JP3161411B2 - フォトマスクとその製造方法 - Google Patents
フォトマスクとその製造方法Info
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- G03F1/26—Phase shift masks [PSM]; PSM blanks; Preparation thereof
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Description
の製造方法に係わり、特に、デフォーカスによる光強度
の変動を低減して、精度良い微細パターンを得ることを
可能にしたフォトマスクとその製造方法に関する。
図3(a)、(b)に示したものが知られている。図3
(a)は孤立残しパターン11を用いることで、ポジ形
のフォトレジストを用いた場合、このフォトレジストに
所定のパターンを得るようにした第1の従来のフォトレ
ジストであり、図3(b)に示したものは、孤立残しパ
ターン11の両側に所定の間隔をおいて補助パターン1
2,12を設けるものである。
ーン11を用い、デフォーカスを0.2μmステップで
とった場合のレジスト上の光強度の変動をプロットした
場合のグラフであり、点線で示したような0.2μm幅
のパターンをレジスト上に形成しようとする場合、デフ
ォーカスに伴いパターンを形成する領域の光強度が大幅
に変化するから、デフォーカスに伴いパターンが細くな
ってしまう。
よるものでは、焦点深度は0.7μm程度までしか得ら
れず、図3(b)の補助パターン法においても、レイア
ウトを最適化したとしても焦点深度は1.0μmまでし
か得られない。又、図3(b)では、補助パターン12
を解像しないようにするため、補助パターン12の線幅
wを小さくしなければならず、このため、マスク製作が
むずかしくなるという欠点があった。
した従来技術の欠点を改良し、特に、デフォーカスによ
る光強度の変動を低減し、精度良い微細パターンを得る
ことを可能にすると共に、製造を容易にした新規なフォ
トマスクとその製造方法を提供するものである。
上に孤立残しパターンが形成され、この孤立残しパター
ンの両側に抜きパターンを挟んで半透明膜が配置され、
前記半透明膜は、位相が反転しないものであり、前記抜
きパターンの幅は前記孤立残しパターンの線幅と略同じ
でありかつ前記半透明膜の幅が前記孤立残しパターンの
幅より大きいことにより、デフォーカスによる光強度の
変動を低減せしめたことを特徴とするフォトマスクであ
る。また、このフォトマスクは前記半透明膜の透過率
は、10乃至60%であることを特徴とする。また本発
明は、フォトマスク上に孤立残しパターンを形成し、こ
の孤立残しパターンの両側に前記孤立残しパターンの線
幅と略同程度の幅の抜きパターンを挟んで、前記孤立残
しパターンの幅より大きい幅の位相を反転させない半透
明膜を配置することで、デフォーカスによる光強度の変
動を低減せしめたことを特徴とするフォトマスクの製造
方法である。また、前記半透明膜の透過率は、10乃至
60%であることを特徴とするフォトマスクの製造方法
である。
フォトマスク上に孤立残しパターンを形成し、この孤立
残しパターンの両側に前記孤立残しパターンの線幅と略
同程度の幅の抜きパターンを挟んで半透明膜を配置した
ものであり、このようにフォトマスクを構成すると、デ
フォーカスした場合でも、レジスト上に形成されるパタ
ーンの幅が細くなるようなことがない。
ないものであるから、製造も容易である。
製造方法の具体例を図面を参照しながら詳細に説明す
る。図1は、本発明に係わるフォトマスクの具体例を示
す図であって、これらの図には、フォトマスク上に孤立
残しパターン1を形成し、この孤立残しパターン1の両
側に前記孤立残しパターン1の線幅Xと略同程度の幅の
抜きパターン2を挟んで半透明膜3を配置したフォトマ
スクが示されている。
0乃至60%であることが望ましく、半透明膜3は、位
相が反転しないものであることが望ましい。なお、光強
度シミュレーション結果では、透過率を60%以上にす
ると、パターンが解像せず、又、10%以下では、本発
明の効果を得ることができなかった。
=0.75輪帯照明の露光装置を用いて、上記マスクに
おいて抜きパターン2の線幅=0.20μm、半透明膜
3の透過率=50%と設定した場合、0.20μm幅の
孤立残しパターン1の焦点深度は1.0μm程度まで向
上している。図1(b)は、上記したフォトマスクを用
い、デフォーカスを0.2μmステップでとった場合の
レジスト上の光強度の変動をプロットした場合のグラフ
である。
に囲まれた領域内での光強度が大幅に変動していたが、
本発明のフォトマスクを用いた場合は、図1(b)の点
線に囲まれた領域内での光強度の変動は小幅あり、デフ
ォーカスの影響が少なくなって、焦点深度が向上してい
る。本発明は、図2のように孤立残しパターン1の幅t
に対し、半透明膜3がt以上であれば本発明の目的を達
成することができる。
ン:スペースの比が1:3程度以上の疎なラインアンド
スペースパターン、又は疎なドット(島状)パターンに
ついても同様に本発明を適用できる。
法は、上述のように構成したので、デフォーカスした場
合でも、レジスト上に形成されるパターンの幅が細くな
るようなことがなく、焦点深度も向上する。しかも、製
造が困難な補助パターンを用いないものであるから、製
造も容易である。
り、(a)はパターンの平面図、(b)はデフォーカス
した場合の光強度をプロットしたグラフである。
Claims (4)
- 【請求項1】 フォトマスク上に孤立残しパターンが形
成され、この孤立残しパターンの両側に抜きパターンを
挟んで半透明膜が配置され、前記半透明膜は位相が反転
しないものであり、前記抜きパターンの幅は前記孤立残
しパターンの線幅と略同じでありかつ前記半透明膜の幅
が前記孤立残しパターンの幅より大きいことにより、デ
フォーカスによる光強度の変動を低減せしめたことを特
徴とするフォトマスク。 - 【請求項2】 前記半透明膜の透過率は、10乃至60
%であることを特徴とする請求項1記載のフォトマス
ク。 - 【請求項3】 フォトマスク上に孤立残しパターンを形
成し、この孤立残しパターンの両側に前記孤立残しパタ
ーンの線幅と略同程度の幅の抜きパターンを挟んで、前
記孤立残しパターンの幅より大きい幅の位相を反転させ
ない半透明膜を配置することで、デフォーカスによる光
強度の変動を低減せしめたことを特徴とするフォトマス
クの製造方法。 - 【請求項4】 前記半透明膜の透過率は、10乃至60
%であることを特徴とする請求項3記載のフォトマスク
の製造方法。
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