JP3160402B2 - 変位測定装置 - Google Patents
変位測定装置Info
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Description
的に非接触で測定する変位測定装置に関する。
面図、図12は、同平面図である。これらの図に示すよ
うに、センサヘッド30は、測定対象としての、例えば
IC31のリード31a上面に配置され、LD光を光源
とする投光部32の投光ビームがリード31aに直角に
投光される。このセンサヘッド30あるいはIC31は
図中X方向に移動することにより、各リード31aの変
位を順次測定できる。リード31aの散乱光は、センサ
ヘッド30内の受光部33にある位置検出素子(PS
D)に入射され、測定対象のリード31aの変位出力お
よび受光量からリード31aの浮き具合やリード31a
間のピッチ測定を行うことができる。
光レンズの光軸を含む面は、リード31aの延出方向に
沿って設けられている。すなわち、リード31aのエッ
ジを正確に検出すべく、投光ビームと受光レンズの光軸
を含む面は、リード31aと並行に設けねばならない。
るIC31は、このリード31aがIC31の4辺に設
けられたQFP (Quad Flat Package)の構成が多いた
め、このまま他の辺のリード31aの変位を測定する
と、リード31aに対し投光ビームと受光レンズの光軸
を含む面が90度直交することとなり、リード31aの
エッジ近傍で異常出力がでやすくなり、図4(b),
(c)に示すような異常出力がでて、正確な変位測定を
行うことができなくなった。
ド31aを測定した後、直交する他辺のリード31aを
測定するには、このリード31aに沿うよう、IC31
あるいはセンサヘッド30を90度回転させねばなら
ず、回転機構の精度が必要になりコスト高となるととも
に回転により測定タクトが長くなる問題点を生じた。
角に投光ビームを出射し、受光部33は散乱光を受光す
るものであるが、他に投光部32の投光ビームを測定対
象に対し斜めに照射し、測定対象の法線に対し照射方向
と対称になる角度に受光レンズを設置した正反射光を受
ける構成のものもあり、この構成の場合にも同様の問題
を生じている。また、上記測定対象は、IC31の4辺
にリード31aが設けられたものを例に説明したが、他
にプリント基板上の配線パターンが4方に延出してお
り、この配線パターンの変位を測定する際にも同様の問
題を生じた。
ード31aは、所定角度α傾斜した接合部分31bを有
しており、従来のセンサヘッド30でこの接合部分31
bの変位(リード31aの浮き)を測定すると、正反射
光を直接受光することとなり、受光レベルが高くなるた
め、処理系のダイナミックレンジを広くする必要が生ず
る問題があった。この接合部分31bは、同一高さとな
ることにより、IC31をプリント基板に搭載する際、
安定した接合を行えることになり、この接合部分31b
の高さを正確に測ることが必要になる。
のであり、異なる方向に延びる変位測定箇所を有する測
定対象の変位を正確に測定でき、かつ簡単な構成で低コ
ストな変位測定装置を提供することを目的としている。
また、ICのリードの接合部分が所定角度傾斜している
場合にも、浮きを正確に測定できる変位測定装置を提供
することを目的とする。
め、本発明の変位測定装置は、請求項1では、平行でな
い複数のエッジを有する測定対象(31a)に測定用の
投光ビームを照射する投光部(3)と、受光レンズと位
置検出素子とで構成され、前記投光ビームが照射される
前記測定対象上の点から点対称な位置に、前記エッジに
対して斜め方向にのみ配置され、前記測定対象からの散
乱光のみを受光する一又は複数対の受光部(4a,4
b),(4a〜4d)と、該位置検出素子の出力を演算
し、前記測定対象の変位量を出力する演算手段(7),
(17)とを具備することを特徴としている。また、上
記一又は複数対の受光部は、前記平行でない複数のエッ
ジのいずれに対しても同一の角度を有して点対称な位置
に配置してもよい。
ジを有する測定対象に測定用の投光ビームを照射する投
光部と、受光レンズと位置検出素子とで構成され、前記
エッジと平行な軸で形成される多軸2次元座標の各象限
空間にエッジ上を除き同じ数だけ配置され、前記測定対
象からの散乱光のみを受光する第1の受光部と、該位置
検出素子の出力を演算し、前記測定対象の変位量を出力
する演算手段とを具備し、前記エッジ上を除く前記各受
光部近傍に、更に前記象限空間と同数の第2の受光部を
配置することを特徴とする。
ド31aに対し投光ビームを照射し、この散乱光が受光
部4a,4bで受光され、リード31aの変位量を検出
し、演算手段7で演算処理される。測定対象31は、4
辺から90度の直交する方向に各々リード31aが延出
されており、このリード31aに対しエッジ上を除く点
対称の位置に受光部4a,4bが配置されているため、
これら全てのリード31aの延出方向に対し常に同様の
投受光の配置関係とすることができ、投光部3,受光部
4a,4bを回転させずとも、単純にX−Y方向に移動
させるのみで全てのリード31aの変位量を測定するこ
とができる。
示す平面図である。測定対象としてのIC31のエッ
ジ、すなわちリード31aは、従来同様4辺に延びたQ
FPタイプのものである。
がX方向あるいはこのX方向と直交するY方向に移動自
在である。センサヘッド1には、中央部に投光部3が設
けられ、この投光部3の投光ビームはリード31aに向
かっている。
の両側部には、各々リード31aの延出方向(X−Y方
向いずれの方向)に対し45度傾いた位置に夫々受光部
4a,4bが設けられる。この受光部4a,4bの受光
レンズの光軸と投光ビームは同一平面上に設けられてい
る。このセンサヘッド1は、図示しない移動機構によ
り、X方向あるいはY方向に移動自在に構成されてい
る。尚、センサヘッド1が固定され、移動機構はIC3
1をX−Y方向に移動する構成とすることもできる。
図である。投光部1のLDから出射される投光ビーム
は、リード31aに垂直に当たり、この散乱光が受光部
4a,4bの受光レンズ5a,5bを介して位置検出素
子(PSD)6a,6b上に焦点を結ぶ。位置検出素子
6a,6bは、投光ビームに対し点対称の位置に配置さ
れ、後段の演算手段7に接続されている。
像は、図中太矢印で示すように変位方向を基準にとると
他方の受光素子6b上の光スポットの像に対し反転して
いるため、表面状態が変化したときに生ずる2つの受光
素子6a,6b上の光スポットの像の重心変化は矢印の
ように互いに打ち消し合う方向に働くので精度の良い測
定ができる。また、リード31aのエッジに対し投受光
面を斜めに設置しているため、エッジ部で正反射光を受
光することはなく、処理回路のダイナミックレンジが狭
くできるという利点がある。
演算手段7の電気的構成を示すブロック図である。それ
ぞれの位置検出素子6a,6b両端からの出力は、各々
増幅器8a〜8dで増幅される。増幅器8a,8bの出
力は、減算器10aおよび加算器11aに並列入力され
減算出力,加算出力が得られる。同様に増幅器8c,8
dの出力も減算器10bと加算器11bにより減算出力
および加算出力される。
器14で合成処理され、加算器11a,11bの加算出
力も合成器16で合成処理される。合成器16の出力
は、測定対象の受光量情報とされる。これら合成器1
4,16の出力は、除算器18で除算処理され、測定対
象の位置情報出力が得られる。
bは、投光ビームに対し点対称の位置に配置され、且つ
リード31aのエッジに対し投受光面を傾けて設置して
いるため、互いの出力が表面状態による点スポットの重
心位置変化を打ち消すように働くとともに、隣合うリー
ド31aからの2次反射による影響を受けにくくしてい
る。また、処理系のダイナミックレンジを狭くすること
ができる。
リード31aについて、センサヘッド1が移動して一方
のエッジ31cから他方のエッジ31dにかけて変位を
測定すると、一方の受光部4aから得られる変位出力は
同図(b)に示すような特性となり、他方の受光部4b
から得られる変位出力は同図(c)に示すような特性と
なるが、2つの受光部4a,4bの出力を合成した変位
出力は、同図(d)に示す特性となり、リード31aの
変位に対応した正確な測定を行える。尚、この出力は、
除算器18の出力である。
が平面でX−Y方向いずれに対しても45度傾斜した構
成であるため、IC31の1辺のリード31aを順次X
方向に移動して変位量を測定した後、このIC31の他
辺(前記一辺と90度異なる方向)に延びるリード31
aについても、図1中1点鎖線で示す如く、このセンサ
ヘッド1をY方向に移動させるのみで同様に変位量の測
定を行うことができる。このとき、センサヘッド1の受
光部4a,4bは、リード31aに対し前記同様45度
の傾斜を有しており、同一の精度で測定できる。
2実施例を示す平面図である。図示の如く、センサヘッ
ド1には、中央部に投光部3が設けられ、この投光部3
の投光ビームはリード31aに垂直に当たる。この投光
部3を中央として、リード31aの両側部には、リード
31aの延出方向(X−Y方向いずれの方向)に対し4
5度傾いた位置に所定間隔を隔てて2個づつ受光部4
a,4b,4c,4dが設けられる。尚、各受光部4a
〜4dは、それぞれ平面で90度の角度を有して配置さ
れており、各々受光レンズ5a,5b,5c,5dおよ
び位置検出素子6a,6b,6c,6dを有している。
構成を示すブロック図である。各々の受光部4a〜4d
に設けられた位置検出素子6a〜6dの出力は、増幅器
8a〜8hで増幅される。増幅器8a,8bの出力は、
減算器10aおよび加算器11aに並列入力され減算出
力,加算出力が得られる。同様に増幅器8c〜8hの出
力も減算器10b,10c,10dおよび加算器11
b,11c,11dにより減算出力および加算出力され
る。
器14で合成処理され、加算器11a〜11dの加算出
力も合成器16で合成処理される。合成器16の出力
は、測定対象の受光量情報とされる。これら合成器1
4,16の出力は、除算器18で除算処理され、測定対
象の位置情報出力が得られる。
出方向に所定間隔を隔てて2組の受光部4a〜4dが設
けられた構成であるため、図13に示すIC31の如
く、リード31aの接合部分31bが所定角度傾いてい
るものについても、正反射量が受光部に入らないため、
処理系のダイナミックレンジを狭くすることができる上
に、リード31aのエッジに対して投受光面を傾けて設
置しているため、リード31aで反射し隣のリード31
aで反射した光による影響を受けにくくなっており、結
果としてこのリード31aの接合部分31bの変位量を
測定することができるようになった。
置によればIC31の隣接するリード31a,31aa
同士のピッチ間隔が狭い場合でも、隣のリード31aa
で反射する2次反射光の影響を防止することができる。
すなわち、図7に示すようにリード31a同士の間隔が
狭ピッチの場合、投光部3の投光ビームがリード31a
のエッジ31cあるいは31d部分に照射された際、光
の一部Bは隣接するリード31aa方向に反射され、こ
のリード31aaの2次反射光Cが受光部4に入射する
と測定精度に影響を及ぼすのであるが、少なくとも1対
の受光部4a,4bが投光部3に対し等角度で対称に配
置された前記構成によれば、1点鎖線で示す如く、この
2次反射光C,C’は各位置検出素子6a,6bに入射
し、受光部4a,4bからの出力を合成すると互いに相
殺する方向に作用するため、2次反射光の影響を防止で
きる。
様、センサヘッド1は、移動機構によりX−Y方向に移
動し、IC31の直交する各辺から延出されたリード3
1aに対し、センサヘッド1あるいはIC31を回転さ
せることなくX−Y方向にのみ移動させることで変位量
を測定することができる。
辺にリード31aが設けられたIC31を例に説明した
が、他に測定対象としてプリント基板上の配線パターン
が4方に延出したものにおいて、この配線パターンの変
位を測定する場合にも上記同様の作用効果を得ることが
できる。
3実施例を示す平面図である。図示の如く、センサヘッ
ド1には、中央部に投光部3が設けられ、この投光部3
の投光ビームは測定対象41のエッジ41aに垂直に当
たる。測定対象41は、図9に示すように平面上に多角
形に形成されており、この実施例ではプリント基板上に
3角形の電子部品が搭載されたものである。
のエッジ41a形状に対応して3つの受光部4a,4
b,4cが設けられる。受光部4a,4b,4cは、エ
ッジ41aと平行な軸で形成される多軸2次元座標の各
象限空間に、エッジ41a上を除き同じ数だけ配置され
る。この受光部4a,4b,4cは、投光部3による測
定対象41の測定ポイントを中心として同一円周上に設
けられ、かつそれぞれのエッジ41aからの角度が同一
に設けられる。
を示す平面図および側面図であり、この測定対象41
は、例えばプリント基板上に設けられた電子部品として
構成される。測定対象41は、エッジ41aが前記図8
の如く3角形状に形成されたものである。したがって、
1つの測定対象41につき各エッジ41aに対応して3
個の受光部4a,4b,4cが設けられる。
測定対象41上をセンサヘッド1がX方向に移動する
と、同図(a)に示すように、投光部3による測定ポイ
ント部分のX方向の変位量に対応するZ方向の出力が受
光部4ax,4bx,4cxから得られる。また、Y方
向に移動すると、同図(b)に示す如く測定ポイント部
分のY方向の変位量に対応するZ方向の出力が受光部4
ay,4by,4cyから得られる。これら受光部4
a,4b,4cの出力は、前記演算手段7,17と同様
な回路で入力が3系統のものであるのみで容易に演算で
きる。
移動するのみであり、測定対象41の全部分を移動する
ものではないため、同図(a),(b)のように測定後
の信号が部分的なものとなるが、このX−Y方向への移
動を測定対象の外形に合わせて全体部分を移動すること
により全体の外形に対応した変位量を得ることができる
ようになる。
の受光部4a,4b,4cの側部に受光部4ab,4a
c,….4ccを増設配置することにより、受光量を平
均化でき、変位測定を高精度化できる。さらに、測定対
象41の形に合わせエッジ41aと平行な多軸2次元座
標の各象限空間内にエッジ41a上を除き同じ数だけ受
光部を配置すればさらに多角形状の測定対象41の変位
量についても精度良く測定することができる。
ームは、測定対象の各々のエッジに対しエッジ上を除く
点対称の位置に配置された受光部で受光され、演算手段
で演算される構成であるため、直交するいずれのリード
に対しても同様の投受光の配置とすることができ、投光
部および受光部が設けられたセンサヘッドを回転せずと
も全てのリードの変位量を測定することができるように
なり、該効果を簡単な構成で得ることができる。また、
リード間隔が狭ピッチで設けられるICについても、隣
接するリードの2次反射光の影響を防止して精度良い変
位量測定が行える。
は、測定対象のエッジと平行な軸で形成される3以上の
多軸2次元座標の各象限空間にエッジ上を除き同じ数だ
け配置された受光部で受光され、演算手段で演算される
構成であるため、測定対象が多角形状であっても、この
変位量を精度良く測定することができるとともに受光量
を平均化でき、変位測定を高精度化できる。
図。
図。
対応する各部の出力信号を示す図。
サヘッドを示す平面図。
測定状態を示す図。
サヘッドを示す平面図。
示す平面図、および側面図。
に対応する出力を示す図。
示す図。
5a〜5d…受光レンズ、6a〜6d…位置検出素子、
7,17…演算手段、8a〜8d…増幅器、10a〜1
0d…減算器、11a〜11d…加算器、14,16…
合成器、18…除算器。
Claims (3)
- 【請求項1】 平行でない複数のエッジを有する測定対
象(31a)に測定用の投光ビームを照射する投光部
(3)と、受光レンズと位置検出素子とで構成され、 前記投光ビー
ムが照射される前記測定対象上の点から点対称な位置
に、前記エッジに対して斜め方向にのみ配置され、前記
測定対象からの散乱光のみを受光する一又は複数対の受
光部(4a,4b),(4a〜4d)と、 該位置検出素子の出力を演算し、前記測定対象の変位量
を出力する演算手段(7),(17)とを具備すること
を特徴とする変位測定装置。 - 【請求項2】 前記一又は複数対の受光部は、前記エッ
ジのいずれに対しても同一の角度を有して前記測定対象
上の点から点対称な位置に配置されていることを特徴と
する請求項1記載の変位測定装置。 - 【請求項3】 平行でない複数のエッジを有する測定対
象(41)に測定用の投光ビームを照射する投光部
(3)と、受光レンズと位置検出素子とで構成され、 前記エッジと
平行な軸で形成される多軸2次元座標の各象限空間に前
記エッジ上を除き同じ数だけ配置され、前記測定対象か
らの散乱光のみを受光する第1の受光部と、 前記位置検出素子の出力を演算し、前記測定対象の変位
量を出力する演算手段とを具備し、 前記エッジ上を除く前記各第1の受光部近傍に、更に前
記象限空間と同数の第2の受光部を配置したことを特徴
とする変位測定装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP34854892A JP3160402B2 (ja) | 1992-12-28 | 1992-12-28 | 変位測定装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP34854892A JP3160402B2 (ja) | 1992-12-28 | 1992-12-28 | 変位測定装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
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JPH06201326A JPH06201326A (ja) | 1994-07-19 |
JP3160402B2 true JP3160402B2 (ja) | 2001-04-25 |
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ID=18397758
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP34854892A Expired - Fee Related JP3160402B2 (ja) | 1992-12-28 | 1992-12-28 | 変位測定装置 |
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JP (1) | JP3160402B2 (ja) |
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---|---|---|---|---|
WO2002075899A1 (de) * | 2001-03-17 | 2002-09-26 | Robert Bosch Gmbh | Stellantrieb bzw. verfahren zur montage eines stellantriebs |
JP6941333B6 (ja) * | 2019-10-28 | 2021-11-02 | 智責 山口 | 色変化識別方法 |
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1992
- 1992-12-28 JP JP34854892A patent/JP3160402B2/ja not_active Expired - Fee Related
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Publication number | Publication date |
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JPH06201326A (ja) | 1994-07-19 |
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