JP3192251U - タッチパネル及びタッチディスプレイデバイス - Google Patents

Abstract

【課題】ユーザエクスペリエンスを高めることができるタッチパネル及びタッチパネルを有するタッチディスプレイデバイスを提供する。【解決手段】タッチパネルは、表示領域１０１及び表示領域１０１の外縁に位置する非表示領域１０２を含むガラスカバープレート１００と、ガラスカバープレート１００上に積層したタッチ検知モジュールとを含む。タッチ検知モジュールは、第１の導電層及び第２の導電層を含む。第１の導電層は、複数の第１の導電性ストリップを含み、第２の導電層は、複数の第２の導電性ストリップを含む。タッチ検知モジュールは、第１の導電層及び第２の導電層の縁部によって定められた検知領域を含む。検知領域は、視覚領域Ｓ１及び視覚領域Ｓ１の外縁に位置する非視覚領域Ｓ２を含む。ガラスカバープレート１００上の視覚領域Ｓ１の投影は、表示領域１０１と一致し、ガラスカバープレート１００上の非視覚領域Ｓ２の投影は、非表示領域１０２に含まれる。【選択図】図１

Description

本開示は、タッチ技術に関し、より詳細には、タッチパネル及びタッチパネルを有するタッチディスプレイデバイスに関する。

現在、タッチスクリーンは、移動電話、タブレット、ＭＰ４、電子書籍等の一層多くの電子デバイスに利用されている。タッチスクリーンは、タッチ入力信号を受信することができる検知デバイスである。タッチスクリーンは、情報交換のための新たな外観をもたらし、新しい訴求力のある情報対話型デバイスである。タッチスクリーン技術の発展は、国内及び国外の情報媒体から広範な関心事を喚起し、タッチパネル技術は、光電子工学の成長著しいハイテク産業になっている。しかしながら、従来のタッチスクリーンは、通常、電子デバイスのディスプレイに組み込むか又は埋め込まれている。タッチスクリーンの検知領域は、ディスプレイに面するので、ユーザのタッチ操作は、ディスプレイに面するタッチスクリーンの領域にだけ限定され、ユーザの不十分な体験につながり、ユーザのニーズを満たすことが困難となる。

ＩＴＯ導電層は、タッチスクリーンにとって重要な構成要素である。タッチスクリーンの製造技術は、急速に発達したが、例えば投影型容量式スクリーンを取り上げると、近年、ＩＴＯ層に関する基本的な製造工程は変化していない。この工程はＩＴＯ膜及びＩＴＯパターン形成を必ず含む。従来の製造工程はエッチングを必要とし、その工程中に大量のＩＴＯ及び導電性材料を浪費する。インジウムは希土類金属であり、自然界には埋蔵量が非常に少ない。近年、インジウム材料のコストは急上昇しており、このことは、必然的に生産コストの上昇につながる。さらに、低いスクエア抵抗を達成するために、ＩＴＯ導電層の厚さを増大させる必要があり、これは、コストをさらに増大させるだけでなく、透過率も減少させる。さらに、ＩＴＯ導電層は割れやすく、結果的にタッチスクリーンの性能は不安定になる。

本開示は、ユーザエクスペリエンスを高めることができるタッチパネル及び該タッチパネルを有するタッチディスプレイデバイスに関する。

タッチパネルは、表示領域及び表示領域の外縁に位置する非表示領域を含むガラスカバープレートと、ガラスカバープレート上に積層されたタッチ検知モジュールとを含む。タッチ検知モジュールは、ガラスカバープレートの厚さ方向に積層された第１の導電層及び第２の導電層を含む。第１の導電層は、第１の方向に沿って延びる複数の第１の導電性ストリップを含み、複数の第１の導電性ストリップは、互いに離間して絶縁され、第２の導電層は、第２の方向に沿って延びる複数の第２の導電性ストリップを含み、複数の第２の導電性ストリップは、互いに離間して絶縁される。第２の導電性ストリップが配置される平面上の第１の導電性ストリップの投影は、第２の導電性ストリップと交差する。タッチ検知モジュールは、第１の導電層及び第２の導電層の縁部によって定められた検知領域を含む。検知領域は、視覚領域及び視覚領域の外縁に位置する非視覚領域を含む。ガラスカバープレート上の視覚領域の投影は、表示領域と一致し、ガラスカバープレート上の非視覚領域の投影は、非表示領域に含まれる。

タッチパネルの検知領域は、第１の導電層及び第２の導電層の縁部によって定められる。検知領域は、視覚領域と、該視覚領域の外縁に位置する非視覚領域とを含む。視覚領域は、表示領域と位置合わせされ、ガラスカバープレート上の視覚領域の投影は、表示領域と一致する。非視覚領域は、非表示領域と位置合わせされ、ガラスカバープレート上の非視覚領域の投影は、非表示領域に含まれる。従って、ガラスカバープレートの非表示領域は同様にユーザエクスペリエンスを高めることができる検知機能を有する。

前記の及び他の目的、利点、用途、及び特徴は、図面と共に以下の明細書を検討することにより明らかとなるであろう。

図面の構成要素は、必ずしも縮尺通りではなく、むしろ本開示の原理を明確に例示することに重点が置かれている。さらに各図において、同じ参照番号は図全体にわたって対応する部品を示すものである。

タッチパネルの実施形態の分解斜視図である。 図１のタッチパネルの平面図である。 図１のタッチパネルの断面図である。 図１のタッチパネルの分解斜視図である。 第１の導電層及び第２の導電層のメッシュセルの実施形態を示す拡大図である。 第１の導電層及び第２の導電層のメッシュセルの実施形態を示す拡大図である。 第１の導電層及び第２の導電層のメッシュセルの実施形態を示す拡大図である。 第１の導電層及び第２の導電層のメッシュセルの実施形態を示す拡大図である。 タッチパネルの別の実施形態の平面図である。 図６のタッチパネルの断面図である。 図６のタッチパネルの分解斜視図である。 タッチパネルのさらに別の実施形態の断面図である。 図９のタッチパネルの分解斜視図である。 タッチパネルのさらに別の実施形態の断面図である。 図１１のタッチパネルの分解斜視図である。 タッチパネルのさらに別の実施形態の断面図である。 図１３のタッチパネルの分解斜視図である。 タッチパネルのさらに別の実施形態の断面図である。 図１５のタッチパネルの分解斜視図である。 タッチパネルのさらに別の実施形態の断面図である。 図１７のタッチパネルの分解斜視図である。 タッチパネルのさらに別の実施形態の断面図である。

本考案のタッチパネルの実施形態を詳細に説明するために図面を参照する。本開示における「或る」又は「１つの」実施形態への言及は、必ずしも同じ実施形態に対するものでなく、このような言及は少なくとも１つを意味する点に留意されたい。

文脈から明らかに他のものが要求されない限り、明細書及び請求項の全体にわたって、用語「備える」、「備えている」、及び同様のものは、排他的又は網羅的意味とは対照的に包含的意味、換言すると「限定されるものではないが、含んでいる」という意味に解釈すべきである。また、単数又は複数を用いる用語は、それぞれ複数又は単数を含む。さらに、用語「本明細書で（ｈｅｒｅｉｎ）」、「前記の」、「下記の」、及び同様の意味の用語は、本明細書で用いる場合、全体として本出願を意味し、本出願の任意の特定の部分を意味するものではない。請求項が２つ又はそれ以上の要素の羅列に関して「又は」という用語を用いる場合、この用語は、羅列した要素のいずれか、羅列した要素の全て、及び羅列した要素の何らかの組み合わせという解釈の全てを包含する。

図１から３を参照すると、タッチパネルの実施形態は、ガラスカバープレート１００及びタッチ検知モジュール２００を含む。

ガラスカバープレート１００は、表示領域１０１及び該表示領域１０１の外縁に位置してこれを取り囲む非表示領域１０２を有する。

ガラスカバープレート１００は、表示パネル及び表示パネルの縁部に位置するインクフレームを含む。非表示領域１０２は、インクフレームから形成され、表示領域１０１は、インクフレームによって覆われていない表示パネルの領域と定義される。

ガラスカバープレート１００は、アルミノケイ酸カルシウムガラス又はナトリウムガラスで作られる。ガラスカバープレート１００は、０．３ｍｍから１．２ｍｍ、好ましくは０．５ｍｍから０．７ｍｍの厚さを有し、これによりタッチパネルの優れた光透過率を保証することができる。

同様に図４を参照すると、タッチ検知モジュール２００は、第１の誘電体層２０、第１の導電層３０、第２の誘電体層４０、第２の導電層５０、第１の電極トレース６０、及び第２の電極トレース７０を含む。

第１の誘電体層２０は、ガラスカバープレート１００の表面上に積層される。第１の誘電体層２０は、ガラスカバープレート１００上に熱硬化性樹脂又はＵＶ硬化性樹脂を被覆及び硬化させることによって形成される。

第１の誘電体層２０は、良好な光透過率を得るために好ましくは１μｍから１０μｍ、より好ましくは２μｍから５μｍの所望の厚さを有し、第１の誘電体層２０は、タッチ検知モジュール２００の光透過率全体に影響を与えないようになっている。

第１の誘電体層２０は、ガラスカバープレート１００から離れた面にメッシュ状の第１の溝２２を有する。第１の溝２２は、インプリントモールドを用いて第１の誘電体層２０上に形成される。第１の溝２２の深さ対幅比は、１よりも大きいか又は１に等しい。

第１の導電層３０は格子状であり、互いに交差した複数の導線によって形成される。第１の導電層３０は、第１の方向に沿って延びる複数の第１の導電性ストリップ３２を含む。２つの隣接する第１の導電性ストリップ３２の間には間隙３４が形成されるので、複数の第１の導電性ストリップ３２は互いに離間して絶縁される。第１の導電層３０は第１の溝２２に収容されて、第１の導電層３０を第１の誘電体層２０に埋め込むようになっている。第１の導電層３０の厚さは、第１の溝２２の深さよりも大きくない。

例示の実施形態では、第１の方向は、デカルト座標系の１つの座標方向であり、この方向は、図４に示す第１の誘電体層２０の長手方向に平行である。

第１の導電性ストリップ３２は、複数の導線によって形成された導電メッシュである。第１の導電性ストリップ３２の各々は、複数のメッシュセルを含む。メッシュセルは、正方形（図５ｂ参照）、菱形（図５ｃ参照）、正六角形（図５ａ参照）、又はランダム形（図５ｄ参照）の形状を有することができる。さらに、導電金属メッシュは、図５ｂから５ｄに示すように複数の絶縁導電パターンに分割される。

導線は、第１の溝２２に充填された導電性材料を硬化させることによって形成される。導電性材料は、金属又はインジウムスズ酸化物（ＩＴＯ）とすることができる。従来のＩＴＯ（インジウムスズ酸化物）のコーティング−パターン形成−エッチング工程と比較して、第１の溝２２に導電性材料を充填して第１の導電層を形成する方法は、原料を大幅に節約することができる。さらに、パターン形成工程はインプリントモールドによって行われるので、複数の現像−露光−エッチング工程なしに、パターン形成の第１の溝２２を一度だけ転写（ｉｍｐｒｉｎｔ）することができ、手順が簡略化されタッチパネルのコスト低減につながる。

好ましくは、導電性材料は、金（Ａｕ）、銀（Ａｇ）、銅（Ｃｕ）、ニッケル（Ｎｉ）、モリブデン（Ｍｏ）、アルミニウム（Ａｌ）、及び亜鉛（Ｚｎ）、又はこれらの合金から成る群から選択された金属材料である。

高価なＩＴＯ（インジウムスズ酸化物）と比較して、金（Ａｕ）、銀（Ａｇ）、銅（Ｃｕ）、ニッケル（Ｎｉ）、モリブデン（Ｍｏ）、アルミニウム（Ａｌ）、及び亜鉛（Ｚｎ）の価格は安く、タッチパネルが安価になり、伝導性の要件を満たすこともできる。さらに、可撓性金属線は割れにくく、第１の導電層３０の伝導性が安定するのでタッチパネルの安定性が改善される。

金属線は不透明なので、透明領域を増加させるために金属線の幅を狭くする必要があり、２つの隣接する金属線の間の距離を大きくする必要があるので、結果的にタッチ検知モジュール２００の光透過率が大きくなる。

好ましくは、導線は、０．２μｍから５μｍｎの範囲の幅を有する。金属線の幅を狭くするほど透過率は良好になる。しかしながら、第１の導電層３０の抵抗は、金属線の幅が狭くなるにつれて増大する。光透過率及び抵抗の両方を考慮すると、金属線の幅は、好ましくは０．５μｍから２μｍの範囲であり、２つの隣接する金属線の距離は５０μｍから５００μｍである。

第１の導電層３０は、１μｍから１０μｍ、好ましくは２μｍから５μｍの厚さを有する。２μｍから５μｍの厚さの金属線は優れた電気特性及び透明度を有することができ、第１の導電層３０は、大きな導電率及びより高い透明度を有する。

第２の誘電体層４０は、第１の誘電体層２０上に積層される。第２の誘電体層４０は、第１の誘電体層２０上に熱硬化性樹脂又はＵＶ硬化性樹脂を被覆及び硬化させることによって形成される。

好ましくは、第２の誘電体層４０は、良好な光透過率を得るために、１μｍから１０μｍ、より好ましくは２μｍから５μｍの所望の厚さを有するので、第２の誘電体層４０は、タッチ検知モジュール２００の光透過率全体に影響を与えることはない。

第２の誘電体層４０は、ガラスカバープレート１００から離れた面においてメッシュ状の第２の溝４２を有する。第２の溝４２は、インプリントモールドを用いて第２の誘電体層４０上に形成される。第２の溝４２の深さ対幅比は、１よりも大きいか又は１に等しい。

第２の導電層５０は格子状であり、互いに交差した複数の導線によって形成される。第２の導電層５０は、第２の方向に沿って延びる複数の第２の導電性ストリップ５２を含む。２つの隣接する第２の導電性ストリップ３２の間には間隙５４が形成されるので、複数の第２の導電性ストリップ５２は互いに離間して絶縁される。第２の導電層５０は第２の溝４２に収容されて、第２の導電層５０を第２の誘電体層４０に埋め込むようになっている。第２の導電層５０の厚さは、第２の溝４２の深さよりも大きくなく、第２の導電層５０及び第１の導電層３０を確実に絶縁するようになっている。

例示の実施形態では、第２の方向は、デカルト座標系の他方の座標方向であり、この方向は、第１の方向と直交する。第１の方向が第１の誘電体層２０の長手方向である場合、第２の方向は、第２の誘電体層４０の幅方向に平行とすることができる。デカルト座標系は一例であり、斜交座標系又は極座標系等の他の座標系を使用することができる。

第２の導電性ストリップ５２は、導線によって形成された導電メッシュである。第１の導電性ストリップ３２と同様に、第２の導電性ストリップ５２の各々は、複数のメッシュセルを含み、このメッシュセルは、正方形状、菱形、正六角形、又はランダム形の形状とすることができる。

導線は、第２の溝４２に充填された導電性材料を硬化させることによって形成される。導電性材料は、金属又はインジウムスズ酸化物（ＩＴＯ）とすることができる。この製造方法により手順が簡略化されタッチパネルのコスト低減につながる。

好ましくは、導電性材料は、金（Ａｕ）、銀（Ａｇ）、銅（Ｃｕ）、ニッケル（Ｎｉ）、モリブデン（Ｍｏ）、アルミニウム（Ａｌ）、及び亜鉛（Ｚｎ）、又はこれらの合金から成る群から選択された金属材料である。第２の導電層５０を金属で形成することでタッチパネルのコストを低下して、タッチ安定性を向上させることができる。

導線は、０．２μｍから５μｍ、好ましくは０．５μｍから２μｍの範囲の幅を有する。２つの隣接する金属線の間の距離は５０μｍから５００μｍである。

第１の導電層３０及び第２の導電層５０はそれぞれ第１の誘電体層２０及び第２の誘電体層４０に埋め込まれ、第１の導電層３０及び第２の導電層５０は、その厚さ方向に沿ってガラスカバープレート１００上に積層される。

第２の導電性ストリップ５２が位置する平面上の第１の導電性ストリップ３２の投影は、第２の導電性ストリップ５２と交差して、導電性ブリッジを用いることなくキャパシタンス構造を形成するので、手順が簡略化される。

好ましくは、第２の導電層５０が位置する平面上の第１の導電層３０の導線の投影は第２の導電層５０の導線と一致して、視覚領域上の第１の導電層３０及び第２の導電層５０の導線の占有面積を最小にするようになっているので、光透過率が大きくなる。

さらに、タッチ検知モジュール２００は、第１の導電層３０及び第２の導電層５０の縁部によって規定される検知領域を含む。

図１を参照すると、検知領域は、視覚領域Ｓ１と、該視覚領域Ｓ１の外縁に位置する非視覚領域Ｓ２とを含む。ガラスカバープレート１００は、フレーム１００’、表示領域１０１に対応する領域１０１’、及び非表示領域１０２に対応する領域１０２’を含む。図１から分かるように、視覚領域Ｓ１は、ガラスカバープレート１００の表示領域１０１と位置合わせされ、ガラスカバープレート１００上の視覚領域Ｓ１の投影は、表示領域１０１と一致する。非視覚領域Ｓ２は、非表示領域１０２と位置合わせされ、ガラスカバープレート１００上の非視覚領域Ｓ２の投影は、非表示領域１０２に含まれる。

視覚領域Ｓ１及び非視覚領域Ｓ２の両方は検知機能を有するので、非表示領域１０２及びガラスカバープレート１００の非視覚領域Ｓ２に対応する領域は同様にユーザエクスペリエンスを高めることができる検知機能を有する。例えば、ユーザはガラスカバープレート１００の非表示領域１０２にタッチすることで、フリッピング、ボリューム調節、操作インターフェイスのロック等の操作を行なうことができる。

例示の実施形態では、非視覚領域Ｓ２の数は２つであり、２つの非視覚領域Ｓ２は、表示領域１０１の両側に位置する非視覚領域Ｓ２の両方が検知機能を有することができるように、視覚領域Ｓ１の両側に位置する。

図６を参照すると、代替の実施形態では、視覚領域Ｓ１の片側に位置する１つの非視覚領域Ｓ２のみが存在する。

図２及び図６から分かるように、非視覚領域Ｓ２は、幅ｄのストリップ状の形状を有する。

パネルのタッチを容易にするために、ｄは０．５ｍｍよりも大きい。さらに、ｄは非表示領域１０２の幅未満であり、より好ましくは、ｄは１ｍｍ以上である。

第１の電極トレース６０及び第２の電極トレース７０は、それぞれ第１の誘電体層２０及び第２の誘電体層４０に埋め込まれ、第１の電極トレース６０及び第２の電極トレース７０は、それぞれ第１の導電層３０及び第２の導電層５０に電気的に結合される。第１の電極トレース６０及び第２の電極トレース７０は、ガラスカバープレート１００の非表示領域１０２に位置合わせされる。

前述のタッチパネルにおいて、タッチパネルの検知領域は、第１の導電層３０及び第２の導電層５０の縁部によって定められる。検知領域は、視覚領域Ｓ１と、該視覚領域Ｓ１の外縁に位置する非視覚領域Ｓ２とを含む。視覚領域Ｓ１は、表示領域１０１と位置合わせされ、ガラスカバープレート１００上の視覚領域Ｓ１の投影は、表示領域１０１と一致する。非視覚領域Ｓ２は、非表示領域１０２と位置合わせされ、ガラスカバープレート１００上の非視覚領域Ｓ２の投影は、非表示領域１０２に含まれ、従って、ガラスカバープレート１００の非表示領域１０２は同様にユーザエクスペリエンスを高めることができる検知機能を有する。

タッチ検知モジュール２００の第１の導電層３０及び第２の導電層５０は、第１の溝２２及び第２の溝４２に導電性材料を充填することによって形成され、製造時にエッチング工程及びブリッジ構造を必要とせず、原料コストを節約して手順を簡略化することができる。金属導電性材料は、さらにタッチパネルを安価にしつつ安定性を向上させることができる。

前述のタッチパネルは、ＯＧＳ（１つのガラス溶液）構成を有し、その厚さは、ガラスカバープレート１００、第１の誘電体層２０、及び第２の誘電体層４０の厚さの合計であり、結果的に、タッチパネルはより薄くなり、電子デバイスを薄型かつ軽量化するのに好都合である。

図３を参照すると、好ましくは、タッチパネルは、遮蔽層８０をさらに含む。遮蔽層８０は、非表示領域１０２と同じ形状を有し、ガラスカバープレート１００上の遮蔽層８０の投影は、非表示領域１０２と一致する。

遮蔽層８０は、ガラスカバープレート１００とタッチ検知モジュール２００との間に位置決めされる。例示の実施形態では、遮蔽層８０は、遮蔽インクによって形成される。代替の実施形態では、遮蔽層８０は、クロム（Ｃｒ）で作ることができる。遮蔽層８０は、タッチパネルの外観を改善するために、フレーム回路等の露出する必要がない、ガラスカバープレート１００の下の構造体及び構成要素を遮蔽することができる。代替の実施形態では、遮蔽層８０は、構造体及び構成要素が既に他の構造体によって覆われている場合には省略できることが理解されよう。

図７を及び図８を参照すると、タッチパネルの別の実施形態は、ガラスカバープレート３００’及びタッチ検知モジュール３００を含む。

ガラスカバープレート３００’は、表示領域（図示せず）及び該表示領域の外縁に位置してそれを取り囲む非表示領域（図示せず）を有する。ガラスカバープレート３００’は、０．３ｍｍから１．２ｍｍ、好ましくは０．５ｍｍから０．７ｍｍの厚さを有し、これによりタッチパネルの優れた光透過性を保証することができる。

タッチ検知モジュール３００は、第１の接着層３０２、第１の透明基板３０３、第１の誘電体層３０４、第２の接着層３０５、第２の誘電体層３０６、及び第２の透明基板３０７を含み、この順番でガラスカバープレート３００’上に積層される。

さらに、タッチ検知モジュール３００は、第１の誘電体層３０４及び第２の誘電体層３０６にそれぞれ埋め込まれた第１の導電層３０８及び第２の導電層３０９を含む。タッチ検知モジュール３００は、第１の誘電体層３０４及び第２の誘電体層３０６にそれぞれ埋め込まれた第１の電極トレース及び第２の電極トレースをさらに含む。第１の電極トレース及び第２の電極トレースは、それぞれ第１の導電層３０８及び第２の導電層３０９に電気的に結合される。第１の電極トレース及び第２の電極トレースは、ガラスカバープレート３００’の非表示領域に対応する。

第１の接着層３０２は、光学グレードのポリアクリル酸樹脂、液体接着剤等のＯＣＡ（光学透明接着剤）で作ることができる。第１の導電層３０８及び第２の導電層３０９がエッチングされるのを防止するために、ＯＣＡ（光学透明接着剤）は、無酸又は低酸ＯＣＡ（光学透明接着剤）である。

第１の接着層３０２を用いて、ガラスカバープレート３００’を第１の透明基板３０３に結合する。タッチ検知モジュール３００の光透過率を保証するために、第１の接着層３０２の厚さは、好ましくは５０μｍから２００μｍの範囲である。

第１の透明基板３０３は、ガラス基板又はポリエチレンテレフタレート基板のような可撓性透明基板である。第１の透明基板３０３の厚さは、好ましくは０．０２５ｍｍから０．３ｍｍの範囲である。

第１の誘電体層３０４は、第１の透明基板３０３上に熱硬化性樹脂又はＵＶ硬化性樹脂を被覆及び硬化させることによって形成される。第１の誘電体層３０４は、好ましくは１μｍから１０μｍ、より好ましくは２μｍから５μｍの所望の厚さを有する。第１の誘電体層３０４は、第１の透明基板３０３から離れた面においてメッシュ状の第１の溝３０４２を定める。第１の溝３０４２は、インプリントモールドを用いて第１の誘電体層３０４上に形成される。第１の溝３０４２の深さ対幅比は、１よりも大きいか又は１に等しい。

第２の接着層３０５は、光学グレードのポリアクリル酸樹脂、液体接着剤等のＯＣＡ（光学透明接着剤）で作ることができる。第２の接着層３０５を用いて、第１の誘電体層３０４を第２の誘電体層３０６に結合する。第２の接着層３０５の厚さは、好ましくは２５μｍから１００μｍの範囲である。

第２の誘電体層３０６は、第１の誘電体層３０４と同じ材料及び厚さを有する。第２の誘電体層３０６は、第２の接着層３０５に隣接する面上に第２の溝３０６２を定める。第２の溝３０６２は、インプリントモールドを用いて第２の誘電体層３０６上に形成される。第２の溝３０６２の深さ対幅比は、１よりも大きいか又は１に等しい。

第２の透明基板３０７は、ガラス基板又はポリエチレンテレフタレート基板のような可撓性透明基板である。第２の透明基板３０７の厚さは、好ましくは０．０２５ｍｍから０．３ｍｍの範囲である。

第１の導電層３０８及び第２の導電層３０９は、前述の実施形態の第１の導電層３０及び第２の導電層５０と同じ構造を有する。第１の導電層３０８は、第１の方向に沿って延びる複数の第１の導電性ストリップを含む。第２の導電層３０９は、第２の方向に沿って延びる複数の第２の導電性ストリップを含む。第１の導電層３０８は、第１の溝３０４２に収容されて第１の誘電体層３０４に埋め込まれ、第２の導電層３０９は、第２の溝３０６２に収容されて第２の誘電体層３０６に埋め込まれる。第１の導電層３０８及び第２の導電層３０９を相互に確実に絶縁するために、第１の導電層３０８の厚さは、第１の溝３０４２の深さよりも大きくなく、第２の導電層３０９の厚さは、第２の溝３０６２の深さよりも大きくない。

第１の誘電体層３０４及び第２の誘電体層３０６は、製造工程時に第１の導電層３０８及び第２の導電層３０９が損傷を受ないように効果的に保護することができる。さらに、第１の誘電体層３０４及び第２の誘電体層３０６は、第１の導電層３０８及び第２の導電層３０９をさらに保護するように、それぞれ第１の透明基板３０３及び第２の透明基板３０７に対して位置決めされるので、第１の導電層３０８及び第２の導電層３０９を形成する導線が損傷を受けてタッチ検知モジュール３００の導電率及び性能に影響を与えるのを防止する。

第２の導電性ストリップが位置する平面上の第１の導電性ストリップの投影は、第２の導電性ストリップと交差して、導電性ブリッジを用いることなく相互キャパシタンスを形成するようになっており、手順が簡略化される。

好ましくは、第２の導電層３０９が位置する平面上の第１の導電層３０８の導線の投影は、第２の導電層３０９の導線と一致して、視覚領域上の第１の導電層３０８及び第２の導電層３０９の導線の占有面積を最小にするようになっているので、光透過率が大きくなる。

第１の導電層３０８及び第２の導電層３０９の厚さは、１μｍから１０μｍ、好ましくは２μｍから５μｍの範囲にある。

タッチ検知モジュール３００の検知領域は、第１の導電層３０８及び第２の導電層３０９の縁部によって形成される。

検知領域は、視覚領域と、該視覚領域の外縁に位置する非視覚領域とを含む。視覚領域は、ガラスカバープレート３００’の表示領域と位置合わせされ、ガラスカバープレート３００’上の視覚領域の投影は、表示領域と一致する。非視覚領域は、ガラスカバープレート３００’の非表示領域と位置合わせされ、ガラスカバープレート３００’上の非視覚領域の投影は、非表示領域に含まれる。従って、ガラスカバープレート３００’の非視覚領域は同様にユーザエクスペリエンスを高めることができる検知機能を有する。例えば、ユーザはガラスカバープレート３００’の非表示領域をタッチすることで、フリッピング、ボリューム調節、操作インターフェイスのロック等の操作を行なうことができる。

例示の実施形態では、非視覚領域の数は１つであり、非視覚領域は、視覚領域の片側に位置する。代替の実施形態では、非視覚領域の数は２つであり、２つの非視覚領域は、視覚領域の両側に位置する。

非視覚領域は、幅ｄのストリップ状の形状を有する。タッチを容易にするために、ｄは０．５ｍｍよりも大きい。さらに、ｄは非表示領域１０２の幅未満でり、より好ましくは、ｄは１ｍｍ以上である。

タッチパネルの検知領域は、第１の導電層３０８及び第２の導電層３０９の縁部によって定められる。検知領域は、視覚領域と、該視覚領域の外縁に位置する非視覚領域を含む。視覚領域は表示領域と位置合わせされ、ガラスカバープレート３００’上の視覚領域の投影は、表示領域と一致する。非視覚領域は非表示領域と位置合わせされ、ガラスカバープレート３００’上の非視覚領域の投影は、非表示領域に含まれ、従って、非表示領域は同様にユーザエクスペリエンスを高めることができる検知機能を有する。

タッチ検知モジュール３００の第１の導電層３０８及び第２の導電層３０９は、第１の溝３０４２及び第２の溝３０６２に導電性材料を充填することによって形成され、製造時にエッチング工程及びブリッジ構造を必要とせず、原料コストを節約して手順を簡略化することができる。金属導電性材料は、タッチパネルをさらに安価にしつつ安定性を向上させることができる。

前述のタッチパネルは、ＧＦＦ（ガラス−フィルム−フィルム）構成を有し、この構成はマルチタッチをサポートし、より安価である。例示の実施形態では、第１の導電層３０８及び第２の導電層３０９は対面配置である。代替の実施形態では、導電層３０８及び第２の導電層３０９を背中合わせに配置すること又は同じ面上に配置することができることが理解されよう。

図７を参照すると、タッチパネルは遮蔽層３１０をさらに含む。遮蔽層３１０は、非表示領域と同じ形状を有し、ガラスカバープレート３００’上の遮蔽層３１０の投影は、非表示領域と一致する。

遮蔽層３１０は、ガラスカバープレート３００’とタッチ検知モジュール３００との間に位置決めされる。例示の実施形態では、遮蔽層３１０は、遮蔽インクによって形成される。代替の実施形態では、遮蔽層３１０は、クロム（Ｃｒ）で作ることができる。遮蔽層３１０は、タッチパネルの外観を改善するために、フレーム回路等の露出する必要がないガラスカバープレート３００’の下の構造体及び構成要素を遮蔽することができる。代替の実施形態では、遮蔽層３１０は、構造体及び構成要素が既に他の構造体によって覆われている場合には省略できることが理解されよう。

図９及び図１０を参照すると、タッチパネルの別の実施形態は、ガラスカバープレート４００’及びタッチ検知モジュール４００を含む。

ガラスカバープレート４００’は、表示領域（図示せず）と、該表示領域の外縁に位置してこれを取り囲む非表示領域（図示せず）を有する。ガラスカバープレート４００’は、アルミノケイ酸ガラスプレート又はナトリウムカルシウムガラスプレートとすることができる。ガラスカバープレート４００’は、０．３ｍｍから１．２ｍｍ、好ましくは０．５ｍｍから０．７ｍｍの厚さを有し、これによってタッチパネルの優れた光透過率を保証することができる。

タッチ検知モジュール４００は、第１の接着層４０２、第１の誘電体層４０３、第１の透明基板４０４、第２の接着層４０５、第２の透明基板４０６、及び第２の誘電体層４０７を含み、この順番でガラスカバープレート４００’上に積層される。

さらに、タッチ検知モジュール４００は、第１の誘電体層４０３及び第２の誘電体層４０７にそれぞれ埋め込まれた第１の導電層４０８及び第２の導電層４０９を含む。タッチ検知モジュール４００は、第１の誘電体層４０３及び第２の誘電体層４０７にそれぞれ埋め込まれた第１の電極トレース及び第２の電極トレースをさらに含む。第１の電極トレース及び第２の電極トレースは、それぞれ第１の導電層４０８及び第２の導電層４０９に電気的に結合される。第１の電極トレース及び第２の電極トレースは、ガラスカバープレート４００’の非表示領域に対応する。

第１の接着層４０２、第１の透明基板４０４、第２の接着層４０５、及び第２の透明基板４０６は、タッチ検知モジュール３００の第１の接着層３０２、第１の透明基板３０３、第２の接着層３０５、及び第２の透明基板３０７と同じ構造及び材料を有する。

第１の誘電体層４０３及び第２の誘電体層４０７は、タッチ検知モジュール３００の第１の誘電体層３０４及び第２の誘電体層３０６と同じ厚さ及び材料を有する。

第１の誘電体層４０３は、第１の接着層４０２に隣接する面においてメッシュ状の第１の溝４０３２を定める。第１の溝４０３２は、インプリントモールドを用いて第１の誘電体層４０３上に形成される。第１の溝４０４２の深さ対幅比は、１よりも大きいか又は１に等しい。第２の誘電体層４０７は、第２の透明基板４０６から離れた面において第２の溝４０７２を定める。第２の溝４０７２は、インプリントモールドを用いて第２の誘電体層４０７上に形成される。第２の溝４０７２の深さ対幅比は、１よりも大きいか又は１に等しい。

第１の導電層４０８及び第２の導電層４０９は、前述の実施形態の第１の導電層３０及び第２の導電層５０と同じ構造を有する。第１の導電層４０８は、第１の方向に沿って延びる複数の第１の導電性ストリップを含む。第２の導電層４０９は、第２の方向に沿って延びる複数の第２の導電性ストリップを含む。第１の導電層４０８は、第１の溝４０３２に収容されて第１の誘電体層４０３に埋め込まれ、第２の導電層４０９は、第２の溝４０７２に収容されて第２の誘電体層４０７に埋め込まれる。第１の導電層４０８及び第２の導電層４０９を相互に確実に絶縁するために、第１の導電層４０８の厚さは、第１の溝４０３２の深さよりも大きくなく、第２の導電層４０９の厚さは、第２の溝４０７２の深さよりも大きくない。

第２の導電性ストリップが位置する平面上の第１の導電性ストリップの投影は、第２の導電性ストリップと交差して、導電性ブリッジを用いることなく相互キャパシタンスを形成するようになっており、手順が簡略化される。

好ましくは、第２の導電層４０９が位置する平面上の第１の導電層４０８の導線の投影は、第２の導電層４０９の導線と一致し、視覚領域上の第１の導電層４０８及び第２の導電層４０９の導線の占有面積を最小にするようになっており、光透過率が大きくなる。

第１の導電層４０８及び第２の導電層４０９の厚さは、１μｍから１０μｍ、好ましくは２μｍから５μｍの範囲にある。

タッチ検知モジュール４００の検知領域は、第１の導電層４０８及び第２の導電層４０９の縁部によって定められる。

検知領域は、視覚領域と、該視覚領域の外縁に位置する非視覚領域とを含む。視覚領域は、ガラスカバープレート４００’の表示領域と位置合わせされ、ガラスカバープレート４００’上の視覚領域の投影は、表示領域と一致する。非視覚領域は、ガラスカバープレート４００’の非表示領域と位置合わせされ、ガラスカバープレート４００’上の非視覚領域の投影は、非表示領域に含まれる。従って、ガラスカバープレート４００’の非表示領域は同様にユーザエクスペリエンスを高めることができる検知機能を有する。例えば、ユーザはガラスカバープレート４００’の非表示領域をタッチすることにより、フリッピング、ボリューム調節、操作インターフェイスのロック等の操作を行なうことができる。

例示の実施形態では、非視覚領域の数は１つであり、非視覚領域は、視覚領域の片側に位置する。代替の実施形態では、非視覚領域の数は２つであり、２つの非視覚領域は、視覚領域の両側に位置する。

非視覚領域は、幅ｄのストリップ状の形状を有する。タッチを容易にするために、ｄは０．５ｍｍよりも大きい。さらに、ｄは非表示領域の幅未満であり、より好ましくは、ｄは１ｍｍ以上である。

タッチパネルの検知領域は、第１の導電層４０８及び第２の導電層４０９の縁部によって定められる。検知領域は、視覚領域と、該視覚領域の外縁に位置する非視覚領域を含む。視覚領域は表示領域と位置合わせされ、ガラスカバープレート４００’上の視覚領域の投影は、表示領域と一致する。非視覚領域は非表示領域と位置合わせされ、ガラスカバープレート４００’上の非視覚領域の投影は、非表示領域に含まれ、従って、非表示領域は同様にユーザエクスペリエンスを高めることができる検知機能を有する。

タッチ検知モジュール４００の第１の導電層４０８及び第２の導電層４０９は、第１の溝４０３２及び第２の溝４０７２に導電性材料を充填することによって形成され、製造時にエッチング工程及びブリッジ構造を必要とせず、原料コストを節約して手順を簡略化することができる。金属導電性材料は、タッチパネルをさらに安価にしつつ安定性を向上させることができる。

前述のタッチパネルは、ＧＦＦ（ガラス−フィルム−フィルム）構成を有し、この構成はマルチタッチをサポートし、より安価である。例示の実施形態では、第１の導電層４０８及び第２の導電層４０９は背中合わせの配置である。

図９を参照すると、タッチパネルは、遮蔽層４１０をさらに含む。遮蔽層４１０は、非表示領域と同じ形状を有し、ガラスカバープレート４００’上の遮蔽層４１０の投影は、非表示領域と一致する。

遮蔽層４１０は、ガラスカバープレート４００’とタッチ検知モジュール４００との間に位置決めされる。例示の実施形態では、遮蔽層４１０は、遮蔽インクによって形成される。代替の実施形態では、遮蔽層４１０は、クロム（Ｃｒ）で作ることができる。遮蔽層４１０は、タッチパネルの外観を改善するために、フレーム回路等の露出する必要がないガラスカバープレート４００’の下の構造体及び構成要素を遮蔽することができる。代替の実施形態では、遮蔽層４１０は、構造体及び構成要素が既に他の構造体によって覆われている場合には省略できることが理解されよう。

図１１及び図１２を参照すると、タッチパネルの別の実施形態は、ガラスカバープレート５００’及びタッチ検知モジュール５００を含む。

ガラスカバープレート５００’は、表示領域（図示せず）と、該表示領域の外縁に位置してこれを取り囲む非表示領域（図示せず）とを有する。ガラスカバープレート５００’は、アルミノケイ酸ガラスプレート又はナトリウムカルシウムガラスプレートとすることができる。ガラスカバープレート５００’は、０．３ｍｍから１．２ｍｍ、好ましくは０．５ｍｍから０．７ｍｍの厚さを有し、これによってタッチパネルの優れた光透過率を保証することができる。

タッチ検知モジュール５００は、第１の接着層５０２、第１の誘電体層５０３、第１の透明基板５０４、第２の接着層５０５、第２の誘電体層５０６、第２の透明基板５０７を含み、この順番でガラスカバープレート５００’上に積層される。

さらに、タッチ検知モジュール５００は、第１の誘電体層５０３及び第２の誘電体層５０６にそれぞれ埋め込まれた第１の導電層５０８及び第２の導電層５０９を含む。タッチ検知モジュール５００は、第１の誘電体層５０３及び第２の誘電体層５０６にそれぞれ埋め込まれた第１の電極トレース及び第２の電極トレースをさらに含む。第１の電極トレース及び第２の電極トレースは、それぞれ第１の導電層５０８及び第２の導電層５０９に電気的に結合される。第１の電極トレース及び第２の電極トレースは、ガラスカバープレート５００’の非表示領域に対応する。

第１の接着層５０２、第１の透明基板５０４、第２の接着層５０５、及び第２の透明基板５０７は、タッチ検知モジュール３００の第１の接着層３０２、第１の透明基板３０３、第２の接着層３０５、及び第２の透明基板３０７と同じ構造及び材料を有する。

第１の誘電体層５０３及び第２の誘電体層５０６は、タッチ検知モジュール３００の第１の誘電体層３０４及び第２の誘電体層３０６と同じ厚さ及び材料を有する。

第１の誘電体層５０３は、第１の接着層５０２に隣接する面においてメッシュ状の第１の溝５０３２を定める。第１の溝５０３２は、インプリントモールドを用いて第１の誘電体層５０３上に形成される。第１の溝５０３２の深さ対幅比は、１よりも大きいか又は１に等しい。第２の誘電体層５０６は、第２の接着層５０５に隣接する面において第２の溝５０６２を定める。第２の溝５０６２は、インプリントモールドを用いて第２の誘電体層５０６上に形成される。第２の溝５０６２の深さ対幅比は、１よりも大きいか又は１に等しい。

第１の導電層５０８及び第２の導電層５０９は、前述の実施形態の第１の導電層３０及び第２の導電層５０と同じ構造を有する。第１の導電層５０８は、第１の方向に沿って延びる複数の第１の導電性ストリップを含む。第２の導電層５０９は、第２の方向に沿って延びる複数の第２の導電性ストリップを含む。第１の導電層５０８は、第１の溝５０３２に収容されて第１の誘電体層５０３に埋め込まれ、第２の導電層５０９は、第２の溝５０６２に収容されて第２の誘電体層５０６に埋め込まれる。第１の導電層５０８及び第２の導電層５０９を相互に確実に絶縁するために、第１の導電層５０８の厚さは、第１の溝５０３２の深さよりも大きくなく、第２の導電層５０９の厚さは、第２の溝５０５２の深さよりも大きくない。

第２の導電性ストリップが位置する平面上の第１の導電性ストリップの投影は、第２の導電性ストリップと交差し、導電性ブリッジを用いることなく相互キャパシタンスを形成するようになっており、手順が簡略化される。

好ましくは、第２の導電層５０９が位置する平面上の第１の導電層５０８の導線の投影は、第２の導電層５０９の導線と一致し、視覚領域上の第１の導電層５０８及び第２の導電層５０９の導線の占有面積を最小にするようになっており、光透過率が大きくなる。

第１の導電層５０８及び第２の導電層５０９の厚さは、１μｍから１０μｍ、好ましくは２μｍから５μｍの範囲にある。

タッチ検知モジュール５００の検知領域は、第１の導電層５０８及び第２の導電層５０９の縁部によって定められる。

検知領域は、視覚領域と、該視覚領域の外縁に位置する非視覚領域とを含む。視覚領域は、ガラスカバープレート５００’の表示領域と位置合わせされ、ガラスカバープレート５００’上の視覚領域の投影は、表示領域と一致する。非視覚領域は、ガラスカバープレート５００’の非表示領域と位置合わせされ、ガラスカバープレート５００’上の非視覚領域の投影は、非表示領域に含まれる。従って、ガラスカバープレート５００’の非表示領域は同様にユーザエクスペリエンスを高めることができる検知機能を有する。例えば、ユーザはガラスカバープレート５００’の非表示領域をタッチすることにより、フリッピング、ボリューム調節、操作インターフェイスのロック等の操作を行なうことができる。

例示の実施形態では、非視覚領域の数は１つであり、非視覚領域は、視覚領域の片側に位置する。代替の実施形態では、非視覚領域の数は２つであり、２つの非視覚領域は、視覚領域の両側に位置する。

非視覚領域は、幅ｄのストリップ状の形状を有する。タッチを容易にするために、ｄは０．５ｍｍよりも大きい。さらに、ｄは非表示領域の幅よりも大きくなく、より好ましくは、ｄは１ｍｍ以上である。

タッチパネルの検知領域は、第１の導電層５０８及び第２の導電層５０９の縁部によって定められる。検知領域は、視覚領域と、該視覚領域の外縁に位置する非視覚領域とを含む。視覚領域は表示領域と位置合わせされ、ガラスカバープレート５００’上の視覚領域の投影は、表示領域と一致する。非視覚領域は非表示領域と位置合わせされ、ガラスカバープレート５００’上の非視覚領域の投影は、非表示領域に含まれるので、非表示領域は同様にユーザエクスペリエンスを高めることができる検知機能を有する。

タッチ検知モジュール５００の第１の導電層５０８及び第２の導電層５０９は、第１の溝５０３２及び第２の溝５０６２に導電性材料を充填することによって形成され、製造時にエッチング工程及びブリッジ構造を必要とせず、原料コストを節約して手順を簡略化することができる。金属導電性材料は、タッチパネルをさらに安価にしつつ安定性を向上させることができる。

前述のタッチパネルは、ＧＦＦ（ガラス−フィルム−フィルム）構成を有し、この構成はマルチタッチをサポートし、より安価である。例示の実施形態では、第１の導電層５０８及び第２の導電層５０９は両方とも、誘電体層の下側に形成される。

図１１を参照すると、タッチパネルは、遮蔽層５１０をさらに含む。遮蔽層５１０は、非表示領域と同じ形状を有し、ガラスカバープレート５００’上の遮蔽層５１０の投影は、非表示領域と一致する。

遮蔽層５１０は、ガラスカバープレート５００’とタッチ検知モジュール５００との間に位置決めされる。例示の実施形態では、遮蔽層５１０は、遮蔽インクによって形成される。代替の実施形態では、遮蔽層５１０は、クロム（Ｃｒ）で作ることができる。遮蔽層５１０は、タッチパネルの外観を改善するために、フレーム回路等の露出する必要がないガラスカバープレート５００’の下の構造体及び構成要素を遮蔽することができる。代替の実施形態では、遮蔽層５１０は、構造体及び構成要素が既に他の構造体によって覆われている場合には省略できることが理解されよう。

図１３及び図１４を参照すると、タッチパネルの別の実施形態は、ガラスカバープレート６００’及びタッチ検知モジュール６００を含む。

ガラスカバープレート６００’は、表示領域（図示せず）と、該表示領域の外縁に位置してこれを取り囲む非表示領域（図示せず）を有する。ガラスカバープレート６００’は、アルミノケイ酸ガラスプレート又はナトリウムカルシウムガラスプレートとすることができる。ガラスカバープレート６００’は、０．３ｍｍから１．２ｍｍ、好ましくは０．５ｍｍから０．７ｍｍの厚さを有し、これによってタッチパネルの優れた光透過率を保証することができる。

タッチ検知モジュール６００は、接着層６０２、第１の誘電体層６０３、透明基板６０４、及び第２の誘電体層６０５を含み、これらは、この順序でガラスカバープレート６００’上に積層される。タッチ検知モジュール６００は、第１の誘電体層６０３及び第２の誘電体層６０５にそれぞれ埋め込まれた第１の導電層６０６及び第２の導電層６０７をさらに含む。タッチ検知モジュール６００は、第１の誘電体層６０３及び第２の誘電体層６０５にそれぞれ埋め込まれた第１の電極トレース及び第２の電極トレースをさらに含む。第１の電極トレース及び第２の電極トレースは、それぞれ第１の導電層６０６及び第２の導電層６０７に電気的に結合される。第１の電極トレース及び第２の電極トレースは、ガラスカバープレート６００’の非表示領域に対応する。

接着層６０２及び透明基板６０４は、タッチ検知モジュール３００の第１の接着層３０２及び第１の透明基板３０３と同じ構造及び材料を有する。

第１の誘電体層６０３及び第２の誘電体層６０５は、タッチ検知モジュール３００の第１の誘電体層３０４及び第２の誘電体層３０６と同じ厚さ及び材料を有する。

第１の誘電体層６０３は、接着層６０２に隣接する面においてメッシュ状の第１の溝６０３２を定める。第１の溝６０３２は、インプリントモールドを用いて第１の誘電体層６０３上に形成される。第１の溝６０３２の深さ対幅比は、１よりも大きいか又は１に等しい。第２の誘電体層６０５は、透明基板６０４から離れた面において第２の溝６０５２を定める。第２の溝６０５２は、インプリントモールドを用いて第２の誘電体層６０５上に形成される。第２の溝６０６２の深さ対幅比は、１よりも大きいか又は１に等しい。

第１の導電層６０６及び第２の導電層６０７は、前述の実施形態の第１の導電層３０及び第２の導電層５０と同じ構造を有する。第１の導電層６０６は、第１の方向に沿って延びる複数の第１の導電性ストリップを含む。第２の導電層６０７は、第２の方向に沿って延びる複数の第２の導電性ストリップを含む。第１の導電層６０６は、第１の溝６０３２に収容されて第１の誘電体層６０３に埋め込まれ、第２の導電層６０７は、第２の溝６０５２に収容されて第２の誘電体層６０５に埋め込まれる。第１の導電層６０６及び第２の導電層６０７を相互に確実に絶縁するために、第１の導電層６０６の厚さは、第１の溝６０３２の深さよりも大きくなく、第２の導電層６０７の厚さは、第２の溝６０５２の深さよりも大きくない。

第２の導電性ストリップが位置する平面上の第１の導電性ストリップの投影は、第２の導電性ストリップと交差して、導電性ブリッジを用いることなく相互キャパシタンスを形成するようになっており、手順が簡略化される。

好ましくは、第２の導電層６０７が位置する平面上の第１の導電層６０６の導線の投影は、第２の導電層６０７の導線と一致し、視覚領域上の第１の導電層６０６及び第２の導電層６０７の導線の占有面積を最小にするようになっており、光透過率が大きくなる。

第１の導電層６０６及び第２の導電層６０７の厚さは、１μｍから１０μｍ、好ましくは２μｍから５μｍの範囲にある。

タッチ検知モジュール６００の検知領域は、第１の導電層６０６及び第２の導電層６０７の縁部によって定められる。

検知領域は、視覚領域と、該視覚領域の外縁に位置する非視覚領域とを含む。視覚領域は、ガラスカバープレート６００’の表示領域と位置合わせされ、ガラスカバープレート６００’上の視覚領域の投影は、表示領域と一致する。非視覚領域は、ガラスカバープレート６００’の非表示領域と位置合わせされ、ガラスカバープレート６００’上の非視覚領域の投影は、非表示領域に含まれる。従って、ガラスカバープレート６００’の非表示領域は同様にユーザエクスペリエンスを高めることができる検知機能を有する。例えば、ユーザはガラスカバープレート６００’の非表示領域をタッチすることにより、フリッピング、ボリューム調節、操作インターフェイスのロック等の操作を行なうことができる。

例示の実施形態では、非視覚領域の数は１つであり、非視覚領域は、視覚領域の片側に位置する。代替の実施形態では、非視覚領域の数は２つであり、２つの非視覚領域は、視覚領域の両側に位置する。

非視覚領域は、幅ｄのストリップ状の形状を有する。タッチを容易にするために、ｄは０．５ｍｍよりも大きい。さらに、ｄは非表示領域の幅よりも大きくなく、より好ましくは、ｄは１ｍｍ以上である。

タッチパネルの検知領域は、第１の導電層６０６及び第２の導電層６０７の縁部によって定められる。検知領域は、視覚領域と、該視覚領域の外縁に位置する非視覚領域を含む。視覚領域は表示領域と位置合わせされ、ガラスカバープレート６００’上の視覚領域の投影は、表示領域と一致する。非視覚領域は非表示領域と位置合わせされ、ガラスカバープレート６００’上の非視覚領域の投影は、非表示領域に含まれるので、非表示領域は同様にユーザエクスペリエンスを高めることができる検知機能を有する。

タッチ検知モジュール６００の第１の導電層６０６及び第２の導電層６０７は、第１の溝６０３２及び第２の溝６０５２に導電性材料を充填することによって形成され、製造時にエッチング工程及びブリッジ構造を必要とせず、原料コストを節約して手順を簡略化することができる。金属導電性材料は、タッチパネルをさらに安価にしつつ安定性を向上させることができる。

前述のタッチパネルは、ＧＦ２（ガラス／フィルム デュアルＩＴＯ（インジウムスズ酸化物））構成を有し、この構成はＧＦＦ（ガラス−フィルム−フィルム）構成と比較してフィルムの厚さを減少させることができる。さらに、フィルムの両側を同時にパターン形成することができるので、工程が簡略化される。

図１３を参照すると、タッチパネルは、遮蔽層６０８をさらに含む。遮蔽層６０８は、非表示領域と同じ形状を有し、ガラスカバープレート６００’上の遮蔽層６０８の投影は、非表示領域と一致する。

遮蔽層６０８は、ガラスカバープレート６００’とタッチ検知モジュール６００との間に位置決めされる。例示の実施形態では、遮蔽層６０８は、遮蔽インクによって形成される。代替の実施形態では、遮蔽層６０８は、クロム（Ｃｒ）で作ることができる。遮蔽層６０８は、タッチパネルの外観を改善するために、フレーム回路等の露出する必要がないガラスカバープレート６００’の下の構造体及び構成要素を遮蔽することができる。代替の実施形態では、遮蔽層６０８は、構造体及び構成要素が既に他の構造体によって覆われている場合には省略できることが理解されよう。

図１５及び図１６を参照すると、タッチパネルの別の実施形態は、ガラスカバープレート７００’及びタッチ検知モジュール７００を含む。

ガラスカバープレート７００’は、表示領域（図示せず）と、該表示領域の外縁に位置してこれを取り囲む非表示領域（図示せず）を有する。ガラスカバープレート７００’は、アルミノケイ酸ガラスプレート又はナトリウムカルシウムガラスプレートとすることができる。ガラスカバープレート７００’は、０．３ｍｍから１．２ｍｍ、好ましくは０．５ｍｍから０．７ｍｍの厚さを有し、これによってタッチパネルの優れた光透過率を保証することができる。

タッチ検知モジュール７００は、第１の誘電体層７０２、接着層７０３、透明基板７０４、及び第２の誘電体層７０５を含み、この順番でガラスカバープレート７００’上に積層される。タッチ検知モジュール７００は、第１の誘電体層７０２及び第２の誘電体層７０５にそれぞれ埋め込まれた第１の導電層７０６及び第２の導電層７０７をさらに含む。タッチ検知モジュール７００は、第１の誘電体層７０２及び第２の誘電体層７０５にそれぞれ埋め込まれた第１の電極トレース及び第２の電極トレースをさらに含む。第１の電極トレース及び第２の電極トレースは、それぞれ第１の導電層７０６及び第２の導電層７０７に電気的に結合される。第１の電極トレース及び第２の電極トレースは、ガラスカバープレート７００’の非表示領域に対応する。

接着層７０２及び透明基板７０４は、タッチ検知モジュール３００の第１の接着層３０２及び第１の透明基板３０３と同じ構造及び材料を有する。

第１の誘電体層７０２及び第２の誘電体層７０４は、タッチ検知モジュール３００の第１の誘電体層３０４及び第２の誘電体層３０６と同じ厚さ及び材料を有する。

第１の誘電体層７０２は、ガラスカバープレート７００’から離れた面においてメッシュ状の第１の溝７０２２を定める。第１の溝７０２２は、インプリントモールドを用いて第１の誘電体層７０２上に形成される。第１の溝７０２２の深さ対幅比は、１よりも大きいか又は１に等しい。第２の誘電体層７０５は、透明基板７０４から離れた面において第２の溝７０５２を定める。第２の溝７０５２は、インプリントモールドを用いて第２の誘電体層７０５上に形成される。第２の溝７０５２の深さ対幅比は、１よりも大きいか又は１に等しい。

第１の導電層７０６及び第２の導電層７０７は、前述の実施形態の第１の導電層３０及び第２の導電層５０と同じ構造を有する。第１の導電層７０６は、第１の方向に沿って延びる複数の第１の導電性ストリップを含む。第２の導電層７０７は、第２の方向に沿って延びる複数の第２の導電性ストリップを含む。第１の導電層７０６は、第１の溝７０２２に収容されて第１の誘電体層７０２に埋め込まれ、第２の導電層７０７は、第２の溝７０５２に収容されて、第２の誘電体層７０５に埋め込まれる。第１の導電層７０６及び第２の導電層７０７を相互に確実に絶縁するために、第１の導電層７０６の厚さは、第１の溝７０２２の深さよりも大きくなく、第２の導電層７０７の厚さは、第２の溝７０５２の深さよりも大きくない。

第２の導電性ストリップが位置する平面上の第１の導電性ストリップの投影は、第２の導電性ストリップと交差して、導電性ブリッジを用いることなく相互キャパシタンスを形成するようになっており、手順が簡略化される。

好ましくは、第２の導電層７０７が位置する平面上の第１の導電層７０６の導線の投影は、第２の導電層７０７の導線と一致し、視覚領域上の第１の導電層７０６及び第２の導電層７０７の導線の占有面積を最小にするようになっており、光透過率が大きくなる。

第１の導電層７０６及び第２の導電層７０７の厚さは、１μｍから１０μｍ、好ましくは２μｍから５μｍの範囲にある。

タッチ検知モジュール７００の検知領域は、第１の導電層７０６及び第２の導電層７０７の縁部によって定められる。

検知領域は、視覚領域と、該視覚領域の外縁に位置する非視覚領域を含む。視覚領域は、ガラスカバープレート７００’の表示領域と位置合わせされ、ガラスカバープレート７００’上の視覚領域の投影は、表示領域と一致する。非視覚領域は、ガラスカバープレート７００’の非表示領域と位置合わせされ、ガラスカバープレート７００’上の非視覚領域の投影は、非表示領域に含まれる。従って、ガラスカバープレート７００’の非表示領域は同様にユーザエクスペリエンスを高めることができる検知機能を有する。例えば、ユーザはガラスカバープレート７００’の非表示領域をタッチすることにより、フリッピング、ボリューム調節、操作インターフェイスのロック等の操作を行なうことができる。

例示の実施形態では、非視覚領域の数は１つであり、非視覚領域は、視覚領域の片側に位置する。代替の実施形態では、非視覚領域の数は２つであり、２つの非視覚領域は、視覚領域の両側に位置する。

非視覚領域は、幅ｄのストリップ状の形状を有する。タッチを容易にするために、ｄは０．５ｍｍよりも大きい。さらに、ｄは非表示領域の幅よりも大きくなく、より好ましくは、ｄは１ｍｍ以上である。

タッチパネルの検知領域は、第１の導電層７０６及び第２の導電層７０７の縁部によって定められる。検知領域は、視覚領域及び視覚領域の外縁に位置する非視覚領域を含む。視覚領域は表示領域と位置合わせされ、ガラスカバープレート７００’上の視覚領域の投影は、表示領域と一致する。非視覚領域は非表示領域と位置合わせされ、ガラスカバープレート７００’上の非視覚領域の投影は、非表示領域に含まれるので、非表示領域は同様にユーザエクスペリエンスを高めることができる検知機能を有する。

タッチ検知モジュール７００の第１の導電層７０６及び第２の導電層７０７は、第１の溝７０２２及び第２の溝７０５２に導電性材料を充填することによって形成され、製造時にエッチング工程及びブリッジ構造を必要とせず、原料コストを節約して手順を簡略化することができる。金属導電性材料は、タッチパネルをさらに安価にしつつ安定性を向上させることができる。

前述のタッチパネルは、Ｇ１Ｆ（ガラス−フィルム）構成を有し、この構成はＧＦＦ（ガラス−フィルム−フィルム）構成と比較してフィルムの厚さを低減して、コストを節減することができる。例示の実施形態では、第１の導電層７０６及び第２の導電層７０７は両方とも、誘電体層の上側に配置される。

図１５を参照すると、タッチパネルは、遮蔽層７０８をさらに含む。遮蔽層７０８は、非表示領域と同じ形状を有し、ガラスカバープレート７００’上の遮蔽層７０８の投影は、非表示領域と一致する。

遮蔽層７０８は、ガラスカバープレート７００’とタッチ検知モジュール７００との間に位置決めされる。例示の実施形態では、遮蔽層７０８は、遮蔽インクによって形成される。代替の実施形態では、遮蔽層７０８は、クロム（Ｃｒ）で作ることができる。遮蔽層７０８は、タッチパネルの外観を改善するために、フレーム回路等の露出する必要がないガラスカバープレート７００’の下の構造体及び構成要素を遮蔽することができる。代替の実施形態では、遮蔽層７０８は、構造体及び構成要素が既に他の構造体によって覆われている場合には省略することができることが理解されよう。

図１７及び図１８を参照すると、タッチパネルの別の実施形態は、ガラスカバープレート８００’及びタッチ検知モジュール８００を含む。

ガラスカバープレート８００’は、表示領域（図示せず）と、該表示領域の外縁に位置してこれを取り囲む非表示領域（図示せず）を有する。ガラスカバープレート８００’は、アルミノケイ酸ガラスプレート又はナトリウムカルシウムガラスプレートとすることができる。ガラスカバープレート８００’は、０．３ｍｍから１．２ｍｍ、好ましくは０．５ｍｍから０．７ｍｍの厚さを有し、これによってタッチパネルの優れた光透過率を保証することができる。

タッチ検知モジュール８００は、第１の誘電体層８０２、接着層８０３、第２の誘電体層８０４、及び透明基板８０５を含み、この順番でガラスカバープレート８００’上に積層される。タッチ検知モジュール８００は、第１の誘電体層８０２及び第２の誘電体層８０４にそれぞれ埋め込まれた第１の導電層８０６及び第２の導電層８０７をさらに含む。タッチ検知モジュール８００は、第１の誘電体層８０２及び第２の誘電体層８０４にそれぞれ埋め込まれた第１の電極トレース及び第２の電極トレースをさらに含む。第１の電極トレース及び第２の電極トレースは、それぞれ第１の導電層８０６及び第２の導電層８０７に電気的に結合される。第１の電極トレース及び第２の電極トレースは、ガラスカバープレート８００’の非表示領域に対応する。

接着層８０３及び透明基板８０５は、タッチ検知モジュール３００の第１の接着層３０２及び第１の透明基板３０３と同じ構造及び材料を有する。

第１の誘電体層８０２及び第２の誘電体層８０４は、タッチ検知モジュール３００の第１の誘電体層３０４及び第２の誘電体層３０６と同じ厚さ及び材料を有する。

第１の誘電体層８０２は、ガラスカバープレート８００’から離れた面においてメッシュ状の第１の溝８０２２を定める。第１の溝８０２２は、インプリントモールドを用いて第１の誘電体層８０２上に形成される。第１の溝８０２２の深さ対幅比は、１よりも大きいか又は１に等しい。第２の誘電体層８０４は、透明基板８０５から離れた面において第２の溝８０４２を定める。第２の溝８０４２は、インプリントモールドを用いて第２の誘電体層８０４上に形成される。第２の溝８０４２の深さ対幅比は、１よりも大きいか又は１に等しい。

第１の導電層８０６及び第２の導電層８０７は、前述の実施形態の第１の導電層３０及び第２の導電層５０と同じ構造を有する。第１の導電層８０６は、第１の方向に沿って延びる複数の第１の導電性ストリップを含む。第２の導電層８０７は、第２の方向に沿って延びる複数の第２の導電性ストリップを含む。第１の導電層８０６は第１の溝８０２２に収容されて第１の誘電体層８０２に埋め込まれ、第２の導電層８０７は、第２の溝８０４２に収容されて、第２の誘電体層８０４に埋め込まれる。第１の導電層８０６及び第２の導電層８０７を相互に確実に絶縁するために、第１の導電層８０６の厚さは、第１の溝８０２２の深さよりも大きくなく、第２の導電層８０７の厚さは、第２の溝８０４２の深さよりも大きくない。

第２の導電性ストリップが位置する平面上の第１の導電性ストリップの投影は、第２の導電性ストリップと交差して、導電性ブリッジを用いることなく相互キャパシタンスを形成するようになっており、手順が簡略化される。

好ましくは、第２の導電層８０７が位置する平面上の第１の導電層８０６の導線の投影は、第２の導電層８０７の導線と一致し、視覚領域上の第１の導電層８０６及び第２の導電層８０７の導線の占有面積を最小にするようになっており、光透過率が大きくなる。

第１の導電層８０６及び第２の導電層８０７の厚さは、１μｍから１０μｍ、好ましくは２μｍから５μｍの範囲にある。

タッチ検知モジュール８００の検知領域は、第１の導電層８０６及び第２の導電層８０７の縁部によって定められる。

検知領域は、視覚領域と、該視覚領域の外縁に位置する非視覚領域を含む。視覚領域は、ガラスカバープレート８００’の表示領域と位置合わせされ、ガラスカバープレート８００’上の視覚領域の投影は、表示領域と一致する。非視覚領域は、ガラスカバープレート８００’の非表示領域と位置合わせされ、ガラスカバープレート８００’上の非視覚領域の投影は、非表示領域に含まれる。従って、ガラスカバープレート８００’の非表示領域は同様にユーザエクスペリエンスを高めることができる検知機能を有する。例えば、ユーザはガラスカバープレート８００’の非表示領域をタッチすることにより、フリッピング、ボリューム調節、操作インターフェイスのロック等の操作を行なうことができる。

例示の実施形態では、非視覚領域の数は１つであり、非視覚領域は、視覚領域の片側に位置する。代替の実施形態では、非視覚領域の数は２つであり、２つの非視覚領域は、視覚領域の両側に位置する。

非視覚領域は、幅ｄのストリップ状の形状を有する。タッチを容易にするために、ｄは０．５ｍｍよりも大きい。さらに、ｄは非表示領域の幅よりも大きくなく、より好ましくは、ｄは１ｍｍ以上である。

タッチパネルの検知領域は、第１の導電層８０６及び第２の導電層８０７の縁部によって定められる。検知領域は、視覚領域と、該視覚領域の外縁に位置する非視覚領域とを含む。視覚領域は表示領域と位置合わせされ、ガラスカバープレート８００’上の視覚領域の投影は、表示領域と一致する。非視覚領域は非表示領域と位置合わせされ、ガラスカバープレート８００’上の非視覚領域の投影は、非表示領域に含まれ、従って、非表示領域は同様にユーザエクスペリエンスを高めることができる検知機能を有する。

タッチ検知モジュール８００の第１の導電層８０６及び第２の導電層８０７は、第１の溝８０２２及び第２の溝８０４２に導電性材料を充填することによって形成され、製造時にエッチング工程及びブリッジ構造を必要とせず、原料コストを節約して手順を簡略化することができる。金属導電性材料は、タッチパネルをさらに安価にしつつ安定性を向上させることができる。

前述のタッチパネルは、Ｇ１Ｆ（ガラス−フィルム）構成を有し、この構成はＧＦＦ（ガラス−フィルム−フィルム）構成と比較してフィルムの厚さを低減して、コストを節減することができる。例示の実施形態では、第１の導電層８０６及び第２の導電層８０７は対面構成である。

図１７を参照すると、タッチパネルは、遮蔽層８０８をさらに含む。遮蔽層８０８は、非表示領域と同じ形状を有し、ガラスカバープレート８００’上の遮蔽層８０８の投影は、非表示領域と一致する。

遮蔽層８０８は、ガラスカバープレート８００’とタッチ検知モジュール８００との間に位置決めされる。例示の実施形態では、遮蔽層８０８は、遮蔽インクによって形成される。代替の実施形態では、遮蔽層８０８は、クロム（Ｃｒ）で作ることができる。遮蔽層８０８は、タッチパネルの外観を改善するために、フレーム回路等の露出する必要がないガラスカバープレート８００’の下の構造体及び構成要素を遮蔽することができる。代替の実施形態では、遮蔽層８０８は、構造体及び構成要素が既に他の構造体によって覆われている場合には省略することができることが理解されよう。

図１９を参照すると、タッチディスプレイデバイス９００がさらに提供され、タッチディスプレイデバイス９００は、ディスプレイ９１０及びタッチパネル９２０を含む。

タッチパネル９２０は、図３に示したタッチパネルと同じ構造を有する。タッチパネル９２０は、ガラスカバープレート９２１、遮蔽層９２２、第１の誘電体層９２３、第１の導電層９２４、第２の誘電体層９２５、第２の導電層９２６、第１の電極トレース（図示せず）、及び第２の電極トレース（図示せず）を含む。

第２の誘電体層９２５、第１の誘電体層９２３、及びガラスカバープレート９２１は、この順番でディスプレイ９１０上に積層される。第１の導電層９２４及び第２の導電層９２５は、第１の誘電体層９２３及び第２の誘電体層９２５に埋め込まれる。遮蔽層９２２は、ガラスカバープレート９２１と第１の誘電体層９２３との間に位置決めされる。第１の電極トレース及び第２の電極トレースは、それぞれ第１の誘電体層９２３及び第２の誘電体層９２５に埋め込まれる。第１の電極トレース及び第２の電極トレースは、第１の導電層９２４及び第２の導電層９２６に電気的に結合される。

また、ガラスカバープレート９２１の非表示領域は、タッチディスプレイデバイス９００のユーザエクスペリエンスを高めることができる検知機能を有する。さらに、タッチパネル９２０は、簡単な製造工程、低コスト、及び安定した性能を有するので、タッチディスプレイデバイス９００は、安価で更に安定した性能を有する。

代替の実施形態では、タッチパネル９２０は、図７、図９、図１１、図１３、図１５、及び図１７に示すタッチパネルと同じ構造を有することができることが理解されよう。

本考案の実施形態及び本考案を実施するための最良の形態を参照して本考案を説明してきたが、本考案の範囲から逸脱することなく様々な修正及び変更を行うことができることは当業者には明らかであり、本考案は、実用新案登録請求の範囲によって定義される。

Claims (17)

1. 表示領域及び該表示領域の外縁に位置する非表示領域を含むガラスカバープレートと、 前記ガラスカバープレート上に積層されたタッチ検知モジュールと、
   を備えるタッチパネルであって、
   前記タッチ検知モジュールは、前記ガラスカバープレートの厚さ方向に積層された第１の導電層及び第２の導電層を含み、前記第１の導電層は、第１の方向に沿って延びる複数の第１の導電性ストリップを含み、前記複数の第１の導電性ストリップは、相互に離間して絶縁され、前記第２の導電層は、第２の方向に沿って延びる複数の第２の導電性ストリップを含み、前記複数の第２の導電性ストリップは、相互に離間して絶縁され、前記第２の導電性ストリップが位置する平面上の前記第１の導電性ストリップの投影は、前記第２の導電性ストリップと交差し、前記タッチ検知モジュールは、前記第１の導電層及び前記第２の導電層の縁部によって定められた検知領域を含み、前記検知領域は、視覚領域と、該視覚領域の外縁に位置する非視覚領域とを含み、前記ガラスカバープレート上の前記視覚領域の投影は、前記表示領域と一致し、前記ガラスカバープレート上の前記非視覚領域の投影は、前記非表示領域に含まれる、ことを特徴とするタッチパネル。
2. 前記非視覚領域は、ストリップ状の形状を有し、前記非視覚領域の幅は、０．５ｍｍよりも大きいが、前記非表示領域の前記幅よりも小さい、請求項１に記載のタッチパネル。
3. 前記非視覚領域の幅は、１ｍｍよりも大きいか又は１ｍｍに等しい、請求項２に記載のタッチパネル。
4. 前記非視覚領域の数は２つであり、前記２つの非視覚領域は、前記視覚領域の両側に位置する、請求項１に記載のタッチパネル。
5. 厚さ方向に前記ガラスカバープレート上に積層された第１の誘電体層及び第２の誘電体層をさらに備え、前記第１の誘電体層は、メッシュ状の第１の溝を定め、前記第２の誘電体層は、メッシュ状の第２の溝を定め、前記第１の導電性ストリップ及び前記第２の導電性ストリップは、互いに交差したメッシュ状の導線を備え、前記第１の導電性ストリップ及び前記第２の導電性ストリップは、それぞれ前記第１の溝及び前記第２の溝に収容され、前記導線は、前記第１の溝及び前記第２の溝に充填された導電性材料を硬化させることによって形成される、請求項１に記載のタッチパネル。
6. 前記導線は、０．２μｍから５μｍの幅を有する、請求項５に記載のタッチパネル。
7. 第１の接着層、第２の接着層、第１の透明基板、及び第２の透明基板をさらに含み、前記第１の接着層、前記第１の誘電体層、前記第１の透明基板、前記第２の接着層、前記第２の透明基板、及び前記第２の誘電体層は、この順番で前記ガラスカバープレート上に積層される、請求項５に記載のタッチパネル。
8. 第１の接着層、第２の接着層、第１の透明基板、及び第２の透明基板をさらに含み、前記第１の接着層、前記第１の誘電体層、前記第１の透明基板、前記第２の接着層、前記第２の誘電体層、及び前記第２の透明基板は、この順番で前記ガラスカバープレート上に積層される、請求項５に記載のタッチパネル。
9. 接着層及び透明基板をさらに含み、前記接着層、前記第１の誘電体層、前記透明基板、及び前記第２の誘電体層は、この順番で前記ガラスカバープレート上に積層される、請求項５に記載のタッチパネル。
10. 接着層及び透明基板をさらに含み、前記第１の誘電体層、前記接着層、前記第２の誘電体層、及び前記透明基板は、この順番で前記ガラスカバープレート上に積層される、請求項５に記載のタッチパネル。
11. 接着層及び透明基板をさらに含み、前記第１の誘電体層、前記接着層、前記透明基板、及び前記第２の誘電体層は、その順序で前記ガラスカバープレート上に積層される、請求項５に記載のタッチパネル。
12. 前記第１の導電層及び前記第２の導電層の２つの隣接する導線の間の距離は、５０μｍから１０００μｍの範囲にある、請求項５に記載のタッチパネル。
13. 前記第１の導電層及び前記第２の導電層は、１μｍから１０μｍの厚さを有する、請求項１に記載のタッチパネル。
14. 前記第１の導電層の厚さは、前記第１の溝の深さよりも小さいか又はこれに等しく、前記第２の導電層の厚さは、前記第２の溝の深さよりも小さいか又はこれに等しく、前記第１の溝及び前記第２の溝の深さ対幅比は、１よりも大きいか又は１に等しい、請求項５に記載のタッチパネル。
15. 前記ガラスカバープレートと前記タッチ検知モジュールとの間に位置する遮蔽層をさらに含み、前記ガラスカバープレート上の前記遮蔽層の投影は、前記非表示領域と一致する、請求項５に記載のタッチパネル。
16. 前記遮蔽層は遮蔽インクで作られる、請求項１５に記載のタッチパネル。
17. 請求項１によるディスプレイ及びタッチパネルを含むタッチディスプレイデバイスであって、前記ディスプレイ上の、前記ガラスカバープレートの前記表示領域の投影は、前記ディスプレイに含まれる、ことを特徴とするタッチディスプレイデバイス。