JP3161908B2 - 化粧品組成物及びその製造方法 - Google Patents
化粧品組成物及びその製造方法Info
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- JP3161908B2 JP3161908B2 JP15648494A JP15648494A JP3161908B2 JP 3161908 B2 JP3161908 B2 JP 3161908B2 JP 15648494 A JP15648494 A JP 15648494A JP 15648494 A JP15648494 A JP 15648494A JP 3161908 B2 JP3161908 B2 JP 3161908B2
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- Japan
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- formalin
- cosmetic
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Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明はホルマリンを不純物とし
て含有する化粧品素材からなる遊離のホルマリンが低減
された化粧品組成物及びその製造方法に関する。
て含有する化粧品素材からなる遊離のホルマリンが低減
された化粧品組成物及びその製造方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】従来からネイルエナメル用素材としてア
リルスルホンアミドホルムアルデヒド縮合物が用いられ
ており、最近では小じわ対策用化粧品素材としてグリコ
ール酸等の使用が検討されている。しかしながら、これ
らの化粧品素材はその製造法上少量の遊離のホルマリン
の含有は避けられない。ところで、欧米ではホルマリン
含有化粧品は一般的であるが、わが国では化粧品中のホ
ルマリン量は厳しく規制されている。化粧品素材中のホ
ルマリンを低減する方法が種々検討されているが、いず
れも費用が掛かり過ぎ、得られた製品は高価となり、
又、ホルマリン量を実質的にゼロとすることは困難であ
った。
リルスルホンアミドホルムアルデヒド縮合物が用いられ
ており、最近では小じわ対策用化粧品素材としてグリコ
ール酸等の使用が検討されている。しかしながら、これ
らの化粧品素材はその製造法上少量の遊離のホルマリン
の含有は避けられない。ところで、欧米ではホルマリン
含有化粧品は一般的であるが、わが国では化粧品中のホ
ルマリン量は厳しく規制されている。化粧品素材中のホ
ルマリンを低減する方法が種々検討されているが、いず
れも費用が掛かり過ぎ、得られた製品は高価となり、
又、ホルマリン量を実質的にゼロとすることは困難であ
った。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】従って、本発明の目的
はホルマリン含有量が低減された化粧品組成物及びその
製造方法を提供することにある。
はホルマリン含有量が低減された化粧品組成物及びその
製造方法を提供することにある。
【０００４】
【課題を解決するための手段】本発明によれば、化粧品
素材としてのホルマリンを不純物として含むグリコール
酸又はアリルスルホンアミドホルムアルデヒド縮合物と
キトサン類からなる化粧品組成物及び上記のホルマリン
含有化粧品素材とキトサン類を混合及び接触させること
を特徴とする化粧品製造方法が提供される。
素材としてのホルマリンを不純物として含むグリコール
酸又はアリルスルホンアミドホルムアルデヒド縮合物と
キトサン類からなる化粧品組成物及び上記のホルマリン
含有化粧品素材とキトサン類を混合及び接触させること
を特徴とする化粧品製造方法が提供される。
【０００５】
【好ましい実施態様】以下に好ましい実施態様を挙げて
本発明を更に詳しく説明する。本発明で使用するホルマ
リン含有化粧品素材は、前記のようにその製造法上少量
のホルマリンを不純物として含有することが避けられな
いグリコール酸又はアリルスルホンアミドホルムアルデ
ヒド縮合物である。このような不純物としてホルマリン
を含有する化粧品素材中の遊離のホルマリンは、該化粧
品素材とキトサン類を接触させることによって低減され
る。
本発明を更に詳しく説明する。本発明で使用するホルマ
リン含有化粧品素材は、前記のようにその製造法上少量
のホルマリンを不純物として含有することが避けられな
いグリコール酸又はアリルスルホンアミドホルムアルデ
ヒド縮合物である。このような不純物としてホルマリン
を含有する化粧品素材中の遊離のホルマリンは、該化粧
品素材とキトサン類を接触させることによって低減され
る。
【０００６】本発明で使用するキトサン類は、キチンを
部分的にあるいは完全に脱アセチル化したキトサン及び
その誘導体であり、従来公知のキトサン類が使用でき特
に限定されない。例えば、キトサン、カルボキシメチル
キトサン、ヒドロキシプロピルキトサン等のグリコール
キトサン誘導体、キトサン塩（イタコン酸キトソニウ
ム、サリチル酸キトソニウム、マレイン酸キトソニウム
等）等が挙げられる。
部分的にあるいは完全に脱アセチル化したキトサン及び
その誘導体であり、従来公知のキトサン類が使用でき特
に限定されない。例えば、キトサン、カルボキシメチル
キトサン、ヒドロキシプロピルキトサン等のグリコール
キトサン誘導体、キトサン塩（イタコン酸キトソニウ
ム、サリチル酸キトソニウム、マレイン酸キトソニウム
等）等が挙げられる。
【０００７】ホルマリン含有化粧品素材とキトサン類か
らなる化粧品は、水溶液、アルコール溶液等の溶液状、
クリーム状、各種エマルジョン状等のいずれの形態であ
ってもよく、特に限定されない。又、化粧品組成物中に
は、化粧品の種類に従って必要な他の成分を含有させる
ことができる。キトサン類の使用量は化粧品素材中のホ
ルマリン含有量によって相違はあるが、通常、ホルマリ
ン含有化粧品に対して０．１〜５０重量％である。
らなる化粧品は、水溶液、アルコール溶液等の溶液状、
クリーム状、各種エマルジョン状等のいずれの形態であ
ってもよく、特に限定されない。又、化粧品組成物中に
は、化粧品の種類に従って必要な他の成分を含有させる
ことができる。キトサン類の使用量は化粧品素材中のホ
ルマリン含有量によって相違はあるが、通常、ホルマリ
ン含有化粧品に対して０．１〜５０重量％である。
【０００８】本発明の化粧品組成物は、該素材とキトサ
ン類を化粧品の形態に従って用いられる水やアルコール
等、その他の媒体中に溶解させ、あるいは懸濁させた状
態で混合し両者を接触させることにより製造される。
ン類を化粧品の形態に従って用いられる水やアルコール
等、その他の媒体中に溶解させ、あるいは懸濁させた状
態で混合し両者を接触させることにより製造される。
【０００９】
【実施例】以下に実施例を挙げて本発明をさらに詳細に
説明する。特に断らない限り実施例中の％は重量基準で
ある。 実施例 試薬１級のグリコール酸７０％水溶液（ホルマリン含有
量４００ｐｐｍ）５００ｇを蒸留水にて１３倍に希釈し
た。これを２分割し、一方はそのままブランクとして保
存し、もう一方に低分子化キトサンを重量分率で５％と
なるように添加し一昼夜攪拌して溶解させた。両水溶液
を室温で１週間放置した後、アセチルアセトン比色法に
よりホルマリン含有量を定量したところ、ブランクでは
３０ｐｐｍ相当であったのに対し、キトサン添加水溶液
では２０ｐｐｍ以下であった。
説明する。特に断らない限り実施例中の％は重量基準で
ある。 実施例 試薬１級のグリコール酸７０％水溶液（ホルマリン含有
量４００ｐｐｍ）５００ｇを蒸留水にて１３倍に希釈し
た。これを２分割し、一方はそのままブランクとして保
存し、もう一方に低分子化キトサンを重量分率で５％と
なるように添加し一昼夜攪拌して溶解させた。両水溶液
を室温で１週間放置した後、アセチルアセトン比色法に
よりホルマリン含有量を定量したところ、ブランクでは
３０ｐｐｍ相当であったのに対し、キトサン添加水溶液
では２０ｐｐｍ以下であった。
【００１０】
【発明の効果】本発明方法を実施することによりホルマ
リン含有化粧品素材中の遊離のホルマリンを簡単かつ安
価に著しく低減させることができ、化粧品組成物中には
遊離ホルマリンは実質的に検出されない。
リン含有化粧品素材中の遊離のホルマリンを簡単かつ安
価に著しく低減させることができ、化粧品組成物中には
遊離ホルマリンは実質的に検出されない。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (58)調査した分野(Int.Cl.7，ＤＢ名) A61K 7/00 A61K 7/043 C08B 37/08
Claims (2)
- 【請求項１】 化粧品素材としてのホルマリンを不純物
として含むグリコール酸又はアリルスルホンアミドホル
ムアルデヒド縮合物とキトサン類からなる化粧品組成
物。 - 【請求項２】 請求項１に記載のホルマリン含有化粧品
素材とキトサン類を混合及び接触させることを特徴とす
る化粧品の製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP15648494A JP3161908B2 (ja) | 1994-06-16 | 1994-06-16 | 化粧品組成物及びその製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP15648494A JP3161908B2 (ja) | 1994-06-16 | 1994-06-16 | 化粧品組成物及びその製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH083020A JPH083020A (ja) | 1996-01-09 |
| JP3161908B2 true JP3161908B2 (ja) | 2001-04-25 |
Family
ID=15628774
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP15648494A Expired - Fee Related JP3161908B2 (ja) | 1994-06-16 | 1994-06-16 | 化粧品組成物及びその製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3161908B2 (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2002007683A1 (en) * | 2000-07-24 | 2002-01-31 | Polichem S.A. | Antimicotic nail varnish composition |
-
1994
- 1994-06-16 JP JP15648494A patent/JP3161908B2/ja not_active Expired - Fee Related
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2002007683A1 (en) * | 2000-07-24 | 2002-01-31 | Polichem S.A. | Antimicotic nail varnish composition |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH083020A (ja) | 1996-01-09 |
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Legal Events
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