能を有し、これにより、該オルガノシロキサンから光学
的異方性の層を容易に製造可能である。
て、これらのオルガノシロキサン（Ｆ）は、広範の温度
範囲において液晶相を有し、かつ良好なネマチック配向
能を有し、これにより、該オルガノシロキサンから光学
的異方性の層を容易に製造可能である。
【０００８】適当な核は、６員の同素環または複素環、
例えばフェニル環、シクロヘキシル環、ピラン環、ピリ
ジン環、ピリミジン環またはジオキサン環であり、かつ
６員環からなる２環式系、例えばナフタレン系である。
例えばフェニル環、シクロヘキシル環、ピラン環、ピリ
ジン環、ピリミジン環またはジオキサン環であり、かつ
６員環からなる２環式系、例えばナフタレン系である。
【０００９】ネマチックオルガノシロキサン（Ｆ）にお
いては、メタクリリル基またはアクリリル基を有するメ
ソゲン側基の割合は、有利には少なくとも１０％、特に
有利には少なくとも４０％である。有利には、メソゲン
側基において末端はメタクリリル基またはアクリリル基
である。
いては、メタクリリル基またはアクリリル基を有するメ
ソゲン側基の割合は、有利には少なくとも１０％、特に
有利には少なくとも４０％である。有利には、メソゲン
側基において末端はメタクリリル基またはアクリリル基
である。
【００１０】有利には、ネマチックオルガノシロキサン
（Ｆ）は、少なくとも２個の同一または異なる、一般式
（１）： ［ＭＲ１ ｐＳｉＯｑ／２］ （１） ［式中、互いに独立して、それぞれｐは１または２を表
し、かつｑは１または２を表し、但しｐが１の場合、ｑ
は２を表し、ｐが２の場合、ｑは１を表し、Ｒ１は、Ｃ
１〜Ｃ１０−炭化水素基、例えばメチル基、エチル基、
ｎ−プロピル基、ｎ−ブチル基、ｎ−ペンチル基、ｎ−
ヘキシル基、ｎ−ヘプチル基、ｎ−オクチル基、ｎ−ノ
ニル基またはｎ−デシル基であるか、またはフェニル基
であり、 Ｍは、一般式（２）： Ｒ２−Ｘ１−（Ａ１−Ｘ２）ａ−Ｒ３−Ａ２ （２ ）（式中、 Ｒ２は、式：（ＣＨ２）ｎの基であり、その際、ｎは、
２〜１０の値を有する整数であり、互いに隣接していな
い１個以上のメチレン単位が、酸素原子またはジメチル
シリル基によって置換されていてもよい、 Ｒ３は、単結合または式：（ＣＨ２）ｍの基であり、そ
の際、ｍは、１〜１２の値を有する整数であり、互いに
隣接していない１個以上のメチレン単位が、酸素原子ま
たはジメチルシリル基によって置換されていてもよい、 Ｘ１は、単結合であるか、または−Ｏ−、−ＣＯＯ−お
よび−ＯＣＯ−からなる群からの２価の基から選択さ
れ、 Ｘ２は、単結合ならびに−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−Ｃ
Ｈ２ＣＨ２−、−ＣＨ＝Ｎ−、−Ｎ＝ＣＨ−、−Ｎ＝Ｎ
−、−ＣＯＮＨ−、−ＨＯＮＣ−、−Ｃ≡Ｃ−、−ＣＨ
＝ＣＨ−、−Ｎ＝Ｎ（Ｏ）−および−Ｎ（Ｏ）＝Ｎ−か
らなる群からの２価の基からなる群から互いに独立に選
択される、同一または異なる結合基であり、 Ａ１は、１，４−フェニレン、１，４−シクロヘキシレ
ン、２，５−ピリジニレン、２，５−ピラニレン、２，
５−ピリミジニレン、５，２−ピリミジニレン、２，５
−（１，３−ジオキサニレン）、５，２−（１，３−ジ
オキサニレン）、２，６−ナフチリデン、２，７−ナフ
チリデンおよび１，４−ナフチリデンからなる群からの
２価の基から互いに独立に選択される、同一または異な
る核であり、 Ａ２は、水素原子、ハロゲン原子、ヒドロキシル基、フ
ェニル基、アクリロイルオキシ基、（メタ）アクリロイ
ルオキシ基、（メタ）アクリルエチレンオキシ基、シク
ロヘキシル基およびＣ１〜Ｃ１０−アルケニル基からな
る群から選択される末端基であり、その際、互いに隣接
していないメチレン単位が、酸素原子またはジメチルシ
リル基によって置換されていてもよい、 ａは、２または３の値である）のメソゲン側基である］
の単位を有するものである。
（Ｆ）は、少なくとも２個の同一または異なる、一般式
（１）： ［ＭＲ１ ｐＳｉＯｑ／２］ （１） ［式中、互いに独立して、それぞれｐは１または２を表
し、かつｑは１または２を表し、但しｐが１の場合、ｑ
は２を表し、ｐが２の場合、ｑは１を表し、Ｒ１は、Ｃ
１〜Ｃ１０−炭化水素基、例えばメチル基、エチル基、
ｎ−プロピル基、ｎ−ブチル基、ｎ−ペンチル基、ｎ−
ヘキシル基、ｎ−ヘプチル基、ｎ−オクチル基、ｎ−ノ
ニル基またはｎ−デシル基であるか、またはフェニル基
であり、 Ｍは、一般式（２）： Ｒ２−Ｘ１−（Ａ１−Ｘ２）ａ−Ｒ３−Ａ２ （２ ）（式中、 Ｒ２は、式：（ＣＨ２）ｎの基であり、その際、ｎは、
２〜１０の値を有する整数であり、互いに隣接していな
い１個以上のメチレン単位が、酸素原子またはジメチル
シリル基によって置換されていてもよい、 Ｒ３は、単結合または式：（ＣＨ２）ｍの基であり、そ
の際、ｍは、１〜１２の値を有する整数であり、互いに
隣接していない１個以上のメチレン単位が、酸素原子ま
たはジメチルシリル基によって置換されていてもよい、 Ｘ１は、単結合であるか、または−Ｏ−、−ＣＯＯ−お
よび−ＯＣＯ−からなる群からの２価の基から選択さ
れ、 Ｘ２は、単結合ならびに−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−Ｃ
Ｈ２ＣＨ２−、−ＣＨ＝Ｎ−、−Ｎ＝ＣＨ−、−Ｎ＝Ｎ
−、−ＣＯＮＨ−、−ＨＯＮＣ−、−Ｃ≡Ｃ−、−ＣＨ
＝ＣＨ−、−Ｎ＝Ｎ（Ｏ）−および−Ｎ（Ｏ）＝Ｎ−か
らなる群からの２価の基からなる群から互いに独立に選
択される、同一または異なる結合基であり、 Ａ１は、１，４−フェニレン、１，４−シクロヘキシレ
ン、２，５−ピリジニレン、２，５−ピラニレン、２，
５−ピリミジニレン、５，２−ピリミジニレン、２，５
−（１，３−ジオキサニレン）、５，２−（１，３−ジ
オキサニレン）、２，６−ナフチリデン、２，７−ナフ
チリデンおよび１，４−ナフチリデンからなる群からの
２価の基から互いに独立に選択される、同一または異な
る核であり、 Ａ２は、水素原子、ハロゲン原子、ヒドロキシル基、フ
ェニル基、アクリロイルオキシ基、（メタ）アクリロイ
ルオキシ基、（メタ）アクリルエチレンオキシ基、シク
ロヘキシル基およびＣ１〜Ｃ１０−アルケニル基からな
る群から選択される末端基であり、その際、互いに隣接
していないメチレン単位が、酸素原子またはジメチルシ
リル基によって置換されていてもよい、 ａは、２または３の値である）のメソゲン側基である］
の単位を有するものである。
【００１１】一般式（１）の単位の他に、有利には、オ
ルガノシロキサン（Ｆ）は、式：Ｒ 1 2ＳｉおよびＲ1 3Ｓ
ｉの単位を有していてもよい。有利な末端基は、トリメ
チルシリル基である。
ルガノシロキサン（Ｆ）は、式：Ｒ 1 2ＳｉおよびＲ1 3Ｓ
ｉの単位を有していてもよい。有利な末端基は、トリメ
チルシリル基である。
【００１２】一般式（１）の特に有利なオルガノシロキ
サン（Ｆ）は、置換シクロテトラシロキサン、シクロペ
ンタシロキサン、テトラメチルジシロキサンおよび直鎖
状ポリメチルシロキサン、有利には２〜１５個のケイ素
原子を有し、かつ末端基としてトリメチルシリル基を有
する直鎖状ポリメチルシロキサンである。特に有利な基
Ｒ1は、メチル基である。
サン（Ｆ）は、置換シクロテトラシロキサン、シクロペ
ンタシロキサン、テトラメチルジシロキサンおよび直鎖
状ポリメチルシロキサン、有利には２〜１５個のケイ素
原子を有し、かつ末端基としてトリメチルシリル基を有
する直鎖状ポリメチルシロキサンである。特に有利な基
Ｒ1は、メチル基である。
【００１３】１個のメソゲン側基が３核を有するオルガ
ノシロキサン（Ｆ）は、光学的異方性の層を製造するの
に特に適当である。それというのも、３核のメソゲンの
使用は、透明点上昇を惹起し、かつネマチック相の安定
化をもたらすからである。
ノシロキサン（Ｆ）は、光学的異方性の層を製造するの
に特に適当である。それというのも、３核のメソゲンの
使用は、透明点上昇を惹起し、かつネマチック相の安定
化をもたらすからである。
【００１４】基Ｘ2として−ＣＯＯ−基または−ＯＣＯ
−基を導入することは、結晶成分または他の相の妨害な
しに、均一なネマチック相の形成を促進することが判明
した。
−基を導入することは、結晶成分または他の相の妨害な
しに、均一なネマチック相の形成を促進することが判明
した。
【００１５】特に有利なオルガノシロキサン（Ｆ）は、
一般式（３）：
一般式（３）：
【００１６】
【化２】
【００１７】［式中、Ｒ2、Ｘ2、Ｒ3およびＡ2は、式
（２）で定義したものである］のメソゲン側基を有する
一般式（１）の少なくとも２個の単位を有している。
（２）で定義したものである］のメソゲン側基を有する
一般式（１）の少なくとも２個の単位を有している。
【００１８】一般式（３）の２個または３個の芳香族基
を有し、メタクリリル基またはアクリリル基を有さない
特に著しく有利なメソゲン側基は、一般式（４）：
を有し、メタクリリル基またはアクリリル基を有さない
特に著しく有利なメソゲン側基は、一般式（４）：
【００１９】
【化３】
【００２０】［式中、Ｒ4は、Ｃ1〜Ｃ10−アルキル基、
Ｃ1〜Ｃ10−ハロアルキル基、シクロヘキシル基、フェ
ニル基、４−（Ｃ1〜Ｃ10−）アルキルフェニル基、４
−（Ｃ1〜Ｃ6−）アルコキシフェニル基または２−ナフ
チル基である］の基である。
Ｃ1〜Ｃ10−ハロアルキル基、シクロヘキシル基、フェ
ニル基、４−（Ｃ1〜Ｃ10−）アルキルフェニル基、４
−（Ｃ1〜Ｃ6−）アルコキシフェニル基または２−ナフ
チル基である］の基である。
【００２１】メタクリリル基またはアクリリル基を有す
る特に著しく有利なメソゲン側基は、一般式（５）：
る特に著しく有利なメソゲン側基は、一般式（５）：
【００２２】
【化４】
【００２３】［式中、Ｒ5は、酸素原子またはオキシ−
（Ｃ1〜Ｃ11−）アルキレンオキシ基であり、その際、
互いに隣接していないか、または酸素原子と隣接してい
ない１個以上のメチレン単位が、酸素原子によって置換
されていてもよい、Ｒ6は、水素原子またはメチル基で
ある］の基である。
（Ｃ1〜Ｃ11−）アルキレンオキシ基であり、その際、
互いに隣接していないか、または酸素原子と隣接してい
ない１個以上のメチレン単位が、酸素原子によって置換
されていてもよい、Ｒ6は、水素原子またはメチル基で
ある］の基である。
【００２４】オルガノシロキサン（Ｆ）は、水素原子が
直接結合する少なくとも２個のケイ素原子を有するオル
ガノシロキサンとアルケンとを反応させることによって
合成することができ、その多くとも１個のアルケンは３
核を有し、かつその他全てのアルケンは２核を有し、そ
の際、核という用語が、６員環または６員環からなる２
環式系を意味し、かつ少なくとも１個のアルケンがメタ
クリリル基またはアクリリル基を有している。
直接結合する少なくとも２個のケイ素原子を有するオル
ガノシロキサンとアルケンとを反応させることによって
合成することができ、その多くとも１個のアルケンは３
核を有し、かつその他全てのアルケンは２核を有し、そ
の際、核という用語が、６員環または６員環からなる２
環式系を意味し、かつ少なくとも１個のアルケンがメタ
クリリル基またはアクリリル基を有している。
【００２５】前記の一般式（１）のオルガノシロキサン
（Ｆ）の有利な製造方法において、一般式（６）： ［ＨＲ１ ｐＳｉＯｑ／２］ （６ ） ［式中、互いに独立して、それぞれｐは１または２を表
し、かつｑは１または２を表し、但しｐが１の場合、ｑ
は２を表し、ｐが２の場合、ｑは１を表す］の少なくと
も２単位を有するオルガノシロキサンを、一般式
（７）： Ｒ７−Ｘ１−（Ａ１−Ｘ２）ａ−Ｒ３−Ａ２ （ ７） のメソゲン基を有するアルケンと、または特に有利には
一般式（８）：
（Ｆ）の有利な製造方法において、一般式（６）： ［ＨＲ１ ｐＳｉＯｑ／２］ （６ ） ［式中、互いに独立して、それぞれｐは１または２を表
し、かつｑは１または２を表し、但しｐが１の場合、ｑ
は２を表し、ｐが２の場合、ｑは１を表す］の少なくと
も２単位を有するオルガノシロキサンを、一般式
（７）： Ｒ７−Ｘ１−（Ａ１−Ｘ２）ａ−Ｒ３−Ａ２ （ ７） のメソゲン基を有するアルケンと、または特に有利には
一般式（８）：
【００２６】
【化５】
【００２７】［前記の一般式（６）、（７）および
（８）の式中、Ｒ1、Ｒ3、Ｘ1、Ｘ2、Ａ1、Ａ2およびａ
は、一般式（１）および（２）で定義したものであり、
Ｒ7は、式：Ｈ2Ｃ＝ＣＨ−（ＣkＨ2k-1）の基であり、
その際、ｋは、１〜８の値を有する整数であり、かつ互
いに隣接していない１個以上のメチレン単位が、酸素原
子またはジメチルシリル基によって置換されていてもよ
い］のメソゲン基を有するアルケンと反応させる。
（８）の式中、Ｒ1、Ｒ3、Ｘ1、Ｘ2、Ａ1、Ａ2およびａ
は、一般式（１）および（２）で定義したものであり、
Ｒ7は、式：Ｈ2Ｃ＝ＣＨ−（ＣkＨ2k-1）の基であり、
その際、ｋは、１〜８の値を有する整数であり、かつ互
いに隣接していない１個以上のメチレン単位が、酸素原
子またはジメチルシリル基によって置換されていてもよ
い］のメソゲン基を有するアルケンと反応させる。
【００２８】ケイ素が直接結合する水素原子を有する一
般式（６）のオルガノシロキサンとメソゲン特性を有す
る一般式（７）または（８）のアルケンとの反応は、自
体公知のように、例えば溶剤、例えば炭化水素、エーテ
ルまたはエステル中で、触媒として金属または白金族化
合物を使用してヒドロシリル化することによって実施さ
れる。適当なヒドロシリル化法は、例えばＵＳ−Ａ−
５，２１１，８７７号に記載されている。
般式（６）のオルガノシロキサンとメソゲン特性を有す
る一般式（７）または（８）のアルケンとの反応は、自
体公知のように、例えば溶剤、例えば炭化水素、エーテ
ルまたはエステル中で、触媒として金属または白金族化
合物を使用してヒドロシリル化することによって実施さ
れる。適当なヒドロシリル化法は、例えばＵＳ−Ａ−
５，２１１，８７７号に記載されている。
【００２９】光学的異方性の層を製造するためには、オ
ルガノシロキサン（Ｆ）か、またはオルガノシロキサン
（Ｆ）と、別のオルガノシロキサンまたは他の液晶材料
または非液晶材料との混合物のどちらかを、これらの添
加混合物の成分が、ネマチック相の形成を妨げない限り
使用することができる。
ルガノシロキサン（Ｆ）か、またはオルガノシロキサン
（Ｆ）と、別のオルガノシロキサンまたは他の液晶材料
または非液晶材料との混合物のどちらかを、これらの添
加混合物の成分が、ネマチック相の形成を妨げない限り
使用することができる。
【００３０】有利な添加混合物の成分は、一般式（９）
または（１０）： Ｒ8−Ｘ1−（Ａ1−Ｘ2）a−Ｒ3−Ａ2 （９） Ａ4−Ｒ10−（Ｘ4−Ａ3）b−Ｘ3−Ｒ9−Ｋ1−Ｒ11−Ｘ5−（Ａ5−Ｘ6）c−Ｒ12 −Ａ6 （１０） ［前記の一般式（９）および（１０）の式中、Ｒ3、
Ｘ1、Ｘ2、Ａ1、Ａ2およびａは、一般式（２）で定義し
たものであり、Ｒ8は、アクリロイルオキシ基、（メ
タ）アクリロイルオキシ基および（メタ）アクリリルエ
チレンオキシ基、Ｃ1〜Ｃ10−アルケニル基および式：
Ｈ2Ｃ＝ＣＨ−（ＣjＨ2j-1）の基からなる群から選択さ
れ、その際、ｊは、１〜８の値を有する整数であり、互
いに隣接していない１個以上のメチレン単位が、酸素原
子またはジメチルシリル基によって置換されていてもよ
い、Ｋ1は、ジアンヒドロヘキシトール誘導体、特にジ
アンヒドロソルビドまたはジアンヒドロマンニトールか
らなる群から選択され、Ｒ9、Ｒ10、Ｒ11およびＲ
12は、互いに独立してＲ3に関して定義したものであ
り、Ｘ3およびＸ5は、互いに独立してＸ1に関して定義
したものであり、Ｘ4およびＸ6は、互いに独立してＸ2
に関して定義したものであり、Ａ3およびＡ5は、互いに
独立してＡ1に関して定義したものであり、Ａ4およびＡ
6は、水素原子、ハロゲン原子、ヒドロキシル基、ニト
リル基、アクリロイルオキシ基、（メタ）アクリロイル
オキシ基、（メタ）アクリリルエチレンオキシ基、シク
ロヘキシル基およびＣ1〜Ｃ10−アルケニル基からなる
群から選択される同一または異なる基であり、その際、
互いに隣接していない１個以上のメチレン単位が、酸素
原子またはジメチルシリル基によって置換されていても
よい、ｂおよびｃは、互いに独立して値２、３または４
であってもよい］の化合物である。
または（１０）： Ｒ8−Ｘ1−（Ａ1−Ｘ2）a−Ｒ3−Ａ2 （９） Ａ4−Ｒ10−（Ｘ4−Ａ3）b−Ｘ3−Ｒ9−Ｋ1−Ｒ11−Ｘ5−（Ａ5−Ｘ6）c−Ｒ12 −Ａ6 （１０） ［前記の一般式（９）および（１０）の式中、Ｒ3、
Ｘ1、Ｘ2、Ａ1、Ａ2およびａは、一般式（２）で定義し
たものであり、Ｒ8は、アクリロイルオキシ基、（メ
タ）アクリロイルオキシ基および（メタ）アクリリルエ
チレンオキシ基、Ｃ1〜Ｃ10−アルケニル基および式：
Ｈ2Ｃ＝ＣＨ−（ＣjＨ2j-1）の基からなる群から選択さ
れ、その際、ｊは、１〜８の値を有する整数であり、互
いに隣接していない１個以上のメチレン単位が、酸素原
子またはジメチルシリル基によって置換されていてもよ
い、Ｋ1は、ジアンヒドロヘキシトール誘導体、特にジ
アンヒドロソルビドまたはジアンヒドロマンニトールか
らなる群から選択され、Ｒ9、Ｒ10、Ｒ11およびＲ
12は、互いに独立してＲ3に関して定義したものであ
り、Ｘ3およびＸ5は、互いに独立してＸ1に関して定義
したものであり、Ｘ4およびＸ6は、互いに独立してＸ2
に関して定義したものであり、Ａ3およびＡ5は、互いに
独立してＡ1に関して定義したものであり、Ａ4およびＡ
6は、水素原子、ハロゲン原子、ヒドロキシル基、ニト
リル基、アクリロイルオキシ基、（メタ）アクリロイル
オキシ基、（メタ）アクリリルエチレンオキシ基、シク
ロヘキシル基およびＣ1〜Ｃ10−アルケニル基からなる
群から選択される同一または異なる基であり、その際、
互いに隣接していない１個以上のメチレン単位が、酸素
原子またはジメチルシリル基によって置換されていても
よい、ｂおよびｃは、互いに独立して値２、３または４
であってもよい］の化合物である。
【００３１】有利には、光学的異方性の層は、オルガノ
シロキサン（Ｆ）またはこれらの液晶性オルガノシロキ
サン（Ｆ）を含有するＬＣ混合物を、基板に適用し、配
向させ、引き続き化学的架橋反応によって固定する方法
によって製造される。特に有利には、光学的異方性の層
は、一般式（１）の液晶性オルガノシロキサンおよびこ
れらのオルガノシロキサンと一般式（９）および（１
０）の化合物との混合物を使用して製造される。
シロキサン（Ｆ）またはこれらの液晶性オルガノシロキ
サン（Ｆ）を含有するＬＣ混合物を、基板に適用し、配
向させ、引き続き化学的架橋反応によって固定する方法
によって製造される。特に有利には、光学的異方性の層
は、一般式（１）の液晶性オルガノシロキサンおよびこ
れらのオルガノシロキサンと一般式（９）および（１
０）の化合物との混合物を使用して製造される。
【００３２】オルガノシロキサン（Ｆ）またはこれらの
液晶性オルガノシロキサンを含有するＬＣ混合物は、溶
液でか、または溶剤不含の乾燥物質として、ガラス点よ
り高温で、例えばスピンコーティングによって、ドクタ
ーブレードまたはローラーを使用して基板表面上に適用
することができる。適用のために溶剤を使用するなら
ば、引き続き乾燥工程で溶剤を除去せねばならない。
液晶性オルガノシロキサンを含有するＬＣ混合物は、溶
液でか、または溶剤不含の乾燥物質として、ガラス点よ
り高温で、例えばスピンコーティングによって、ドクタ
ーブレードまたはローラーを使用して基板表面上に適用
することができる。適用のために溶剤を使用するなら
ば、引き続き乾燥工程で溶剤を除去せねばならない。
【００３３】基板上の乾燥ＬＣ層の厚さは、特定の適用
の必要性に依存する。該層を、例えば位相差板として使
用するならば、必要な厚さは、要求される光学的位相差
と配向ＬＣ層の光学的異方性の商である。乾燥ＬＣ層の
厚さは、有利には１μｍ〜５００μｍ、特に有利には１
μｍ〜５０μｍである。
の必要性に依存する。該層を、例えば位相差板として使
用するならば、必要な厚さは、要求される光学的位相差
と配向ＬＣ層の光学的異方性の商である。乾燥ＬＣ層の
厚さは、有利には１μｍ〜５００μｍ、特に有利には１
μｍ〜５０μｍである。
【００３４】ＬＣ混合物の適用および配向は、完全に連
続的に、半連続的に、またはバッチ式に実施することが
できる。完全に連続的な方法は、ＵＳ−Ａ−５，３６
２，３１５号に記載されている。
続的に、半連続的に、またはバッチ式に実施することが
できる。完全に連続的な方法は、ＵＳ−Ａ−５，３６
２，３１５号に記載されている。
【００３５】ＬＣ層を、第２の基板によって覆ってもよ
い。メソゲンの配向は、例えば適用中に、材料を剪断変
形（shearing）させるか、または適用後に、メソゲンと
適当に選択した基板表面との相互作用を介して、もしく
は電界によって実施される。
い。メソゲンの配向は、例えば適用中に、材料を剪断変
形（shearing）させるか、または適用後に、メソゲンと
適当に選択した基板表面との相互作用を介して、もしく
は電界によって実施される。
【００３６】有利には、ＬＣ混合物の配向を、それぞれ
のＬＣ混合物のガラス点より高く、透明化の開始より低
い温度範囲で実施する。簡単な工業的プロセスを可能に
するためには、有利には、ＬＣ混合物の組成を、製造プ
ロセスに適当な配向温度が２０〜１５０℃であるように
調整する。
のＬＣ混合物のガラス点より高く、透明化の開始より低
い温度範囲で実施する。簡単な工業的プロセスを可能に
するためには、有利には、ＬＣ混合物の組成を、製造プ
ロセスに適当な配向温度が２０〜１５０℃であるように
調整する。
【００３７】メソゲンの配向を基板表面との相互作用に
よって実施すべきであれば、その際、配向作用を改善す
るために、適当な配向層を、公知のコーティング法、印
刷法または浸漬法によって基板表面に適用してもよく、
これらは、文献に多く記載されている。配向層または基
板に、更なる処理、例えばラビングによって配向に有利
な表面構造を与えてもよい。配向方向の局所変化は、例
えば偏向させたＵＶ光での照射による配向層の構築のた
めの公知法によって可能である。液晶相におけるメソゲ
ンとその界面（interface）との間に傾斜を与えるため
の適当な方法は、同様に文献、例えば傾斜角での無機材
料の蒸着（vapor deposition of inorganic materials
at oblique angle）に記載されている。基板表面に対し
て角度１０゜〜８０゜のメソゲンの傾斜を与えるために
は、特に有利には酸化ケイ素の層を、蒸着によって適用
する。
よって実施すべきであれば、その際、配向作用を改善す
るために、適当な配向層を、公知のコーティング法、印
刷法または浸漬法によって基板表面に適用してもよく、
これらは、文献に多く記載されている。配向層または基
板に、更なる処理、例えばラビングによって配向に有利
な表面構造を与えてもよい。配向方向の局所変化は、例
えば偏向させたＵＶ光での照射による配向層の構築のた
めの公知法によって可能である。液晶相におけるメソゲ
ンとその界面（interface）との間に傾斜を与えるため
の適当な方法は、同様に文献、例えば傾斜角での無機材
料の蒸着（vapor deposition of inorganic materials
at oblique angle）に記載されている。基板表面に対し
て角度１０゜〜８０゜のメソゲンの傾斜を与えるために
は、特に有利には酸化ケイ素の層を、蒸着によって適用
する。
【００３８】使用される基板は、光学素子の製造のため
に公知の全ての材料である。
に公知の全ての材料である。
【００３９】特定の適用に関連した波長の範囲で透明ま
たは半透明である有機基板または無機基板が有利であ
る。基板は、平坦または曲面であってもよい。ＬＣ層の
製造、加工および使用時の温度でその物理的特性が変化
しない基板が特に有利である。
たは半透明である有機基板または無機基板が有利であ
る。基板は、平坦または曲面であってもよい。ＬＣ層の
製造、加工および使用時の温度でその物理的特性が変化
しない基板が特に有利である。
【００４０】ガラス板または石英板およびポリマー板、
例えばポリカーボネート、ポリスルホン、ポリエチレン
テレフタレートおよびポリイミドが、より特に有利であ
る。必要であれば、基板に、更なる配向補助（alignmen
t aid）、例えばポリイミド、ポリアミド、ポリビニル
アルコールまたは酸化ケイ素の層を提供してもよい。
例えばポリカーボネート、ポリスルホン、ポリエチレン
テレフタレートおよびポリイミドが、より特に有利であ
る。必要であれば、基板に、更なる配向補助（alignmen
t aid）、例えばポリイミド、ポリアミド、ポリビニル
アルコールまたは酸化ケイ素の層を提供してもよい。
【００４１】配向後に、液晶性オルガノシロキサン
（Ｆ）またはこれらの液晶性オルガノシロキサン（Ｆ）
を含有するＬＣ混合物を、本発明による光学的異方性の
層中に固定する。この目的のために、オルガノシロキサ
ン（Ｆ）を、三次元的に架橋させる。有利には、この架
橋は、ペルオキシド、ＵＶ光もしくは高エネルギー電磁
放射線によるか、または熱によって生じたフリーラジカ
ルによって実施する。しかしながら、該架橋を、直接的
にケイ素に結合した水素原子を有する架橋剤によって白
金金属触媒による触媒作用により実施してもよい。これ
は、カチオン性またはアニオン性で実施してもよい。Ｕ
Ｖ光によって架橋させるのが特に有利であり、これは、
ＵＳ−Ａ−５，２１１，８７７号に記載されている。
（Ｆ）またはこれらの液晶性オルガノシロキサン（Ｆ）
を含有するＬＣ混合物を、本発明による光学的異方性の
層中に固定する。この目的のために、オルガノシロキサ
ン（Ｆ）を、三次元的に架橋させる。有利には、この架
橋は、ペルオキシド、ＵＶ光もしくは高エネルギー電磁
放射線によるか、または熱によって生じたフリーラジカ
ルによって実施する。しかしながら、該架橋を、直接的
にケイ素に結合した水素原子を有する架橋剤によって白
金金属触媒による触媒作用により実施してもよい。これ
は、カチオン性またはアニオン性で実施してもよい。Ｕ
Ｖ光によって架橋させるのが特に有利であり、これは、
ＵＳ−Ａ−５，２１１，８７７号に記載されている。
【００４２】生成する固定層は、基板と一緒に、ラミネ
ートの形でかもしくは一方の側が開放されているフィル
ムとしてか、または基板を除去してフィルムのみとして
も使用することができる。基板と一緒にフィルムとして
か、または一方の側が開放されているフィルムとして使
用するのが有利である。
ートの形でかもしくは一方の側が開放されているフィル
ムとしてか、または基板を除去してフィルムのみとして
も使用することができる。基板と一緒にフィルムとして
か、または一方の側が開放されているフィルムとして使
用するのが有利である。
【００４３】本発明による光学的異方性の層の別の適用
形は、光学的異方性のプレートであり、以下にＬＣ板と
しても呼称している。ＵＳ−Ａ−５，３６２，３１５号
は、光の着色反射（colored reflection）を生じる、キ
ラル相を有する液晶構造をとる顔料を、重合したコレス
テリックフィルムを基板から剥離し、引き続き生成した
粗片を粉砕することによって製造できることを開示して
いる。次いで、該顔料を適当な結合剤系中に導入し、基
板に適用する。ＤＥ−Ａ−１９６１９４６０号は、可視
光に対してネガティブな屈折率の異方性を有するプレー
トを、類似の方法によって製造する方法および使用方法
を記載している。本明細書に記載される層も、粉砕し、
同様に光学的異方性のプレートを得て、引き続き結合剤
中で基板に適用してもよい。
形は、光学的異方性のプレートであり、以下にＬＣ板と
しても呼称している。ＵＳ−Ａ−５，３６２，３１５号
は、光の着色反射（colored reflection）を生じる、キ
ラル相を有する液晶構造をとる顔料を、重合したコレス
テリックフィルムを基板から剥離し、引き続き生成した
粗片を粉砕することによって製造できることを開示して
いる。次いで、該顔料を適当な結合剤系中に導入し、基
板に適用する。ＤＥ−Ａ−１９６１９４６０号は、可視
光に対してネガティブな屈折率の異方性を有するプレー
トを、類似の方法によって製造する方法および使用方法
を記載している。本明細書に記載される層も、粉砕し、
同様に光学的異方性のプレートを得て、引き続き結合剤
中で基板に適用してもよい。
【００４４】ＬＣ板の製造のためには、一般式（１）の
液晶性オルガノシロキサン（Ｆ）および一般式（９）と
（１０）との混合物成分が有利である。
液晶性オルガノシロキサン（Ｆ）および一般式（９）と
（１０）との混合物成分が有利である。
【００４５】液晶性オルガノシロキサン（Ｆ）層の干渉
性フィルムは、ポジティブな屈折率の異方性を有する光
学的異方性の層が、例えば液晶ディスプレイの特性を改
善するための光学的な位相差板（retarder film）とし
て適当である、全ての目的のために使用することがで
き、これらは、文献に多く記載されている。基板および
配向層ならびにオルガノシロキサン（Ｆ）およびこれら
のオルガノシロキサン（Ｆ）を含有するＬＣ混合物の組
成の選択により、種々の配向形を達成するのが可能であ
り、有利にはこれを、例えば液晶ディスプレイ、例えば
ＴＮまたはＳＴＮディスプレイで使用することができ
る。本発明による層中のメソゲンの可能な配向の例は、
全てのメソゲンの均一かつプレーナな配向、一方の表面
から反対の表面にかけて、プレーナ配向から垂直配向へ
と連続的に変化しているハイブリッド配向、全てのメソ
ゲンの完全な垂直配向、表面の垂線についてねじれてい
るプレーナ配向であり、その際、メソゲンは、例えばキ
ラル剤でのドーピングによるか、またはＴＮセルまたは
ＳＴＮセルと同様に相互にねじれた配向層によって配向
する。
性フィルムは、ポジティブな屈折率の異方性を有する光
学的異方性の層が、例えば液晶ディスプレイの特性を改
善するための光学的な位相差板（retarder film）とし
て適当である、全ての目的のために使用することがで
き、これらは、文献に多く記載されている。基板および
配向層ならびにオルガノシロキサン（Ｆ）およびこれら
のオルガノシロキサン（Ｆ）を含有するＬＣ混合物の組
成の選択により、種々の配向形を達成するのが可能であ
り、有利にはこれを、例えば液晶ディスプレイ、例えば
ＴＮまたはＳＴＮディスプレイで使用することができ
る。本発明による層中のメソゲンの可能な配向の例は、
全てのメソゲンの均一かつプレーナな配向、一方の表面
から反対の表面にかけて、プレーナ配向から垂直配向へ
と連続的に変化しているハイブリッド配向、全てのメソ
ゲンの完全な垂直配向、表面の垂線についてねじれてい
るプレーナ配向であり、その際、メソゲンは、例えばキ
ラル剤でのドーピングによるか、またはＴＮセルまたは
ＳＴＮセルと同様に相互にねじれた配向層によって配向
する。
【００４６】光学的異方性の層の製造ための前記に記載
した方法の僅かな変更は、達成すべき他の適用を可能に
する。例えば、オルガノシロキサン（Ｆ）の他に、メソ
ゲンに沿って配向するが、液晶相の形成を妨げない適当
な染料分子も含有する混合物を使用すれば、吸光性の偏
光板を製造することができる。
した方法の僅かな変更は、達成すべき他の適用を可能に
する。例えば、オルガノシロキサン（Ｆ）の他に、メソ
ゲンに沿って配向するが、液晶相の形成を妨げない適当
な染料分子も含有する混合物を使用すれば、吸光性の偏
光板を製造することができる。
【００４７】屈折率の局所的変化に基づく光メモリ媒体
は、液晶性オルガノシロキサン（Ｆ）中のメソゲン基の
配向に局所的変化を与えてから架橋させることによって
製造することができる。このことは、例えば個々の照射
工程の間にＬＣ層の外面の配向力または温度が変化させ
れば、ＵＶ不透過マスク（UV-opaque mask）による局所
的ＵＶ架橋によって達成することができる。別の可能性
は、例えばサブピクセル（subpixel）を発生させるため
のＬＣ製造で使用されるような配向層の構築である。
は、液晶性オルガノシロキサン（Ｆ）中のメソゲン基の
配向に局所的変化を与えてから架橋させることによって
製造することができる。このことは、例えば個々の照射
工程の間にＬＣ層の外面の配向力または温度が変化させ
れば、ＵＶ不透過マスク（UV-opaque mask）による局所
的ＵＶ架橋によって達成することができる。別の可能性
は、例えばサブピクセル（subpixel）を発生させるため
のＬＣ製造で使用されるような配向層の構築である。
【００４８】キラルネマチック相を誘導する材料（キラ
リック）との混合物において、オルガノシロキサン
（Ｆ）またはこれらの液晶性オルガノシロキサンを含有
するＬＣ混合物は、偏光選択的光学フィルターおよび波
長選択的光学フィルターまたはＬＣ板を製造するために
使用することができる。
リック）との混合物において、オルガノシロキサン
（Ｆ）またはこれらの液晶性オルガノシロキサンを含有
するＬＣ混合物は、偏光選択的光学フィルターおよび波
長選択的光学フィルターまたはＬＣ板を製造するために
使用することができる。
【００４９】かかるコレステリック液晶（ＣＬＣ）は、
ＣＬＣのらせん構造に依存する波長範囲で円偏波した電
磁線を反射する。キラリックは、ネマチックにおいて、
同一の旋回で円偏光を反射する右旋回構造または左旋回
構造のどちらかを生ずる。以下で反射波長と呼称される
反射バンドの中心波長を、屈折率およびキラリックの濃
度の増加に伴い減少するらせん構造のピッチによって測
定する。更に、反射波長は、仰角に依存する。バンドの
幅は、液晶性オルガノシロキサン（Ｆ）および他の混合
物成分のメソゲン基の光学的異方性によって決定する。
ほとんどの場合、バンドの幅は、反射波長の５％〜１５
％である。特定の適用のために、更に広域な反射バンド
を生じるらせん構造のピッチの変化を、例えばＵＳ−Ａ
−５，５０６，７０４号およびＵＳ−Ａ−５，６９１，
７８９号に記載されているようなフィルムの製造の間の
適当な処理によって起こすことができる。
ＣＬＣのらせん構造に依存する波長範囲で円偏波した電
磁線を反射する。キラリックは、ネマチックにおいて、
同一の旋回で円偏光を反射する右旋回構造または左旋回
構造のどちらかを生ずる。以下で反射波長と呼称される
反射バンドの中心波長を、屈折率およびキラリックの濃
度の増加に伴い減少するらせん構造のピッチによって測
定する。更に、反射波長は、仰角に依存する。バンドの
幅は、液晶性オルガノシロキサン（Ｆ）および他の混合
物成分のメソゲン基の光学的異方性によって決定する。
ほとんどの場合、バンドの幅は、反射波長の５％〜１５
％である。特定の適用のために、更に広域な反射バンド
を生じるらせん構造のピッチの変化を、例えばＵＳ−Ａ
−５，５０６，７０４号およびＵＳ−Ａ−５，６９１，
７８９号に記載されているようなフィルムの製造の間の
適当な処理によって起こすことができる。
【００５０】多数の適当な光学活性ドーパントが文献に
記載されている。左旋回らせん材料のために、キラリテ
ィの他に、安定な中間相を生ずるために十分な中間相形
成特性も有するコレステロール化合物が屡々使用され
る。適当な化合物の例は、フィンケルマン、リングスド
ルフ他（H.Finkelmann, H.Ringsdorf et al., in Makro
mol.Chem.179, 829-832（1978））によって開示された
コレステロール誘導体またはＵＳ−Ａ−４，９９６，３
３０号に開示された酒石酸イミド誘導体である。右旋回
らせん系の製造においては、今までは一般に非ステロイ
ド系が使用されていたが、通常、これらは良好な中間相
安定性を有さない。コレステ−８（１４）−エン−３−
オール（ドリステロール）をベースとする適当な右旋回
のステロイド系またはその誘導体は、ＵＳ−Ａ−５，６
９５，６８０号に記載されている。ＤＥ−Ａ−４３４２
２８０号およびＤＥ−Ａ−４４０８１７１号は、架橋可
能なモノマーのヘキシトール誘導体およびモノマーのヘ
キシトール誘導体とコレステリックネットワークの製造
のためのモノマーのドーパントとして使用される他の液
晶性化合物との混合物を記載している。ＤＥ−Ａ−１９
６１９４６０号は、液晶性オルガノシロキサンおよび左
旋のキラル添加物または右旋のキラル添加物としてのジ
アンヒドロヘキシトール誘導体を含有する液晶混合物を
記載している。該明細書中に記載されているジアンヒド
ロヘキシトール誘導体は、有利にはジアンヒドロソルビ
ド、ジアンヒドロマンニトールおよびジアンヒドロイジ
トールからなる群からの化合物である。
記載されている。左旋回らせん材料のために、キラリテ
ィの他に、安定な中間相を生ずるために十分な中間相形
成特性も有するコレステロール化合物が屡々使用され
る。適当な化合物の例は、フィンケルマン、リングスド
ルフ他（H.Finkelmann, H.Ringsdorf et al., in Makro
mol.Chem.179, 829-832（1978））によって開示された
コレステロール誘導体またはＵＳ−Ａ−４，９９６，３
３０号に開示された酒石酸イミド誘導体である。右旋回
らせん系の製造においては、今までは一般に非ステロイ
ド系が使用されていたが、通常、これらは良好な中間相
安定性を有さない。コレステ−８（１４）−エン−３−
オール（ドリステロール）をベースとする適当な右旋回
のステロイド系またはその誘導体は、ＵＳ−Ａ−５，６
９５，６８０号に記載されている。ＤＥ−Ａ−４３４２
２８０号およびＤＥ−Ａ−４４０８１７１号は、架橋可
能なモノマーのヘキシトール誘導体およびモノマーのヘ
キシトール誘導体とコレステリックネットワークの製造
のためのモノマーのドーパントとして使用される他の液
晶性化合物との混合物を記載している。ＤＥ−Ａ−１９
６１９４６０号は、液晶性オルガノシロキサンおよび左
旋のキラル添加物または右旋のキラル添加物としてのジ
アンヒドロヘキシトール誘導体を含有する液晶混合物を
記載している。該明細書中に記載されているジアンヒド
ロヘキシトール誘導体は、有利にはジアンヒドロソルビ
ド、ジアンヒドロマンニトールおよびジアンヒドロイジ
トールからなる群からの化合物である。
【００５１】オルガノシロキサン（Ｆ）およびキラリッ
クを含有するかかるＣＬＣ混合物は、選択的に円偏光波
長を反射する、コレステリック配向を有する層を製造す
るための前記方法において出発材料として使用すること
ができる。これらの適用において、ＬＣ層の厚さは、有
利にはピッチの３倍より大きく、最大層厚５００μｍ以
下である。層の厚さは、１μｍ〜５０μｍが特に有利で
ある。
クを含有するかかるＣＬＣ混合物は、選択的に円偏光波
長を反射する、コレステリック配向を有する層を製造す
るための前記方法において出発材料として使用すること
ができる。これらの適用において、ＬＣ層の厚さは、有
利にはピッチの３倍より大きく、最大層厚５００μｍ以
下である。層の厚さは、１μｍ〜５０μｍが特に有利で
ある。
【００５２】コレステリック配向を有するかかる層は、
キラリックの濃度をコレステリックバンドの反射波長
が、可視波長領域であるように選択するならば装飾用の
適用に非常に好適である。仰角に依存する色印象および
金属光沢の結果として、これらの層は、特定の色彩効果
を容易にする。有価券の印刷およびマーク保護（mark p
rotection）での適用においては、これらの色彩効果お
よび反射光の偏光は、良好な複製保護（copy protectio
n）が達成されることも示している。
キラリックの濃度をコレステリックバンドの反射波長
が、可視波長領域であるように選択するならば装飾用の
適用に非常に好適である。仰角に依存する色印象および
金属光沢の結果として、これらの層は、特定の色彩効果
を容易にする。有価券の印刷およびマーク保護（mark p
rotection）での適用においては、これらの色彩効果お
よび反射光の偏光は、良好な複製保護（copy protectio
n）が達成されることも示している。
【００５３】光学的な適用の例は、ＵＳ−Ａ−４，８５
９，０３１号に記載されているような平坦なＣＬＣフィ
ルターである。ＵＳ−Ａ−５，６８２，２１２号は、ど
のようにコレステリック液晶で、可視光から近紫外まで
に関して光学的にイメージングする波長選択的素子およ
び偏光選択的素子を曲面基板に製造することを可能にす
るかを記載している。
９，０３１号に記載されているような平坦なＣＬＣフィ
ルターである。ＵＳ−Ａ−５，６８２，２１２号は、ど
のようにコレステリック液晶で、可視光から近紫外まで
に関して光学的にイメージングする波長選択的素子およ
び偏光選択的素子を曲面基板に製造することを可能にす
るかを記載している。
【００５４】これらの光学素子適用の可能な形は、例え
ばビームスプリッター、ミラーおよびレンズである。特
に有利には、本明細書で使用されるネマチック液晶性オ
ルガノシロキサン（Ｆ）をベースとする混合物は、キラ
リックの低濃度下で、赤外領域（ＩＲ）、すなわち可視
領域より長波長で円偏光を反射するコレステリックフィ
ルターの製造のために適当である。曲面基板の使用は、
特にＩＲ領域において光学的にイメージングする波長選
択的素子および偏光選択的素子の製造を、ＵＳ−Ａ−
５，６８２，２１２号に記載された方法によって可能に
する。
ばビームスプリッター、ミラーおよびレンズである。特
に有利には、本明細書で使用されるネマチック液晶性オ
ルガノシロキサン（Ｆ）をベースとする混合物は、キラ
リックの低濃度下で、赤外領域（ＩＲ）、すなわち可視
領域より長波長で円偏光を反射するコレステリックフィ
ルターの製造のために適当である。曲面基板の使用は、
特にＩＲ領域において光学的にイメージングする波長選
択的素子および偏光選択的素子の製造を、ＵＳ−Ａ−
５，６８２，２１２号に記載された方法によって可能に
する。
【００５５】多くの適用のためには、可視光領域におい
て透明かつ無色であるＩＲ−反射性のＣＬＣ層が特に有
利である。この目的のためには、バンド下端の波長は、
有利には７５０ｎｍより長波長である。これらのＩＲ−
ＣＬＣ層の１種の適用例は、ヒトの目には不可視である
機械が読みとり可能な印字またはマーキング、例えば有
価証券上のセキュリティーマーキング（security marki
ng）またはマーク保護においてである。これらの適用に
おいては、反射ＩＲ線の円偏波は特に有利である。それ
というのも、これは、困難を伴ってのみ再製造できるセ
キュリティーの特徴（security feature）であるからで
ある。
て透明かつ無色であるＩＲ−反射性のＣＬＣ層が特に有
利である。この目的のためには、バンド下端の波長は、
有利には７５０ｎｍより長波長である。これらのＩＲ−
ＣＬＣ層の１種の適用例は、ヒトの目には不可視である
機械が読みとり可能な印字またはマーキング、例えば有
価証券上のセキュリティーマーキング（security marki
ng）またはマーク保護においてである。これらの適用に
おいては、反射ＩＲ線の円偏波は特に有利である。それ
というのも、これは、困難を伴ってのみ再製造できるセ
キュリティーの特徴（security feature）であるからで
ある。
【００５６】ＩＲ−反射性のＣＬＣ層の別の適用は、熱
放射に対する無色透明の保護コーティング、例えばビル
または乗り物の熱的保護窓ガラスにおいてである。この
適用のためには、可能であれば、全ての熱放射を反射す
ることが重要であるので、本明細書では、左旋回の偏光
および右旋回の偏光を反射させるために、逆回転方向の
コレステリックらせんを有する２層を組み合わせること
が有利である。この適用のためには、例えばらせん構造
のピッチに変化を起こす前記の処理によって、更に、フ
ィルムの製造の間に反射バンドを拡大させたＩＲにおけ
る反射波長を有するコレステリック層が特に有利であ
る。
放射に対する無色透明の保護コーティング、例えばビル
または乗り物の熱的保護窓ガラスにおいてである。この
適用のためには、可能であれば、全ての熱放射を反射す
ることが重要であるので、本明細書では、左旋回の偏光
および右旋回の偏光を反射させるために、逆回転方向の
コレステリックらせんを有する２層を組み合わせること
が有利である。この適用のためには、例えばらせん構造
のピッチに変化を起こす前記の処理によって、更に、フ
ィルムの製造の間に反射バンドを拡大させたＩＲにおけ
る反射波長を有するコレステリック層が特に有利であ
る。
【００５７】本発明による光学的異方性の層の幾つかの
前記の適用において、干渉性フィルムの代わりに、ＬＣ
板を有する層を使用することも可能である。液晶性オル
ガノシロキサン（Ｆ）の特定の光学的効果を、このよう
にして非常に廉価に適用することができる。それという
のも、使用者は、配向法および架橋法を必要とする自体
の発明に従ってフィルムのより複雑な製造を実施する代
わりに、慣用の印刷技術およびコーティング技術を使用
することができるからである。この目的のために、ＬＣ
板を、例えばＵＳ−Ａ−５，３６２，３１５号またはＵ
Ｓ−Ａ−５，６８３，６２２号に記載されたように適当
な結合剤系中に導入してもよい。結合剤系に必要とされ
る特性、特に光学的特性は、ＬＣ板の目的とする適用に
依存する。
前記の適用において、干渉性フィルムの代わりに、ＬＣ
板を有する層を使用することも可能である。液晶性オル
ガノシロキサン（Ｆ）の特定の光学的効果を、このよう
にして非常に廉価に適用することができる。それという
のも、使用者は、配向法および架橋法を必要とする自体
の発明に従ってフィルムのより複雑な製造を実施する代
わりに、慣用の印刷技術およびコーティング技術を使用
することができるからである。この目的のために、ＬＣ
板を、例えばＵＳ−Ａ−５，３６２，３１５号またはＵ
Ｓ−Ａ−５，６８３，６２２号に記載されたように適当
な結合剤系中に導入してもよい。結合剤系に必要とされ
る特性、特に光学的特性は、ＬＣ板の目的とする適用に
依存する。
【００５８】キラル添加物を含有するＬＣ板の偏光選択
的反射および波長選択的反射を使用する適用において
は、少なくとも反射波長の領域で、光学的に透明である
結合剤が有利である。可視光領域で光学的異方性を使用
する適用のためには、有利な結合剤は、全可視領域にお
いて無色透明である。
的反射および波長選択的反射を使用する適用において
は、少なくとも反射波長の領域で、光学的に透明である
結合剤が有利である。可視光領域で光学的異方性を使用
する適用のためには、有利な結合剤は、全可視領域にお
いて無色透明である。
【００５９】光学素子のためには、硬化後の平均屈折率
が、ＬＣ板の平均屈折率と類似である結合剤系が有利で
ある。ＬＣ板を有する耐用層（durable layer）の製造
のために、有利には硬化性結合剤系が適当である。しか
しながら、特定の適用のためには、非硬化性結合剤、例
えばオイルおよびペーストを使用することもできる。定
義したようにＬＣ板の物理的特性を変化させるだけであ
るか、または全く変化させない結合剤系が特に有利であ
る。
が、ＬＣ板の平均屈折率と類似である結合剤系が有利で
ある。ＬＣ板を有する耐用層（durable layer）の製造
のために、有利には硬化性結合剤系が適当である。しか
しながら、特定の適用のためには、非硬化性結合剤、例
えばオイルおよびペーストを使用することもできる。定
義したようにＬＣ板の物理的特性を変化させるだけであ
るか、または全く変化させない結合剤系が特に有利であ
る。
【００６０】適当な結合剤系は、例えば重合可能な樹脂
（ＵＰ樹脂、シリコーン樹脂およびエポキシ樹脂）、分
散液、溶剤含有塗料または水性塗料、重合可能なＬＣシ
リコーンまたは全ての透明のプラスチック、例えばポリ
塩化ビニル、ポリ−メタクリル酸メチルおよびポリカー
ボネートである。これらの等方性結合剤の他に、結合剤
として液晶系、例えば液晶性ポリマーまたは重合可能な
液晶性樹脂および重合可能なＬＣシリコーンを使用する
ことも可能である。
（ＵＰ樹脂、シリコーン樹脂およびエポキシ樹脂）、分
散液、溶剤含有塗料または水性塗料、重合可能なＬＣシ
リコーンまたは全ての透明のプラスチック、例えばポリ
塩化ビニル、ポリ−メタクリル酸メチルおよびポリカー
ボネートである。これらの等方性結合剤の他に、結合剤
として液晶系、例えば液晶性ポリマーまたは重合可能な
液晶性樹脂および重合可能なＬＣシリコーンを使用する
ことも可能である。
【００６１】特定の光学的特性を有する層またはフィル
ムを製造するために、ＬＣ板を、液体結合剤中に混ぜ
る。層表面に平行なプレートの配向を、液晶性着色顔料
での塗布と同様に、例えばＵＳ−Ａ−５，３６２，３１
５号に記載されたように、顔料／結合剤の混合物の薄層
を基板に適用する時、または該混合物の押し出しの間に
実施する。特定の適用に必要な条件および結合剤の特性
によって、そのフィルムを、硬化後に基板から剥離させ
ることができる。
ムを製造するために、ＬＣ板を、液体結合剤中に混ぜ
る。層表面に平行なプレートの配向を、液晶性着色顔料
での塗布と同様に、例えばＵＳ−Ａ−５，３６２，３１
５号に記載されたように、顔料／結合剤の混合物の薄層
を基板に適用する時、または該混合物の押し出しの間に
実施する。特定の適用に必要な条件および結合剤の特性
によって、そのフィルムを、硬化後に基板から剥離させ
ることができる。
【００６２】本発明によるＬＣ板の適用は、該フィルム
と同様に、紫外領域から赤外領域までの電磁波の純粋な
相の位相差（pure phase retardation）に制限される
か、またはオルガノシロキサン（Ｆ）の他に、キラルネ
マチック相を誘導させる更なる成分を含有する混合物を
プレートの製造のために使用するのであれば、該混合物
から、一定の波長の電磁波を円偏波で反射するキラル相
を有する液晶構造を有するＬＣ板を、ＵＳ−Ａ−５，３
６２，３１５号に記載のように製造することもできる。
本発明によるＬＣ板の使用の例は、ＵＳ−Ａ−５，６８
３，６２２号に記載のような、光学的にイメージングす
る曲面基板上の波長選択的素子および偏光選択的素子の
製造である。
と同様に、紫外領域から赤外領域までの電磁波の純粋な
相の位相差（pure phase retardation）に制限される
か、またはオルガノシロキサン（Ｆ）の他に、キラルネ
マチック相を誘導させる更なる成分を含有する混合物を
プレートの製造のために使用するのであれば、該混合物
から、一定の波長の電磁波を円偏波で反射するキラル相
を有する液晶構造を有するＬＣ板を、ＵＳ−Ａ−５，３
６２，３１５号に記載のように製造することもできる。
本発明によるＬＣ板の使用の例は、ＵＳ−Ａ−５，６８
３，６２２号に記載のような、光学的にイメージングす
る曲面基板上の波長選択的素子および偏光選択的素子の
製造である。
【００６３】該ＬＣ板は、キラリックの濃度を、コレス
テリックバンドの反射波長が可視波長領域であるように
選択するならば、装飾目的のために特に適当である。証
券印刷およびマーク保護での適用の場合には、仰角に依
存する色彩印象および反射光の偏光が、更なるセキュリ
ティーの特徴である。左旋回構造および右旋回構造を有
するＬＣ板の同時の使用の場合には、ＵＳ−Ａ−５，５
９９，４１２号に記載のように３次元印刷を製造するこ
とができる。
テリックバンドの反射波長が可視波長領域であるように
選択するならば、装飾目的のために特に適当である。証
券印刷およびマーク保護での適用の場合には、仰角に依
存する色彩印象および反射光の偏光が、更なるセキュリ
ティーの特徴である。左旋回構造および右旋回構造を有
するＬＣ板の同時の使用の場合には、ＵＳ−Ａ−５，５
９９，４１２号に記載のように３次元印刷を製造するこ
とができる。
【００６４】特に有利には、該ＬＣ板は、例えば銀行
券、有価証券、書類の偽造に対する保護のためのセキュ
リティーマーキングの製造のためか、またはマーク保護
において使用することができる。それというのも、これ
らは、通常、その適用のために既に存在している印刷法
または他のコーティング法に、比較的容易に組み入れる
ことができるからである。
券、有価証券、書類の偽造に対する保護のためのセキュ
リティーマーキングの製造のためか、またはマーク保護
において使用することができる。それというのも、これ
らは、通常、その適用のために既に存在している印刷法
または他のコーティング法に、比較的容易に組み入れる
ことができるからである。
【００６５】有利には、キラリックの比較的低濃度下で
得られたＩＲ−反射性ＬＣ板は、かかる適用のためには
可視光領域において無色透明である。本明細書では、反
射バンドのバンド下端の波長は、有利には７５０ｎｍよ
り長波長である。かかるＬＣ板は、ヒトの目には不可視
であるマーキングを製造するために適当であるが、その
ＩＲ領域での良好な反射の結果として、ＩＲ検出器を有
する装置によって記録させることができる。反射波長の
他に、反射線の円偏波を、更なるセキュリティーの特徴
として検出することもできる。この適用のために、有利
には、ＣＬＣ板を、ＩＲ−透過結合剤でマークすべき基
板に適用する。
得られたＩＲ−反射性ＬＣ板は、かかる適用のためには
可視光領域において無色透明である。本明細書では、反
射バンドのバンド下端の波長は、有利には７５０ｎｍよ
り長波長である。かかるＬＣ板は、ヒトの目には不可視
であるマーキングを製造するために適当であるが、その
ＩＲ領域での良好な反射の結果として、ＩＲ検出器を有
する装置によって記録させることができる。反射波長の
他に、反射線の円偏波を、更なるセキュリティーの特徴
として検出することもできる。この適用のために、有利
には、ＣＬＣ板を、ＩＲ−透過結合剤でマークすべき基
板に適用する。
【００６６】本発明を以下の実施例によって説明する
が、本発明はこの実施例により制限されるものではな
い。
が、本発明はこの実施例により制限されるものではな
い。
【００６７】これらの実施例において、特に記載がない
限り、全ての量およびパーセンテージは、重量によるも
のであり、全ての圧力は、０．１０ＭＰａ（絶対）であ
り、かつ全ての温度は、２０℃である。
限り、全ての量およびパーセンテージは、重量によるも
のであり、全ての圧力は、０．１０ＭＰａ（絶対）であ
り、かつ全ての温度は、２０℃である。
【００６８】
【実施例】例１：一般式（７）のアルケンを、文献に記
載されている以下の手順で製造した：ＵＳ−Ａ−５，６
１０，２５８号の実施例１ａ）および１ｂ）によるｐ−
ヒドロキシ安息香酸エステルおよび４−（４′−アリル
オキシベンゾイルオキシ）安息香酸４−アルキル／アル
コキシフェニル。
載されている以下の手順で製造した：ＵＳ−Ａ−５，６
１０，２５８号の実施例１ａ）および１ｂ）によるｐ−
ヒドロキシ安息香酸エステルおよび４−（４′−アリル
オキシベンゾイルオキシ）安息香酸４−アルキル／アル
コキシフェニル。
【００６９】ＵＳ−Ａ−５，６１０，２５８号の実施例
１ｃ）によるアリルオキシ安息香酸４−メタクリロイル
オキシフェニル。
１ｃ）によるアリルオキシ安息香酸４−メタクリロイル
オキシフェニル。
【００７０】ＵＳ−Ａ−５，６１０，２５８号の実施例
１ｄ）による４−アリルオキシ安息香酸４−Ｒ−フェニ
ル。
１ｄ）による４−アリルオキシ安息香酸４−Ｒ−フェニ
ル。
【００７１】ａ）他の１−（４−アリルオキシベンゾイ
ルオキシ）−４−（アルカノイル／シクロアルカノイル
オキシ）ベンゼンを、以下の方法で合成した：塩化アル
カンカルボニル、塩化クロロアルキルカルボニルまたは
塩化シクロアルカンカルボニルの１．５当量をトルエン
中の４−アリルオキシ安息香酸４−ヒドロキシフェニル
（略称ＡＢＨ、ＵＳ−Ａ−５，２１１，８７７号に従っ
て製造した）１当量の１５％の沸騰溶液に滴加した。酸
塩化物の添加が完了したら、該溶液を沸点に更に３時間
保ち、次いで９０℃に冷却した。酸および酸塩化物の残
留量を、酸塩化物を相応の酸のナトリウム塩に変換する
ために等量の水酸化ナトリウム水溶液で洗浄することに
よって除去し、冷却しかつ石油エーテル（沸騰範囲１０
０〜１４０℃）を添加することによって生成物を結晶化
させた。沈殿物を濾別し、石油エーテル１００〜１４０
で洗浄し、乾燥させた。
ルオキシ）−４−（アルカノイル／シクロアルカノイル
オキシ）ベンゼンを、以下の方法で合成した：塩化アル
カンカルボニル、塩化クロロアルキルカルボニルまたは
塩化シクロアルカンカルボニルの１．５当量をトルエン
中の４−アリルオキシ安息香酸４−ヒドロキシフェニル
（略称ＡＢＨ、ＵＳ−Ａ−５，２１１，８７７号に従っ
て製造した）１当量の１５％の沸騰溶液に滴加した。酸
塩化物の添加が完了したら、該溶液を沸点に更に３時間
保ち、次いで９０℃に冷却した。酸および酸塩化物の残
留量を、酸塩化物を相応の酸のナトリウム塩に変換する
ために等量の水酸化ナトリウム水溶液で洗浄することに
よって除去し、冷却しかつ石油エーテル（沸騰範囲１０
０〜１４０℃）を添加することによって生成物を結晶化
させた。沈殿物を濾別し、石油エーテル１００〜１４０
で洗浄し、乾燥させた。
【００７２】詳細には、第１表に列記した化合物は、前
記方法によって、記載される収率および相の特性で製造
された： 第１表：（Ｃ＝結晶性、Ｉ＝等方性、ＬＣ＝液晶相）
記方法によって、記載される収率および相の特性で製造
された： 第１表：（Ｃ＝結晶性、Ｉ＝等方性、ＬＣ＝液晶相）
【００７３】
【表１】
【００７４】ｂ）種々の１−（４−アリルオキシベンゾ
イルオキシ）−４−（４′−Ｒ−ベンゾイルオキシ）ベ
ンゼンを、以下の方法で合成した：非置換またはパラ置
換した塩化ベンゾイル１．５当量を、ｏ−キシレン中の
４−アリルオキシ安息香酸４−ヒドロキシフェニル（Ｕ
Ｓ−Ａ−５，２１１，８７７号に従って製造した）１当
量の１５％沸騰溶液に滴加した。酸塩化物の添加が完了
したら、溶液を沸点に更に２時間保ち、次いで２０℃に
冷却した。生成物は冷却中に結晶化した。沈殿物を濾別
し、ｏ−キシレンで洗浄し、かつ乾燥させた。
イルオキシ）−４−（４′−Ｒ−ベンゾイルオキシ）ベ
ンゼンを、以下の方法で合成した：非置換またはパラ置
換した塩化ベンゾイル１．５当量を、ｏ−キシレン中の
４−アリルオキシ安息香酸４−ヒドロキシフェニル（Ｕ
Ｓ−Ａ−５，２１１，８７７号に従って製造した）１当
量の１５％沸騰溶液に滴加した。酸塩化物の添加が完了
したら、溶液を沸点に更に２時間保ち、次いで２０℃に
冷却した。生成物は冷却中に結晶化した。沈殿物を濾別
し、ｏ−キシレンで洗浄し、かつ乾燥させた。
【００７５】詳細には、第２表に列記した化合物は、前
記方法によって記載される収率および相の特性で製造さ
れた： 第２表：（Ｃ＝結晶性、Ｉ＝等方性、ＬＣ＝液晶相）
記方法によって記載される収率および相の特性で製造さ
れた： 第２表：（Ｃ＝結晶性、Ｉ＝等方性、ＬＣ＝液晶相）
【００７６】
【表２】
【００７７】例２：１−（４−アリルオキシベンゾイル
オキシ）−４−シクロヘキサノイルオキシベンゼン５．
６ｋｇ（１４．７モル）およびペンタメチルシクロペン
タシロキサン１．６ｋｇ（５．３モル）を、トルエン３
３ｌ中に溶解させ、ペンタメチルシクロペンタシロキサ
ンに対して２５０ｐｐｍの二塩化シクロオクタジエニル
白金を６５℃で添加した。熱の発生がおさまったら、溶
液を１１０℃で４５分間撹拌した。次いで、アリルオキ
シ安息香酸４−メタクリロイルオキシフェニル３．３ｋ
ｇ（９．７５モル）、二塩化シクロオクタジエニル白金
２５０ｐｐｍおよびＮ−ニトロソフェニルヒドロキシル
アミンのアルミニウム塩（Ｗａｋｏ（ノイス）からＱ１
３０１として得られる）２１ｇを、添加し、この混合物
を８０℃で４時間撹拌した。生成物を、石油エーテルを
使用して２０℃で沈殿させ、沈殿物をトルエン中に溶解
させ、微細濾過し（fine-filtered）、乾燥させ、ガラ
ス転移温度３１℃〜透明点１００℃の間でネマチック相
を有し、９０℃で粘度１１Ｐａｓを有するオルガノシロ
キサン８．９９ｋｇ（理論値の８７％）が得られた。
オキシ）−４−シクロヘキサノイルオキシベンゼン５．
６ｋｇ（１４．７モル）およびペンタメチルシクロペン
タシロキサン１．６ｋｇ（５．３モル）を、トルエン３
３ｌ中に溶解させ、ペンタメチルシクロペンタシロキサ
ンに対して２５０ｐｐｍの二塩化シクロオクタジエニル
白金を６５℃で添加した。熱の発生がおさまったら、溶
液を１１０℃で４５分間撹拌した。次いで、アリルオキ
シ安息香酸４−メタクリロイルオキシフェニル３．３ｋ
ｇ（９．７５モル）、二塩化シクロオクタジエニル白金
２５０ｐｐｍおよびＮ−ニトロソフェニルヒドロキシル
アミンのアルミニウム塩（Ｗａｋｏ（ノイス）からＱ１
３０１として得られる）２１ｇを、添加し、この混合物
を８０℃で４時間撹拌した。生成物を、石油エーテルを
使用して２０℃で沈殿させ、沈殿物をトルエン中に溶解
させ、微細濾過し（fine-filtered）、乾燥させ、ガラ
ス転移温度３１℃〜透明点１００℃の間でネマチック相
を有し、９０℃で粘度１１Ｐａｓを有するオルガノシロ
キサン８．９９ｋｇ（理論値の８７％）が得られた。
【００７８】トルエン中の前記オルガノシロキサン６ｋ
ｇの２５％溶液を、アリルオキシ安息香酸４−メタクリ
ロイルオキシフェニル１．２ｋｇ（３．５５モル）と混
合した。この混合物を、濾過し、乾燥させ、ガラス転移
温度９℃〜透明点９４℃の間でネマチック相を有し、９
０℃で粘度１Ｐａｓを有するオルガノシロキサン混合物
（ＬＣシリコーン１）６．５ｋｇが得られた。
ｇの２５％溶液を、アリルオキシ安息香酸４−メタクリ
ロイルオキシフェニル１．２ｋｇ（３．５５モル）と混
合した。この混合物を、濾過し、乾燥させ、ガラス転移
温度９℃〜透明点９４℃の間でネマチック相を有し、９
０℃で粘度１Ｐａｓを有するオルガノシロキサン混合物
（ＬＣシリコーン１）６．５ｋｇが得られた。
【００７９】例３：例２からのＬＣシリコーン１を、２
−メチル−１−［４−（メチルチオ）フェニル］−２−
モルフォリノ−１−プロパノン（品名Ｉｒｇａｃｕｒｅ
(R)（チバガイギーＡＧ）として得られる）０．５重量
％と混合した。２枚のガラス板に、ベルベット布で一方
向にラビングしたポリビニルアルコール配向層をそれぞ
れもうけた。前記の混合物０．１ｇを、９０℃で一方の
ガラス板の配向層に適用し、もう一方のプレートを、ラ
ビング方向が反対でかつ平行になるように重ねた。プレ
ート上に均一な圧力をかけることによって、該混合物
を、約７μｍ厚のフィルムが配向層間に残留するまで分
布させた。該フィルムを、均一のプレーナ配向を有する
モノドメインが達成され、全ての転傾線が消失するまで
８５℃で１５分間加熱した。引き続き、これを、ＵＶ−
Ａ光での照射（約１００ｍＷ／ｃｍ2、１５秒間）によ
って重合させた。生成した無色透明のフィルムは、セナ
ルモン法（Senarmont method）を使用して光波長６３３
ｎｍで光路差９６０ｎｍを示した。
−メチル−１−［４−（メチルチオ）フェニル］−２−
モルフォリノ−１−プロパノン（品名Ｉｒｇａｃｕｒｅ
(R)（チバガイギーＡＧ）として得られる）０．５重量
％と混合した。２枚のガラス板に、ベルベット布で一方
向にラビングしたポリビニルアルコール配向層をそれぞ
れもうけた。前記の混合物０．１ｇを、９０℃で一方の
ガラス板の配向層に適用し、もう一方のプレートを、ラ
ビング方向が反対でかつ平行になるように重ねた。プレ
ート上に均一な圧力をかけることによって、該混合物
を、約７μｍ厚のフィルムが配向層間に残留するまで分
布させた。該フィルムを、均一のプレーナ配向を有する
モノドメインが達成され、全ての転傾線が消失するまで
８５℃で１５分間加熱した。引き続き、これを、ＵＶ−
Ａ光での照射（約１００ｍＷ／ｃｍ2、１５秒間）によ
って重合させた。生成した無色透明のフィルムは、セナ
ルモン法（Senarmont method）を使用して光波長６３３
ｎｍで光路差９６０ｎｍを示した。
【００８０】例４：４−（４′−アリルオキシベンゾイ
ルオキシ）安息香酸４−メトキシフェニル１２１．３２
ｇ（０．３モル）、アリルオキシ安息香酸４−メタクリ
ロイルオキシフェニル（０．２モル）、Ｎ−ニトロソフ
ェニルヒドロキシルアミンのアルミニウム塩０．２２ｇ
およびペンタメチルシクロペンタシロキサン３３．０６
ｇ（０．１１モル）を、トルエン４８０ｍｌ中に溶解さ
せた。該溶液を７０℃に加熱し、ペンタメチルシクロペ
ンタシロキサンに対して２００ｐｐｍの二塩化シクロペ
ンタジエニル白金を添加し、この混合物を７５℃で２５
時間撹拌した。１２時間後と１９時間後の両方に、白金
触媒０．０２ｇを供給した。溶剤を除去し、残留物をテ
トラヒドロフラン中に溶解させ、エタノールを使用して
生成物を沈殿させ、この沈殿物を乾燥させ、ガラス転移
温度３５℃〜透明点２１０℃の間でネマチック相を有す
るオルガノシロキサン１７５．１０ｇ（理論値の８０
％）が得られた。
ルオキシ）安息香酸４−メトキシフェニル１２１．３２
ｇ（０．３モル）、アリルオキシ安息香酸４−メタクリ
ロイルオキシフェニル（０．２モル）、Ｎ−ニトロソフ
ェニルヒドロキシルアミンのアルミニウム塩０．２２ｇ
およびペンタメチルシクロペンタシロキサン３３．０６
ｇ（０．１１モル）を、トルエン４８０ｍｌ中に溶解さ
せた。該溶液を７０℃に加熱し、ペンタメチルシクロペ
ンタシロキサンに対して２００ｐｐｍの二塩化シクロペ
ンタジエニル白金を添加し、この混合物を７５℃で２５
時間撹拌した。１２時間後と１９時間後の両方に、白金
触媒０．０２ｇを供給した。溶剤を除去し、残留物をテ
トラヒドロフラン中に溶解させ、エタノールを使用して
生成物を沈殿させ、この沈殿物を乾燥させ、ガラス転移
温度３５℃〜透明点２１０℃の間でネマチック相を有す
るオルガノシロキサン１７５．１０ｇ（理論値の８０
％）が得られた。
【００８１】例５：１−（４−アリルオキシベンゾイル
オキシ）−４−ベンゾイルオキシベンゼン４２．１２ｇ
（０．１１３モル）、アリルオキシ安息香酸４−シアノ
フェニル３１．４２ｇ（０．１１３モル）およびペンタ
メチルシクロペンタシロキサン２３．７０ｇ（０．０７
９モル）を、トルエン３００ｍｌ中に溶解させ、ペンタ
メチルシクロペンタシロキサンに対して２００重量ｐｐ
ｍの二塩化シクロペンタジエニル白金を１００℃で添加
した。この溶液を１１０℃で３５分間撹拌し、次いで２
０℃に冷却し、アリルオキシ安息香酸４−メタクリロイ
ルオキシフェニル５０．７５ｇ（０．１５０モル）、ペ
ンタメチルシクロペンタシロキサンに対して１５０重量
ｐｐｍの二塩化シクロペンタジエニル白金、およびＮ−
ニトロソフェニルヒドロキシルアミンのアルミニウム塩
０．２２ｇを添加し、この混合物を７５℃で１１時間撹
拌し、石油エーテルを使用して、冷却した反応溶液から
生成物を沈殿させ、この沈殿物を乾燥させ、ガラス転移
温度３４℃〜透明点１２３℃の間でネマチック相を有す
るオルガノシロキサン１２１．８６ｇ（理論値の８３
％）が得られた。
オキシ）−４−ベンゾイルオキシベンゼン４２．１２ｇ
（０．１１３モル）、アリルオキシ安息香酸４−シアノ
フェニル３１．４２ｇ（０．１１３モル）およびペンタ
メチルシクロペンタシロキサン２３．７０ｇ（０．０７
９モル）を、トルエン３００ｍｌ中に溶解させ、ペンタ
メチルシクロペンタシロキサンに対して２００重量ｐｐ
ｍの二塩化シクロペンタジエニル白金を１００℃で添加
した。この溶液を１１０℃で３５分間撹拌し、次いで２
０℃に冷却し、アリルオキシ安息香酸４−メタクリロイ
ルオキシフェニル５０．７５ｇ（０．１５０モル）、ペ
ンタメチルシクロペンタシロキサンに対して１５０重量
ｐｐｍの二塩化シクロペンタジエニル白金、およびＮ−
ニトロソフェニルヒドロキシルアミンのアルミニウム塩
０．２２ｇを添加し、この混合物を７５℃で１１時間撹
拌し、石油エーテルを使用して、冷却した反応溶液から
生成物を沈殿させ、この沈殿物を乾燥させ、ガラス転移
温度３４℃〜透明点１２３℃の間でネマチック相を有す
るオルガノシロキサン１２１．８６ｇ（理論値の８３
％）が得られた。
【００８２】例６：１−（４−アリルオキシベンゾイル
オキシ）−４−ベンゾイルオキシベンゼン１７．０ｇ
（０．０４５モル）およびペンタメチルシクロペンタシ
ロキサン７．２ｇ（０．０２４モル）を、トルエン４５
ｍｌ中に溶解させ、塩化メチレン中の二塩化シクロペン
タジエニル白金の１％溶液０．２３ｍｌを８０℃で添加
した。この溶液を１０５℃で４５分間撹拌し、次いで６
０℃に冷却し、アリルオキシ安息香酸４−メタクリロイ
ルオキシフェニル２３．１ｇ（０．０６８モル）、塩化
メチレン中の二塩化シクロペンタジエニル白金の１％溶
液０．２４ｍｌ、トルエン４５ｍｌおよびＮ−ニトロソ
フェニルヒドロキシルアミンのアルミニウム塩４６．８
８ｍｇを添加し、この混合物を、７０℃で２時間撹拌し
た。生成物を、石油エーテルを使用して、冷却した反応
溶液から沈殿させた。この沈殿物を、トルエン中に溶解
させ、微細濾過し、凍結乾燥し、ガラス転移温度３７℃
〜透明点１１３℃の間でネマチック相を有するオルガノ
シロキサン４０．３ｇ（理論値の８６％）が得られた。
該オルガノシロキサンを、例３に記載のように、層厚約
５μｍを有する配向しかつ架橋した層を製造するために
使用した。完全な配向は、９０℃で１５分間加熱した後
に達成された。交差した偏光板の間で、無色透明のフィ
ルムは、一方向の偏光軸に対して、配向層のラビング方
向が平行に調節される場合に暗くなることで明確な光学
的異方性を示した。
オキシ）−４−ベンゾイルオキシベンゼン１７．０ｇ
（０．０４５モル）およびペンタメチルシクロペンタシ
ロキサン７．２ｇ（０．０２４モル）を、トルエン４５
ｍｌ中に溶解させ、塩化メチレン中の二塩化シクロペン
タジエニル白金の１％溶液０．２３ｍｌを８０℃で添加
した。この溶液を１０５℃で４５分間撹拌し、次いで６
０℃に冷却し、アリルオキシ安息香酸４−メタクリロイ
ルオキシフェニル２３．１ｇ（０．０６８モル）、塩化
メチレン中の二塩化シクロペンタジエニル白金の１％溶
液０．２４ｍｌ、トルエン４５ｍｌおよびＮ−ニトロソ
フェニルヒドロキシルアミンのアルミニウム塩４６．８
８ｍｇを添加し、この混合物を、７０℃で２時間撹拌し
た。生成物を、石油エーテルを使用して、冷却した反応
溶液から沈殿させた。この沈殿物を、トルエン中に溶解
させ、微細濾過し、凍結乾燥し、ガラス転移温度３７℃
〜透明点１１３℃の間でネマチック相を有するオルガノ
シロキサン４０．３ｇ（理論値の８６％）が得られた。
該オルガノシロキサンを、例３に記載のように、層厚約
５μｍを有する配向しかつ架橋した層を製造するために
使用した。完全な配向は、９０℃で１５分間加熱した後
に達成された。交差した偏光板の間で、無色透明のフィ
ルムは、一方向の偏光軸に対して、配向層のラビング方
向が平行に調節される場合に暗くなることで明確な光学
的異方性を示した。
【００８３】例７：１−（４−アリルオキシベンゾイル
オキシ）−４−ベンゾイルオキシベンゼン３７．４４ｇ
（０．１モル）およびペンタメチルシクロペンタシロキ
サン１０．５２ｇ（０．０３５モル）を、トルエン７５
ｍｌ中に溶解させ、塩化メチレン中の二塩化シクロペン
タジエニル白金の１％溶液０．３５ｍｌを、８０℃で添
加した。この溶液を、１０５℃で４５分間撹拌し、次い
で６０℃に冷却し、アリルオキシ安息香酸４−メタクリ
ロイルオキシフェニル２２．５６ｇ（０．０６７モ
ル）、塩化メチレン中の二塩化シクロペンタジエニル白
金の１％溶液０．３５ｍｌ、トルエン７５ｍｌおよびＮ
−ニトロソフェニルヒドロキシルアミンのアルミニウム
塩７０．５２ｍｇを添加し、この混合物を、７５℃で９
０分間撹拌した。この溶液を、濾過し、溶剤を除去し、
残留物を凍結乾燥し、ガラス転移温度４２℃〜透明点１
４６℃の間でネマチック相を有するオルガノシロキサン
（ＬＣシリコーン２）５９．５ｇ（理論値の８５％）が
得られた。
オキシ）−４−ベンゾイルオキシベンゼン３７．４４ｇ
（０．１モル）およびペンタメチルシクロペンタシロキ
サン１０．５２ｇ（０．０３５モル）を、トルエン７５
ｍｌ中に溶解させ、塩化メチレン中の二塩化シクロペン
タジエニル白金の１％溶液０．３５ｍｌを、８０℃で添
加した。この溶液を、１０５℃で４５分間撹拌し、次い
で６０℃に冷却し、アリルオキシ安息香酸４−メタクリ
ロイルオキシフェニル２２．５６ｇ（０．０６７モ
ル）、塩化メチレン中の二塩化シクロペンタジエニル白
金の１％溶液０．３５ｍｌ、トルエン７５ｍｌおよびＮ
−ニトロソフェニルヒドロキシルアミンのアルミニウム
塩７０．５２ｍｇを添加し、この混合物を、７５℃で９
０分間撹拌した。この溶液を、濾過し、溶剤を除去し、
残留物を凍結乾燥し、ガラス転移温度４２℃〜透明点１
４６℃の間でネマチック相を有するオルガノシロキサン
（ＬＣシリコーン２）５９．５ｇ（理論値の８５％）が
得られた。
【００８４】該オルガノシロキサンを、例３に記載した
ように、層厚約５μｍを有する配向しかつ架橋した層を
製造するために使用した。完全な配向は、９０℃で１５
分間加熱した後に達成された。交差した偏光板の間で、
無色透明のフィルムは、一方向の偏光軸に対して、配向
層のラビング方向が平行に調節される場合に暗くなるこ
とで明確な光学的異方性を示した。
ように、層厚約５μｍを有する配向しかつ架橋した層を
製造するために使用した。完全な配向は、９０℃で１５
分間加熱した後に達成された。交差した偏光板の間で、
無色透明のフィルムは、一方向の偏光軸に対して、配向
層のラビング方向が平行に調節される場合に暗くなるこ
とで明確な光学的異方性を示した。
【００８５】例８：アリルオキシ安息香酸４−メタクリ
ロイルオキシフェニル７．５ｇおよび０．５重量％の光
開始剤（photoinitiator）Ｉｒｇａｃｕｒｅ(R)９０７
を、トルエン中の例７からの５０ｇのＬＣシリコーン２
の２５％溶液と混合した。この混合物を、濾過し、乾燥
させ、ガラス転移温度２８℃〜透明点１３４℃の間でネ
マチック相を有し、９０℃で粘度２．７Ｐａｓを有する
オルガノシロキサン混合物が得られた。
ロイルオキシフェニル７．５ｇおよび０．５重量％の光
開始剤（photoinitiator）Ｉｒｇａｃｕｒｅ(R)９０７
を、トルエン中の例７からの５０ｇのＬＣシリコーン２
の２５％溶液と混合した。この混合物を、濾過し、乾燥
させ、ガラス転移温度２８℃〜透明点１３４℃の間でネ
マチック相を有し、９０℃で粘度２．７Ｐａｓを有する
オルガノシロキサン混合物が得られた。
【００８６】該オルガノシロキサンを、例３に記載のよ
うに、層厚約５μｍを有する配向しかつ架橋した層を製
造するために使用した。完全な配向は、９０℃で１０分
間加熱した後に達成された。交差した偏光板の間で、無
色透明のフィルムは、一方向の偏光軸に対して、配向層
のラビング方向が平行に調節される場合に暗くなること
で明確な光学的異方性を示した。光波長６３３ｎｍでの
光路差８２５ｎｍを、セナルモン法を使用して測定し
た。
うに、層厚約５μｍを有する配向しかつ架橋した層を製
造するために使用した。完全な配向は、９０℃で１０分
間加熱した後に達成された。交差した偏光板の間で、無
色透明のフィルムは、一方向の偏光軸に対して、配向層
のラビング方向が平行に調節される場合に暗くなること
で明確な光学的異方性を示した。光波長６３３ｎｍでの
光路差８２５ｎｍを、セナルモン法を使用して測定し
た。
【００８７】例９：１−（４−アリルオキシベンゾイル
オキシ）−４−オクタノイルオキシベンゼン５．９５ｇ
（０．０１５モル）、１−（４−アリルオキシベンゾイ
ルオキシ）−４−ヘキサノイルオキシベンゼン５．５２
ｇ（０．０１５モル）、１−（４−アリルオキシベンゾ
イルオキシ）−４−ヘプタノイルオキシベンゼン５．７
４ｇ（０．０１５モル）およびペンタメチルシクロペン
タシロキサン４．８７ｇ（０．０１６モル）の混合物
を、トルエン１００ｍｌ中に溶解させ、塩化メチレン
０．１５ｍｌ中の二塩化シクロペンタジエニル白金の１
％溶液を８０℃で添加した。この溶液を、１０５℃で４
５分間撹拌し、次いで６０℃に冷却し、アリルオキシ安
息香酸４−メタクリロイルオキシフェニル１０．１５ｇ
（０．０３モル）、塩化メチレン中の二塩化シクロペン
タジエニル白金の１％溶液０．１５ｍｌおよびＮ−ニト
ロソフェニルヒドロキシルアミンのアルミニウム塩３２
ｍｇを添加し、この混合物を７５℃で９０分間撹拌し
た。この溶液を、濾過し、溶剤を除去し、残留物を凍結
乾燥し、ガラス転移温度２０℃〜透明点１０２℃の間で
ネマチック相を有するオルガノシロキサン２２．８ｇ
（理論値の７１％）が得られた。
オキシ）−４−オクタノイルオキシベンゼン５．９５ｇ
（０．０１５モル）、１−（４−アリルオキシベンゾイ
ルオキシ）−４−ヘキサノイルオキシベンゼン５．５２
ｇ（０．０１５モル）、１−（４−アリルオキシベンゾ
イルオキシ）−４−ヘプタノイルオキシベンゼン５．７
４ｇ（０．０１５モル）およびペンタメチルシクロペン
タシロキサン４．８７ｇ（０．０１６モル）の混合物
を、トルエン１００ｍｌ中に溶解させ、塩化メチレン
０．１５ｍｌ中の二塩化シクロペンタジエニル白金の１
％溶液を８０℃で添加した。この溶液を、１０５℃で４
５分間撹拌し、次いで６０℃に冷却し、アリルオキシ安
息香酸４−メタクリロイルオキシフェニル１０．１５ｇ
（０．０３モル）、塩化メチレン中の二塩化シクロペン
タジエニル白金の１％溶液０．１５ｍｌおよびＮ−ニト
ロソフェニルヒドロキシルアミンのアルミニウム塩３２
ｍｇを添加し、この混合物を７５℃で９０分間撹拌し
た。この溶液を、濾過し、溶剤を除去し、残留物を凍結
乾燥し、ガラス転移温度２０℃〜透明点１０２℃の間で
ネマチック相を有するオルガノシロキサン２２．８ｇ
（理論値の７１％）が得られた。
【００８８】該オルガノシロキサンを、例３に記載のよ
うに、層厚約５μｍを有する配向しかつ架橋した層を製
造するために使用した。完全な配向は、８８℃で５分間
加熱した後に達成された。交差した偏光板の間で、無色
透明のフィルムは、一方向の偏光軸に対して、配向層の
ラビング方向が平行に調節される場合に暗くなることで
明確な光学的異方性を示した。
うに、層厚約５μｍを有する配向しかつ架橋した層を製
造するために使用した。完全な配向は、８８℃で５分間
加熱した後に達成された。交差した偏光板の間で、無色
透明のフィルムは、一方向の偏光軸に対して、配向層の
ラビング方向が平行に調節される場合に暗くなることで
明確な光学的異方性を示した。
【００８９】例１０：１−（４−アリルオキシベンゾイ
ルオキシ）−４−オクタノイルオキシベンゼン４．４６
ｇ（０．０１１３モル）、１−（４−アリルオキシベン
ゾイルオキシ）−４−ヘキサノイルオキシベンゼン４．
１４ｇ（０．０１１３モル）、１−（４−アリルオキシ
ベンゾイルオキシ）−４−ヘプタノイルオキシベンゼン
４．３０ｇ（０．０１１３モル）、１−（４−アリルオ
キシベンゾイルオキシ）−４−シクロヘキサノイルベン
ゼン４．２８ｇ（０．０１１３モル）およびペンタメチ
ルシクロペンタシロキサン４．８７ｇ（０．０１６モ
ル）の混合物を、トルエン１００ｍｌ中に溶解させ、塩
化メチレン中の二塩化シクロペンタジエニル白金の１％
溶液０．１５ｍｌを、８０℃で添加した。この溶液を１
０５℃で４５分間撹拌し、次いで６０℃に冷却し、アリ
ルオキシ安息香酸４−メタクリロイルオキシフェニル１
０．１５ｇ（０．０３モル）、塩化メチレン中の二塩化
シクロペンタジエニル白金の１％溶液０．１５ｍｌおよ
びＮ−ニトロソフェニルヒドロキシルアミンのアルミニ
ウム塩３２ｍｇを添加し、この混合物を７５℃で９０分
間撹拌した。この溶液を濾過し、溶剤を除去し、残留物
を凍結乾燥させ、ガラス転移温度２０℃〜透明点１００
℃の間でネマチック相を有し、９０℃で粘度２．４Ｐａ
ｓを有するオルガノシロキサン２２．９ｇ（理論値の７
１％）が得られた。このオルガノシロキサンを、例３に
記載のように厚さ約７μｍを有する配向しかつ架橋した
層を製造するために使用した。完全な配向は、８８℃で
１２分間加熱することによって達成された。交差した偏
光板の間で、無色透明のフィルムは、一方向の偏光軸に
対して、配向層のラビング方向が平行に調節される場合
に暗くなることで明確な光学的異方性を示した。
ルオキシ）−４−オクタノイルオキシベンゼン４．４６
ｇ（０．０１１３モル）、１−（４−アリルオキシベン
ゾイルオキシ）−４−ヘキサノイルオキシベンゼン４．
１４ｇ（０．０１１３モル）、１−（４−アリルオキシ
ベンゾイルオキシ）−４−ヘプタノイルオキシベンゼン
４．３０ｇ（０．０１１３モル）、１−（４−アリルオ
キシベンゾイルオキシ）−４−シクロヘキサノイルベン
ゼン４．２８ｇ（０．０１１３モル）およびペンタメチ
ルシクロペンタシロキサン４．８７ｇ（０．０１６モ
ル）の混合物を、トルエン１００ｍｌ中に溶解させ、塩
化メチレン中の二塩化シクロペンタジエニル白金の１％
溶液０．１５ｍｌを、８０℃で添加した。この溶液を１
０５℃で４５分間撹拌し、次いで６０℃に冷却し、アリ
ルオキシ安息香酸４−メタクリロイルオキシフェニル１
０．１５ｇ（０．０３モル）、塩化メチレン中の二塩化
シクロペンタジエニル白金の１％溶液０．１５ｍｌおよ
びＮ−ニトロソフェニルヒドロキシルアミンのアルミニ
ウム塩３２ｍｇを添加し、この混合物を７５℃で９０分
間撹拌した。この溶液を濾過し、溶剤を除去し、残留物
を凍結乾燥させ、ガラス転移温度２０℃〜透明点１００
℃の間でネマチック相を有し、９０℃で粘度２．４Ｐａ
ｓを有するオルガノシロキサン２２．９ｇ（理論値の７
１％）が得られた。このオルガノシロキサンを、例３に
記載のように厚さ約７μｍを有する配向しかつ架橋した
層を製造するために使用した。完全な配向は、８８℃で
１２分間加熱することによって達成された。交差した偏
光板の間で、無色透明のフィルムは、一方向の偏光軸に
対して、配向層のラビング方向が平行に調節される場合
に暗くなることで明確な光学的異方性を示した。
【００９０】例１１：１−（４−アリルオキシベンゾイ
ルオキシ）−４−ベンゾイルオキシベンゼン１１．２ｇ
（０．０３モル）、１−（４−アリルオキシベンゾイル
オキシ）−４−ヘプタノイルオキシベンゼン１１．４７
ｇ（０．０３モル）、１−（４−アリルオキシベンゾイ
ルオキシ）−４−ヘキサノイルオキシベンゼン１１．８
９ｇ（０．０３２モル）およびペンタメチルシクロペン
タシロキサン９．７４ｇ（０．０３２モル）を、トルエ
ン１００ｍｌ中に溶解させ、塩化メチレン中の二塩化シ
クロペンタジエニル白金の１％溶液０．２８ｍｌを８０
℃で添加した。この溶液を、１０５℃で４５分間撹拌
し、次いで６０℃に冷却し、アリルオキシ安息香酸４−
メタクリロイルオキシフェニル２０．３０ｇ（０．０６
モル）、塩化メチレン中の二塩化シクロペンタジエニル
白金の１％溶液０．２８ｍｌおよびＮ−ニトロソフェニ
ルヒドロキシルアミンのアルミニウム塩６４ｍｇを添加
し、この混合物を７５℃で９０分間撹拌した。この溶液
を、濾過し、溶剤を除去し、残留物を凍結乾燥させ、ガ
ラス転移温度２２℃〜透明点１１４℃の間でネマチック
相を有するオルガノシロキサン４５．２ｇ（理論値の８
０％）が得られた。
ルオキシ）−４−ベンゾイルオキシベンゼン１１．２ｇ
（０．０３モル）、１−（４−アリルオキシベンゾイル
オキシ）−４−ヘプタノイルオキシベンゼン１１．４７
ｇ（０．０３モル）、１−（４−アリルオキシベンゾイ
ルオキシ）−４−ヘキサノイルオキシベンゼン１１．８
９ｇ（０．０３２モル）およびペンタメチルシクロペン
タシロキサン９．７４ｇ（０．０３２モル）を、トルエ
ン１００ｍｌ中に溶解させ、塩化メチレン中の二塩化シ
クロペンタジエニル白金の１％溶液０．２８ｍｌを８０
℃で添加した。この溶液を、１０５℃で４５分間撹拌
し、次いで６０℃に冷却し、アリルオキシ安息香酸４−
メタクリロイルオキシフェニル２０．３０ｇ（０．０６
モル）、塩化メチレン中の二塩化シクロペンタジエニル
白金の１％溶液０．２８ｍｌおよびＮ−ニトロソフェニ
ルヒドロキシルアミンのアルミニウム塩６４ｍｇを添加
し、この混合物を７５℃で９０分間撹拌した。この溶液
を、濾過し、溶剤を除去し、残留物を凍結乾燥させ、ガ
ラス転移温度２２℃〜透明点１１４℃の間でネマチック
相を有するオルガノシロキサン４５．２ｇ（理論値の８
０％）が得られた。
【００９１】前記物質を、ｐ−キシレン１００ｍｌ中に
溶解させ、アリルオキシ安息香酸４−メタクリロイルオ
キシフェニル９．０４ｇ（０．０２８モル）および０．
５重量％の光開始剤Ｉｒｇａｃｕｒｅ(R)９０７を添加
し、この混合物を濾過し、かつ凍結乾燥させた。この混
合物は、透明点９８℃でネマチック相を有した。
溶解させ、アリルオキシ安息香酸４−メタクリロイルオ
キシフェニル９．０４ｇ（０．０２８モル）および０．
５重量％の光開始剤Ｉｒｇａｃｕｒｅ(R)９０７を添加
し、この混合物を濾過し、かつ凍結乾燥させた。この混
合物は、透明点９８℃でネマチック相を有した。
【００９２】該オルガノシロキサンを、例３に記載した
ように厚さ約６μｍを有する配向しかつ架橋した層を製
造するために使用した。完全な配向は、９０℃で２分間
加熱した後に達成された。交差した偏光板の間で、無色
透明のフィルムは、一方向の偏光軸に対して、配向層の
ラビング方向が平行に調節される場合に暗くなることで
明確な光学的異方性を示した。
ように厚さ約６μｍを有する配向しかつ架橋した層を製
造するために使用した。完全な配向は、９０℃で２分間
加熱した後に達成された。交差した偏光板の間で、無色
透明のフィルムは、一方向の偏光軸に対して、配向層の
ラビング方向が平行に調節される場合に暗くなることで
明確な光学的異方性を示した。
【００９３】例１２：１−（４−アリルオキシベンゾイ
ルオキシ）−４−（４′−メトキシベンゾイルオキシ）
ベンゼン３０．４ｇ（０．０１５モル）、１−（４−ア
リルオキシベンゾイルオキシ）−４−ヘキサノイルオキ
シベンゼン２７．７ｇ（０．０１５モル）、１−（４−
アリルオキシベンゾイルオキシ）−４−ヘプタノイルオ
キシベンゼン２８．７ｇ（０．０１５モル）およびペン
タメチルペンタシクロシロキサン２４．４ｇ（０．０１
６モル）を、トルエン１００ｍｌ中に溶解させ、塩化メ
チレン中の二塩化シクロペンタジエニル白金の１％溶液
７．５ｍｌを、８０℃で添加した。この溶液を、１０５
℃で４５分間撹拌し、次いで６０℃に冷却し、アリルオ
キシ安息香酸４−メタクリロイルオキシフェニル５０．
８ｇ（０．０３モル）、塩化メチレン中の二塩化シクロ
ペンタジエニル白金の１％溶液７５０ｍｌおよびＮ−ニ
トロソフェニルヒドロキシルアミンのアルミニウム塩１
６０ｍｇを添加し、この混合物を、７５℃で９０分間撹
拌した。この溶液を濾過し、溶剤を除去し、残留物を凍
結乾燥させ、ガラス転移温度２５℃〜透明点１３９℃の
間でネマチック相を有し、９０℃で粘度３．６Ｐａｓを
有するオルガノシロキサン（ＬＣシリコーン３）が得ら
れた。
ルオキシ）−４−（４′−メトキシベンゾイルオキシ）
ベンゼン３０．４ｇ（０．０１５モル）、１−（４−ア
リルオキシベンゾイルオキシ）−４−ヘキサノイルオキ
シベンゼン２７．７ｇ（０．０１５モル）、１−（４−
アリルオキシベンゾイルオキシ）−４−ヘプタノイルオ
キシベンゼン２８．７ｇ（０．０１５モル）およびペン
タメチルペンタシクロシロキサン２４．４ｇ（０．０１
６モル）を、トルエン１００ｍｌ中に溶解させ、塩化メ
チレン中の二塩化シクロペンタジエニル白金の１％溶液
７．５ｍｌを、８０℃で添加した。この溶液を、１０５
℃で４５分間撹拌し、次いで６０℃に冷却し、アリルオ
キシ安息香酸４−メタクリロイルオキシフェニル５０．
８ｇ（０．０３モル）、塩化メチレン中の二塩化シクロ
ペンタジエニル白金の１％溶液７５０ｍｌおよびＮ−ニ
トロソフェニルヒドロキシルアミンのアルミニウム塩１
６０ｍｇを添加し、この混合物を、７５℃で９０分間撹
拌した。この溶液を濾過し、溶剤を除去し、残留物を凍
結乾燥させ、ガラス転移温度２５℃〜透明点１３９℃の
間でネマチック相を有し、９０℃で粘度３．６Ｐａｓを
有するオルガノシロキサン（ＬＣシリコーン３）が得ら
れた。
【００９４】例１３：１２．８ｇの例１２からのＬＣシ
リコーン３を、ｐ−キシレン１００ｍｌ中に溶解させ、
アリルオキシ安息香酸４−メタクリロイルオキシフェニ
ル２．６ｇおよび０．５重量％の光開始剤Ｉｒｇａｃｕ
ｒｅ(R)９０７を添加した。該溶液の濾過および凍結乾
燥によって、ガラス転移温度７℃〜透明点１３０℃の間
でネマチック相を有し、９０℃で粘度０．６Ｐａｓを有
するオルガノシロキサン混合物（ＬＣシリコーン４）が
得られた。
リコーン３を、ｐ−キシレン１００ｍｌ中に溶解させ、
アリルオキシ安息香酸４−メタクリロイルオキシフェニ
ル２．６ｇおよび０．５重量％の光開始剤Ｉｒｇａｃｕ
ｒｅ(R)９０７を添加した。該溶液の濾過および凍結乾
燥によって、ガラス転移温度７℃〜透明点１３０℃の間
でネマチック相を有し、９０℃で粘度０．６Ｐａｓを有
するオルガノシロキサン混合物（ＬＣシリコーン４）が
得られた。
【００９５】２枚のガラス板に、ベルベット布で一方向
にラビングしたポリビニルアルコール配向層をそれぞれ
設けた。該オルガノシロキサン混合物０．２ｇを、１０
０℃で一方のガラス板の配向層に適用し、もう一方のプ
レートを、ラビング方向が反対でかつ平行になるように
重ねた。プレート上に均一な圧力を加えることによっ
て、該混合物を、約１０μｍ厚のフィルムが配向層間に
残留するまで分布させた。該フィルムを、全ての転傾線
が消失するまで１００℃で４分間加熱した。引き続き、
これを、ＵＶ−Ａ光での照射（約１００ｍＷ／ｃｍ2、
１５秒間）によって重合させた。生成した無色透明のフ
ィルムは、セナルモン法（Senarmont method）を使用し
て光波長６３３ｎｍで光路差１４３０ｎｍを示した。該
フィルムの平均屈折率は、アッベ屈折計（Abbe refract
ometer）において１．５７と測定された。
にラビングしたポリビニルアルコール配向層をそれぞれ
設けた。該オルガノシロキサン混合物０．２ｇを、１０
０℃で一方のガラス板の配向層に適用し、もう一方のプ
レートを、ラビング方向が反対でかつ平行になるように
重ねた。プレート上に均一な圧力を加えることによっ
て、該混合物を、約１０μｍ厚のフィルムが配向層間に
残留するまで分布させた。該フィルムを、全ての転傾線
が消失するまで１００℃で４分間加熱した。引き続き、
これを、ＵＶ−Ａ光での照射（約１００ｍＷ／ｃｍ2、
１５秒間）によって重合させた。生成した無色透明のフ
ィルムは、セナルモン法（Senarmont method）を使用し
て光波長６３３ｎｍで光路差１４３０ｎｍを示した。該
フィルムの平均屈折率は、アッベ屈折計（Abbe refract
ometer）において１．５７と測定された。
【００９６】例１４：１２．８ｇの例１２からの更なる
ＬＣシリコーン３を、ｐ−キシレン１００ｍｌ中に溶解
させ、４−（メタクリロイルオキシ）安息香酸−（４−
エチルフェニル）３．２ｇおよび０．５重量％の光開始
剤Ｉｒｇａｃｕｒｅ(R)９０７を添加した。該溶液の濾
過および凍結乾燥によって、透明点１０２℃を有するネ
マチックオルガノシロキサン混合物１５ｇが得られた。
ＬＣシリコーン３を、ｐ−キシレン１００ｍｌ中に溶解
させ、４−（メタクリロイルオキシ）安息香酸−（４−
エチルフェニル）３．２ｇおよび０．５重量％の光開始
剤Ｉｒｇａｃｕｒｅ(R)９０７を添加した。該溶液の濾
過および凍結乾燥によって、透明点１０２℃を有するネ
マチックオルガノシロキサン混合物１５ｇが得られた。
【００９７】前記オルガノシロキサンを、例３に記載の
ように厚さ約７μｍを有する配向しかつ架橋した層を製
造するために使用した。完全な配向は、９０℃で１分間
加熱した後に達成された。交差した偏光板の間で、無色
透明のフィルムは、一方向の偏光軸に対して配向層のラ
ビング方向が平行に調節された場合に暗くなることで明
確な光学的異方性を示した。
ように厚さ約７μｍを有する配向しかつ架橋した層を製
造するために使用した。完全な配向は、９０℃で１分間
加熱した後に達成された。交差した偏光板の間で、無色
透明のフィルムは、一方向の偏光軸に対して配向層のラ
ビング方向が平行に調節された場合に暗くなることで明
確な光学的異方性を示した。
【００９８】例１５（比較例）：ＵＳ５，６１０，２５
８号の実施例３の４０〜５９行目による液晶性オルガノ
シロキサン（ガラス転移温度３０℃と透明点１７２℃を
有する３個の３核メソゲンおよび１個の２核メソゲンを
有する）を、例３に記載のように９０℃で配向層を有す
る２枚のガラス板の間に、厚さ約５μｍのフィルムが形
成するように適用した。９０℃で２０分間加熱したが、
均一かつプレーナな配向は、形成されなかった。該フィ
ルムは、光を散乱する多くの転傾線の結果として不透明
であった。交差した偏光板の間で、該フィルムは光学的
異方性を示したが、明確な光学的異方性は、偏光軸を、
配向層のラビング方向に対して平行に調節することによ
って達成されなかった。
８号の実施例３の４０〜５９行目による液晶性オルガノ
シロキサン（ガラス転移温度３０℃と透明点１７２℃を
有する３個の３核メソゲンおよび１個の２核メソゲンを
有する）を、例３に記載のように９０℃で配向層を有す
る２枚のガラス板の間に、厚さ約５μｍのフィルムが形
成するように適用した。９０℃で２０分間加熱したが、
均一かつプレーナな配向は、形成されなかった。該フィ
ルムは、光を散乱する多くの転傾線の結果として不透明
であった。交差した偏光板の間で、該フィルムは光学的
異方性を示したが、明確な光学的異方性は、偏光軸を、
配向層のラビング方向に対して平行に調節することによ
って達成されなかった。
【００９９】例１６：１．５ｇの例１３からのＬＣシリ
コーン４を、トルエン６ｇ中に溶解させ、スピンコーテ
ィング（spin coating）によって、ベルベット布で事前
に一方向にラビングしたポリビニルアルコール配向層を
有するガラス板に適用した。真空乾燥キャビネット中で
９０℃で１０分間乾燥および配向させることによって、
厚さ約０．６μｍを有するフィルムが得られ、これを引
き続きＵＶ−Ａ光での照射（約１００ｍＷ／ｃｍ2、１
５秒間）によって重合させた。交差した偏光フィルター
の間で、無色透明のフィルムは、フィルム平面に対する
垂線と配向層のラビング方向によって規定される平面
に、フィルム平面を基準として２０゜の平均傾斜角でメ
ソゲンをハイブリッド配向させることによって生じるよ
うに、一方向の偏光軸に対して、配向層のラビング方向
が平行に調節された場合に暗くなることで明確な光学的
異方性を示した。
コーン４を、トルエン６ｇ中に溶解させ、スピンコーテ
ィング（spin coating）によって、ベルベット布で事前
に一方向にラビングしたポリビニルアルコール配向層を
有するガラス板に適用した。真空乾燥キャビネット中で
９０℃で１０分間乾燥および配向させることによって、
厚さ約０．６μｍを有するフィルムが得られ、これを引
き続きＵＶ−Ａ光での照射（約１００ｍＷ／ｃｍ2、１
５秒間）によって重合させた。交差した偏光フィルター
の間で、無色透明のフィルムは、フィルム平面に対する
垂線と配向層のラビング方向によって規定される平面
に、フィルム平面を基準として２０゜の平均傾斜角でメ
ソゲンをハイブリッド配向させることによって生じるよ
うに、一方向の偏光軸に対して、配向層のラビング方向
が平行に調節された場合に暗くなることで明確な光学的
異方性を示した。
【０１００】ヘリウム−ネオンのレーザー光線の光学的
位相差の角度依存性を、フィルム平面の垂線と配向層の
ラビング方向とで規定される平面において、０゜〜３６
０゜の角度範囲において１０゜ずつセナルモン法を使用
して測定した。この目的のために、試料を、ラビング方
向に垂直なフィルム平面中の軸について回転させた。フ
ィルム平面に対して垂直な位相差は、６８ｎｍであり、
その垂線に対して４０゜の入射角での位相差は、８４ｎ
ｍであり、−４０゜での位相差は、４６ｎｍであった。
位相差の角度依存性を、フィルム平面の垂線と配向層の
ラビング方向とで規定される平面において、０゜〜３６
０゜の角度範囲において１０゜ずつセナルモン法を使用
して測定した。この目的のために、試料を、ラビング方
向に垂直なフィルム平面中の軸について回転させた。フ
ィルム平面に対して垂直な位相差は、６８ｎｍであり、
その垂線に対して４０゜の入射角での位相差は、８４ｎ
ｍであり、−４０゜での位相差は、４６ｎｍであった。
【０１０１】例１７：２ｇの例１３からのＬＣシリコー
ン４を、トルエン８ｇ中に溶解させ、固有の光学的異方
性を有さない三酢酸セルロースフィルム（Ｔｒｉｐｈａ
ｎ(R)、製造元：ロンザ（Lonza））に、ドローイングマ
シン（drawing machine）上でギャップ幅（gap width）
３０μｍを有するチャンバー型のドクターブレードによ
って適用した。真空乾燥キャビネット中で９０℃で２０
分間乾燥および配向させることによって、厚さ約５μｍ
を有するフィルムが得られ、これを引き続きＵＶ−Ａ光
での照射（約１００ｍＷ／ｃｍ2、１５秒間）によって
重合させた。交差した偏光板の間で、無色透明のフィル
ムは、一方向の偏光軸に対して、配向層のラビング方向
が平行に調節された場合に暗くなることで明確な光学的
異方性を示した。
ン４を、トルエン８ｇ中に溶解させ、固有の光学的異方
性を有さない三酢酸セルロースフィルム（Ｔｒｉｐｈａ
ｎ(R)、製造元：ロンザ（Lonza））に、ドローイングマ
シン（drawing machine）上でギャップ幅（gap width）
３０μｍを有するチャンバー型のドクターブレードによ
って適用した。真空乾燥キャビネット中で９０℃で２０
分間乾燥および配向させることによって、厚さ約５μｍ
を有するフィルムが得られ、これを引き続きＵＶ−Ａ光
での照射（約１００ｍＷ／ｃｍ2、１５秒間）によって
重合させた。交差した偏光板の間で、無色透明のフィル
ムは、一方向の偏光軸に対して、配向層のラビング方向
が平行に調節された場合に暗くなることで明確な光学的
異方性を示した。
【０１０２】例１８：８．６ｇの例１２からのＬＣシリ
コーン３を、ｐ−キシレン１００ｍｌ中に溶解させ、ア
リルオキシ安息香酸４−メタクリロイルオキシフェニル
１．８ｇ、メタクリル酸コレステロールエステル０．１
ｇおよび０．５重量％の光開始剤Ｉｒｇａｃｕｒｅ(R)
９０７を添加した。該溶液の濾過および凍結乾燥によっ
て、オルガノシロキサン混合物（ＬＣシリコーン５）９
ｇが得られた。
コーン３を、ｐ−キシレン１００ｍｌ中に溶解させ、ア
リルオキシ安息香酸４−メタクリロイルオキシフェニル
１．８ｇ、メタクリル酸コレステロールエステル０．１
ｇおよび０．５重量％の光開始剤Ｉｒｇａｃｕｒｅ(R)
９０７を添加した。該溶液の濾過および凍結乾燥によっ
て、オルガノシロキサン混合物（ＬＣシリコーン５）９
ｇが得られた。
【０１０３】２枚のガラス板に、ベルベット布で一方向
にラビングしたポリビニルアルコール配向層をそれぞれ
設けた。オルガノシロキサン混合物０．１ｇを、１００
℃で一方のガラス板の配向層に適用し、かつラビング方
向が互いに垂直になるようにもう一方のガラス板を重ね
た。均一な圧力をプレートに加えることによって、該混
合物を、厚さ約９μｍを有する層が配向層の間に残留す
るまで分布させた。フィルムを、全ての転傾線が消失す
るまで１００℃で４分間加熱し、引き続きＵＶ−Ａ光で
の照射（約１００ｍＷ／ｃｍ2、１５秒間）によって重
合させた。交差した偏光板の間で、無色透明のフィルム
は、一方向の偏光軸に対して配向層のラビング方向が平
行に調節される場合に明るくなることで、明確な光学的
異方性を示した。平行な偏光フィルターの間では、一方
向の偏光軸に対して、配向層のラビング方向が平行に調
節される場合に暗くなった。この層中のメソゲンの回転
した配向は、電場無印加でのＴＮ−ＬＣＤにおける配向
に相当する。
にラビングしたポリビニルアルコール配向層をそれぞれ
設けた。オルガノシロキサン混合物０．１ｇを、１００
℃で一方のガラス板の配向層に適用し、かつラビング方
向が互いに垂直になるようにもう一方のガラス板を重ね
た。均一な圧力をプレートに加えることによって、該混
合物を、厚さ約９μｍを有する層が配向層の間に残留す
るまで分布させた。フィルムを、全ての転傾線が消失す
るまで１００℃で４分間加熱し、引き続きＵＶ−Ａ光で
の照射（約１００ｍＷ／ｃｍ2、１５秒間）によって重
合させた。交差した偏光板の間で、無色透明のフィルム
は、一方向の偏光軸に対して配向層のラビング方向が平
行に調節される場合に明るくなることで、明確な光学的
異方性を示した。平行な偏光フィルターの間では、一方
向の偏光軸に対して、配向層のラビング方向が平行に調
節される場合に暗くなった。この層中のメソゲンの回転
した配向は、電場無印加でのＴＮ−ＬＣＤにおける配向
に相当する。
【０１０４】例１９：１２．８ｇの例１２からのＬＣシ
リコーン３を、ｐ−キシレン１００ｍｌ中に溶解させ、
アリルオキシ安息香酸４−メタクリロイルオキシフェニ
ル２．６ｇ、ビス（４−アイルオキシ安息香酸）イソソ
ルビド０．８２ｇおよび１重量％の光開始剤Ｉｒｇａｃ
ｕｒｅ(R)９０７を添加した。該溶液の濾過および凍結
乾燥によって、オルガノシロキサン混合物（ＬＣシリコ
ーン６）１５ｇが得られた。２枚のガラス板に、ベルベ
ット布によって一方向にラビングしたポリビニルアルコ
ール配向層をそれぞれ設けた。該オルガノシロキサン混
合物０．１ｇを、９０℃で一方のガラス板上の配向層に
適用し、もう一方のガラス板を、ラビング方向が互いに
垂直になるように重ねた。ガラス板上に均一な圧力を加
えることによって、該混合物を、厚さ約１２μｍを有す
る層が、配向層の間に残留するまで分布させた。フィル
ムを、全ての転傾線が消失するまで８０℃で５分間加熱
し、引き続きＵＶ−Ａ光での照射（約１００ｍＷ／ｃｍ
2、１５秒間）によって重合させた。円偏光子（circula
r polarizer）を備えたフォトスペクトロメーター（pho
tospectrometer）中で、前記のように製造した垂直に見
ると無色透明に見えるフィルムによって、透過および反
射した光を測定した。波長７６１ｎｍの左旋回のＩＲ線
の選択的反射が見られた。反射バンドの半値幅は７２ｎ
ｍであった。
リコーン３を、ｐ−キシレン１００ｍｌ中に溶解させ、
アリルオキシ安息香酸４−メタクリロイルオキシフェニ
ル２．６ｇ、ビス（４−アイルオキシ安息香酸）イソソ
ルビド０．８２ｇおよび１重量％の光開始剤Ｉｒｇａｃ
ｕｒｅ(R)９０７を添加した。該溶液の濾過および凍結
乾燥によって、オルガノシロキサン混合物（ＬＣシリコ
ーン６）１５ｇが得られた。２枚のガラス板に、ベルベ
ット布によって一方向にラビングしたポリビニルアルコ
ール配向層をそれぞれ設けた。該オルガノシロキサン混
合物０．１ｇを、９０℃で一方のガラス板上の配向層に
適用し、もう一方のガラス板を、ラビング方向が互いに
垂直になるように重ねた。ガラス板上に均一な圧力を加
えることによって、該混合物を、厚さ約１２μｍを有す
る層が、配向層の間に残留するまで分布させた。フィル
ムを、全ての転傾線が消失するまで８０℃で５分間加熱
し、引き続きＵＶ−Ａ光での照射（約１００ｍＷ／ｃｍ
2、１５秒間）によって重合させた。円偏光子（circula
r polarizer）を備えたフォトスペクトロメーター（pho
tospectrometer）中で、前記のように製造した垂直に見
ると無色透明に見えるフィルムによって、透過および反
射した光を測定した。波長７６１ｎｍの左旋回のＩＲ線
の選択的反射が見られた。反射バンドの半値幅は７２ｎ
ｍであった。
【０１０５】例２０：１２．８ｇの例１２からのＬＣシ
リコーン３を、ｐ−キシレン１００ｍｌ中に溶解させ、
アリルオキシ安息香酸４−メタクリロイルオキシフェニ
ル２．６ｇ、ビス（４−アリルオキシ安息香酸）イソマ
ニド０．８２ｇおよび１重量％の光開始剤Ｉｒｇａｃｕ
ｒｅ(R)９０７を添加した。該溶液の濾過および凍結乾
燥によって、オルガノシロキサン混合物１５ｇが得られ
た。
リコーン３を、ｐ−キシレン１００ｍｌ中に溶解させ、
アリルオキシ安息香酸４−メタクリロイルオキシフェニ
ル２．６ｇ、ビス（４−アリルオキシ安息香酸）イソマ
ニド０．８２ｇおよび１重量％の光開始剤Ｉｒｇａｃｕ
ｒｅ(R)９０７を添加した。該溶液の濾過および凍結乾
燥によって、オルガノシロキサン混合物１５ｇが得られ
た。
【０１０６】２枚のガラス板に、ベルベット布で一方向
にラビングしたポリビニルアルコール配向層を提供し
た。該オルガノシロキサン混合物０．１ｇを、９０℃で
一方のガラス板上の配向層に適用し、もう一方のガラス
板を、ラビング方向が互いに垂直になるように重ねた。
プレート上に均一な圧力を加えることによって、該混合
物を、厚さ約１１μｍを有するフィルムが、配向層の間
に残留するまで分布させた。該フィルムを、８０℃で１
０分間加熱し、引き続きＵＶ−Ａ光での照射（約１００
ｍＷ／ｃｍ2、１５秒間）によって重合させた。
にラビングしたポリビニルアルコール配向層を提供し
た。該オルガノシロキサン混合物０．１ｇを、９０℃で
一方のガラス板上の配向層に適用し、もう一方のガラス
板を、ラビング方向が互いに垂直になるように重ねた。
プレート上に均一な圧力を加えることによって、該混合
物を、厚さ約１１μｍを有するフィルムが、配向層の間
に残留するまで分布させた。該フィルムを、８０℃で１
０分間加熱し、引き続きＵＶ−Ａ光での照射（約１００
ｍＷ／ｃｍ2、１５秒間）によって重合させた。
【０１０７】円偏光子を備えたフォトスペクトロメータ
ー中で、前記のように製造した無色透明のフィルムによ
って透過および反射した光を測定した。波長１２８３ｎ
ｍで右旋回のＩＲ線の選択的反射が見られた。反射バン
ドの半値幅（half-value width）は１２５ｎｍであっ
た。
ー中で、前記のように製造した無色透明のフィルムによ
って透過および反射した光を測定した。波長１２８３ｎ
ｍで右旋回のＩＲ線の選択的反射が見られた。反射バン
ドの半値幅（half-value width）は１２５ｎｍであっ
た。
【０１０８】例２１：１−（４−アリルオキシベンゾイ
ルオキシ）−４−シクロヘキサノイルオキシベンゼン２
０．５ｇ（０．０５４モル）、２−（４−アリルオキシ
ベンゾイル）−５−（４−メチルベンゾイル）イソソル
ビド３．３ｇ（０．００８モル）およびテトラメチルテ
トラシクロシロキサン１０．０ｇ（０．０３９モル）
を、トルエン５００ｍｌ中に溶解させ、テトラメチルテ
トラシクロシロキサンに対して２００重量ｐｐｍの二塩
化シクロペンタジエニル白金を、１００℃で添加した。
この溶液を、１１０℃で１２０分間撹拌し、次いで２０
℃に冷却し、アリルオキシ安息香酸４−メタクリロイル
オキシフェニル３２．２ｇ（０．０９５モル）、テトラ
メチルテトラシクロシロキサンに対して３００重量ｐｐ
ｍの二塩化シクロペンタジエニル白金およびＮ−ニトロ
ソフェニルヒドロキシルアミンのアルミニウム塩０．２
２ｇを添加した。この混合物を、７５℃で４時間撹拌
し、一回は石油エーテルを使用し、もう一回はエタノー
ルを使用して、冷却した反応溶液から生成物を沈殿させ
た。この沈殿物を、乾燥させ、ガラス転移温度２７℃〜
透明点８８℃の間でコレステリック相を有するオルガノ
シロキサン３３．５ｇ（理論値の５１％）が得られた。
ルオキシ）−４−シクロヘキサノイルオキシベンゼン２
０．５ｇ（０．０５４モル）、２−（４−アリルオキシ
ベンゾイル）−５−（４−メチルベンゾイル）イソソル
ビド３．３ｇ（０．００８モル）およびテトラメチルテ
トラシクロシロキサン１０．０ｇ（０．０３９モル）
を、トルエン５００ｍｌ中に溶解させ、テトラメチルテ
トラシクロシロキサンに対して２００重量ｐｐｍの二塩
化シクロペンタジエニル白金を、１００℃で添加した。
この溶液を、１１０℃で１２０分間撹拌し、次いで２０
℃に冷却し、アリルオキシ安息香酸４−メタクリロイル
オキシフェニル３２．２ｇ（０．０９５モル）、テトラ
メチルテトラシクロシロキサンに対して３００重量ｐｐ
ｍの二塩化シクロペンタジエニル白金およびＮ−ニトロ
ソフェニルヒドロキシルアミンのアルミニウム塩０．２
２ｇを添加した。この混合物を、７５℃で４時間撹拌
し、一回は石油エーテルを使用し、もう一回はエタノー
ルを使用して、冷却した反応溶液から生成物を沈殿させ
た。この沈殿物を、乾燥させ、ガラス転移温度２７℃〜
透明点８８℃の間でコレステリック相を有するオルガノ
シロキサン３３．５ｇ（理論値の５１％）が得られた。
【０１０９】該オルガノシロキサン１０ｇを、ｐ−キシ
レン１００ｍｌ中に溶解させ、１重量％の光開始剤Ｉｒ
ｇａｃｕｒｅ(R)９０７を添加した。該溶液の濾過およ
び凍結乾燥によって、オルガノシロキサン混合物９ｇが
得られた。
レン１００ｍｌ中に溶解させ、１重量％の光開始剤Ｉｒ
ｇａｃｕｒｅ(R)９０７を添加した。該溶液の濾過およ
び凍結乾燥によって、オルガノシロキサン混合物９ｇが
得られた。
【０１１０】２枚のガラス板に、ベルベット布で一方向
にラビングしたポリビニルアルコール配向層をそれぞれ
設けた。オルガノシロキサン混合物０．２ｇを、９０℃
で一方のガラス板上の配向層に適用し、もう一方のガラ
ス板を、ラビング方向が互いに垂直になるように重ね
た。プレート上に均一の圧力を加えることによって、前
記混合物を、厚さ約１０μｍを有するフィルムが配向層
の間に残留するまで分布させた。このフィルムを、８０
℃で１０分間加熱し、引き続きＵＶ−Ａ光での照射（約
１００ｍＷ／ｃｍ2、１５秒間）によって重合させた。
にラビングしたポリビニルアルコール配向層をそれぞれ
設けた。オルガノシロキサン混合物０．２ｇを、９０℃
で一方のガラス板上の配向層に適用し、もう一方のガラ
ス板を、ラビング方向が互いに垂直になるように重ね
た。プレート上に均一の圧力を加えることによって、前
記混合物を、厚さ約１０μｍを有するフィルムが配向層
の間に残留するまで分布させた。このフィルムを、８０
℃で１０分間加熱し、引き続きＵＶ−Ａ光での照射（約
１００ｍＷ／ｃｍ2、１５秒間）によって重合させた。
【０１１１】円偏光子を備えたフォトスペクトロメータ
ー中で、前記のように製造した垂直に見ると無色透明で
あるフィルムによって、透過および反射した光を測定し
た。波長９４５ｎｍで左旋回のＩＲ線の選択的反射が見
られた。反射バンドの半値幅は９３ｎｍであった。
ー中で、前記のように製造した垂直に見ると無色透明で
あるフィルムによって、透過および反射した光を測定し
た。波長９４５ｎｍで左旋回のＩＲ線の選択的反射が見
られた。反射バンドの半値幅は９３ｎｍであった。
【０１１２】例２２：１０ｇのＬＣシリコーン６を、例
１９に記載のように厚さ約１２μｍを有する配向しかつ
重合したフィルムを製造するために使用した。ガラス板
を、互いに分離し、ＬＣシリコーンフィルムを、ガラス
基板からスチールレザーブレード（steel razor blad
e）を使用して剥離した。残留している粒子を、万能卓
上フライス盤（universal bench mill）で、平均粒径が
約５０μｍになるまで粉砕した。引き続き、前記のよう
にして得られた粉末のフラクションを、メッシュ寸法５
０μｍを有する分析スクリーンを使用して篩にかけ、次
いで慣用のアルキド−メラミン樹脂結合剤系（Ｓａｃｏ
ｌｙｄ(R)Ｆ４１０／Ｓａｃｏｐａｌ(R)Ｍ１１０（Ｋｏ
ｌｍｓ Ｃｈｅｍｉｅ、クレムス、オーストリア）とし
て市販されている）中に導入した。結合剤系の粘度を、
希釈剤（芳香族炭化水素およびメチルイソブチルケトン
の混合物）を使用して、ＤＩＮ４粘度カップ中の流動時
間約８０秒に調整した。
１９に記載のように厚さ約１２μｍを有する配向しかつ
重合したフィルムを製造するために使用した。ガラス板
を、互いに分離し、ＬＣシリコーンフィルムを、ガラス
基板からスチールレザーブレード（steel razor blad
e）を使用して剥離した。残留している粒子を、万能卓
上フライス盤（universal bench mill）で、平均粒径が
約５０μｍになるまで粉砕した。引き続き、前記のよう
にして得られた粉末のフラクションを、メッシュ寸法５
０μｍを有する分析スクリーンを使用して篩にかけ、次
いで慣用のアルキド−メラミン樹脂結合剤系（Ｓａｃｏ
ｌｙｄ(R)Ｆ４１０／Ｓａｃｏｐａｌ(R)Ｍ１１０（Ｋｏ
ｌｍｓ Ｃｈｅｍｉｅ、クレムス、オーストリア）とし
て市販されている）中に導入した。結合剤系の粘度を、
希釈剤（芳香族炭化水素およびメチルイソブチルケトン
の混合物）を使用して、ＤＩＮ４粘度カップ中の流動時
間約８０秒に調整した。
【０１１３】ＬＣ板および結合剤の生成混合物を、黒／
白紙（ＢＹＫ Ｇａｒｄｎｅｒ）上に、湿フィルム厚１
２０μｍでフィルム成形機（film drawing machine）
（エリクセン）を使用して被覆した。引き続き、この紙
を、８０℃で１時間乾燥させた。乾燥後、紙の表面は黒
と白のままであった。円偏光子を備えたフォトスペクト
ロメーターにおいて、紙の表面の平面に対して１０゜の
角度で反射した光を測定した。波長７５０ｎｍで左旋回
のＩＲ線の選択的反射が見られた。
白紙（ＢＹＫ Ｇａｒｄｎｅｒ）上に、湿フィルム厚１
２０μｍでフィルム成形機（film drawing machine）
（エリクセン）を使用して被覆した。引き続き、この紙
を、８０℃で１時間乾燥させた。乾燥後、紙の表面は黒
と白のままであった。円偏光子を備えたフォトスペクト
ロメーターにおいて、紙の表面の平面に対して１０゜の
角度で反射した光を測定した。波長７５０ｎｍで左旋回
のＩＲ線の選択的反射が見られた。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (73)特許権者 390009003 Ｚｉｅｌｓｔａｔｔｓｔｒａβｅ 20, Ｄ−81379 Ｍｕｎｃｈｅｎ，Ｆ．Ｒ. Ｇｅｒｍａｎｙ (72)発明者 フランク ザントマイヤー ドイツ連邦共和国 ブルクハウゼン メ ーリンガー シュトラーセ 47ツェー (72)発明者 ノルマン ヘーベルレ ドイツ連邦共和国 ミュンヘン ヴィリ バルトシュトラーセ 51アー (56)参考文献 特開 平８−225649（ＪＰ，Ａ) 特開 平８−5839（ＪＰ，Ａ) 特開 平８−21999（ＪＰ，Ａ) 特開 平８−231562（ＪＰ，Ａ) (58)調査した分野(Int.Cl.7，ＤＢ名) C07F 7/08 C07F 7/21 C09K 19/38 ＣＡ（ＳＴＮ) ＲＥＧＩＳＴＲＹ（ＳＴＮ) ＷＰＩＤＳ（ＳＴＮ)
Claims (7)
- 【請求項１】 少なくとも２個のメソゲン側基を有し、
その１個は３核を有し、その他すべては２核を有し、そ
の際、核とは６員環または６員環からなる２環式系を意
味し、かつ少なくとも１個のメソゲン側基がメタクリル
基もしくはアクリル基を有し、かつ一般式（１）： ［ＭＲ１ ｐＳｉＯｑ／２］ （１） ［式中、 互いに独立し、それぞれｐは１または２を表し、かつｑ
は１または２を表し、但しｐが１の場合、ｑは２を表
し、ｐが２の場合、ｑは１を表し、 Ｒ１は、Ｃ１〜Ｃ１０−炭化水素基であり、かつＭは、
一般式（２）： Ｒ２−Ｘ１−（Ａ１−Ｘ２）ａ−Ｒ３−Ａ２ （２） （式中、 Ｒ２は、式：（ＣＨ２）ｎの基であり、その際、ｎは２
〜１０の値を有する整数であり、互いに隣接していない
１個以上のメチレン単位が酸素原子もしくはジメチルシ
リル基によって置換されていてもよく、 Ｒ３は、単結合または式：（ＣＨ２）ｍの基であり、そ
の際、ｍは１〜１２の値を有する整数であり、互いに隣
接していない１個以上のメチレン単位が、酸素原子もし
くはジメチルシリル基によって置換されていてもよく、 Ｘ１は、単結合であるか、または−Ｏ−、−ＣＯＯ−お
よび−ＯＣＯ−の群からの２価の基から選択され、 Ｘ２は、単結合ならびに−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−Ｃ
Ｈ２ＣＨ２−、−ＣＨ＝Ｎ−、−Ｎ＝ＣＨ−、−Ｎ＝Ｎ
−、−ＣＯＮＨ−、−ＨＯＮＣ−、−Ｃ≡Ｃ−、−ＣＨ
＝ＣＨ−、−Ｎ＝Ｎ（Ｏ）−および−Ｎ（Ｏ）＝Ｎ−の
群からの２価の基からなる群から互いに独立に選択され
る同一または異なる結合基であり、 Ａ１は、１，４−フェニレン、１，４−シクロヘキシレ
ン、２，５−ピリジニレン、２，５−ピラニレン、２，
５−ピリミジニレン、５，２−ピリミジニレン、２，５
−（１，３−ジオキサニレン）、５，２−（１，３−ジ
オキサニレン）、２，６−ナフチリデン、２，７−ナフ
チリデンおよび１，４−ナフチリデンの群からの２価の
基から互いに独立に選択される同一または異なる核であ
り、 Ａ２は、水素原子、ハロゲン原子、ヒドロキシル基、フ
ェニル基、アクリロイルオキシ基、（メタ）アクリロイ
ルオキシ基、（メタ）アクリルエチレンオキシ基、シク
ロヘキシル基およびＣ１〜Ｃ１０−アルケニル基からな
る群から選択される末端基であり、その際、互いに隣接
していない１個以上のメチレン単位は、酸素原子または
ジメチルシリル基によって置換されていてよく、かつａ
は、２または３の値である）のメソゲン側基である］の
少なくとも２個の単位を有する、ネマチックオルガノシ
ロキサン（Ｆ）。 - 【請求項２】 メタクリル基またはアクリル基を有する
メソゲン側基の割合が少なくとも１０％である、請求項
１記載のオルガノシロキサン（Ｆ）。 - 【請求項３】 式：Ｒ1 2Ｓｉの単位、所望であれば、Ｒ
1 3Ｓｉの単位を有する、請求項１または２記載のオルガ
ノシロキサン（Ｆ）。 - 【請求項４】 ２〜１５個のケイ素原子を有する、請求
項１から３までのいずれか１項記載のオルガノシロキサ
ン（Ｆ）。 - 【請求項５】 一般式（３）： 【化１】 Ｒ2、Ｘ2、Ｒ3およびＡ2は、請求項１記載の式（２）で
定義したものである］のメソゲン側基を有する、請求項
１から４までのいずれか１項記載のオルガノシロキサン
（Ｆ）。 - 【請求項６】 水素原子が直接結合している少なくとも
２個のケイ素原子を有するオルガノシロキサンとアルケ
ンと反応させるにあたり、その１個のアルケンは３核を
有し、かつその他全てのアルケンは２核を有しており、
その際、核という用語は、６員環または６員環からなる
２環式系を意味し、かつ少なくとも１個のアルケンが、
メタクリル基またはアクリル基を有する、請求項１から
５までのいずれか１項記載のオルガノシロキサン（Ｆ）
の製造方法。 - 【請求項７】 光学異方性の層を製造するための請求項
１から５までのいずれか１項記載のオルガノシロキサン
（Ｆ）を使用する方法。
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| DE19833258A DE19833258C1 (de) | 1998-07-23 | 1998-07-23 | Zu optisch anisotropen Polymerschichten vernetzbare flüssigkristalline nematische Organosiloxane |
| DE19833258.0 | 1998-07-23 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2000044578A JP2000044578A (ja) | 2000-02-15 |
| JP3195317B2 true JP3195317B2 (ja) | 2001-08-06 |
Family
ID=7875111
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP20655699A Expired - Fee Related JP3195317B2 (ja) | 1998-07-23 | 1999-07-21 | ネマチックオルガノシロキサン、その製造方法およびその使用 |
Country Status (6)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US6300454B1 (ja) |
| EP (1) | EP0985721B1 (ja) |
| JP (1) | JP3195317B2 (ja) |
| KR (1) | KR100335314B1 (ja) |
| CA (1) | CA2278401C (ja) |
| DE (2) | DE19833258C1 (ja) |
Families Citing this family (17)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| DE19903333A1 (de) * | 1999-01-28 | 2000-08-10 | Consortium Elektrochem Ind | Herstellung von alpha, beta-ungesättigte Carbonsäurereste enthaltenden Organosiliciumverbindungen |
| CN100385300C (zh) * | 2002-02-20 | 2008-04-30 | Lg.菲利浦Lcd株式会社 | 液晶显示器的制造方法 |
| US6939478B2 (en) * | 2002-12-13 | 2005-09-06 | Xerox Corporation | Compounds of formula (2) to stabilize liquid crystal domains |
| US6905633B2 (en) * | 2002-12-13 | 2005-06-14 | Xerox Corporation | Compounds of formula (3) to stabilize liquid crystal domains |
| DE102004018702B4 (de) | 2004-04-17 | 2006-05-24 | Leonhard Kurz Gmbh & Co. Kg | Folie mit Polymerschicht |
| DE102006046957A1 (de) * | 2006-10-04 | 2008-04-10 | Wacker Chemie Ag | Partikeldispersion |
| US7988881B2 (en) * | 2008-09-30 | 2011-08-02 | E. I. Du Pont De Nemours And Company | Multilayer laminates comprising chiral nematic liquid crystals |
| JP2010083784A (ja) * | 2008-09-30 | 2010-04-15 | Sony Corp | 液晶分子、液晶表示素子及び液晶光空間変調素子 |
| JP2010083783A (ja) * | 2008-09-30 | 2010-04-15 | Sony Corp | 液晶分子、液晶表示素子及び液晶光空間変調素子 |
| JP2010090057A (ja) * | 2008-10-08 | 2010-04-22 | Sony Corp | 液晶分子、液晶表示素子及び液晶光空間変調素子 |
| JP5927859B2 (ja) * | 2011-01-11 | 2016-06-01 | Jsr株式会社 | 液晶表示素子の製造方法 |
| JP5853631B2 (ja) * | 2011-01-12 | 2016-02-09 | Jsr株式会社 | 液晶表示素子 |
| CN102643387B (zh) * | 2011-11-29 | 2014-09-10 | 北京京东方光电科技有限公司 | 一种液晶显示面板及其制备方法 |
| US20150168617A1 (en) * | 2012-04-23 | 2015-06-18 | Dai Nippon Printing Co., Ltd. | Infrared-ray reflective member |
| US9376606B2 (en) * | 2012-12-27 | 2016-06-28 | Laird Technologies, Inc. | Polymer matrices functionalized with liquid crystals for enhanced thermal conductivity |
| US11319414B2 (en) * | 2018-03-22 | 2022-05-03 | Momentive Performance Materials Inc. | Silicone polymer |
| CN113238410B (zh) * | 2021-04-23 | 2023-03-28 | 华南师范大学 | 一种光反射涂层及其制备方法和光学器件 |
Family Cites Families (18)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US4859031A (en) | 1987-08-03 | 1989-08-22 | Kaiser Electronics | Optical collimating apparatus |
| DE3822121A1 (de) | 1988-06-30 | 1990-03-01 | Hoechst Ag | Chirale substituierte weinsaeureimide, verfahren zu ihrer herstellung und ihre verwendung als dotierstoff in fluessigkristall-mischungen |
| DE3830592A1 (de) * | 1988-09-08 | 1990-04-12 | Consortium Elektrochem Ind | (meth)acryloxygruppen enthaltende fluessigkristalline polyorganosiloxane |
| US5691789A (en) | 1995-10-30 | 1997-11-25 | Li; Le | Single-layer reflective super broadband circular polarizer and method of fabrication therefor |
| US5364557A (en) | 1991-11-27 | 1994-11-15 | Faris Sades M | Aligned cholesteric liquid crystal inks |
| JP3065176B2 (ja) | 1992-07-08 | 2000-07-12 | マツダ株式会社 | エンジンの空燃比制御装置 |
| DE4234845A1 (de) | 1992-10-15 | 1994-04-21 | Consortium Elektrochem Ind | Flüssigkristalline doristerolhaltige Organosiloxane |
| DE4240743A1 (de) | 1992-12-03 | 1994-06-09 | Consortium Elektrochem Ind | Pigmente mit vom Betrachtungswinkel abhängiger Farbigkeit, ihre Herstellung und Verwendung |
| TW289095B (ja) | 1993-01-11 | 1996-10-21 | ||
| EP0617111B1 (en) * | 1993-03-25 | 1997-09-17 | Sumitomo Chemical Company Limited | Optically anisotropic material, process for producing it, and retardation plate and liquid crystal display device using same |
| DE4317704A1 (de) | 1993-05-27 | 1994-12-01 | Consortium Elektrochem Ind | Chirale Weinsäureimide enthaltende flüssigkristalline Organosiloxane |
| DE4328785A1 (de) | 1993-08-26 | 1995-03-02 | Consortium Elektrochem Ind | Optische Elemente mit abbildender farb- und polarisationsselektiver Reflexion enthaltend cholesterische Flüssigkristalle sowie Herstellung und Verwendung dieser Elemente |
| DE4342280A1 (de) | 1993-12-11 | 1995-06-14 | Basf Ag | Polymerisierbare chirale Verbindungen und deren Verwendung |
| DE4408171A1 (de) | 1994-03-11 | 1995-09-14 | Basf Ag | Neue polymerisierbare flüssigkristalline Verbindungen |
| DE4419239A1 (de) | 1994-06-01 | 1995-12-07 | Consortium Elektrochem Ind | Optische Elemente mit farb- und polarisationsselektiver Reflexion enthaltend LC-Pigmente sowie Herstellung dieser Elemente |
| DE4438418A1 (de) * | 1994-10-27 | 1996-05-02 | Consortium Elektrochem Ind | Vernetzbare nematische Polyorganosiloxane |
| DE4440209A1 (de) * | 1994-11-10 | 1996-05-15 | Consortium Elektrochem Ind | Verfahren zur Herstellung (Meth)acryloxygruppen enthaltender flüssigkristalliner Polyorganosiloxane |
| DE19619460A1 (de) | 1996-05-14 | 1997-11-20 | Consortium Elektrochem Ind | Flüssigkristallmischungen, Verfahren zu ihrer Herstellung und ihre Verwendung |
-
1998
- 1998-07-23 DE DE19833258A patent/DE19833258C1/de not_active Expired - Fee Related
-
1999
- 1999-06-16 EP EP99111073A patent/EP0985721B1/de not_active Expired - Lifetime
- 1999-06-16 DE DE59900218T patent/DE59900218D1/de not_active Expired - Fee Related
- 1999-07-20 US US09/357,455 patent/US6300454B1/en not_active Expired - Fee Related
- 1999-07-21 JP JP20655699A patent/JP3195317B2/ja not_active Expired - Fee Related
- 1999-07-21 KR KR1019990029583A patent/KR100335314B1/ko not_active IP Right Cessation
- 1999-07-22 CA CA002278401A patent/CA2278401C/en not_active Expired - Fee Related
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| CA2278401A1 (en) | 2000-01-23 |
| JP2000044578A (ja) | 2000-02-15 |
| EP0985721A1 (de) | 2000-03-15 |
| CA2278401C (en) | 2003-04-01 |
| DE19833258C1 (de) | 1999-10-28 |
| EP0985721B1 (de) | 2001-08-29 |
| DE59900218D1 (de) | 2001-10-04 |
| KR100335314B1 (ko) | 2002-05-06 |
| KR20000011880A (ko) | 2000-02-25 |
| US6300454B1 (en) | 2001-10-09 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
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