JP3163169B2 - 安定化高分子材料組成物 - Google Patents
安定化高分子材料組成物Info
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Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は成形品製造用高分子材料
組成物に関し、詳しくは、特定のフェノール化合物を添
加してなる安定化された高分子材料組成物に関する。
組成物に関し、詳しくは、特定のフェノール化合物を添
加してなる安定化された高分子材料組成物に関する。
【０００２】
【従来の技術及びその問題点】ポリエチレン、ポリプロ
ピレン、ＡＢＳ、ポリ塩化ビニル等の高分子材料は一般
に光の効果に対して敏感であり、その作用により劣化
し、変色或いは機械的強度の低下等を引き起こし、長期
の使用に耐えないことが知られている。
ピレン、ＡＢＳ、ポリ塩化ビニル等の高分子材料は一般
に光の効果に対して敏感であり、その作用により劣化
し、変色或いは機械的強度の低下等を引き起こし、長期
の使用に耐えないことが知られている。
【０００３】かかる高分子材料の劣化を防ぐ目的で多く
の添加剤が単独あるいは種々組み合わされて用いられて
きた。これらの添加剤の中でもフェノール系抗酸化剤は
その安定化効果が大きく、広く用いられてきた。しかし
ながらこれらの従来の抗酸化剤は樹脂との低相溶性等に
より、比較的短時間でその効果が失われることが多く、
特に屋外あるいは湿潤雰囲気下ではその効果が急速に失
われることが多い。また、合成樹脂を高温で加工する際
にも、その効果が失われてしまい、実用上満足のいくも
のではなかった。
の添加剤が単独あるいは種々組み合わされて用いられて
きた。これらの添加剤の中でもフェノール系抗酸化剤は
その安定化効果が大きく、広く用いられてきた。しかし
ながらこれらの従来の抗酸化剤は樹脂との低相溶性等に
より、比較的短時間でその効果が失われることが多く、
特に屋外あるいは湿潤雰囲気下ではその効果が急速に失
われることが多い。また、合成樹脂を高温で加工する際
にも、その効果が失われてしまい、実用上満足のいくも
のではなかった。
【０００４】
【問題点を解決するための手段】本発明者等はかかる現
状に鑑み鋭意検討を重ねた結果、高分子材料に、特定の
フェノール化合物を添加することによって前記問題点が
解決され、高分子材料の耐熱性、耐候性、加工性が著し
く改善されることを見出し本発明を完成した。
状に鑑み鋭意検討を重ねた結果、高分子材料に、特定の
フェノール化合物を添加することによって前記問題点が
解決され、高分子材料の耐熱性、耐候性、加工性が著し
く改善されることを見出し本発明を完成した。
【０００５】すなわち、本発明は、高分子材料１００重
量部に対し、次の一般式（Ｉ）で表されるフェノール化
合物０．００５〜５重量部を添加してなる、安定化され
た成形品製造用高分子材料組成物を提供するものであ
る。
量部に対し、次の一般式（Ｉ）で表されるフェノール化
合物０．００５〜５重量部を添加してなる、安定化され
た成形品製造用高分子材料組成物を提供するものであ
る。
【０００６】
【化２】
【０００７】上記一般式において、Ｒで表されるアルキ
ル基としてはメチル、イソプロピル、第三ブチル、第三
オクチル等の基があげられ、好ましくは第三ブチルであ
り、Ｘで表される残基を提供するアルコールとしては、
メタノール、エタノール、プロパノール、イソプロパノ
ール、ブタノール、イソブタノール、ペンタノール、ヘ
キサノール、ヘプタノール、オクタノール、２−エチル
ヘキサノール、ノナノール、デカノール、ウンデカノー
ル、ドデカノール、トリデカノール、テトラデカノー
ル、ペンタデカノール、ヘキサデカノール、ヘプタデカ
ノール、オクタデカノール、ノナデカノール、イコサノ
ール、ヘンイコサノール、ドコサノール、トリアコンタ
ノールなどの一価アルコール、エチレングリコール、プ
ロピレングリコール、ブチレングリコール、ペンチレン
グリコール、ヘキシレングリコール、ヘプチレングリコ
ール、オクチレングリコール、ジエチレングリコール、
トリエチレングリコール、テトラエチレングリコール、
ジプロピレングリコール、トリプロピレングリコール、
チオジエチレングリコール、グリセリン、トリメチロー
ルエタン、トリメチロールプロパン、ジグリセリン、ペ
ンタエリスリトール、ジペンタエリスリトール、３，１
１−ビス（１，１−ジメチル−２−ヒドロキシエチル）
−２，４，８，１０−テトラオキサスピロ〔５．５〕ウ
ンデカン、２，２−ビス〔４−（２−ヒドロキシエトキ
シ）フェニル〕プロパン、ソルビトール、マンニトール
などの多価アルコールが例示される。
ル基としてはメチル、イソプロピル、第三ブチル、第三
オクチル等の基があげられ、好ましくは第三ブチルであ
り、Ｘで表される残基を提供するアルコールとしては、
メタノール、エタノール、プロパノール、イソプロパノ
ール、ブタノール、イソブタノール、ペンタノール、ヘ
キサノール、ヘプタノール、オクタノール、２−エチル
ヘキサノール、ノナノール、デカノール、ウンデカノー
ル、ドデカノール、トリデカノール、テトラデカノー
ル、ペンタデカノール、ヘキサデカノール、ヘプタデカ
ノール、オクタデカノール、ノナデカノール、イコサノ
ール、ヘンイコサノール、ドコサノール、トリアコンタ
ノールなどの一価アルコール、エチレングリコール、プ
ロピレングリコール、ブチレングリコール、ペンチレン
グリコール、ヘキシレングリコール、ヘプチレングリコ
ール、オクチレングリコール、ジエチレングリコール、
トリエチレングリコール、テトラエチレングリコール、
ジプロピレングリコール、トリプロピレングリコール、
チオジエチレングリコール、グリセリン、トリメチロー
ルエタン、トリメチロールプロパン、ジグリセリン、ペ
ンタエリスリトール、ジペンタエリスリトール、３，１
１−ビス（１，１−ジメチル−２−ヒドロキシエチル）
−２，４，８，１０−テトラオキサスピロ〔５．５〕ウ
ンデカン、２，２−ビス〔４−（２−ヒドロキシエトキ
シ）フェニル〕プロパン、ソルビトール、マンニトール
などの多価アルコールが例示される。
【０００８】従って、本発明で用いられる上記一般式
（Ｉ）で表される化合物としては、例えば、次に示すよ
うな化合物があげられる。
（Ｉ）で表される化合物としては、例えば、次に示すよ
うな化合物があげられる。
【０００９】
【化３】
【００１０】
【化４】
【００１１】
【化５】
【００１２】
【化６】
【００１３】
【化７】
【００１４】
【化８】
【００１５】
【化９】
【００１６】
【化１０】
【００１７】これらのフェノール化合物の添加量は、高
分子材料１００重量部に対して、０．００５〜５重量部
好ましくは０．０１〜３重量部である。
分子材料１００重量部に対して、０．００５〜５重量部
好ましくは０．０１〜３重量部である。
【００１８】上記化合物は、例えば、２−ヒドロキシ−
３−アルキルビフェニルとアクリル酸アルキルを反応さ
せ、その後必要に応じてＸで表される残基を与えるアル
コールとエステル交換反応させることによって容易に合
成することができる。これら化合物の具体的な合成例を
下記に示すが、合成法はこれによって限定されるもので
はない。
３−アルキルビフェニルとアクリル酸アルキルを反応さ
せ、その後必要に応じてＸで表される残基を与えるアル
コールとエステル交換反応させることによって容易に合
成することができる。これら化合物の具体的な合成例を
下記に示すが、合成法はこれによって限定されるもので
はない。
【００１９】〔合成例〕 （Ｎｏ．１化合物の合成）２−ヒドロキシ−３−第三ブ
チルビフェニル４５．２６ｇおよび水酸化カリウム１．
１２ｇを仕込み、窒素を通気しながら１００℃で１時間
攪拌しながら反応させた。その後９０℃で１５ｍｍＨｇ
の減圧下で２時間かけて脱水した後、アクリル酸メチル
２０．６６ｇを３時間かけて滴下し、その後１１０度で
１３時間反応させた。その後水洗、中和し、イソプロピ
ルアルコールで再結晶して融点９８℃の白色粉末を得
た。
チルビフェニル４５．２６ｇおよび水酸化カリウム１．
１２ｇを仕込み、窒素を通気しながら１００℃で１時間
攪拌しながら反応させた。その後９０℃で１５ｍｍＨｇ
の減圧下で２時間かけて脱水した後、アクリル酸メチル
２０．６６ｇを３時間かけて滴下し、その後１１０度で
１３時間反応させた。その後水洗、中和し、イソプロピ
ルアルコールで再結晶して融点９８℃の白色粉末を得
た。
【００２０】生成物のＩＲ測定の結果、３４６０ｃｍ-1
（ＯＨ伸縮）、１７２０ｃｍ-1（ＣＯ伸縮）に吸収が観
察され、プロトンＮＭＲ測定の結果、δ値１．４３ｐｐ
ｍ（９Ｈ，ｓ）、２．７３ｐｐｍ（４Ｈ，ｔ，ｔ）、
３．６２ｐｐｍ（３Ｈ，ｓ）、５．４０ｐｐｍ（１Ｈ，
ｓ）、６．８８ｐｐｍ（１Ｈ，ｄ）、７．１２ｐｐｍ
（１Ｈ，ｄ）、７．３８ｐｐｍ（５Ｈ，ｓ）であり目的
物であることを確認した。
（ＯＨ伸縮）、１７２０ｃｍ-1（ＣＯ伸縮）に吸収が観
察され、プロトンＮＭＲ測定の結果、δ値１．４３ｐｐ
ｍ（９Ｈ，ｓ）、２．７３ｐｐｍ（４Ｈ，ｔ，ｔ）、
３．６２ｐｐｍ（３Ｈ，ｓ）、５．４０ｐｐｍ（１Ｈ，
ｓ）、６．８８ｐｐｍ（１Ｈ，ｄ）、７．１２ｐｐｍ
（１Ｈ，ｄ）、７．３８ｐｐｍ（５Ｈ，ｓ）であり目的
物であることを確認した。
【００２１】（化合物Ｎｏ．２の合成）Ｎｏ．１化合物
９．３７ｇおよびステアリルアルコール８．５２ｇを仕
込み、１００℃で溶解させた後、ナトリウムメトキサイ
ド０．２ｇを仕込み、１４０℃まで昇温して、１５ｍｍ
Ｈｇまで減圧して１時間反応させた。その後水洗、中和
し、ヘキサンで再結晶して融点５６℃の白色粉末を得
た。
９．３７ｇおよびステアリルアルコール８．５２ｇを仕
込み、１００℃で溶解させた後、ナトリウムメトキサイ
ド０．２ｇを仕込み、１４０℃まで昇温して、１５ｍｍ
Ｈｇまで減圧して１時間反応させた。その後水洗、中和
し、ヘキサンで再結晶して融点５６℃の白色粉末を得
た。
【００２２】生成物のＩＲ測定の結果、３４５０ｃｍ-1
（ＯＨ伸縮）、３５００ｃｍ-1（ＯＨ伸縮）、１７２０
ｃｍ-1（ＣＯ伸縮）に吸収が観察され、プロトンＮＭＲ
測定の結果、δ値１．１０〜１．６０ｐｐｍ（３５Ｈ，
９Ｈ，ｍ）、２．７７ｐｐｍ（４Ｈ，ｔ，ｔ）、４．０
７ｐｐｍ（２Ｈ，ｔ）、５．３３ｐｐｍ（１Ｈ，ｓ）、
６．８８ｐｐｍ（１Ｈ，ｄ）、７．１０ｐｐｍ（１Ｈ，
ｄ）、７．４０ｐｐｍ（５Ｈ，ｓ）であり目的物である
ことを確認した。
（ＯＨ伸縮）、３５００ｃｍ-1（ＯＨ伸縮）、１７２０
ｃｍ-1（ＣＯ伸縮）に吸収が観察され、プロトンＮＭＲ
測定の結果、δ値１．１０〜１．６０ｐｐｍ（３５Ｈ，
９Ｈ，ｍ）、２．７７ｐｐｍ（４Ｈ，ｔ，ｔ）、４．０
７ｐｐｍ（２Ｈ，ｔ）、５．３３ｐｐｍ（１Ｈ，ｓ）、
６．８８ｐｐｍ（１Ｈ，ｄ）、７．１０ｐｐｍ（１Ｈ，
ｄ）、７．４０ｐｐｍ（５Ｈ，ｓ）であり目的物である
ことを確認した。
【００２３】（化合物Ｎｏ．８の合成）Ｎｏ．１化合物
９．３７ｇおよびペンタエリスリトール１．０９ｇを仕
込み、１００℃で溶解させた後、ナトリウムアミド０．
２ｇを仕込み、１４０℃まで昇温して、１５ｍｍＨｇま
で減圧して１時間反応させた。その後水洗、中和し、ヘ
キサンで再結晶して融点６２〜６５℃の白色粉末を得
た。
９．３７ｇおよびペンタエリスリトール１．０９ｇを仕
込み、１００℃で溶解させた後、ナトリウムアミド０．
２ｇを仕込み、１４０℃まで昇温して、１５ｍｍＨｇま
で減圧して１時間反応させた。その後水洗、中和し、ヘ
キサンで再結晶して融点６２〜６５℃の白色粉末を得
た。
【００２４】生成物のＩＲ測定の結果、３５３０ｃｍ-1
（ＯＨ伸縮）、１７３０ｃｍ-1（ＣＯ伸縮）に吸収が観
察され、プロトンＮＭＲ測定の結果、δ値１．３７ｐｐ
ｍ（３６Ｈ，ｓ）、２．７１ｐｐｍ（１６Ｈ，ｔ，
ｔ）、３．９７ｐｐｍ（８Ｈ，ｓ）、５．３３ｐｐｍ
（４Ｈ，ｓ）、６．８５ｐｐｍ（４Ｈ，ｄ）、７．０７
ｐｐｍ（４Ｈ，ｄ）、７．３８ｐｐｍ（２０Ｈ，ｓ）で
あり目的物であることを確認した。
（ＯＨ伸縮）、１７３０ｃｍ-1（ＣＯ伸縮）に吸収が観
察され、プロトンＮＭＲ測定の結果、δ値１．３７ｐｐ
ｍ（３６Ｈ，ｓ）、２．７１ｐｐｍ（１６Ｈ，ｔ，
ｔ）、３．９７ｐｐｍ（８Ｈ，ｓ）、５．３３ｐｐｍ
（４Ｈ，ｓ）、６．８５ｐｐｍ（４Ｈ，ｄ）、７．０７
ｐｐｍ（４Ｈ，ｄ）、７．３８ｐｐｍ（２０Ｈ，ｓ）で
あり目的物であることを確認した。
【００２５】本発明における安定性改善の対象となる高
分子材料としては、例えば、高密度、低密度または直鎖
状低密度ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリブテン−
１、ポリ−３−メチルペンテン、エチレン−プロピレン
共重合体等のα−オレフィンの単重合体または共重合
体、これらのα−オレフィンと共役ジエンまたは非共役
ジエン等の多不飽和化合物、アクリル酸、メタクリル
酸、酢酸ビニル等との共重合体、ポリ塩化ビニル、ポリ
塩化ビニリデン、塩素化ポリエチレン、塩素化ポリプロ
ピレン、ポリフッ化ビニリデン、塩化ゴム、塩化ビニル
−酢酸ビニル共重合体、塩化ビニル−エチレン共重合
体、塩化ビニル−塩化ビニリデン共重合体、塩化ビニル
−塩化ビニリデン−酢酸ビニル三元共重合体、塩化ビニ
ル−アクリル酸エステル共重合体、塩化ビニル−マレイ
ン酸エステル共重合体、塩化ビニル−シクロヘキシルマ
レイミド共重合体、塩化ビニル−シクロヘキシルマレイ
ミド共重合体等の含ハロゲン樹脂、石油樹脂、クマロン
樹脂、ポリスチレン、ポリ酢酸ビニル、アクリル樹脂、
スチレン及び／又はα−メチルスチレンと他の単量体
（例えば、無水マレイン酸、フェニルマレイミド、メタ
クリル酸メチル、ブタジエン、アクリロニトリル等）と
の共重合体（例えば、ＡＳ樹脂、ＡＢＳ樹脂、耐熱ＡＢ
Ｓ樹脂等）、ポリメチルメタクリレート、ポリビニルア
ルコール、ポリビニルホルマール、ポリビニルブチラー
ル、ポリエチレンテレフタレート及びポリテトラメチレ
ンテレフタレート等の直鎖ポリエステル、ポリフェニレ
ンオキサイド、ポリカプロラクタム及びポリヘキサメチ
レンアジパミド等のポリアミド、ポリカーボネート、ポ
リアセタール、ポリフェニレンサルファイド、ポリウレ
タン、繊維素系樹脂等の熱可塑性合成樹脂、フェノール
樹脂、ユリア樹脂、メラミン樹脂、エポキシ樹脂、不飽
和ポリエステル樹脂等の熱硬化性樹脂、更に、イソプレ
ンゴム、ブタジエンゴム、アクリロニトリル−ブタジエ
ン共重合ゴム、スチレン−ブタジエン共重合ゴム、エチ
レンとプロピレン、ブテン−１等のα−オレフィンとの
共重合体ゴム、更にエチレン−α−オレフィンおよびエ
チリデンノルボルネン、シクロペンタジエン等の非共役
ジエン類との三元共重合体ゴム等のエラストマーであっ
ても良く、これら樹脂および／またはエラストマーをブ
レンドしたものであっても良い。
分子材料としては、例えば、高密度、低密度または直鎖
状低密度ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリブテン−
１、ポリ−３−メチルペンテン、エチレン−プロピレン
共重合体等のα−オレフィンの単重合体または共重合
体、これらのα−オレフィンと共役ジエンまたは非共役
ジエン等の多不飽和化合物、アクリル酸、メタクリル
酸、酢酸ビニル等との共重合体、ポリ塩化ビニル、ポリ
塩化ビニリデン、塩素化ポリエチレン、塩素化ポリプロ
ピレン、ポリフッ化ビニリデン、塩化ゴム、塩化ビニル
−酢酸ビニル共重合体、塩化ビニル−エチレン共重合
体、塩化ビニル−塩化ビニリデン共重合体、塩化ビニル
−塩化ビニリデン−酢酸ビニル三元共重合体、塩化ビニ
ル−アクリル酸エステル共重合体、塩化ビニル−マレイ
ン酸エステル共重合体、塩化ビニル−シクロヘキシルマ
レイミド共重合体、塩化ビニル−シクロヘキシルマレイ
ミド共重合体等の含ハロゲン樹脂、石油樹脂、クマロン
樹脂、ポリスチレン、ポリ酢酸ビニル、アクリル樹脂、
スチレン及び／又はα−メチルスチレンと他の単量体
（例えば、無水マレイン酸、フェニルマレイミド、メタ
クリル酸メチル、ブタジエン、アクリロニトリル等）と
の共重合体（例えば、ＡＳ樹脂、ＡＢＳ樹脂、耐熱ＡＢ
Ｓ樹脂等）、ポリメチルメタクリレート、ポリビニルア
ルコール、ポリビニルホルマール、ポリビニルブチラー
ル、ポリエチレンテレフタレート及びポリテトラメチレ
ンテレフタレート等の直鎖ポリエステル、ポリフェニレ
ンオキサイド、ポリカプロラクタム及びポリヘキサメチ
レンアジパミド等のポリアミド、ポリカーボネート、ポ
リアセタール、ポリフェニレンサルファイド、ポリウレ
タン、繊維素系樹脂等の熱可塑性合成樹脂、フェノール
樹脂、ユリア樹脂、メラミン樹脂、エポキシ樹脂、不飽
和ポリエステル樹脂等の熱硬化性樹脂、更に、イソプレ
ンゴム、ブタジエンゴム、アクリロニトリル−ブタジエ
ン共重合ゴム、スチレン−ブタジエン共重合ゴム、エチ
レンとプロピレン、ブテン−１等のα−オレフィンとの
共重合体ゴム、更にエチレン−α−オレフィンおよびエ
チリデンノルボルネン、シクロペンタジエン等の非共役
ジエン類との三元共重合体ゴム等のエラストマーであっ
ても良く、これら樹脂および／またはエラストマーをブ
レンドしたものであっても良い。
【００２６】本発明の組成物には、前記化合物と共に、
他の汎用の抗酸化剤、紫外線吸収剤、安定剤等の添加剤
を併用することができる。
他の汎用の抗酸化剤、紫外線吸収剤、安定剤等の添加剤
を併用することができる。
【００２７】これらの添加剤として特に好ましいものと
しては、フェノール系、硫黄系、ホスファイト系等の抗
酸化剤および紫外線吸収剤、ヒンダードアミン系光安定
剤などがあげられる。
しては、フェノール系、硫黄系、ホスファイト系等の抗
酸化剤および紫外線吸収剤、ヒンダードアミン系光安定
剤などがあげられる。
【００２８】上記フェノール系抗酸化剤としては、例え
ば、２，６−ジ第三ブチル−ｐ−クレゾール、２，６−
ジフェニル−４−オクタデシロキシフェノール、ステア
リル（３，５−ジ第三ブチル−４−ヒドロキシフェニ
ル）−プロピオネート、ジステアリル（３，５−ジ第三
ブチル−４−ヒドロキシベンジル）ホスホネート、チオ
ジエチレングリコールビス〔（３，５−ジ第三ブチル−
４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート〕、１，６−
ヘキサメチレンビス〔（３，５−ジ第三ブチル−４−ヒ
ドロキシフェニル）プロピオネート〕、１，６−ヘキサ
メチレンビス〔（３，５−ジ第三ブチル−４−ヒドロキ
シフェニル）プロピオン酸アミド〕、４，４’−チオビ
ス（６−第三ブチル−ｍ−クレゾール）、２，２’−メ
チレンビス（４−メチル−６−第三ブチルフェノー
ル）、２，２’−メチレンビス（４−エチル−６−第三
ブチルフェノール）、ビス〔３，３−ビス（４−ヒドロ
キシ−３−第三ブチルフェニル）ブチリックアシッド〕
グリコールエステル、４，４’−ブチリデンビス（６−
第三ブチル−ｍ−クレゾール）、２，２’−エチリデン
ビス（４，６−ジ第三ブチルフェノール）、２，２’−
エチリデンビス（４−第二ブチル−６−第三ブチルフェ
ノール）、１，１，３−トリス（２−メチル−４−ヒド
ロキシ−５−第三ブチルフェニル）ブタン、ビス〔２−
第三ブチル−４−メチル−６−（２−ヒドロキシ−３−
第三ブチル−５−メチルベンジル）フェニル〕テレフタ
レート、１，３，５−トリス（２，６−ジメチル−３−
ヒドロキシ−４−第三ブチルベンジル）イソシアヌレー
ト、１，３，５−トリス（３，５−ジ第三ブチル−４−
ヒドルキシベンジル）イソシアヌレート、１，３，５−
トリス（３，５−ジ第三ブチル−４−ヒドロキシベンジ
ル）−２，４，６−トリメチルベンゼン、１，３，５−
トリス〔（３，５−ジ第三ブチル−４−ヒドロキシフェ
ニル）プロピオニルオキシエチル〕イソシアヌレート、
テトラキス〔メチレン−３−（３，５−ジ第三ブチル−
４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート〕メタン、２
−第三ブチル−４−メチル−６−（２−アクリロイルオ
キシ−３−第三ブチル−５−メチルベンジル）フェノー
ル、３，９−ビス〔１，１−ジメチル−２−｛（３−第
三ブチル−４−ヒドロキシ−５−メチルフェニル）プロ
ピオニルオキシ｝エチル〕−２，４，８，１０−テトラ
オキサスピロ〔５.５〕ウンデカン、トリエチレングリ
コールビス〔（３−第三ブチル−４−ヒドロキシ−５−
メチルフェニル）プロピオネート〕等があげられる。
ば、２，６−ジ第三ブチル−ｐ−クレゾール、２，６−
ジフェニル−４−オクタデシロキシフェノール、ステア
リル（３，５−ジ第三ブチル−４−ヒドロキシフェニ
ル）−プロピオネート、ジステアリル（３，５−ジ第三
ブチル−４−ヒドロキシベンジル）ホスホネート、チオ
ジエチレングリコールビス〔（３，５−ジ第三ブチル−
４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート〕、１，６−
ヘキサメチレンビス〔（３，５−ジ第三ブチル−４−ヒ
ドロキシフェニル）プロピオネート〕、１，６−ヘキサ
メチレンビス〔（３，５−ジ第三ブチル−４−ヒドロキ
シフェニル）プロピオン酸アミド〕、４，４’−チオビ
ス（６−第三ブチル−ｍ−クレゾール）、２，２’−メ
チレンビス（４−メチル−６−第三ブチルフェノー
ル）、２，２’−メチレンビス（４−エチル−６−第三
ブチルフェノール）、ビス〔３，３−ビス（４−ヒドロ
キシ−３−第三ブチルフェニル）ブチリックアシッド〕
グリコールエステル、４，４’−ブチリデンビス（６−
第三ブチル−ｍ−クレゾール）、２，２’−エチリデン
ビス（４，６−ジ第三ブチルフェノール）、２，２’−
エチリデンビス（４−第二ブチル−６−第三ブチルフェ
ノール）、１，１，３−トリス（２−メチル−４−ヒド
ロキシ−５−第三ブチルフェニル）ブタン、ビス〔２−
第三ブチル−４−メチル−６−（２−ヒドロキシ−３−
第三ブチル−５−メチルベンジル）フェニル〕テレフタ
レート、１，３，５−トリス（２，６−ジメチル−３−
ヒドロキシ−４−第三ブチルベンジル）イソシアヌレー
ト、１，３，５−トリス（３，５−ジ第三ブチル−４−
ヒドルキシベンジル）イソシアヌレート、１，３，５−
トリス（３，５−ジ第三ブチル−４−ヒドロキシベンジ
ル）−２，４，６−トリメチルベンゼン、１，３，５−
トリス〔（３，５−ジ第三ブチル−４−ヒドロキシフェ
ニル）プロピオニルオキシエチル〕イソシアヌレート、
テトラキス〔メチレン−３−（３，５−ジ第三ブチル−
４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート〕メタン、２
−第三ブチル−４−メチル−６−（２−アクリロイルオ
キシ−３−第三ブチル−５−メチルベンジル）フェノー
ル、３，９−ビス〔１，１−ジメチル−２−｛（３−第
三ブチル−４−ヒドロキシ−５−メチルフェニル）プロ
ピオニルオキシ｝エチル〕−２，４，８，１０−テトラ
オキサスピロ〔５.５〕ウンデカン、トリエチレングリ
コールビス〔（３−第三ブチル−４−ヒドロキシ−５−
メチルフェニル）プロピオネート〕等があげられる。
【００２９】また、上記硫黄系抗酸化剤としては例え
ば、チオジプロピオン酸ジラウリル、ジミリスチル、ジ
ステアリル等のジアルキルチオジプロピオネート類及び
ペンタエリスリトールテトラ（β−ドデシルメルカプト
プロピオネート）等のポリオールのβ−アルキルメルカ
プトプロピオン酸エステル類があげられる。
ば、チオジプロピオン酸ジラウリル、ジミリスチル、ジ
ステアリル等のジアルキルチオジプロピオネート類及び
ペンタエリスリトールテトラ（β−ドデシルメルカプト
プロピオネート）等のポリオールのβ−アルキルメルカ
プトプロピオン酸エステル類があげられる。
【００３０】また、上記ホスファイト系抗酸化剤として
は、例えば、トリスノニルフェニルホスファイト、トリ
ス（２，４−ジ第三ブチルフェニル）ホスファイト、ト
リス〔２−第三ブチル−４−（３−第三ブチル−４−ヒ
ドロキシ−５−メチルフェニルチオ）−５−メチルフェ
ニル〕ホスファイト、トリデシルホスファイト、オクチ
ルジフェニルホスファイト、ジ（デシル）モノフェニル
ホスファイト、ジ（トリデシル）ペンタエリスリトール
ジホスファイト、ジステアリルペンタエリスリトールジ
ホスファイト、ジ（ノニルフェニル）ペンタエリスリト
ールジホスファイト、ビス（２，４−ジ第三ブチルフェ
ニル）ペンタエリスリトールジホスファイト、ビス
（２，６−ジ第三ブチル−４−メチルフェニル）ペンタ
エリスリトールジホスファイト、テトラ（トリデシル）
イソプロピリデンジフェノールジホスファイト、テトラ
（トリデシル）−４，４’−ｎ−ブチリデンビス（２−
第三ブチル−５−メチルフェノール）ジホスファイト、
ヘキサ（トリデシル）−１，１，３−トリス（２−メチ
ル−４−ヒドロキシ−５−第三ブチルフェニル）ブタン
トリホスファイト、テトラキス（２，４−ジ第三ブチル
フェニル）ビフェニレンジホスホナイト、２，２’−メ
チレンビス（４，６−ジ第三ブチルフェニル）（オクチ
ル）ホスファイト等があげられる。
は、例えば、トリスノニルフェニルホスファイト、トリ
ス（２，４−ジ第三ブチルフェニル）ホスファイト、ト
リス〔２−第三ブチル−４−（３−第三ブチル−４−ヒ
ドロキシ−５−メチルフェニルチオ）−５−メチルフェ
ニル〕ホスファイト、トリデシルホスファイト、オクチ
ルジフェニルホスファイト、ジ（デシル）モノフェニル
ホスファイト、ジ（トリデシル）ペンタエリスリトール
ジホスファイト、ジステアリルペンタエリスリトールジ
ホスファイト、ジ（ノニルフェニル）ペンタエリスリト
ールジホスファイト、ビス（２，４−ジ第三ブチルフェ
ニル）ペンタエリスリトールジホスファイト、ビス
（２，６−ジ第三ブチル−４−メチルフェニル）ペンタ
エリスリトールジホスファイト、テトラ（トリデシル）
イソプロピリデンジフェノールジホスファイト、テトラ
（トリデシル）−４，４’−ｎ−ブチリデンビス（２−
第三ブチル−５−メチルフェノール）ジホスファイト、
ヘキサ（トリデシル）−１，１，３−トリス（２−メチ
ル−４−ヒドロキシ−５−第三ブチルフェニル）ブタン
トリホスファイト、テトラキス（２，４−ジ第三ブチル
フェニル）ビフェニレンジホスホナイト、２，２’−メ
チレンビス（４，６−ジ第三ブチルフェニル）（オクチ
ル）ホスファイト等があげられる。
【００３１】上記紫外線吸収剤としては例えば、２，４
−ジヒドロキシベンゾフェノン、２−ヒドロキシ−４−
メトキシベンゾフェノン、２−ヒドロキシ−４−オクト
キシベンゾフェノン、５，５’−メチレンビス（２−ヒ
ドロキシ−４−メトキシベンゾフェノン）等の２−ヒド
ロキシベンゾフェノン類；２−（２’−ヒドロキシ−
５’−メチルフェニル）ベンゾトリアゾール、２−
（２’−ヒドロキシ−３’，５’−ジ第三ブチルフェニ
ル）ベンゾトリアゾール、２−（２’−ヒドロキシ−
３’，５’−ジ第三ブチルフェニル）−５−クロロベン
ゾトリアゾール、２−（２’−ヒドロキシ−３’−第三
ブチル−５’−メチルフェニル）−５−クロロベンゾト
リアゾール、２−（２’−ヒドロキシ−５’−第三オク
チルフェニル）ベンゾトリアゾール、２−（２’−ヒド
ロキシ−３’．５’−ジクミルフェニル）ベンゾトリア
ゾール、２，２’−メチレンビス（４−第三オクチル−
６−ベンゾトリアゾリル）フェノール等の２−（２’−
ヒドロキシフェニル）ベンゾトリアゾール類；フェニル
サリシレート、レゾルシノールモノベンゾエート、２，
４−ジ第三ブチルフェニル−３’，５’−ジ第三ブチル
−４’−ヒドロキシベンゾエート、ヘキサデシル−３，
５−ジ第三ブチル−４−ヒドロキシベンゾエート等のベ
ンゾエート類；２−エチル−２’−エトキシオキザニリ
ド、２−エトキシ−４’−ドデシルオキザニリド等の置
換オキザニリド類；エチル−α−シアノ−β，β−ジフ
ェニルアクリレート、メチル−２−シアノ−３−メチル
−３−（ｐ−メトキシフェニル）アクリレート等のシア
ノアクリレート類があげられる。
−ジヒドロキシベンゾフェノン、２−ヒドロキシ−４−
メトキシベンゾフェノン、２−ヒドロキシ−４−オクト
キシベンゾフェノン、５，５’−メチレンビス（２−ヒ
ドロキシ−４−メトキシベンゾフェノン）等の２−ヒド
ロキシベンゾフェノン類；２−（２’−ヒドロキシ−
５’−メチルフェニル）ベンゾトリアゾール、２−
（２’−ヒドロキシ−３’，５’−ジ第三ブチルフェニ
ル）ベンゾトリアゾール、２−（２’−ヒドロキシ−
３’，５’−ジ第三ブチルフェニル）−５−クロロベン
ゾトリアゾール、２−（２’−ヒドロキシ−３’−第三
ブチル−５’−メチルフェニル）−５−クロロベンゾト
リアゾール、２−（２’−ヒドロキシ−５’−第三オク
チルフェニル）ベンゾトリアゾール、２−（２’−ヒド
ロキシ−３’．５’−ジクミルフェニル）ベンゾトリア
ゾール、２，２’−メチレンビス（４−第三オクチル−
６−ベンゾトリアゾリル）フェノール等の２−（２’−
ヒドロキシフェニル）ベンゾトリアゾール類；フェニル
サリシレート、レゾルシノールモノベンゾエート、２，
４−ジ第三ブチルフェニル−３’，５’−ジ第三ブチル
−４’−ヒドロキシベンゾエート、ヘキサデシル−３，
５−ジ第三ブチル−４−ヒドロキシベンゾエート等のベ
ンゾエート類；２−エチル−２’−エトキシオキザニリ
ド、２−エトキシ−４’−ドデシルオキザニリド等の置
換オキザニリド類；エチル−α−シアノ−β，β−ジフ
ェニルアクリレート、メチル−２−シアノ−３−メチル
−３−（ｐ−メトキシフェニル）アクリレート等のシア
ノアクリレート類があげられる。
【００３２】また、上記ヒンダードアミン系光安定剤と
しては、例えば、２，２，６，６−テトラメチル−４−
ピペリジルステアレート、１，２，２，６，６−ペンタ
メチル−４−ピペリジルステアレート、２，２，６，６
−テトラメチル−４−ピペリジルベンゾエート、Ｎ−
（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）ド
デシルコハク酸イミド、１−〔（３，５−ジ第三ブチル
−４−ヒドロキシフェニル）プロピオニルオキシエチ
ル〕−２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル
−（３，５−ジ第三ブチル−４−ヒドロキシフェニル）
プロピオネート、ビス（２，２，６，６−テトラメチル
−４−ピペリジル）セバケート、ビス（１，２，２，
６，６−ペンタメチル−４−ピペリジル）セバケート、
ビス（１，２，２，６，６−ペンタメチル−４−ピペリ
ジル）−２−ブチル−２−（３，５−ジ第三ブチル−４
−ヒドロキシベンジル）マロネート、Ｎ，Ｎ’−ビス
（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）ヘ
キサメチレンジアミン、テトラ（２，２，６，６−テト
ラメチル−４−ピペリジル）ブタンテトラカルボキシレ
ート、テトラ（１，２，２，６，６−ペンタメチル−４
−ピペリジル）ブタンテトラカルボキシレート、ビス
（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）・
ジ（トリデシル）ブタンテトラカルボキシレート、ビス
（１，２，２，６，６−ペンタメチル−４−ピペリジ
ル）・ジ（トリデシル）ブタンテトラカルボキシレー
ト、３，９−ビス〔１，１−ジメチル−２−｛トリス
（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジルオキ
シカルボニルオキシ）ブチルカルボニルオキシ｝エチ
ル〕−２，４，８，１０−テトラオキサスピロ〔５．
５〕ウンデカン、３，９−ビス〔１，１−ジメチル−２
−｛トリス（１，２，２，６，６−ペンタメチル−４−
ピペリジルオキシカルボニルオキシ）ブチルカルボニル
オキシ｝エチル〕−２，４，８，１０−テトラオキサス
ピロ〔５．５〕ウンデカン、１，５，８，１２−テトラ
キス〔４，６−ビス｛Ｎ−（２，２，６，６−テトラメ
チル−４−ピペリジル）ブチルアミノ｝−１，３，５−
トリアジン−２−イル〕−１，５，８，１２−テトラア
ザドデカン、１−（２−ヒドロキシエチル）−２，２，
６，６−テトラメチル−４−ピペリジノール／コハク酸
ジメチル縮合物、２−第三オクチルアミノ−４，６−ジ
クロロ−ｓ−トリアジン／Ｎ，Ｎ’−ビス（２，２，
６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）ヘキサメチレ
ンジアミン縮合物、Ｎ，Ｎ’−ビス（２，２，６，６−
テトラメチル−４−ピペリジル）ヘキサメチレンジアミ
ン／ジブロモエタン縮合物等があげられる。
しては、例えば、２，２，６，６−テトラメチル−４−
ピペリジルステアレート、１，２，２，６，６−ペンタ
メチル−４−ピペリジルステアレート、２，２，６，６
−テトラメチル−４−ピペリジルベンゾエート、Ｎ−
（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）ド
デシルコハク酸イミド、１−〔（３，５−ジ第三ブチル
−４−ヒドロキシフェニル）プロピオニルオキシエチ
ル〕−２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル
−（３，５−ジ第三ブチル−４−ヒドロキシフェニル）
プロピオネート、ビス（２，２，６，６−テトラメチル
−４−ピペリジル）セバケート、ビス（１，２，２，
６，６−ペンタメチル−４−ピペリジル）セバケート、
ビス（１，２，２，６，６−ペンタメチル−４−ピペリ
ジル）−２−ブチル−２−（３，５−ジ第三ブチル−４
−ヒドロキシベンジル）マロネート、Ｎ，Ｎ’−ビス
（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）ヘ
キサメチレンジアミン、テトラ（２，２，６，６−テト
ラメチル−４−ピペリジル）ブタンテトラカルボキシレ
ート、テトラ（１，２，２，６，６−ペンタメチル−４
−ピペリジル）ブタンテトラカルボキシレート、ビス
（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）・
ジ（トリデシル）ブタンテトラカルボキシレート、ビス
（１，２，２，６，６−ペンタメチル−４−ピペリジ
ル）・ジ（トリデシル）ブタンテトラカルボキシレー
ト、３，９−ビス〔１，１−ジメチル−２−｛トリス
（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジルオキ
シカルボニルオキシ）ブチルカルボニルオキシ｝エチ
ル〕−２，４，８，１０−テトラオキサスピロ〔５．
５〕ウンデカン、３，９−ビス〔１，１−ジメチル−２
−｛トリス（１，２，２，６，６−ペンタメチル−４−
ピペリジルオキシカルボニルオキシ）ブチルカルボニル
オキシ｝エチル〕−２，４，８，１０−テトラオキサス
ピロ〔５．５〕ウンデカン、１，５，８，１２−テトラ
キス〔４，６−ビス｛Ｎ−（２，２，６，６−テトラメ
チル−４−ピペリジル）ブチルアミノ｝−１，３，５−
トリアジン−２−イル〕−１，５，８，１２−テトラア
ザドデカン、１−（２−ヒドロキシエチル）−２，２，
６，６−テトラメチル−４−ピペリジノール／コハク酸
ジメチル縮合物、２−第三オクチルアミノ−４，６−ジ
クロロ−ｓ−トリアジン／Ｎ，Ｎ’−ビス（２，２，
６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）ヘキサメチレ
ンジアミン縮合物、Ｎ，Ｎ’−ビス（２，２，６，６−
テトラメチル−４−ピペリジル）ヘキサメチレンジアミ
ン／ジブロモエタン縮合物等があげられる。
【００３３】その他必要に応じて、本発明の組成物には
重金属不活性化剤、造核剤、金属石けん、有機錫化合
物、可塑剤、エポキシ化合物、発泡剤、帯電防止剤、難
燃剤、滑剤、加工助剤等を包含させることができる。
重金属不活性化剤、造核剤、金属石けん、有機錫化合
物、可塑剤、エポキシ化合物、発泡剤、帯電防止剤、難
燃剤、滑剤、加工助剤等を包含させることができる。
【００３４】また、本発明の安定剤の添加された高分子
材料組成物は、農業用資材、自動車用塗料及び内外装材
等の長期間に渡って高度の耐候性が要求される用途、あ
るいは食品包装用途、医療用途などの放射線を照射され
る用途にも好適に用いることができ、例えば、フィル
ム、繊維、テープ、シート等の各種成形材料等に用いる
ことができる。
材料組成物は、農業用資材、自動車用塗料及び内外装材
等の長期間に渡って高度の耐候性が要求される用途、あ
るいは食品包装用途、医療用途などの放射線を照射され
る用途にも好適に用いることができ、例えば、フィル
ム、繊維、テープ、シート等の各種成形材料等に用いる
ことができる。
【００３５】
【実施例】次に本発明を実施例によって具体的に説明す
る。しかしながら、本発明はこれらの実施例によって制
限を受けるものではない。
る。しかしながら、本発明はこれらの実施例によって制
限を受けるものではない。
【００３６】（実施例１）下記配合物をミキサーで５分
間配合した後、押し出し機でコンパウンドを作成した
（シリンダー温度２３０℃及び２４０℃、ヘッドダイス
温度２５０℃、回転数２０ｒｐｍ）。
間配合した後、押し出し機でコンパウンドを作成した
（シリンダー温度２３０℃及び２４０℃、ヘッドダイス
温度２５０℃、回転数２０ｒｐｍ）。
【００３７】このコンパウドを用いて９０×４０×１ｍ
ｍの試験片を射出成形した（シリンダー温度２４０℃、
ノズル温度２５０℃、射出圧４７５ｋｇ／ｃｍ2 ）。得
られた試験片を用いて１６０℃のギヤーオーブン中で熱
安定性を測定した。
ｍの試験片を射出成形した（シリンダー温度２４０℃、
ノズル温度２５０℃、射出圧４７５ｋｇ／ｃｍ2 ）。得
られた試験片を用いて１６０℃のギヤーオーブン中で熱
安定性を測定した。
【００３８】また高温加工時の安定化効果をみるため
に、表ー１に示す配合物を混合した後、３００℃で押し
出し回数１，３，５回のコンパウンドを用いてそのメル
トインデックス（ｇ／１０ｍｉｎ）の変化を測定した。
その結果を表−２に示した。
に、表ー１に示す配合物を混合した後、３００℃で押し
出し回数１，３，５回のコンパウンドを用いてそのメル
トインデックス（ｇ／１０ｍｉｎ）の変化を測定した。
その結果を表−２に示した。
【００３９】
【表１】
【００４０】
【表２】
【００４１】（実施例２）表ー３に示す配合物を１５０
℃で５分間ミキシングロールで混練し、次いで１５０
℃、１８０ｋｇ／ｃｍ2 の条件で５分間圧縮成形を行な
い、厚さ１．０ｍｍのシートを作成した。このシートを
１０×２０ｍｍの試験片として、アルミ箔上、１５０℃
の温度でギヤーオーブン中での熱安定性試験を行なっ
た。その結果を表−４に示した。
℃で５分間ミキシングロールで混練し、次いで１５０
℃、１８０ｋｇ／ｃｍ2 の条件で５分間圧縮成形を行な
い、厚さ１．０ｍｍのシートを作成した。このシートを
１０×２０ｍｍの試験片として、アルミ箔上、１５０℃
の温度でギヤーオーブン中での熱安定性試験を行なっ
た。その結果を表−４に示した。
【００４２】
【表３】
【００４３】
【表４】
【００４４】（実施例３）表ー５に示す配合物を２００
℃で押し出し加工してペレットを作成し、このペレット
を用いて２３０℃でインジェクション加工して試験片を
作成した。この試験片を１３５℃ギヤーオーブン中で４
８時間加熱後の試験片について２０℃でのアイゾット衝
撃値を測定し、オリジナルと比較して残率を求めた。そ
の結果を表−６に示した。
℃で押し出し加工してペレットを作成し、このペレット
を用いて２３０℃でインジェクション加工して試験片を
作成した。この試験片を１３５℃ギヤーオーブン中で４
８時間加熱後の試験片について２０℃でのアイゾット衝
撃値を測定し、オリジナルと比較して残率を求めた。そ
の結果を表−６に示した。
【００４５】
【表５】
【００４６】
【表６】
【００４７】（実施例４）表ー７に示す配合物を混練ロ
ールで加工し、厚さ１ｍｍのシートを作成した。このシ
ートを用いて１９０℃のギヤーオーブン中で熱安定性試
験を行なった。またウエザロメーターによる耐候性の試
験を行なった。その結果を表−８に示した。
ールで加工し、厚さ１ｍｍのシートを作成した。このシ
ートを用いて１９０℃のギヤーオーブン中で熱安定性試
験を行なった。またウエザロメーターによる耐候性の試
験を行なった。その結果を表−８に示した。
【００４８】
【表７】
【００４９】
【表８】
【００５０】
【発明の効果】上記各実施例から明らかなごとく、本発
明の特定のフェノール化合物を高分子材料に添加するこ
とによって、熱安定性、耐候性、加工安定性に優れた成
形品製造用高分子材料組成物となる。
明の特定のフェノール化合物を高分子材料に添加するこ
とによって、熱安定性、耐候性、加工安定性に優れた成
形品製造用高分子材料組成物となる。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (56)参考文献 特開 平３−69392（ＪＰ，Ａ) 特開 昭58−55469（ＪＰ，Ａ) 特開 昭53−140346（ＪＰ，Ａ) 特開 平１−163230（ＪＰ，Ａ) (58)調査した分野(Int.Cl.7，ＤＢ名) C08L 1/00 - 101/16 C08K 3/00 - 13/08 ＣＡ（ＳＴＮ)
Claims (1)
- 【請求項１】 高分子材料１００重量部に対し、次の一
般式（Ｉ）で表されるフェノール化合物０．００５〜５
重量部を添加してなる、成形品製造用高分子材料組成
物。 【化１】 （式中、Ｒは炭素数１〜８のアルキル基を表し、Ｘは１
〜６個の水酸基を有するアルコールのｎ個の水酸基を除
いた残基を表し、ｎは１〜６の整数を表す。）
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP17614192A JP3163169B2 (ja) | 1992-06-09 | 1992-06-09 | 安定化高分子材料組成物 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP17614192A JP3163169B2 (ja) | 1992-06-09 | 1992-06-09 | 安定化高分子材料組成物 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH05339419A JPH05339419A (ja) | 1993-12-21 |
| JP3163169B2 true JP3163169B2 (ja) | 2001-05-08 |
Family
ID=16008380
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP17614192A Expired - Fee Related JP3163169B2 (ja) | 1992-06-09 | 1992-06-09 | 安定化高分子材料組成物 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3163169B2 (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US7789958B2 (en) | 2003-01-13 | 2010-09-07 | University Of Dayton | Non-toxic corrosion-protection pigments based on manganese |
-
1992
- 1992-06-09 JP JP17614192A patent/JP3163169B2/ja not_active Expired - Fee Related
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US7789958B2 (en) | 2003-01-13 | 2010-09-07 | University Of Dayton | Non-toxic corrosion-protection pigments based on manganese |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH05339419A (ja) | 1993-12-21 |
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