JP3170521B2 - 基板ベーク装置 - Google Patents

基板ベーク装置

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JP3170521B2
JP3170521B2 JP15808092A JP15808092A JP3170521B2 JP 3170521 B2 JP3170521 B2 JP 3170521B2 JP 15808092 A JP15808092 A JP 15808092A JP 15808092 A JP15808092 A JP 15808092A JP 3170521 B2 JP3170521 B2 JP 3170521B2
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plates
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祐司 野崎
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  • Container, Conveyance, Adherence, Positioning, Of Wafer (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明はIC製造における基板の
ベーク装置に関するものである。
【0002】
【従来の技術】図3は従来の基板ベーク装置を示す概略
平面図である。この基板ベーク装置は、ローダ1から搬
出された基板(図示せず)が、第1ホットプレート2、
第2ホットプレート3、第3ホットプレート4、第1ク
ールプレート5、第2クールプレート6の順に、予め設
定した時間だけ滞在し、アンローダ7に収納される。
【0003】なお、8a〜8dは断熱材である。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上記構
成の装置では、(A)装置の長さが長くなり、場所をと
ること、(B)第3ホットプレートと第1クールプレー
トの温度差のため、たとえ、断熱材を基板間に入れて
も、各プレート表面の温度差により、基板が均一にベー
クまたは冷却することができないこと、などという問題
点があった。
【0005】本発明は、以上述べた、装置が場所をとる
こと、基板が均一にベークまたは冷却されないという問
題点を除去するため、各ホットプレートおよび各クール
プレートを立体的に配置した優れた装置を提供すること
を目的とする。
【0006】
【課題を解決するための手段】本発明に係る基板ベーク
装置は、上下方向に所定間隔で配置された複数のクール
プレートと、複数のクールプレートより上方に、かつ、
上下方向に所定間隔で配置された複数のホットプレート
とを備えたものである。
【0007】
【作用】本発明は、装置の場所をとらず、しかも基板を
均一にベークまたは冷却することができる。
【0008】
【実施例】図1は本発明に係る基板ベーク装置の一実施
例を示す平面図であり、図2は図1の側面図である。
【0009】図において、9はアーム10を備え、左右
方向および上下方向に移動可能なリフターロボット、1
1はローダ1に対向して設けた第1バッファ、12はア
ンローダ7に対向して設けた第2バッファ、13はその
詳細を図2に示すベーク部である。
【0010】なお、このベーク部13(図2参照)にお
いて、14,15,16および17は、それぞれ下面に
断熱材18が固定され、所定間隔で上下方向に配置され
た第1ホットプレート、第2ホットプレート、第3ホッ
トプレートおよび第1クールプレート、19はこの第1
クールプレート17の下方に所定の間隔をもって配置し
た第2クールプレートである。
【0011】この構成による基板ベーク装置について説
明すると、まず、ローダ1から搬出された基板(図示せ
ず)は、第1バッファ11へ搬送される。そして、位置
Lへ移動したリフターロボット9のアーム10が、基板
(図示せず)をクランプする。そして、このリフターロ
ボット9は、そのアーム10が基板(図示せず)をクラ
ンプした状態で、位置Cへ移動したのち、第1ホットプ
レート14(図2参照)の位置まで上昇する。そして、
このアーム10が伸びて、クランプを解除すると、基板
(図示せず)はこの第1ホットプレート14上に載る。
【0012】そして、指定時間が経過したのち、再びア
ーム10が基板(図示せず)をクランプし、後退し、第
2ホットプレート15の位置まで下降し、アーム10が
前進し、クランプを解除すると、基板(図示せず)は第
2ホットプレート15上に載る。
【0013】そして、上述の動作を繰り返し、基板(図
示せず)が第2クールプレート19に載り、指定時間が
経過すると、アーム10が基板(図示せず)をクランプ
し、リフターロボット9は位置Rへ移動する。そして、
基板(図示せず)は、アーム10により第2バッファ1
2へ搬送されたのち、アンローダ12に収納される。
【0014】なお、以上の実施例は、ホットプレートを
3個、クールプレートを2個配置した場合について説明
したが、これに限定せず、必要により所定数だけ配置す
ればよいことはもちろんである。
【0015】
【発明の効果】以上詳細に説明したように、本発明に係
る基板ベーク装置によれば、所定数のホットプレートお
よびクールプレートを上下方向に、所定間隔をもって配
置したので、装置の設置スペースを狭くすることがで
き、しかも、各プレート間に断熱材があるため、基板を
均一にベークまたは冷却することができる効果がある。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明に係る基板ベーク装置の一実施例を示す
平面図である。
【図2】図1の側面図である。
【図3】従来の基板ベーク装置を示す平面図である。
【符号の説明】
9 リフターロボット 10 アーム 11 第1バッファ 12 第2バッファ 13 ベーク部 14 第1ホットプレート 15 第2ホットプレート 16 第3ホットプレート 17 第1クールプレート 18 断熱材 19 第2クールプレート

Claims (2)

    (57)【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 上下方向に所定間隔で配置された複数の
    クールプレートと、 前記複数のクールプレートより上方に、かつ、上下方向
    に所定間隔で配置された複数のホットプレートとを備え
    ことを特徴とする基板ベーク装置。
  2. 【請求項2】 前記各プレート間に断熱材を備えたこと
    を特徴とする請求項1記載の基板ベーク装置。
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JP3910791B2 (ja) * 2000-09-19 2007-04-25 東京エレクトロン株式会社 基板の熱処理方法及び基板の熱処理装置

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